JP6077336B2 - 殺菌洗浄用組成物 - Google Patents
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Description
(1)HAP−A
40℃に加温しておいた5%水酸化カルシウムの懸濁液1リットル(1L)に対して、75%リン酸を、Ca/Pモル比1.67になるように500rpmで撹拌しながら滴下した。滴下終了後、1時間で90℃まで加温し、その温度で2時間保持した後濾過し、150℃にて乾燥してヒドロキシアパタイトを得た(このヒドロキシアパタイトを「HAP−A」と表示する)。得られたヒドロキシアパタイトをX線回折装置にて分析したところ、d=2.814での半価幅値は0.33であった。
40℃に加温しておいた5%水酸化カルシウムの懸濁液1リットル(1L)に対して、75%リン酸を、Ca/Pモル比1.67になるように500rpmで撹拌しながら滴下した。滴下終了後、1時間で90℃まで加温し、その温度で2時間保持した後濾過し、スプレードライヤーにて入口温度140℃、出口温度90℃にて乾燥してヒドロキシアパタイトを得た(このヒドロキシアパタイトを「HAP−B」と表示する)。得られたヒドロキシアパタイトをX線回折装置にて分析したところ、d=2.814での半価幅値は0.34であった。
25℃に加温しておいた5%水酸化カルシウムの懸濁液1リットル(1L)に対して、75%リン酸を、Ca/Pモル比1.67になるように500rpmで撹拌しながら滴下した。滴下終了後、1時間で40℃まで加温し、その温度で2時間保持した後濾過し、150℃にて乾燥してヒドロキシアパタイトを得た(このヒドロキシアパタイトを「HAP−C」と表示する)。得られたヒドロキシアパタイトをX線回折装置にて分析したところ、d=2.814での半価幅値は0.56であった。
上記で得られたHAP−Cを室温から6時間で1200℃まで昇温し、24時間保持して、焼成ヒドロキシアパタイトを得た(このヒドロキシアパタイトを「HAP−D」と表示する)。得られたヒドロキシアパタイトをX線回折装置にて分析したところ、d=2.814での半価幅値は0.16であった。
(装置条件)
X線回折装置:「Multiflex」(商品名:理学電気株式会社製)
ターゲット :Cu
管電圧:40kV(管電流:20mA)
走査範囲:3〜60°
スキャンスピード:2°/分(スキャンステップ:0.02°)
上記で得られた各種ヒドロキシアパタイト(HAP−A〜HAP−D)と、塩化ナトリウムおよび塩化セチルピリジニウムを下記表1〜5に示す割合で配合し、全量を100mLとした。調製した各溶液を30℃で6時間静置した。静置した後の上澄みを5mL採り、乾燥させ、水分を除去した。得られた固形物にエタノールを加え、全量を50mLとした。この液を孔径0.45μmのメンブランフィルターを用いて濾過し、試料溶液とした。高速液体クロマトグラフィー(株式会社島津製作所製)を用いて、試料溶液中の塩化セチルピリジニウム含有量を測定し、下記の式にてヒドロキシアパタイトへの塩化セチルピリジニウム吸着率を算出した。尚、分析で用いた高速液体クロマトグラフィーの仕様を下記表6に示す。その結果を、各成分の配合量と共に下記表1〜5に示す(実験No.1〜36)。
塩化セチルピリジニウムの吸着率(質量%)=100×(塩化セチルピリジニウムの配合量−試料溶液中の塩化セチルピリジニウム含有量)/塩化セチルピリジニウムの配合量
本発明の殺菌洗浄用組成物を歯磨剤に適用したときの配合例を、下記表7〜10に示す(歯磨剤の実施例1〜4)。
本発明の殺菌洗浄用組成物を洗口剤に適用したときの配合例を、下記表11、12に示す(洗口剤の実施例1、2)。
本発明の殺菌洗浄用組成物を皮膚洗浄剤に適用したときの配合例を、下記表13、14に示す(皮膚洗浄剤の実施例1、2)。
Claims (7)
- ヒドロキシアパタイトと4級アンモニウム塩型殺菌剤とを含有し、
更に塩化ナトリウムをヒドロキシアパタイト100質量部に対して、0.5質量部以上含有すると共に、前記ヒドロキシアパタイトは、X線結晶回折におけるd=2.814での半価幅値が0.30〜0.50であることを特徴とする殺菌洗浄用組成物。 - 前記4級アンモニウム塩型殺菌剤が塩化セチルピリジニウムである請求項1に記載の殺菌洗浄用組成物。
- 0.1〜30質量%のヒドロキシアパタイトと、0.001〜10質量%の4級アンモニウム塩型殺菌剤とを含有する歯磨剤である請求項1または2に記載の殺菌洗浄用組成物。
- 0.01〜30質量%のヒドロキシアパタイトと、0.001〜10質量%の4級アンモニウム塩型殺菌剤とを含有する洗口剤である請求項1または2に記載の殺菌洗浄用組成物。
- 0.01〜30質量%のヒドロキシアパタイトと、0.001〜10質量%の4級アンモニウム塩型殺菌剤とを含有する皮膚洗浄剤である請求項1または2に記載の殺菌洗浄用組成物。
- 請求項1〜5のいずれかに記載の殺菌洗浄用組成物を製造する方法であって、
前記ヒドロキシアパタイトは、水酸化カルシウムとリン酸とを70〜100℃の水中で反応させることで生成されたものであることを特徴とする殺菌洗浄用組成物の製造方法。 - 前記水酸化カルシウムとリン酸のモル比(Ca/P)が、1.4〜1.8である請求項6に記載の殺菌洗浄用組成物の製造方法。
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