KR20150097491A - 시스테인과 아연 아미노산 착물 - Google Patents

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Abstract

(i) 4 염기성 아연 아미노산 또는 트리알킬 글리신 할로겐화물 착물, 및 (ii) 시스테인을 유리되거나 경구로 또는 미용상 허용가능한 염 형태로 포함하는 조성물, 예를 들어 구강 및 개인 관리 용품이 이를 제조하고, 사용하는 방법과 함께 제공된다.

Description

시스테인과 아연 아미노산 착물{ZINC AMINO ACID COMPLEX WITH CYSTEINE}
관련 출원의 상호 참조
본 출원은 2013. 6. 18자 출원된 국제특허출원 PCT/US2013/46268호; 2012. 12. 19자 출원된 국제특허출원 PCT/US2012/70489호 2012. 12. 19자 출원된 국제특허출원 PCT/US2012/70492호; 2012. 12. 19자 출원된 국제특허출원 PCT/US2012/70498호; 2012. 12. 19자 출원된 국제특허출원 PCT/US2012/70506호; 2012. 12. 19자 출원된 국제특허출원 PCT/US2012/70513호; 2012. 12. 19자 출원된 국제특허출원 PCT/US2012/70505호; 2012. 12. 19자 출원된 국제특허출원 PCT/US2012/70501호; 2012. 12. 19자 출원된 국제특허출원 PCT/US2012/70521호; 2012. 12. 19자 출원된 국제특허출원 PCT/US2012/70534호; 및 2013. 7. 17자 출원된 국제특허출원 PCT/US2013/50845호의 일부 계속 출원이며, 이들 모두 본원에서 참조로서 원용한다.
알루미늄 또는 알루미늄/지르코늄의 염을 포함하는 종래의 발한억제제는 알려져 있다. 이들 염은 구멍을 메울 수 있는 중합체 착물을 형성함으로써 발한억제제로서 작용하며, 이로써 발한을 차단한다.
구멍을 메워 땀을 차단할 수 있는 크기의 분자량 착물을 제공하고, 탈취/항균 효능을 제공하며, 종래의 발한억제제에서 산성염보다 피부에 자극이 적은 추가의 발한억제 활성제가 필요하다. 또한 액체 핸드 소프(hand soap) 및 바디 워시(body wash)에 사용하기 위한 대체 항균 및 피부 보호제가 필요하다. 끝으로, 치아를 희게 하고, 강화할 수 있으며, 침식(erosion)을 지연할 수 있고, 세균과 치석을 억제할 수 있는 구강 관리 용품에서 제제가 필요하다.
4 염기성(tetrabasic) 할로겐화아연("TBZH"), 예를 들어, 4 염기성 염화아연("TBZC"), 및 아미노산 또는 트리알킬글리신(TAG)의 착물(각각, "TBZH-AA", "TBZC-AA", "TBZH-TAG" 및 "TBZC-TAG")을 시스테인과 조합하여 포함하는 조성물이 제공되며, 착물은 안정하고, 농축 수용액에 가용성이 있지만, 희석 시 아연 착물과 시스테인을 포함하는 비교적 산 안정한 침전물을 제공한다. 이러한 물질의 예외적이고, 예상하지 못한 특성은 피부 또는 치아에 안정한 아연 착물의 전달을 가능하게 하며, 개인 관리 용품, 예를 들어 발한억제 제품과 액체 핸드 및 바디 소프에서, 및 구강 관리 용품, 예를 들어 구강 세정제(mouthwash) 또는 치약에서 유용하게 한다.
4 염기성 염화아연(TBZC) 또는 아연 클로라이드 히드록시드 일수화물은 또한 염기성 염화아연, 아연 히드록시클로라이드, 또는 아연 옥시클로라이드로 언급되는, 화학식 Zn5(OH)8Cl2·H2O인 아연 히드록시 화합물이다. 이것은 수 불용성인 무색 결정 고체이다. TBZC가 실질적으로 수 불용성이지만, 이 물질은 아미노산의 존재 하에 수용성으로 알려져 있으며, 추가 음이온(즉, HCl)을 사용하지 않고 아연 이온 원을 제공한다. TBZC가 조성물과 방법에서 바람직하지만, 다른 4 염기성 할로겐화아연, 예를 들어 4 염기성 플루오르화아연 또는 4 염기성 브롬화아연이 사용될 수 있다.
TBZH-AA 또는 TBZH-TAG 착물은 염화물과 같은 할로겐화물을 함유한다. 일 실시형태에서, TBZH-AA 또는 TBZH-TAG는 TBZH를 아미노산의 유리 염기와 반응시켜 형성되며, 이러한 경우에 착물에 대한 할로겐화물(예, 염화물) 기여는 주로 TBZH에서 유래할 것이다. 또 다른 실시형태에서, TBZH-AA는 TBZH와 염기성 아미노산의 히드로할라이드 염(예, 염산염)을 반응시켜 TBZH, 염기성 아미노산 및 할로겐화물을 함유한 착물을 얻음으로써 형성되며, 이러한 경우 착물에 대한 할로겐화물 기여는 TBZH와 아미노산의 히드로할라이드 염에서 유래할 것이다. 다른 실시형태에서, 아미노산의 유리 염기와 히드로할라이드 염의 조합은 출발 물질로서 사용되며, 다른 실시형태에서, 추가 할로겐화물은 상이한 할로겐화물 함유 화합물 예컨대 염산, 브롬화수소산, 등의 첨가를 통해 제공될 수 있다. 할로겐화물 원의 형태와 양은 원하는 pH를 달성하도록 조작될 수 있다.
일 실시형태에서, TBZH-AA는 예를 들어 TBZC와 리신 및/또는 리신 염산염의 혼합물로부터 형성되는 TBZC 리신 착물이다. 이러한 특정 아연 리신 염화물 착물은 때로 본원에서 "TBZC-Lys"로서 언급된다.
4 염기성 아연 아미노산 또는 TAG 할로겐화물 착물, 예를 들어 TBZC-Lys는 이것을 시판 발한억제제 염과 경합하게 하는 주요 특징(예, 전도도, 가수분해 반응 및 단백질 응집)이 있다. 종래의 알루미늄 또는 알루미늄 지르코늄 발한억제제 염과 같이, TBZH-AA 또는 TBZH-TAG는 발한 조건 하에 구멍을 메워 발한을 차단할 수 있는 침전물을 형성한다. 메커니즘은 예외적이다. 물의 양이 증가할 때, 용액이 더 묽어짐에 따라 용액에 유입되거나 용액에 남기보다는, 전형적으로 이온성 착물에 대한 경우이듯이, TBZH-AA 또는 TBZH-TAG는 가수분해하여, 비교적 불용성인 아연 함유 침전물, 예를 들어 산화아연을 제공하며, 이에 의해 피부 상에 구멍의 충전 및/또는 아연 화합물의 제어된 침착을 추가로 허용한다. 아연은 더구나 항균성이 있으며, 따라서 구멍으로부터 발한을 차단하는 침전물을 제공하는 것 외에, 냄새 유발 세균을 줄임으로써 탈취 이점을 제공한다.
착물로부터 형성되는 침전물은 전형적으로 산화아연, 및 다른 화합물 및/또는 착물을 함유한다. 그러나 침전물 중 한 구성 물질인, 산화아연은 산성 pH에서 가용성이며, 땀의 pH가 5-6이므로, 땀은 침전 수준을 중성 이상의 pH에서 침전 수준과 비교하여 줄일 수 있다. 더구나, 땀은 퇴적물을 점차 용해시킬 수 있어서, 제제의 작용 지속 기간을 줄일 수 있다. 또한, 침전 속도가 너무 느리거나 너무 빠를 수 있다. 이들 문제점은 생성물을 시스테인과 공 배합함으로써(co-formulating) 개선될 수 있다. 시스테인과 아연 착물은 함께 사용 시 그리고 땀에 의한 희석 시 침전물을 형성하며, 이 침전물은 내산성이 있을 수 있다. 따라서 시스테인과 함께 TBZH-AA 또는 TBZH-TAG를 포함하는 제제는 발한억제제로서 효능이 향상된다. 더구나, 시스테인은 투여 전에 제제에서 TBZH-AA 또는 TBZH-TAG를 안정화하는데 도움이 된다.
본 발명자들은 TBZH-AA 또는 TBZH-TAG 착물과 함께 시스테인의 사용이 땀에 더 저항성인 침전물을 형성한다는 사실을 알아냈지만, 본 발명자들은 또한 시스테인의 사용으로 침전물의 형성을 지연하거나, 어떤 조건 하에서는 심지어 침전물의 형성을 억제한다는 사실을 발견하였다. 시스테인의 양과 pH는 침전물 형성 정도와 속도에 영향을 미친다.
조성물의 pH는 물의 양, 시스테인 농도 등과 같은 요인에 기초하여 달라질 것이다. 조성물의 pH는 일반적으로 7 내지 11, 또 다른 실시형태에서 7 내지 10, 또 다른 실시형태에서 8 내지 10, 또 다른 실시형태에서 8 및 9이다.
조성물은 0.01 내지 1 중량%의 시스테인을 함유할 수 있다. 의외로, 제제 중 시스테인의 양이 침전과 내산성에 영향을 줄 수 있다는 사실을 밝혀졌다. 예를 들어, 0.09% 이하의 시스테인 수준에서 시스테인을 함유하는 제제는 전형적으로 희석 시 침전을 나타내지만 열악한 내산성을 나타낸다. 0.1% 내지 0.15% 미만의 시스테인을 함유하는 제제는 전형적으로 희석 시 순간 침전을 나타내며, 5 pH 단위 이하의 pH 변화를 견딜 수 있는 양호한 내산성을 나타낸다. 0.15% 이상의 시스테인을 함유하는 제제는 전형적으로 희석 시 지연된 침전과 양호한 내산성을 나타낸다. 본 문맥에서 "내산성"은 수용액 중 인간의 땀과 유사한 pH에서 침전물을 유지하거나,침전물의 가용화를 방지하는 특성을 의미한다. 본 문맥에서 "침전"은 희석 시 육안으로 보이는 불용성 침전물, 예를 들어 용액 중 가시 입자의 형성 또는 이전 투명한 용액의 가시적인 혼탁 또는 탁도를 의미한다. 본 단락의 목적상 "희석"은 네 배(4) 이상의 희석을 의미하며, 전형적으로 95% 이상의 물을 함유한다. "순간 침전"은 TBZH-AA 또는 TBZH-TAG 착물/시스테인 조합의 희석 후 1초 미만 내에 관찰되는 침전을 의미한다. "지연 침전"은 TBZH-AA 또는 TBZH-TAG 착물/시스테인 조합의 희석 후 1초 내지 180초, 또 다른 실시형태에서 1 내지 60초, 및 또 다른 실시형태에서 1 내지 10초에 관찰되는 침전을 의미한다.
조성물은 희석되지 않은 형태에서 일반적으로 10 내지 90%, 또 다른 실시형태에서 20 내지 90% 및 또 다른 실시형태에서 50 내지 90%의 물을 함유하지만, 일부 실시형태에서 훨씬 적은 물을 함유할 수 있다. 조성물 중 물의 양은 원하는 농도를 달성하기 위해 최종 생성물 형태에 따라 달라질 것이다. 예를 들어, 치약은 전형적으로 10 내지 25%의 전체 물을 함유하고, 구강 세정제는 전형적으로 50 내지 90%의 전체 물을 함유하며, 발한억제제와 같은 개인 관리 용품은 전형적으로 10 내지 20%의 전체 물을 함유한다. 침전 시간과 혼합물의 pH 값은 물 농도를 포함하여, 많은 요인에 의해 영향을 받는다. 물이 많을수록 일반적으로 더 신속한 침전과 더 높은 pH 값을 유도한다.
또 다른 실시형태에서, TBZH-AA 또는 TBZH-TAG/시스테인 조합은 또한 액체 핸드 소프와 바디 워시에 유용하다.
또한 또 다른 실시형태에서, TBZH-AA 또는 TBZH-TAG/시스테인 조합은 구강 관리 용품, 예를 들어 치약 또는 구강 세정제(구강 린스제)에 유용하다. TBZH-AA 또는 TBZH-TAG/시스테인 조합을 포함하는 제제는 유효 농도의 아연 이온을 에나멜에 제공하며, 이에 의해 치식에 대해 보호하고, 세균 정착과 생체막 발생을 줄이며, 치아의 광택을 향상시킨다. 더구나, 사용 시, 제제는 희석되어 상아질 세관을 메우는 안정화된 침전물을 제공하며, 이에 의해 치아의 감도를 줄인다. 불용성 아연 염이 있는 제제와 비교하여 아연의 효과적인 전달을 제공하지만, TBZH-AA 또는 TBZH-TAG/시스테인 조합을 포함하는 제제는 가용성 아연 염을 사용하는 종래의 아연계 구강 관리 용품과 관련된, 좋지 않은 맛과 구강 촉감, 좋지 않은 불화물 전달, 및 좋지 않은 발포 및 세정을 나타내지 않는다.
지연 침전을 나타내는 조성물은 사용 중 원하는 부위에서, 예를 들어 상아질 세관 또는 땀샘에서 침전량을 최대화하는데 특히 유리할 수 있다.
(i) 4 염기성 아연 아미노산 또는 TAG 할로겐화물 착물(바람직하게는 TBZC-AA), 예를 들어, TBZC-Lys, 및 (ii) 시스테인을 유리되거나 경구로 또는 미용상(cosmetically) 허용가능한 염 형태로 포함하는 조성물이 제공된다. 조성물은 구강 관리 용품, 예를 들어 치약 또는 구강 린스제(또는 구강 세정제), 또는 개인 관리 용품, 예컨대 발한억제제, 액체 핸드 소프 또는 바디 워시, 및 스킨 로션, 크림 및 컨디셔너(conditioner)일 수 있다. 이러한 조성물을 사용하는 방법, 예를 들어 조성물을 피부에 적용하는 것을 포함하는 땀을 줄이는 방법, 세균을 조성물과 접촉시키는 것을 포함하는 살균하는 방법, 및 조성물을 치아에 적용하는 것을 포함하는, 치아 과민증, 침식, 및 치석을 치료하거나 줄이는 방법, 그 외에 이러한 조성물을 제조하는 방법이 추가로 제공된다.
본 발명의 적용성에 대한 추가 영역은 이후 제공되는 상세한 설명으로부터 명백해질 것이다. 상세한 설명과 구체적인 실시예는 본 발명의 바람직한 실시형태를 나타내지만, 당연히 예시 목적만을 위한 것이며, 본 발명의 범위를 제한하는 것으로 의도되지 않는다.
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달리 규정되지 않는 한, 본원에서 및 명세서 중 다른 곳에서 표시한 모든 퍼센트와 양은 당연히 중량 퍼센트를 의미한다. 제시한 양은 물질의 활성 중량을 기준으로 한다.
일 실시형태에서, 구강 린스제의 형태로 단일 성분 전달 시스템이 예상되며, 여기서 시스템은 TBZH-AA 또는 TBZH-TAG/cys 착물의 농축액을 포함하고, 희석제는 전형적인 구강 관리 처치에서 자연스럽게 포함되는 물 및/또는 사용자에 의해 생성되는 침의 형태로 관리자/사용자에 의해 공급된다.
제1 실시형태에서, (i) 4 염기성 아연 아미노산 또는 TAG 할로겐화물 착물 및 (ii) 시스테인을 유리되거나 경구로 또는 미용상 허용가능한 염 형태로 포함하는 조성물(조성물 1)이 제공되며, 예를 들면, 하기 조성물이다:
1.1. 아연 아미노산 또는 TAG 할로겐화물 착물은 전구체로부터 형성되며, 전구체는 TBZC, 아미노산 원, 및 염화물 원이고, 염화물 원은 염산, 아미노산 원, 또는 TBZC의 부분일 수 있는 조성물 1.
1.2. 아미노산 원은 염기성 아미노산, 리신, 아르기닌, 및 글리신 중 하나 이상인 조성물 1.1.
1.3. 트리알킬 글리신은 C1-C4 알킬 글리신 또는 트리메틸 글리신인 상기 조성물 중 어느 하나.
1.4. TBZH-AA 착물은 TBZC를 아미노산 염산염과 배합함으로써 제조되는 것인 상기 조성물 중 어느 하나.
1.5. TBZH-AA 착물은 TBZC-Lys인 상기 조성물 중 어느 하나.
1.6. 물에 의한 희석 시, 시스테인과 착물로 불용성 아연 함유 침전물을 포함하는 침전물을 제공하는 상기 조성물 중 어느 하나.
1.7. 조성물에 존재한 아연의 총량은 조성물의 0.2 내지 8 중량%인 상기 조성물 중 어느 하나.
1.8. 아연 대 시스테인의 중량비는 10:1 내지 100:1인 상기 조성물 중 어느 하나.
1.9. pH는 8.4 내지 8.8인 상기 조성물 중 어느 하나.
1.10. 시스테인은 시스테인 히드로할라이드, 임의로 시스테인 염산염인 상기 조성물 중 어느 하나.
1.11. 추가로 경구로 또는 미용상 허용가능한 담체(carrier)를 포함하는 상기 조성물 중 어느 하나.
1.12. 추가로 경구로 또는 미용상 허용가능한 담체를 포함하며, 치약 또는 구강 세정제로부터 선택되는 구강 관리 용품, 또는 발한억제제, 탈취제, 액체 핸드 소프, 바디 워시, 피부 로션, 피부 크림, 및 피부 컨디셔너로부터 선택되는 개인 관리 용품인 상기 조성물 중 어느 하나.
1.13. 10% 미만의 물, 예를 들어 5% 미만의 물, 예를 들어 실질적으로 무수인 경구로 또는 미용상 허용가능한 담체를 추가로 포함하는 상기 조성물 중 어느 하나.
1.14. 85% 이하의 물을 포함하는 상기 조성물 중 어느 하나.
1.15. 0.09 내지 0.15%의 시스테인을 포함하는 것인 상기 조성물 중 어느 하나.
1.16. 물 또는 수용액 예컨대 침 또는 땀으로 4배 이상 희석 시 희석 후 순간적으로, 예를 들어 1초 이하에 침전물을 형성하는 상기 조성물 중 어느 하나.
1.17. 물 또는 수용액 예컨대 침 또는 땀으로 4배 이상 희석 후, 예를 들어 1초 초과, 1초 초과 내지 180초, 1초 내지 60초, 또는 1초 내지 10초에 지연 침전물을 형성하는 상기 조성물 중 어느 하나.
1.18. 지연 침전을 제공하는데 효과적인 양, 예를 들어 0.09 내지 0.15%의 시스테인을 포함하는 상기 조성물 중 어느 하나.
1.19. 물 또는 수용액 예컨대 침 또는 땀으로 4배 이상 희석 시 침전물을 형성할 수 있으며, 침전물은 pH 5.5에서 내산성이 있는 상기 조성물 중 어느 하나.
1.20. 0.2 내지 8 중량%의 아연을 포함하는 상기 조성물 중 어느 하나.
조성물 1(및 이하 참조)의 제조 방법이 제공되며, 이 방법은 (i) TBZH, 아미노산 원, 및 할로겐화물 원을 유체(예를 들어, 수성) 매질에서, 배합하는 단계(여기서 할로겐화물 원은 히드로할라이드 산, 아미노산 원, 또는 TBZH의 부분일 수 있다), 임의로 이와 같이 형성된 착물을 고체 형태로 분리하는 단계, 착물을 시스테인과 배합하는 단계, 또는 (ii) TBZH-AA 착물과 시스테인을 배합하는 단계를 포함한다. 혼합물은 임의로 미용상 허용가능한 담체와 배합될 수 있다.
예를 들어 조성물 1(및 이하 참조)의 범위 중 어느 하나에 따라, (i) TBZH-AA 또는 TBZH-TAG 착물 및 (ii) 시스테인을 유리되거나 미용상 허용가능한 염 형태로, 미용상 허용가능한 담체와 함께 포함하는 발한억제제 또는 탈취제 제품인 조성물(조성물 2)이 제공되며, 예를 들면 하기 조성물이다:
2.1. 사용 시, 그리고 피부에 불용성 아연 함유 착물을 포함하는 침전물을 제공하는 조성물 2.
2.2. TBZH-AA 착물이 임의로 수화물 형태로 TBZC-Lys인 조성물 2 또는 2.1.
2.3. 미용상 허용가능한 담체가 수용성 알코올(예컨대 에탄올을 포함하여 C2 -8 알코올); 글리콜(프로필렌 글리콜, 디프로필렌 글리콜, 트리프로필렌 글리콜 및 이들의 혼합물을 포함하여); 글리세라이드(모노-, 디- 및 트리글리세라이드를 포함하여); 중쇄 내지 장쇄 유기산, 알코올 및 에스테르; 계면활성제(유화제 및 분산제를 포함하여); 추가 아미노산; 구조화제(structurant)(증점제와 겔화제, 예를 들어 중합체, 규산염 및 이산화규소를 포함하여); 피부 연화제; 향료; 및 착색제(염료와 안료를 포함하여)로부터 선택되는 1 이상의 성분을 포함하는 조성물 2, 2.1 또는 2.2.
2.4. 발한억제제 스틱, 에어로졸 발한억제제 스프레이, 또는 액체 회전 도포(roll-on) 발한억제제의 형태인 조성물 2, 2.1, 2.2 또는 2.3.
또한 피부에 조성물 2(및 이하 참조) 중 어느 하나의 발한억제 유효량을 적용하는 것을 포함하는 발한의 감소 방법, 피부에 조성물 2(및 이하 참조) 중 어느 하나의 탈취 유효량을 적용하는 것을 포함하는 체취의 감소 방법, 및 조성물 2((및 이하 참조) 중 어느 하나와 접촉시킴으로써 세균을 접촉시키는 것을 포함하는 살균 방법이 제공된다. 예를 들어, (i) 피부에 본원에서 포함되거나 구체적으로 기재되는 임의 실시형태, 예를 들어 임의의 조성물 2(및 이하 참조)의 제제의 발한억제 유효량을 적용하는 것을 포함하는 발한 억제 방법; 및 (ii) 피부에 본원에서 포함되거나 구체적으로 기재되는 임의 실시형태, 예를 들어 임의의 조성물 2(및 이하 참조)의 제제의 탈취 유효량을 적용하는 것을 포함하는 발한으로부터 냄새 또는 피부 상의 세균을 억제하는 방법이 제공된다.
TBZC-Lys, 시스테인 및 미용상 허용가능한 담체를 배합하는 것을 포함하는, (i) TBZH-AA 착물 및 (ii) 시스테인을 유리되거나 미용상 허용가능한 염 형태를 포함하는 발한억제제 또는 탈취제, 예를 들어 임의의 조성물 2(및 이하 참조)를 제조하는 방법이 제공된다.
또한 (i) 살균하고, 발한을 줄이고/줄이거나 체취를 줄이는 임의 조성물 2(및 이하 참조)의 용도; 및 (iii) 살균하며, 발한을 줄이고/줄이거나 체취를 줄이는데 사용하는 임의의 조성물 2(및 이하 참조)가 제공된다.
또한 발한억제 또는 탈취 제제, 예를 들어 임의의 조성물 2(및 이하 참조)에 따른 제제의 제조에서 시스테인의 용도가 제공된다.
조성물 2(및 이하 참조)를 제조하는데 있어서, 겨드랑이에 적용을 위해 TBZH-AA 또는 TBZH-TAG 및 시스테인을 유리되거나 미용상 허용가능한 염 형태로 적합한, 미용상 허용가능한 베이스(base), 예를 들어 스틱, 롤 온(roll-on), 스프레이 또는 에어로졸에 혼입할 수 있다. 적용 후, 피부 상에서 발견되는 단백질과 같은 충전 분자의 존재 하에, 염은 응집하여, 발한을 차단하는 충전재(plug)를 형성한다. 땀 유래의 추가 물은 더구나 제제를 희석하여, 착물이 분해되게 하고, 시스테인과 함께 착물 중 산화아연으로 이루어진 침전물을 생성할 수 있으며, 이는 상기에 기재한 바와 같이 땀과 냄새를 줄일 수 있다.
본원에서 사용되는 바와 같이, 용어 발한억제제는 총칭으로 미국 식품의약국에 의해 규정(21 CFR part 350) 하에 발한억제제로서 분류되는 재료를 포함하여, 구멍에 충전재를 형성하여 발한을 줄일 수 있는 임의 제품을 의미할 수 있다. 아연은 항균 특성이 있고, 따라서 피부 상에 냄새 원인 세균을 억제하므로, 발한억제제는 또한 특히 기재한 조성물의 경우에 당연히 탈취제일 수 있다.
예를 들어 조성물 1(및 이하 참조)의 범위 중 어느 하나에 따라, (i) TBZH-AA 또는 TBZH-TAG 착물 및 (ii) 시스테인을 유리되거나 미용상 허용가능한 염 형태로, 미용상 허용가능한 담체와 함께 포함하는, 액체 핸드 소프, 바디 워시, 피부 로션, 피부 크림, 및 피부 컨디셔너로부터 선택되는 개인 관리 용품인 조성물(조성물 3)이 또한 제공되며, 예를 들면 하기 조성물이다:
3.1. 물과 사용 시, 피부에 불용성 아연 함유 침전물을 제공하는 조성물 3.
3.2. TBZH-AA 또는 TBZH-TAG 착물을 조성물의 1 내지 10 중량%의 양으로 포함하는 조성물 3 또는 3.1.
2.5. TBZH-AA 착물이 임의로 수화물 형태로 TBZC-Lys인 상기 조성물 중 어느 하나.
3.3. 조성물에 존재하는 아연의 총량이 0.1 내지 8 중량%, 임의로 0.1 내지 2 또는 0.1 내지 1 중량%인 상기 조성물 중 어느 하나.
3.4. 시스테인이 시스테인 히드로할라이드, 임의로 시스테인 염산염인 상기 조성물 중 어느 하나.
3.5. 미용상 허용가능한 담체가 수용성 알코올(예컨대 에탄올을 포함하여 C2 -8 알코올); 글리콜(프로필렌 글리콜, 디프로필렌 글리콜, 트리프로필렌 글리콜 및 이들의 혼합물을 포함하여); 글리세라이드(모노-, 디- 및 트리글리세라이드를 포함하여); 중쇄 내지 장쇄 유기산, 알코올 및 에스테르; 계면활성제(유화제 및 분산제를 포함하여); 추가 아미노산; 구조화제(증점제와 겔화제, 예를 들어 중합체, 규산염 및 이산화규소를 포함하여); 피부 연화제; 향료; 및 착색제(염료와 안료를 포함하여)로부터 선택되는 1 이상의 성분을 포함하는 상기 조성물 중 어느 하나.
3.6. 미용상 허용가능한 담체가 1 이상의 비이온성 계면활성제, 예를 들어 아민 옥사이드 계면활성제(예, 알킬아민의 지방산 아미드, 예컨대 라우르아미도프로필디메틸아민 옥사이드, 미리스트아미도프로필아민 옥사이드 및 이들의 혼합물), 알코올 아미드 계면활성제(예, 알코올 아민의 지방산 아미드, 예컨대 코카미드 MEA(코코모노에탄올아미드)), 폴리에톡실화 계면활성제(예 지방산과 폴리올(예를 들어 글리콜, 글리세롤, 사카라이드 또는 당 알코올)의 폴리에톡실화 유도체, 예를 들어 폴리소르베이트 또는 PEG-120 메틸 글루코스 디올레에이트), 및 이들의 조합으로부터 선택되는 비이온성 계면활성제를 포함하는 것인 상기 조성물 중 어느 하나.
3.7. 미용상 허용가능한 담체가 예를 들어 소듐 라우릴 설페이트와 소듐 에테르 라우릴 설페이트로부터 선택되는 음이온성 계면활성제를 포함하는 것인 상기 조성물 중 어느 하나.
3.8. 미용상 허용가능한 담체가 물, 음이온성 계면활성제, 예를 들어 소듐 라우릴 설페이트, 점도 조절제, 예를 들어 아크릴레이트 공중합체, 및 양성 이온성 계면활성제, 예를 들어 코카미도프로필 베타인을 포함하는 것인 상기 조성물 중 어느 하나.
3.9. 미용상 허용가능한 담체가 실질적으로 음이온성 계면활성제를 포함하지 않는 것인 상기 조성물 중 어느 하나.
3.10. 미용상 허용가능한 담체가 물, 사차 암모늄제(예, 염화세트리모늄), 보습제(예, 글리세린), 및 비이온성 계면활성제(예, 아민 옥사이드 계면활성제(예, 라우르아미도프로필디메틸아민 옥사이드, 미리스트아미도프로필아민 옥사이드 및 이들의 혼합물), 알코올 아미드 계면활성제(예, 코타미드 MEA(코코모노에탄올아미드)), 폴리에톡실레이트 계면활성제(예, PEG-120 메틸 글루코스 디올레에이트), 및 이들의 조합으로부터 선택됨)를 포함하는 것인 상기 조성물 중 어느 하나.
3.11. 미용상 허용가능한 담체가 항균 유효량의 비아연 항균제, 예를 들어 트리클로산, 트리클로카르반, 클로로크실레놀, 허브 추출물 및 에센셜 오일(예, 로즈메리 추출물, 차 추출물, 목련 추출물, 티몰, 멘톨, 유칼립톨, 게라니올, 카르바크롤, 시트랄, 히노키톨, 카테콜, 살리실산메틸, 에피갈로카테킨갈레이트, 에피갈로카테킨, 갈산), 비스구아니드 소독제(예, 클로르헥시딘, 알렉시딘 또는 옥테니딘), 및 사차 암모늄 화합물(예, 세틸피리디늄 클로라이드(CPC), 염화벤즈알코늄, 염화테트라데실피리디늄(TPC), N-테트라데실-4-에틸피리디늄 클로라이드(TDEPC); 및 이들의 조합으로부터 선택되는 항균제; 예를 들어 항균 유효량의 염화벤즈알코늄을 포함하는 것인 상기 조성물 중 어느 하나.
3.12. 약 알칼리성 pH인 상기 조성물 중 어느 하나.
3.13. 성분을 다음과 같이 포함하는 상기 조성물 중 어느 하나:
물질 중량%
물 80-95%
예를 들어 세트리모늄클로라이드(세틸 트리메틸 암모늄 클로라이드), C12-18 알킬디메틸벤질암모늄 클로라이드(BKC), 및 이들의 조합으로부터 선택되는 사차 암모늄 항균제 0.1-4%
보습제, 예 글리세린 1-3%
예를 들어 아민 옥사이드 계면활성제(예, 라우르아미도프로필디메틸아민 옥사이드, 미리스트아미도프로필아민 옥사이드 및 이들의 혼합물), 알코올 아미드 계면활성제(예, 코카미드 MEA(코코모노에탄올아미드)), 폴리에톡실레이트 계면활성제(예, PEG-120 메틸 글루코스 디올레에이트), 및 이들의 조합으로부터 선택되는 비이온성 계면활성제 1-5%
완충제 및 pH 조정제 1-3%
보존제 및/또는 킬레이터 0.1-2%
향료 및 착색제 0.1-2%
TBZC-AA 1-10%, 예를 들어 3-5%
시스테인 0.1-1%, 예를 들어 0.5%
또한 세균을 항균 유효량의 TBZH-AA/cys 착물과, 예를 들어 임의의 조성물 3(및 이하 참조)과 접촉시키는 것을 포함하는 살균 방법, 예를 들어 피부를 항균 유효량의 TBZH-AA 및 시스테인, 예 임의의 조성물 3(및 이하 참조), 및 물로 씻는 것을 포함하는, 국소 피부 감염, 예를 들어 스타필로코쿠스 아우레우스(Staphylococcus aureus) 및/또는 스트렙토코쿠스 피요게네스(Streptococcus pyogenes)에 의한 감염의 발병을 치료하거나 감소시키는, 및 여드름의 발병을 치료하거나 감소시키는 방법이 제공된다.
또한 (i) TBZH, 아미노산 원, 및 할로겐화물 원(여기서 할로겐화물 원은 염산과 같은 히드로할라이드산, 아미노산 원, 또는 TBZH의 부분일 수 있다)을 유체(예, 수성) 매질에서 배합하는 단계, 임의로 이와 같이 형성된 착물을 고체 형태로 분리하는 단계, 착물을 시스테인과 배합하는 단계, 또는 (ii) TBZH-AA 또는 TBZH-TAG 착물과 시스테인을 배합하는 단계를 포함하는, (i) TBZH-AA 또는 TBZH-TAG 착물 및 (ii) 시스테인을 유리되거나 미용상 허용가능한 염 형태로, 예를 들어, 임의의 조성물 3(및 이하 참조)을 포함하는 개인 관리 조성물의 제조 방법이 제공된다. TBZH-AA 또는 TBZH-TAG 착물과 시스테인은 미용상 허용가능한 담체와 배합된다. 또한 살균하거나, 피부를 예를 들어 세균으로부터 보호하거나 씻을 때 시각 신호(visual signal)를 제공하는 (i) TBZH-AA 또는 TBZH-TAG 착물과 시스테인, 예를 들어 임의의 조성물 1(및 이하 참조)의 용도; (ii) 살균하거나, 피부를 보호하거나, 씻을 때 시각 신호를 제공하는, 조성물, 임의의 조성물 1(및 이하 참조)의 제조에서 TBZH-AA 또는 TBZH-TAG 및 시스테인의 용도; 및 (iii) 살균하거나, 피부를 보호하거나, 씻을 때 시각 신호를 제공하는데 사용하기 위한 TBZH와 시스테인, 예를 들어 임의의 조성물 1(및 이하 참조)이 제공된다.
예를 들어, 일 실시형태에서, TBZH-AA 또는 TBZH-TAG 착물과 시스테인은 계면활성제 및 임의로 염화벤즈알코늄을 포함하는 종래의 시판 액체 핸드 소프(LHS) 제제에 혼입된다. 염은 포뮬라(formula)와 양립가능하다고 밝혀져 있고, 투명한 용액을 생성한다. 그러나 희석 시, 배합은 즉시 백색 침전물을 형성한다. 따라서 TBZH-AA 착물과 시스테인은 계면활성제 베이스에서 세정 공정을 위한 시각/감각 자극(trigger)을 제공할 수 있다. 시스테인에 의해 안정화되는 ZnO를 포함하는 침전물은 피부 상에 침착되고, 따라서 LHS의 항미생물 효과를 향상시킨다.
예를 들어 조성물 1(및 이하 참조)의 범위 중 어느 하나에 따라, (i) TBZH-AA 또는 TBZH-TAG 착물 및 (ii) 시스테인을 유리되거나 경구로 허용가능한 염 형태로, 경구로 허용가능한 담체와 함께 포함하는, 구강 관리 용품, 예를 들어 치약 또는 구강 린스제인 조성물(조성물 4)이 또한 제공되며, 예를 들면 하기 조성물이다:
4.1. 물의 존재 하에 치아에 적용 시, 치아에 불용성 아연 함유 착물을 제공하는 치약 형태로 조성물 4.
4.2. TBZH-AA 착물이 유효량으로, 예를 들어 0.5-4 중량%의 아연, 예를 들어 1-3 중량%의 아연의 양으로 존재하고, 경구로 허용가능한 담체가 치약 베이스인 조성물 4 또는 4.1.
4.3. TBZH-AA 착물이 임의로 수화물 형태로 TBZC-Lys인 상기 조성물 중 어느 하나.
4.4. 경구로 허용가능한 담체가 연마제, 예를 들어 유효량의 실리카 연마제, 예를 들어 10-30%, 예를 들어 20%를 포함하는 치약 베이스인 치약 형태로 상기 조성물 4-4.2 중 어느 하나.
4.5. TBZH-AA 또는 TBZH-TAG 착물이 유효량으로, 예를 들어 0.2 내지 8 중량% 아연의 양으로 존재하는 것인 상기 조성물 중 어느 하나.
4.6. 시스테인이 시스테인 히드로할라이드, 임의로 시스테인 염산염인 상기 조성물 중 어느 하나.
4.7. 유효량의 불화물 이온 원을 추가로 포함하는, 예를 들어 500 내지 3000 ppm의 불화물을 제공하는 상기 조성물 중 어느 하나.
4.8. 유효량의 불화물을 추가로 포함하고, 예를 들어 블화물이 불화주석, 불화나트륨, 불화칼륨, 모노플루오로인산나트륨, 플루오로규산나트륨, 플루오로규산암모늄, 아민 불화물(예, N'-옥타데실트리메틸렌디아민-N,N,N'-트리스(2-에탄올)-디히드로플루오라이드), 불화암모늄, 불화티탄, 헥사플루오로설페이트, 및 이들의 조합으로부터 선택되는 염인 상기 조성물 중 어느 하나.
4.9. 예를 들어 글리세린, 소르비톨, 프로필렌 글리콜, 폴리에틸렌 글리콜, 크실리톨, 및 이들의 혼합물로부터 선택되는 보습제를 포함하는, 예를 들어 적어도 20%, 예를 들어 20-40%, 예를 들어 25-35% 글리세린을 포함하는 상기 조성물 중 어느 하나.
4.10. 예를 들어 음이온성, 양이온성, 양성 이온성, 및 비이온성 계면활성제, 및 이들의 혼합물로부터 선택되는 1 이상의 계면활성제를 포함하는, 예를 들어 음이온성 계면활성제, 예를 들어 소듐 라우릴 설페이트, 소듐 에테르 라우릴 설페이트, 및 이들의 혼합물로부터 선택되는 계면활성제 예를 들어 0.3 중량% 내지 4.5 중량%, 예를 들어 1-2 중량% 소듐 라우릴 설페이트(SLS)의 양으로; 및/또는 양성 이온성 계면활성제, 예를 들어 베타인 계면활성제, 예를 들어 코카미도프로필베타인, 예를 들어 0.1 중량% 내지 4.5 중량%, 예를 들어 0.5-2 중량% 코카미도프로필베탄의 양으로 포함하는 상기 조성물 중 어느 하나.
4.11. 점도 조절량의 1 이상의 폴리사카라이드 검, 예를 들어 크산탄 검 또는 카라기난, 실리카 증점제, 및 이들의 조합을 추가로 포함하는 상기 조성물 중 어느 하나.
4.12. 검 스트립 또는 단편을 포함하는 상기 조성물 중 어느 하나.
4.13. 향미제, 항료 및/또는 착색제를 추가로 포함하는 상기 조성물 중 어느 하나.
4.14. 유효량의 1 이상의 항균제를 포함하는, 예를 들어 할로겐화 디페닐 에테르(예, 트리클로산), 허브 추출물 및 에센셜 오일(예, 로즈메리 추출물, 차 추출물, 목련 추출물, 티몰, 멘톨, 유칼립톨, 게라니올, 카르바크롤, 시트랄, 히노키톨, 카테콜, 살리실산메틸, 에피갈로카테킨갈레이트, 에피갈로카테킨, 갈산, 미스왁(miswak) 추출물, 산자 나무 추출물), 비스구아니드 소독제(예, 클로르헥시딘, 알렉시딘 또는 옥테니딘), 및 사차 암모늄 화합물(예, 세틸피리디늄 클로라이드(CPC), 염화벤즈알코늄, 염화테트라데실피리디늄(TPC), N-테트라데실-4-에틸피리디늄 클로라이드(TDEPC), 페놀계 소독제, 헥세티딘, 옥테니딘, 상귀나린, 포비돈 요드, 델모피놀, 살리플루오르, 금속 이온(예, 아연염, 예를 들어 시트르산아연, 주석염, 구리염, 철염), 상귀나린, 프로폴리스 및 산소화제(예, 과산화수소, 완충 퍼옥시붕산 또는 퍼옥시탄산나트륨), 프탈산 및 그의 염, 모노퍼탈산(monoperthalic acid) 및 그의 염과 에스테르, 스테아르산아스코르빌, 올레오일 사르코신, 알킬 설페이트, 디옥틸 설포숙시네이트, 살리실아닐리드, 도미펜 브로마이드, 델모피놀, 옥타피놀 및 다른 피페리디노 유도체, 니신 제제, 아염소산염; 및 상기 중 어느 하나의 혼합물로부터 선택되는 항균제를 포함하는; 예를 들어, 트리클로산 또는 염화세틸피리디늄을 포함하는 상기 조성물 중 어느 하나.
4.15. 항균 유효량의 트리클로산, 예를 들어 0.1-0.5%, 예를 들어 0.3%를 포함하는 상기 조성물 중 어느 하나.
4.16. 예를 들어 과산화물, 금속 아염소산염, 과붕산염, 과탄산염, 과산, 하이포아염소산염, 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 미백제를 추가로 포함하는 상기 조성물 중 어느 하나.
4.17. 과산화수소 또는 과산화수소 원, 예를 들어 과산화우레아 또는 과산화물 염 또는 착물(예, 예컨대 퍼옥시인산염, 퍼옥시탄산염, 과붕산염, 퍼옥시규산염, 또는 과황산염; 예를 들어 퍼옥시인산칼슘, 과붕산나트륨, 과산화탄산나트륨, 퍼옥시인산나트륨, 및 과황산칼륨)을 추가로 포함하는 상기 조성물 중 어느 하나.
4.18. 세균 부착을 방해하거나 방지하는 제제, 예를 들어 소르비톨 또는 키토산을 추가로 포함하는 상기 조성물 중 어느 하나.
4.19. (i) 칼슘 유리 착물, 예를 들어 칼슘 소듐 포스포실리케이트, 및 (ii) 칼슘 단백질 착물, 예를 들어 카제인 포스포펩티드 비정질 인산칼슘으로부터 선택되는 칼슘과 인산염의 원을 추가로 포함하는 상기 조성물 중 어느 하나.
4.20. 예를 들어 황산칼슘, 염화칼슘, 질산칼슘, 아세트산칼슘, 락트산칼슘, 및 이들의 조합으로부터 선택되는 가용성 칼슘염을 추가로 포함하는 상기 조성물 중 어느 하나.
4.21. 생리적으로 또는 경구로 허용가능한 칼륨염, 예를 들어 질산칼륨 또는 염화칼륨을 상아질 감도를 줄이는데 유효한 양으로 추가로 포함하는 상기 조성물 중 어느 하나.
4.22. 음이온성 중합체, 예를 들어 합성 음이온성 중합체 폴리카르복실레이트를 추가로 포함하며, 예를 들어 음이온성 중합체가 또 다른 중합가능한 에틸렌 불포화 단량체와 말레산 무수물 또는 말레산의 1:4 내지 4:1 공중합체로부터 선택되고; 예를 들어 음이온성 중합체는 평균 분자량(M.W.)이 30,000 내지 1,000,000, 예를 들어 300,000 내지 800,000인 메틸 비닐 에테르/말레산 무수물(PVM/MA) 공중합체이며, 예를 들어 음이온성 중합체가 조성물 중량의 1-5%, 예를 들어 2%인 상기 조성물 중 어느 하나.
4.23. 호흡 청량제(breath freshener), 향료 또는 향미제를 추가로 포함하는 상기 조성물 중 어느 하나.
4.24. 조성물의 pH가 7 내지 11, 또는 9 내지 11, 또는 8 내지 9인 상기 조성물 중 어느 하나.
4.25. 아미노산이 리신이고, TBZC와 리신이 0.1-8 중량%, 예를 들어 0.5 중량%의 아연을 제공하는 양으로 아연 아미노산 할로겐화물 착물을 형성하며, 추가로 보습제, 예를 들어 소르비톨, 프로필렌 글리콜 및 이들의 혼합물 예를 들어 45-65%,예를 들어 50-60%의 양으로, 예를 들어 카르복시메틸 셀룰로스(CMC), 트리메틸 셀룰로스(TMC) 및 이들의 혼합물로부터 선택되는 증점제, 예를 들어 셀룰로스 유도체 0.1-2%의 양으로, 감미제 및/또는 향미제, 및 물을 추가로 포함하고, 예를 들어 구강 겔은 하기 성분을 포함하는 구강 겔의 형태로 상기 조성물 중 어느 하나:
성분 중량%
소르비톨 40-60%, 예를 들어 50-55%
TBZC-Lys 0.1-2% Zn, 예를 들어 0.5% Zn을 제공하도록
시스테인 0.02-0.5%, 예를 들어 0.1%
카르복시메틸 셀룰로스(CMC) 및 트리메틸 셀룰로스(TMC) 0.5-1%, 예를 들어 0.7%
향미제 및/또는 감미제 0.01-1%
프로필렌 글리콜 1-5%, 예를 들어 3.00%.
4.26. 에나멜의 산식증을 줄이고, 억제하며, 치아를 청소하고, 세균 생성 생체막과 치석을 줄이며, 치은염을 줄이고, 충치와 충치 구멍(cavity) 형성을 억제하며, 상아질 과민증을 줄이는데 사용하기 위한 상기 조성물 중 어느 하나.
또한 유효량의 조성물, 예를 들어 임의의 조성물 4(및 이하 참조)을 치아에 적용하는 단계, 및 임의로 그 후 불용성 아연 함유 침전물의 침전을 자극하는데 충분한 물 또는 수용액으로 헹구는 단계를 포함하는, 에나멜의 산식증을 줄이고, 억제하며, 치아를 청소하고, 세균 생성 생체막과 치석을 줄이며, 치은염을 줄이고, 충치와 충치 구멍 형성을 억제하며, 상아질 과민증을 줄이는 방법이 제공된다.
또한 (i) TBZH, 아미노산 원, 및 염화물 원(여기서 염화물 원은 염산, 아미노산 원, 또는 TBZH의 부분일 수 있다)을 유체(예, 수성) 매질에서 배합하는 단계, 임의로 이와 같이 형성된 착물을 고체 형태로 분리하는 단계, 착물을 시스테인과 배합하는 단계, 또는 (ii) TBZH-AA 착물과 시스테인을 배합하는 단계를 포함하는, (i) TBZH-AA 또는 TBZH-TAG 착물 및 (ii) 시스테인을 유리되거나 경구로 허용가능한 염 형태로, 예를 들어, 임의의 조성물 4(및 이하 참조)를 포함하는 구강 관리 조성물의 제조 방법이 제공된다. TBZH-AA 또는 TBZH-TAG 착물과 시스테인은 구강 관리 베이스, 예를 들어 치약 또는 구강 세정제 베이스와 배합될 수 있다.
예를 들어, 다양한 실시형태에서, (i) 치아의 과민증을 줄이고, (ii) 치석 축적을 줄이며, (iii) 치아의 탈회를 줄이거나 억제하며, 치아의 재석회화를 촉진하고, (iv) 구강에서 미생물 생체막 형성을 억제하며, (v) 치은염을 줄이거나 억제하고, (vi) 구내 헌데 또는 베인 상처의 치유를 촉진하며, (vii) 산 생성 세균의 수준을 줄이고, (viii) 비우식성 및/또는 비치석 형성 세균의 상대 수준을 증가시키며, (ix) 충치의 형성을 줄이거나 억제하고, (x) 예를 들어 정량 광유도 형광(QLF, quantitative light-induced fluorescence) 또는 전기 충치 측정(ECM, electrical caries measurement)에 의해 검측된 바와 같이, 에나멜의 전충치 병변을 줄이거나, 회복하거나 억제하며, (xi) 구강 건조를 치료하거나, 완화하거나 줄이고, (xii) 치아와 구강을 청소하며, (xiii) 침식을 줄이고, (xiv) 치아를 미백하며; (xv) 치석 축적을 줄이고/이거나; (xvi) 예를 들어 구강 조직을 통한 전신 감염에 대한 가능성을 낮춤으로써, 심혈관 건강을 포함하여, 전신 건강을 촉진하는 방법으로서, 상기에 기재한 임의의 조성물 4(및 이하 참조)을 이러한 처리가 필요한 인간의 구강에 1일 1회 이상 적용하는 것을 포함하는 방법이 제공된다. 또한 임의의 이들 방법에 사용하기 위한 조성물 4(및 이하 참조)가 제공된다.
또한 임의의 조성물 4(및 이하 참조)에 따라, 구강 관리 조성물의 제조에서 (i) TBZH-AA 또는 TBZH-TAG 착물, 및 (ii) 유리되거나 경구로 허용가능한 염 형태로 시스테인의 용도가 제공된다.
또한 에나멜의 산식증을 줄이고, 억제하며, 치아를 청소하고, 세균 생성 생체막과 치석을 줄이며, 치은염을 줄이고, 충치와 충치 구멍 형성을 억제하며/하거나, 상아질 과민증을 줄이기 위해, (i) TBZH-AA 또는 TBZH-TAG 착물, 및 (ii) 유리되거나 경구로 허용가능한 염 형태로 시스테인의 용도가 제공된다.
또한 TBZH-AA 착물을 안정화시키기 위해 유리되거나 경구로 허용가능한 염 형태로 시스테인의 용도가 제공된다. 일 실시형태에서, TBZH-AA 또는 TBZH-TAG 착물은 실온에서 수용액 중에 전구체들을 혼합함으로써 제조된다. 계 내 형성은 제제화의 용이성을 제공한다. 전구체는 처음에 염을 형성해야 하는 것 대신에 사용될 수 있다. 또 다른 실시형태에서, 전구체로부터 염의 형성을 가능하게 하는 물은 사용 과정에서 조성물과 접촉하는 물(예를 들어, 응용 분야에 따라 헹굼 물, 침 또는 땀)에서 나온다.
본원에서 다양한 아연 염 및 착물의 몰수 또는 중량%는 특정 염 또는 착물 형태에 기초하여 달라질 것이므로, 본 발명자들은 본원에서 자주 그의 염 또는 착물 형태와 관계없이, 제제 중 총 아연의 양을 중량으로 또는 몰 양으로 언급한다. 일부 실시형태에서, 조성물 중 아연의 총량은 조성물의 0.05 내지 8 중량%이다. 다른 실시형태에서, 아연의 총량은 조성물의 적어도 0.1, 적어도 0.2, 적어도 0.3, 적어도 0.4, 적어도 0.5, 또는 적어도 1 내지 8 중량% 이하이다. 다른 실시형태에서, 조성물 중 아연의 총량은 조성물의 5 미만, 4 미만, 3 미만, 2 미만, 또는 1 미만 내지 0.05 중량%이다. 예를 들어, 일부 실시형태에서, 조성물 중 아연의 총량은 2-3% 또는 1%일 수 있다.
특정 실시형태에서, 조성물은 무수이다. 무수란, 5 중량% 미만의 물, 임의로 4 미만, 3 미만, 2 미만, 1 미만, 0.5 미만, 0.1 미만 내지 0 중량%에 이르기까지의 물이다. 무수 조성물로 제공될 때, TBZH-AA 착물의 전구체, 예를 들어 TBZC와 리신 염산염은 현저하게 반응하지 않을 것이다. 충분한 양의 물과 접촉될 때, 그러면 전구체는 반응하여 원하는 염, 예를 들어, TBZC-Lys를 형성할 것이며, 사용에 따라 추가 희석 시 피부 또는 치아에 원하는 침전물을 형성한다.
아미노산: TBZH-AA 착물에서 아미노산은 염기성 아미노산일 수 있다. "염기성 아미노산"이란 분자 중에 카르복실기와 아미노기를 가진 임의의 염기성 아미노산뿐만 아니라 천연 염기성 아미노산, 예컨대 아르기닌, 리신, 및 히스티딘을 의미하며, 이는 수용성이고, pH 7 이상인 수용액을 제공한다. 따라서 염기성 아미노산은 아르기닌, 리신, 시트룰린, 오르니틴, 크레아틴, 히스티딘, 디아미노부탄산, 디아미노프로피온산, 이들의 염 또는 이들의 조합을 포함하나, 이들에 한정되지 않는다. 특정 실시형태에서, 염기성 아미노산은 리신이다. 아연 아미노산 할로겐화물 착물을 제조하는데 사용하기 위한 염기성 아미노산은 일반적으로 할로겐화물산 부가염, 예를 들어 염산염의 형태로 제공된다.
조성물은 또한 시스테인을 유리되거나 경구로 또는 미용상 허용가능한 염 형태로 포함한다. "경구로 또는 미용상 허용가능한 염 형태"란 제공된 농도에서 구강 또는 피부에 각각 투여를 위해 안전하며, 아연의 생물학적 활성을 방해하지 않는 염 형태를 의미한다. 특정 실시형태에서, 시스테인은 유리 형태로 투여된다. 본원에서 제제 중 아미노산의 양에 대해 중량이 제공되는 곳에서는 어디든, 중량은 일반적으로 달리 지시되지 않는 한 유리산의 중량을 사용하여 제공된다. 일 실시형태에서, 시스테인 염은 산, 예컨대 시스테인 히드로할라이드(예를 들어, 시스테인 염산염)일 수 있다.
경구로 또는 미용상 허용가능한 담체를 포함하는 조성물에서, TBZH-AA 또는 TBZH-TAG 착물(전구체를 포함하여)과 시스테인 이외의 조성물 중 모든 다른 물질을 나타낸다. 따라서 담체의 양은 TBZH-AA 또는 TBZH-TAG 착물(전구체를 포함하여) 및 단백질의 중량에 더함으로써 100%에 도달하는 양이다. "경구로 허용가능한 담체"란 예를 들어, 치약 또는 구강 린스제에 제공되는 양과 농도에서 사용하는데 안전한 것으로서 일반적으로 인정되는 성분을 함유하는, 구강 관리 용품에서 사용하는데 적합한 담체를 의미한다. "미용상 허용가능한 담체"란 예를 들어, 액체 핸드 소프 또는 바디 워시에, 또는 발한억제제 제품에 제공되는 양과 농도에서 사용하는데 안전한 것으로서 일반적으로 인정되는 성분을 함유하는, 피부에 국소 사용을 위한 제품에서 사용하는데 적합한 담체를 의미한다. 따라서 조성물에 사용하기 위한 부형제는 예를 들어 미국 식품의약국에 의해 "일반적으로 안전한 것으로서 인정되는"(GRAS, Generally Recognized as Safe) 부형제를 포함할 수 있다.
개인 관리 제제:
따라서 용어 "미용상 허용가능한 담체"는 본원에서 정의된 착물의 유효량에 대한 적절한 전달을 제공하고, 아연의 생물학적 활성의 효과를 방해하지 않으며, 피부에 국소 투여를 위해 적합하고, 비독성인 임의의 제제 또는 담체 매질을 의미한다. 대표적인 담체는 물, 식물성 및 광물 둘 다의 오일, 소프 베이스, 크림 베이스, 로션 베이스, 연고 베이스 등, 특히 수성 세제 담체, 예를 들어 액체 핸드 소프 또는 바디 워시를 포함한다. 일 실시형태에서, 수성 소프 베이스는 음이온성 계면활성제가 없거나 음이온성 계면활성제를 1% 미만 함유한다. 또 다른 실시형태에서, 미용상 허용가능한 담체는 국소로 허용가능한 사차 암모늄 화합물을 함유한다. 이들은 추가로 약물 제제화의 분야에서 공지되거나 사용되며, 활성제의 생물학적 활성의 효과를 적절치 않게 방해하지 않고, 숙주 또는 환자에게 충분히 비독성인, 완충제, 보존제, 항산화제, 향료, 유화제, 염료 및 부형제를 포함할 수 있다. 국소 제제용 첨가제는 본 기술에서 잘 알려져 있으며, 이들이 약학적으로 허용가능하며, 상피 세포나 이들의 기능에 해롭지않은 한, 국소 조성물에 첨가될 수 있다. 추가로, 이들은 조성물의 안정성에 대한 악화를 야기하지 않아야 한다. 예를 들어, 불활성 충전제, 항자극제, 점성 부여제, 부형제, 향료, 유백제, 항산화제, 겔화제, 안정화제, 계면활성제, 피부 연화제, 착색제, 보존제, 완충제, 및 본 기술에서 공지되어 있는 국소 제제의 다른 종래 성분이다.
일부 경우에, 개인 관리 조성물은 오일 또는 피부 보습제를 포함하며, 이들은 수용성이 아닐 수 있고, 에멀션 시스템으로 전달될 수 있으며, 여기서 아연 리신 착물은 에멀션의 수상에 존재할 것이다. 에멀션 제제용 계면활성제는 비이온성 계면활성제의 조합, 예를 들어, (i) 예를 들어, HLB 값이 8 이하인 친유성 계면활성제, 예 소르비탄 지방산 에스테르, 예컨대 소르비탄 올레에이트, 예, 소르비탄 세스퀴올레에이트; 및 (ii) 예를 들어, HLB가 8 초과인 친수성 계면활성제, 특히 a. 디- 또는 트리-알칸올 아민, 예컨대 트리에탄올 아민; b. 폴리에톡실화 계면활성제, 예를 들어 폴리에톡실화 알코올(특히, 폴리에톡실화 폴리올), 폴리에톡실화 식물성유, 및 폴리에톡실화 실리콘, 예, 폴리소르베이트 80, 디메티콘 폴리에틸렌 옥사이드, 및 디메틸메틸(폴리에틸렌 옥사이드) 실록산으로 이루어진 군에서 선택되는 1 이상의 계면활성제를 포함할 수 있다. 유중수형 에멀션에 대해, 계면활성제 혼합물의 전체 HLB는 바람직하게는 2-8이며, 즉 전형적으로 더 높은 비율의 친유성 계면활성제이고; 반면에 수중유형 에멀션에 대해, 계면활성제 혼합물의 전체 HLB는 바람직하게는 8-16이다.
개인 관리 조성물은 또한 산화를 억제한다고 알려진 물질인, 적합한 항산화제를 포함할 수 있다. 조성물에서 사용하는데 적합한 항산화제는 부틸화 히드록시톨루엔, 아스코르브산, 아스코르브산나트륨, 아스코르브산칼슘, 팔미트산아스코르빌, 부틸화 히드록시아니솔, 2,4,5-트리히드록시부티로페놀, 4-히드록시메틸-2,6-디-tert-부틸페놀, 에리소르브산, 과이액 검, 갈산프로필, 티오디프로피온산, 티오디프로피온산디라우릴, tert-부틸히드로퀴논 및 토코페롤 예컨대 비타민 E, 등을 이들 화합물의 약학적으로 허용가능한 염 및 에스테르를 포함하여, 포함하나, 이들에 한정되지 않는다. 바람직하게는, 항산화제는 부틸화 히드록시톨루엔, 부틸화 히드록시아니솔, 갈산프로필, 아스코르브산, 이들의 약학적으로 허용가능한 염 또는 에스테르, 또는 이들의 혼합물이다. 가장 바람직하게는, 항산화제는 부틸화 히드록시톨루엔이다. 이들 물질은 루거 케미칼사(Ruger Chemical Co.)(뉴저지 어빙턴)로부터 입수가능하다. 국소 제제가 하나 이상의 항산화를 함유하는 경우, 존재한 항산화제의 총량은 0.001 내지 0.5 중량%, 바람직하게는 0.05 내지 0.5 중량%, 더 바람직하게는 0.1%이다.
개인 관리 조성물은 또한 적합한 보존제를 포함할 수 있다. 보존제는 항미생물제로서 작용하도록 제제에 첨가되는 화합물이다. 비경구 제제에서 효과적이고 허용가능한 것으로서 본 기술에서 알려진 보존제 중에 염화벤즈알코늄, 벤제토늄, 클로로헥시딘, 페놀, m-크레졸, 벤질 알코올, 메틸파라벤, 프로필파라벤, 클로로부탄올, o-크로졸, 클로로크레졸, 질산페닐수은, 티메로살, 벤조산, 및 이들의 다양한 혼합물이 있다. 국소 제제가 하나 이상의 보존제를 함유하는 경우, 존재한 보존제의 총량은 0.01 내지 0.5 중량%, 바람직하게는 0.1 내지 0.5 중량%, 더 바람직하게는 0.03 내지 0.15 중량%이다.
개인 관리 조성물은 또한 지질 이중층을 횡단하지 않는 금속 양이온과 착물을 형성하는 적합한 킬레이트화제를 포함할 수 있다. 적합한 킬레이트화제의 일예는 에틸렌 디아민 테트라아세트산(EDTA), 에틸렌 글리콜-비스(베타-아미노에틸에테르)-N,N,N',N'-테트라아세트산(EGTA) 및 8-아미노-2-[(2-아미노-5-메틸페녹시)메틸]-6-메톡시퀴놀린-N,N,N',N'-테트라아세트산, 사칼륨염(QUIN-2)을 포함한다. 이들 물질은 스펙트럼 케미칼즈(Spectrum Chemicals)로부터 입수가능하다. 국소 제제가 하나 이상의 킬레이트화제를 함유하는 경우, 존재한 킬레이트화제의 총량은 0.005 중량% 내지 2.0 중량%, 바람직하게는 0.05 중량% 내지 0.5 중량%, 더 바람직하게는 0.1 중량%이다. 예를 들어 아연을 결합함으로써 킬레이터가 아연 착물을 방해하지 않도록 주의해야 하지만, 시험한 제제에서, 예를 들어 낮은 수준의 EDTA는 문제를 나타내지 않았다.
개인 관리 조성물은 또한 적합한 pH 조정제 및/또는 완충제를 포함하여 제제의 pH를 적합한 범위, 예를 들어 pH 6-8 또는 대략 중성의 pH로 조정하고, 유지할 수 있다.
개인 관리 조성물은 또한 적합한 점도 증가제를 포함할 수 있다. 이들 성분은 중합체와 제제의 상호작용을 통해 중합체 함유 용액의 점도를 증가시킬 수 있는 확산성 화합물이다. CARBOPOL ULTREZ 10이 점도 증가제로서 사용될 수 있다. 이들 물질은 루브리졸사(Lubrizol)(오하이오 클리블랜드)로부터 입수가능하다. 국소 제제가 하나 이상의 점도 증가제를 함유하는 경우, 존재한 점도 증가제의 총량은 0.25 중량% 내지 5.0 중량%, 바람직하게는 0.25 중량% 내지 1.0 중량%, 및 더 바람직하게는 0.4 중량% 내지 0.6 중량%이다.
액체 형태, 예컨대 국소 투여에 적합하거나 화장 응용 분야에 적합한 로션은 완충제, 현탁 및 분산제, 증점제, 침투 촉진제, 등과 함께 적합한 수성 또는 비수성 부형제를 포함할 수 있다. 고체 형태 예컨대 크림 또는 페이스트 등은 예를 들어 하기 성분, 물, 오일, 계면활성제에 의한 기질(substrate)로서 그리스 또는 알코올, 폴리에틸렌 글리콜과 같은 중합체, 증점제, 고체 등 중 임의 성분을 포함할 수 있다. 액체 또는 고체 제제는 리포솜, 마이크로솜, 마이크로스폰지 등과 같은 향상된 전달 기술을 포함할 수 있다.
국소 치료 요법은 조성물을 피부에 적접 적용 부위에 1일 1회 내지 다수 회 적용하는 단계, 및 피부 상에 산화아연의 침전을 자극하도록 물로 씻는 단계를 포함할 수 있다.
제제는 세균 감염, 여드름, 염증 등과 관련한 증상 또는 증후를 치료하거나, 완화하거나 방지하는데 사용될 수 있다.
구강 관리 제제:
구강 관리 조성물, 예를 들어 조성물 4(및 이하 참조)는 TBZH-AA 착물을 포함하거나 이에 더해, 에나멜과 치아 구조의 강도 및 완전성을 보호하며, 향상시키고/거나 세균 및 관련 충치 및/또는 치주질환을 줄이는데 활성이 있는 다양한 제제를 포함할 수 있다. 본원에서 사용되는 활성 성분의 유효 농도는 사용되는 특정 제제와 전달 시스템에 좌우될 것이다. 치약은 예를 들어 전형적으로 사용 시 물에 의해 희석될 것이지만, 구강 린스제는 전형적으로 그렇지 않을 것으로 이해된다. 따라서 치약에서 활성제의 유효 농도는 통상적으로 구강 린스제에 필요한 것보다 5-15배 더 클 것이다. 농도는 또한 선택되는 정확한 염 또는 중합체에 좌우될 것이다. 예를 들어, 활성제가 염 형태로 제공되는 경우, 짝 이온이 염의 중량에 영향을 미칠 것이며, 그 결과 짝 이온이 더 무거운 경우, 최종 생성물에서 활성 이온의 동일한 농도를 제공하는데 더 많은 염이 중량으로 필요할 것이다. 아르기닌은, 존재하는 경우, 예를 들어 0.1 내지 20 중량%(유리 염기의 중량으로서 표시됨), 예를 들어 소비용 치약에 대해 1 내지 10 중량% 또는 전문 또는 처방 치료 제품에 대해 7 내지 20 중량%의 수준으로 존재할 수 있다. 불화물은 존재하는 경우 예를 들어 25 내지 25,000 ppm, 예를 들어 소비용 치약에 대해 750 내지 2,000 ppm, 또는 전문 또는 처방 치료 제품에 대해 2,000 내지 25,000 ppm의 수준으로 존재할 수 있다. 항균제의 수준은 유사하게 달라질 것이며, 치약에 사용되는 수준은 예를 들어 구강 린스제에 사용되는 것보다 5 내지 15배 더 크다. 예를 들어, 트리클로산 치약은 0.3 중량%의 트리클로산을 함유할 수 있다.
구강 관리 조성물은 추가로 1 이상의 불화물 이온 원, 예를 들어 가용성 불화물 염을 포함할 수 있다. 광범위한 불화물 이온 생성 물질이 본 조성물에서 가용성 불화물의 원으로서 사용될 수 있다. 대표적인 불화물 이온 원은 불화주석, 불화나트륨, 불화칼륨, 모노플루오로인산나트륨, 플루오로규산나트륨, 플루오로규산암모늄, 아민 불화물, 불화암모늄, 및 이들의 조합을 포함하나, 이들에 한정되지 않는다. 특정 실시형태에서, 불화물 이온 원은 불화주석, 불화나트륨, 모노플루오로인산나트륨 및 이들의 혼합물을 포함한다. 특정 실시형태에서, 구강 관리 조성물은 또한 불화물 이온 또는 불소 제공 성분의 원을 25 ppm 내지 25,000 ppm의 불화물 이온을 제공하는데 충분한 양으로, 일반적으로 적어도 500 pm, 예를 들어 500 내지 2000 ppm, 예를 들어 1000 내지 1600 ppm, 예를 들어 1450 ppm으로 함유할 수 있다. 불화물의 적합한 수준은 특정 응용 분야에 좌우될 것이다. 일반적인 소비 용도를 위한 치약은 전형적으로 1000 내지 1500 ppm이며, 소아용 치약은 약간 적다. 전문 응용 분야를 위한 치약 또는 코팅은 5,000 ppm 만큼 또는 심지어 25,000 ppm의 불화물을 가질 수 있다. 불화물 이온 원은 조성물에 일 실시형태에서 조성물의 0.01 중량% 내지 10 중량% 또는 0.03 중량% 내지 5 중량%, 및 또 다른 실시형태에서 조성물의 0.1 중량% 내지 1 중량% 의 수준으로 첨가될 수 있다. 불화물 이온의 적합한 수준을 제공하는 불화물 염의 중량은 명백히 염에서 짝 이온의 중량에 기초하여 달라질 것이다.
연마제 : 구강 관리 조성물, 예를 들어 조성물 4(및 이하 참조)는 실리카 연마제를 포함할 수 있으며, 추가의 연마제, 예를 들어 인산칼슘 연마제, 예, 인산삼칼슘(Ca3(PO4)2), 히드록시아파타이트(Ca10(PO4)6(OH)2), 또는 인산이칼슘 이수화물(CaHPO4·2H2O, 또한 때로 본원에서 DiCal로 언급됨) 또는 피로인산칼슘; 탄산칼슘 연마제; 또는 메타인산나트륨, 메타인산칼륨, 규산알루미늄, 하소 알루미나, 벤토나이트 또는 다른 규질 물질 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다.
본원에서 유용한 다른 실리카 연마 연삭 물질, 및 다른 연마제는 일반적으로 평균 입자 크기가 0.1 내지 30 마이크론, 5 내지 15 마이크론 범위이다. 특정 실리카 크세로젤은 더블유 알 그레이스사(W. R. Grace & Co.)의 데이비슨(Davison) 화학부에 의해 상품명 Syloid® 하에 시판되고 있다. 침강 실리카 물질은 제이 엠 후버사(J. M. Huber Corp.)에 의해 명칭 Zeodent 115 및 119를 지닌 실리카를 포함하여, 상품명 Zeodent® 하에 시판되는 것들을 포함한다. 특정 실시형태에서, 구강 관리 조성물의 실시에 유용한 연마제 재료는 흡유량이 100 cc/100 g(실리카) 미만 및 45 cc/100 g(실리카) 내지 70 cc/100 g(실리카) 범위인 실리카 겔 및 침강 비정질 실리카를 포함한다. 흡유량은 ASTA Rub-Out Method D281을 사용하여 측정된다. 특정 실시형태에서, 실리카는 평균 입자 크기가 3 마이크론 내지 12 마이크론, 및 5 내지 10 마이크론인 콜로이드 입자이다. 조성물에서 특히 유용한 낮은 흡유 실리카 연마제는 상품명 Sylodent XWA® 하에 더블유 알 그레이스사(21203 매릴랜드 볼티모어)의 데이비슨 화학부에 의해 시판되고 있다. 함수량이 29 중량%이고, 직경이 평균 7 내지 10 마이크론이며, 흡유량이 70 cc/100 g(실리카) 미만인 콜로이드 실리카의 입자로 이루어진 실리카 히드로겔인, Sylodent 650 XWA®이 조성물에 유용한 낮은 흡유 실리카 연마제의 일예이다.
발포제: 구강 관리 조성물은 또한 구강을 닦을 때 생성되는 거품의 양을 증가시키는 제제를 포함할 수 있다. 거품의 양을 증가시키는 제제의 예시적인 일예는 폴리옥시에틸렌을 포함하나, 이에 한정되지 않으며, 특정 중합체는 알긴산염 중합체를 포함하나, 이에 한정되지 않는다. 폴리옥시에틸렌은 조성물의 구강 관리 담체 성분에 의해 생성되는 거품의 양과 두께를 증가시킬 수 있다. 폴리옥시에틸렌은 또한 통상적으로 폴리에틸렌 글리콜("PEG") 또는 폴리에틸렌 옥사이드로 알려져 있다. 이 조성물에 적합한 폴리옥시에틸렌은 분자량이 200,000 내지 7,000,000일 것이다. 일 실시형태에서, 분자량은 600,000 내지 2,000,000일 것이며, 또 다른 실시형태에서 800,000 내지 1,000,000일 것이다. Polyox®은 유니온 카바이드사(Union Carbide)가 제조한 고분자량 폴리옥시에틸렌에 대한 상품명이다. 폴리옥시에틸렌은 구강 관리 조성물 중 구강 관리 담체 성분의 1 중량% 내지 90 중량%, 일 실시형태에서 5 중량% 내지 50 중량% 및 또 다른 실시형태에서 10 중량% 내지 20 중량%의 양으로 존재할 수 있다. 존재하는 경우, 구강 관리 조성물에서 발포제의 양(즉, 1회량)은 0.01 내지 0.9 중량%, 0.05 내지 0.5 중량%, 및 또 다른 실시형태에서 0.1 내지 0.2 중량%이다.
계면활성제 : 조성물은 음이온성, 양이온성, 비이온성 및/또는 양성 이온성 계면활성제를 함유할 수 있다.
i. 고급 지방산 모노글리세라이드 일황산염의 수용성 염, 예컨대 소듐 N-메틸 N-코코일 타우레이트, 소듐 코코모노글리세라이드 설페이트와 같은 수소화 코코넛 오일 지방산의 일황산화 모노글리세라이드의 나트륨염,
ii. 고급 알킬 설페이트, 예컨대 소듐 라우릴 설페이트,
iii. 예를 들어 화학식 CH3(CH2)mCH2(OCH2CH2)nOSO3X의 고급 알킬 에테르 설페이트(여기서 m은 6-16, 예, 10이며, n은 1-6, 예, 2, 3 또는 4이고, X는 Na 또는 K이다), 예를 들어 소듐 라우레트-2 설페이트(CH3(CH2)10CH2(OCH2CH2)2OSO3Na),
iv. 고급 알킬 아릴 설포네이트 예컨대 소듐 도데실 벤젠 설포네이트(소듐 라우릴 벤젠 설포네이트),
v. 고급 알킬 설포아세테이트, 예컨대 소듐 라우릴 설포아세테이트(도데실 소듐 설포아세테이트), 1,2 디히드록시 프로판 설포네이트의 고급 지방산 에스테르, 설포코라우레이트(N-2-에틸 라우레이트 칼륨 설포아세트아미드) 및 소듐 라우릴 사르코시네이트.
"고급 알킬"이란 예를 들어 C6 -30 알킬을 의미한다. 특정 실시형태에서, 음이온성 계면활성제는 소듐 라우릴 설페이트 및 소듐 에테르 라우릴 설페이트로부터 선택된다. 음이온성 계면활성제는 유효량, 예를 들어 제제의 >0.01 중량%로 존재할 수 있지만, 구강 조직에 자극적일 농도, 예를 들어 <10 중량%로 존재하지 않고, 최적 농도는 특정 제제와 특정 계면활성제에 좌우된다. 예를 들어, 사용되는 농도 또는 구강 세정제는 전형적으로 치약에 사용되는 농도의 십분의 일 정도이다. 일 실시형태에서, 음이온성 계면활성제는 치약에서 0.3 중량% 내지 4.5 중량%, 예를 들어 1.5 중량%로 존재한다. 조성물은 임의로 예를 들어 음이온성 계면활성제와 음이온성, 양이온성, 양성 이온성 또는 비이온성일 수 있는 다른 계면활성제를 포함하는, 계면활성제의 혼합물을 함유할 수 있다. 일반적으로, 계면활성제는 광범위한 pH 범위 전체에 걸쳐 합리적으로 안정한 것들이다. 특정 실시형태에서, 본원에서 유용한 음이온성 계면활성제는 알킬 라디칼에서 탄소 원자 수가 10 내지 18개인 알킬 황산염의 수용성 염 및 탄소 원자 수가 10 내지 18개인 지방산의 설폰화 모노글리세라이드의 수용성 염을 포함한다. 소듐 라우릴 설페이트, 소듐 라우로일 사르코시네이트 및 소듐 코코넛 모노글리세라이드 설포네이트가 이러한 형태의 음이온성 계면활성제의 일예이다. 특정 실시형태에서, 조성물, 예를 들어 조성물 4(및 이하 참조)는 소듐 라우릴 설페이트를 포함한다.
계면활성제 또는 양립가능한 계면활성제의 혼합물은 조성물에서 0.1 중량% 내지 5 중량%, 또 다른 실시형태에서 0.3 중량% 내지 3 중량% 및 또 다른 실시형태에서 전체 조성물의 0.5 중량% 내지 2 중량%로 존재할 수 있다.
음이온성 계면활성제는 TBZH-AA 착물 또는 아연의 활성을 방해하지 않도록 주의를 기울어야만 한다는 사실에 유의한다. 비교적 낮은 수준에서 그리고 비교적 낮은 수 제제에서, 계면활성제는 일반적으로 중요한 영향을 미치지 않을 것이지만, 더 높은 수준의 음이온성 계면활성제, 특히 수성 제제에서, 음이온성 계면활성제는 배제될 수 있다. 양이온성 및/또는 비이온성 계면활성제가 대신 사용될 수 있다.
치석 제거제: 다양한 실시형태에서, 조성물은 항결석(치석 조절)제를 포함한다. 적합한 항결석제는 제한 없이 폴리아미노프로판설폰산(AMPS), 헥사메타인산염, 시트르산아연 삼수화물, 폴리펩티드, 폴리올레핀 설폰산염, 폴리올레핀 인산염을 포함한다. 이러한 치석 제거제는 에나멜의 침식을 줄이며, 치아 청소에 도움이 되고/되거나 치아에 치석 축적을 줄이는데 유효한 양으로, 예를 들어 조성물의 2-20 중량%, 예를 들어 약 5-15 중량%의 양으로 제공된다.
향미제 : 구강 관리 조성물은 또한 향미제를 포함할 수 있다. 조성물에서 사용될 수 있는 향미제는 에센셜 오일 및 다양한 향미 알데히드, 에스테르, 알코올, 및 유사물질을 포함하나, 이들에 한정되지 않는다. 에센셜 오일의 일예는 스피어민트, 페퍼민트, 노루발풀(wintergree), 사사프라스, 정향(clove), 세이지, 유칼립투스, 마조람, 계피, 레몬, 라임, 자몽, 및 오렌지의 오일을 포함한다. 멘톨, 카르본, 및 아네톨과 같은 화학제품이 또한 유용하다. 특정 실시형태는 페퍼민트와 스피어민트의 오일을 사용한다. 향미제는 구강 조성물에 0.1 내지 5 중량%, 예를 들어 0.5 내지 1.5 중량%의 농도로 혼입될 수 있다.
중합체 : 구강 관리 조성물은 또한 제제의 점도를 조정하거나 다른 성분의 용해도를 향상시키는 추가 중합체를 포함할 수 있다. 이러한 추가 중합체는 폴리에틸렌 글리콜, 폴리사카라이드(예, 셀룰로스 유도체, 예컨대 카르복시메틸 셀룰로스, 또는 폴리사카라이드 검, 예를 들어 크산탄 검 또는 카라기난 검)를 포함한다. 산성 중합체, 예를 들어 폴리아크릴레이트 겔은 이들의 유리산 또는 부분적으로 또는 완전히 중화된 수용성 알칼리 금속(예, 칼륨 및 나트륨) 또는 암모늄염의 형태로 제공될 수 있다.
수성 매질에서 중합체 구조 또는 겔을 형성하는 실리카 증점제가 존재할 수 있다. 이들 실리카 증점제는 물리적으로 및 기능적으로 조성물에 또한 존재하는 미립자 실리카 연마제와 상이하며, 그 이유는 실리카 증점제가 매우 미세하게 분할되어서, 연마 작용을 거의 또는 전혀 제공하지 못하기 때문이라는 사실에 주의한다. 다른 증점제는 카르복시비닐 중합체, 카라기난, 히드록시에틸 셀룰로스 및 셀룰로스 에테르의 수용성 염 예컨대 소듐 카르복시메틸 셀룰로스 및 소듐 카르복시메틸 히드록시에틸 셀룰로스이다. 천연 검 예컨대 카라야, 아라비아 검, 및 트라가칸트 검이 또한 혼입될 수 있다. 콜로이드 규산 알루미늄 마그네슘이 또한 조성물의 텍스처를 추가로 개선하기 위해 증점 조성물의 성분으로서 사용될 수 있다. 특정 실시형태에서, 전체 조성물의 0.5 중량% 내지 5.0 중량%의 양으로 증점제가 사용된다.
조성물은 음이온성 중합체를 예를 들어 0.05 내지 5%의 양으로 포함할 수 있다. 음이온성 중합체의 일예는 합성 음이온성 중합체 폴리카르복실레이트, 예컨대 분자량(M.W)이 30,000 내지 1,000,000, 가장 바람직하게는 300,000 내지 800,000인, 또 다른 중합가능한 에틸렌계 불포화 단량체와 무수 말레산 또는 말레산, 바람직하게는 메틸 비닐 에테르/무수 말레산의 1:4 내지 4:1 공중합체를 포함한다. 이들 공중합체는 예를 들어 아이에스피 테크놀로지스사(ISP Technologies, Inc.)(08805 뉴저지 바운드 브룩)로부터 입수가능한, Grantrez, 예, AN 139(M.W. 500,000), AN 119(M.W. 250,000) 및 바람직하게는 S-97 의약품 등급(M.W. 700,000)으로서 이용될 수 있다. 촉진제(enhancing agent)가 존재하는 경우 0.05 내지 3 중량% 범위의 양으로 존재한다. 다른 유효 중합체는 에틸 아크릴레이트, 히드록시에틸 메타크릴레이트, N-비닐-2-피롤리돈, 또는 에틸렌과 무수 말레산의 1:1 공중합체로서, 후자는 예를 들어 Monsanto EMA No. 1103, M.W. 10,000 및 EMA Grade 61로서 이용가능한 공중합체, 및 메틸 또는 히드록시에틸 메타크릴레이트, 메틸 또는 에틸 아크릴레이트, 이소부틸 비닐 에테르 또는 N-비닐-2-피롤리돈과 아크릴산의 1:1 공중합체와 같은 것들을 포함한다. 활성화 탄소 대 탄소 올레핀 이중 결합과 하나 이상의 카르복실기를 함유하는 중합된 올레핀계 또는 에틸렌계 불포화 카르복실산, 즉 카르복실기에 관해 알파 베타 위치에서 또는 말단 메틸렌 그룹(grouping)의 일부로서 단량체 분자 내에 올레핀 이중 결합의 존재 때문에 중합에서 쉽게 작용하는 올레핀 이중 결합을 함유하는 산이 일반적으로 적합하다. 이러한 산의 예시는 아크릴산, 메타크릴산, 에타크릴산, 알파-클로로아크릴산, 크로톤산, 베타-아크릴옥시 프로피온산, 소르브산, 알파-클로르소르브산, 신남산, 베타-스티릴아크릴산, 무콘산, 이타콘산, 시트라콘산, 메사콘산, 글루타콘산, 아코니트산, 알파-페닐아크릴산, 2-벤질 아크릴산, 2-시클로헥실아크릴산, 앙겔산, 움벨산, 푸마르산, 말레산 및 무수물이다. 이러한 카르복실산 단량체와 공중합가능한 다른 상이한 올레핀 단량체는 비닐아세테이트, 비닐 클로라이드, 디메틸 말레에이트 등을 포함한다. 공중합체는 수용해도를 위해 충분한 카르복실산염 기들을 함유한다. 추가 부류의 고분자제는 치환된 아크릴아미드의 단독 중합체 및/또는 불포화 설폰산 및 이들의 염의 단독 중합체를 함유하는 조성물을 포함하며, 특히 여기서 중합체는 분자량이 1,000 내지 2,000,000인 2-아크릴아미드 2-메틸프로판 설폰산과 같은 아크릴아미도알칸 설폰산으로부터 선택되는 불포화 설폰산을 기초로 한다. 또 다른 유용한 부류의 고분자제는 아스파르트산, 글루탐산 및 포스포세린과 같은 음이온성 표면 활성 아미노산의 부분을 함유하는 폴리아미노산을 포함한다.
구강 조성물은 상당 수준의 물을 포함할 수 있다. 시판 구강 조성물의 제제에서 사용되는 물은 탈이온수이어야 하며, 유기 불순물이 없어야 한다. 조성물에서 물의 양은 첨가되는 자유수 플러스 다른 물질과 함께 도입되는 양을 포함한다.
보습제 : 구강 조성물의 특정 실시형태 내에서, 조성물이 공기에 노출 시 경화되는 것을 방지하는 보습제를 혼입하는 것이 또한 바람직하다. 특정 보습제는 또한 치약 조성물에 바람직한 단맛 또는 향미를 부여할 수 있다. 적합한 보습제는 식용 다가 알코올 예컨대 글리세린, 소르비톨, 자일리톨, 프로필렌 글리콜 및 다른 폴리올과 이들 보습제의 혼합물을 포함한다. 일 실시형태에서, 주요 보습제는 글리세린이며, 이는 25% 초과, 예를 들어 25-35%, 30%의 수준에서 존재할 수 있고, 다른 보습제는 5% 이하이다.
다른 임의 성분 : 상기에 기재한 성분 외에, 구강 관리 실시형태는 다양한 임의 치약 성분을 함유할 수 있으며, 이들 중 일부는 하기에 기재된다. 임의 성분은 예를 들어 접착제, 거품제(sudsing agent), 향미제, 감미제, 추가의 항치석제, 연마제, 및 착색제를 포함하나, 이들에 한정되지 않는다.
달리 언급되지 않는 한, 본 명세서에서 제시된 조성물 성분의 모든 퍼센트는 100%의 전체 조성물 또는 제제를 기준으로 중량에 의한 것이다.
본원에서 제공되는 조성물과 제제는 본 기술에서 통상적이듯이, 이들의 성분과 관련하여 기재되고, 청구된다. 당업자에게 명백하듯이, 성분들은 일부 일예에서 서로 반응할 수 있어서, 최종 제제의 실제 조성은 열거한 성분들과 정확히 상응하지 않을 수 있다. 따라서 조성물은 당연히 열거한 성분들의 조합 제품으로 연장된다.
전체에 사용되는 바와 같이, 범위는 범위 내에 있는 각각의 값과 모든 값을 기재하기 위해 축소한 표현으로서 사용된다. 범위 내의 임의 값은 범위의 한계로서 선택될 수 있다. 추가로, 본원에서 인용한 모든 문헌은 본 문서로서 이들 전체를 참조로서 원용한다. 본 개시 내용에서 정의 및 인용 문헌의 정의에서 대립의 경우, 본 개시 내용이 통제한다.
달리 규정되지 않는 한, 본원에서 및 명세서 중 다른 곳에서 표시한 모든 퍼센트와 양은 당연히 중량 퍼센트를 의미한다. 제시한 양은 물질의 활성 중량을 기준으로 한다.
실시예 1
용액의 탁도 연구: Turbiscan(포뮬레이션사(Formulation Inc), 플로리다 데이비)에 의해 탁도 측정을 수행한다. 이러한 기구의 측정은 샘플 용액이 있는 셀(cell)을 통해 광 빔을 보내고, 확산하지 않고 용액을 횡단하는 광자를 검출함으로써 실시된다. 결과를 투과 백분율로 제시한다(투과 백분율이 더 클수록 더 맑은 용액에 상응하며, 투과 백분율의 감소는 용액에 침전물의 형성을 나타낸다). 기구의 온도를 37℃에 설정한다. 이 온도 하에 30분간 1분 간격으로 탁도를 측정한다. 모든 희석액을 측정 전에 새로 준비한다.
하기 실험에서, 0.5% 시스테인이 있는 3개의 상이한 아연 리신 혼합물 용액을 준비한다:
1) TBZC - Lys - Cys :
7.3 g(0.05 mol)의 리신을 50 ml DI 수에 용해시킨다. 이러한 리신 용액에, 2.8 g(0.005 mol)의 TBZC를 첨가한다. Zn/리신 비는 1:2이다. 혼합물을 실온(실온)에서 주말 내내 교반시킨다. 그 후, 미반응 TBZC를 원심분리 이어서 0.45 ㎛ 막을 통한 용액 여과에 의해 제거한다. 상층액의 pH는 10.1이다. 이 용액 19.9 g에, 0.1 g의 시스테인 분말을 첨가하고, 최종 용액은 투명하고, 누르스름하다. 본 발명자들은 용액이 실온에서 24 시간 숙성 후 혼탁하게 된다는 사실을 인지하고 있다.
2) TBZC - LysHCl - Cys :
9.13 g(0.05 mol)의 리신HCl을 50 ml DI 수에 용해시킨다. 이러한 리신HCl 용액에, 2.76 g(0.005 mol)의 TBZC를 첨가한다. Zn/리신 비는 1:2이다. 혼합물을 실온에서 주말 내내 교반시킨다. 그 후, 미반응 TBZC를 원심분리 이어서 0.45 ㎛ 막을 통한 용액 여과에 의해 제거한다. 상층액의 pH는 6이다. 이 용액 19.9 g에, 0.1 g의 시스테인 분말을 첨가한다. 그러나 백색 침전물이 형성되어, 용액은 투명하지 않다.
3) ZnCl 2 - Lys - Cys :
7.3 g(0.05 mol)의 리신을 50 ml DI 수에 용해시킨다. 이러한 리신 용액에, 3.4 g(0.025 mol)의 ZnCl2를 첨가한다. Zn/리신 비는 1:2이다. 혼합물을 실온에서 주말 내내 교반시킨다. 그 후, 미반응 ZnCl2를 원심분리 이어서 0.45 ㎛ 막을 통한 용액 여과에 의해 제거한다. 상층액의 pH는 7이다. 이 용액 19.9 g에, 0.1 g의 시스테인 분말을 첨가하여 백색 침전물이 형성되는 것을 보며, 용액은 투명하지 않다.
TBZC-LysHCl 용액에 시스테인 아미노산을 첨가하면 즉시 침전을 야기할 것이며, 침전물은 추가로 용해되지 않을 수 있다. TBZC-Lys 용액만이 시스테인의 첨가 후 투명하게 유지된다. 따라서 탁도 연구를 TBZC-Lys와 TBZC-Lys-Cys 용액으로 수행한다. TBZC-Lys와 TBZC-Lys-Cys 용액 둘 다 2배, 4배, 8배, 16배 및 32배 희석액으로 희석한다.
그 결과는 표 A에 있다. TBZC-Lys의 2배 용액은 측정기간 중에 안정하다. 이 용액이 추가로 4배 희석될 때 침전물이 순간적으로 형성된다. 침전물의 형성은 순간적이며 10분 후 병 아래에 가라앉는다. 4배 희석액에 대한 초기 % 투과율과 비교하여, 즉시 침전은 또한 8배 희석액에서 관찰되며, 더 작은 수는 더 많은 침전물이 형성된다는 것을 나타낸다. 8배 희석액에서 침전물의 더 빠른 침강(약 5분)이 관찰된다. 16배 희석액은 4배 및 8배 희석액과 동일한 작용이 있지만 더 많은 침전물을 형성하고, 더 빠르게 침강한다. 16배 희석액과 비교하여, 32배 희석액은 또한 침전물을 순간적으로 형성하지만, 그 양은 더 적다. 32배 희석액의 % 투과율은 약 35%에서 유지되며, 이는 측정기간 중에 침강이 일어나지 않는다는 것을 의미한다.
TBZC-Lys 시스템에 0.5% 시스테인을 첨가한 후, 이러한 새 혼합물 용액의 2배 및 4배 희석액은 둘 다 30분 측정기간 중에 안정하다. 순간 침전은 8배, 16배 및 32배 희석액에서 관찰된다. 그리고 이들 희석액은 TBZC-Lys와 동일한 작용을 나타내지만, 형성된 침전물의 양은 모두 시스테인을 첨가하지 않은 용액보다 적다.
[표 A]
Figure pct00001
실시예 2
하기 실험에서, 5개의 상이한 TBZC-리신-시스테인 혼합물 용액을 제조한다:
1) 시스테인이 0.05 중량%인 TBZC-Lys-Cys
7.3 g(0.05 mol)의 리신을 50 ml DI 수에 용해시킨다. 이러한 리신 용액에, 2.8 g(0.005 mol)의 TBZC를 첨가한다. Zn/리신 비는 1:2이다. 혼합물을 실온에서 4 시간에 걸쳐 교반시킨다. 그 후, 미반응 TBZC를 원심분리 이어서 0.45 ㎛ 막을 통한 용액 여과에 의해 제거한다. 상층액의 pH는 10.1이다. 이 용액 20 g에, 0.01 g의 시스테인 분말을 첨가하고, 최종 용액은 투명하고, 황색이다. 그러나 실온에서 24 시간 숙성 후, 용액은 혼탁하게 된다.
2) 시스테인이 0.075 중량%인 TBZC-Lys-Cys
7.3 g(0.05 mol)의 리신을 50 ml DI 수에 용해시킨다. 이러한 리신 용액에, 2.8 g(0.005 mol)의 TBZC를 첨가한다. Zn/리신 비는 1:2이다. 혼합물을 실온에서 4 시간에 걸쳐 교반시킨다. 그 후, 미반응 TBZC를 원심분리 이어서 0.45 ㎛ 막을 통한 용액 여과에 의해 제거한다. 상층액의 pH는 10.1이다. 이 용액 19.985 g에, 0.015 g의 시스테인 분말을 첨가하고, 최종 용액은 투명하고, 황색이다. 그러나 실온에서 24 시간 숙성 후, 용액은 혼탁하게 된다.
3) 시스테인이 0.09 중량%인 TBZC-Lys-Cys
7.3 g(0.05 mol)의 리신을 50 ml DI 수에 용해시킨다. 이러한 리신 용액에, 2.8 g(0.005 mol)의 TBZC를 첨가한다. Zn/리신 비는 1:2이다. 혼합물을 실온에서 4 시간에 걸쳐 교반시킨다. 그 후, 미반응 TBZC를 원심분리 이어서 0.45 ㎛ 막을 통한 용액 여과에 의해 제거한다. 상층액의 pH는 10.1이다. 이 용액 19.982 g에, 0.018 g의 시스테인 분말을 첨가하고, 최종 용액은 투명하고, 황색이다. 그러나 실온에서 24 시간 숙성 후, 용액은 혼탁하게 된다.
4) 시스테인이 0.1 중량%인 TBZC-Lys-Cys
7.3 g(0.05 mol)의 리신을 50 ml DI 수에 용해시킨다. 이러한 리신 용액에, 2.8 g(0.005 mol)의 TBZC를 첨가한다. Zn/리신 비는 1:2이다. 혼합물을 실온에서 4 시간에 걸쳐 교반시킨다. 그 후, 미반응 TBZC를 원심분리 이어서 0.45 ㎛ 막을 통한 용액 여과에 의해 제거한다. 상층액의 pH는 10.1이다. 이 용액 19.98 g에, 0.02 g의 시스테인 분말을 첨가하고, 최종 용액은 투명하고, 황색이다. 그러나 실온에서 24 시간 숙성 후, 용액은 혼탁하게 된다.
5) 시스테인이 0.15 중량%인 TBZC-Lys-Cys
7.3 g(0.05 mol)의 리신을 50 ml DI 수에 용해시킨다. 이러한 리신 용액에, 2.8 g(0.005 mol)의 TBZC를 첨가한다. Zn/리신 비는 1:2이다. 혼합물을 실온에서 4 시간에 걸쳐 교반시킨다. 그 후, 미반응 TBZC를 원심분리 이어서 0.45 ㎛ 막을 통한 용액 여과에 의해 제거한다. 상층액의 pH는 10.1이다. 이 용액 19.97 g에, 0.03 g의 시스테인 분말을 첨가하고, 최종 용액은 투명하고, 황색이다. 그러나 실온에서 24 시간 숙성 후, 용액은 혼탁하게 된다.
시스테인의 첨가 시, 시스테인의 양이 달라진 TBZC-Lys 용액은 투명하게 유지된다. 본 실험에서 사용되는 기구와 과정은 실시예 1에 기재한 것들과 동일하다. 시스테인의 양이 상이한 TBZC-Lys-Cys의 3개 용액을 모두 2배, 4배, 8배, 16배, 및 32배 희석액으로 희석한다.
결과
표 B에서는 0.05% 시스테인을 함유한 용액에 대한 결과를 보여준다. 확인할 수 있는 바와 같이, 2배 희석된 용액은 20분 측정기간 동안 안정하다. 순간 침전은 4배, 8배, 16배 및 32배 희석된 용액에 대해 일어난다. 4배 희석된 샘플에 대해, 침전이 너무 빨라서 4분 후 병의 바닥 아래에 가라앉는다. 4배 희석액과 비교할 때, 8배 희석액의 초기 % 투과율은 더 적으며, 이는 더 많은 침전물이 형성되는 것을 나타낸다. 침전물의 침강은 8배 희석액에 대해 약 6분에 완료된다. 16배 희석액은 8배 희석액과 동일한 작용이 있으나, 4배 및 8배 희석액에 대해 중간 양으로 침전물을 형성한다. 또한, 16배 희석액은 4배 및 8배보다 침강 속도가 더 느리다(약 8분). 16배 희석액과 비교하여, 32배 희석액은 또한 침전물을 순간적으로 형성하지만, 그 양은 더 적다. 32배 희석액은 침전물을 매우 신속히 형성하여서 약 4분 후에 병의 바닥 아래에 가라앉기 시작한다.
0.05 중량%의 시스테인을 함유한 희석된 샘플의 초기 pH는 표 1에서 알 수 있는 바와 같이, 9.7 내지 10.1 범위이며, 가장 많이 희석된 샘플은 pH가 최저이다. 2배 희석액은 맑은 듯이 보인다. 나머지 희석액은 백색 침전물을 함유한다. 표 2에서 확인할수 있는 바와 같이, 0.05% 시스테인을 함유한 희석된 용액의 pH를 땀(약 5.5)과 유사한 pH로 바꿀 때, 모든 용액에서 침전물이 용액의 투명도에 의해 표시되는 바와 같이, 용해된다.
0.075 중량%의 시스테인을 함유한 용액에 대해 표 C에서 확인할 수 있는 바와 같이, 2배 희석액은 90%에서 안정하게 유지된다. 환언하면, 20분 측정기간 동안, 2배 희석액은 침전물을 형성하지 않는다. 4배, 8배, 16배 및 32배 희석액은 백색 침전물을 순간적으로 형성한다. 4배 희석액은 측정기간 전체에 걸쳐 침전물을 연속적으로 형성한다. 4배 희석액의 최종 투과 백분율은 24.8%이다. 8배, 16배 및 32배 희석액은 20분 기간 동안 매우 유사하게 작용한다. 8배 희석액은 초기 투과 백분율이 18.07%인 모든 샘플 중에서 최대 초기 침전을 형성한다. 시간 경과에 따라, 침전물은 시험관의 바닥에 가라앉고, 이는 투과 백분율의 증가에 의해 반영된다. 16배 희석액은 즉각적인 침전물을 8배 및 32배 희석액에 대해 중간인 양으로 형성한다. 시간 경과에 따라, 16 및 32배 희석액의 침전물은 시험관의 바닥에 가라앉고, 이는 투과 백분율의 증가에 의해 반영된다.
0.075 중량%의 시스테인을 함유한 희석된 샘플의 초기 pH는 표 3에서 확인될 수 있는 바와 같이, 9.66-10.16 범위이며, 최대로 희석된 샘플은 pH가 최저이다. 희석된 샘플 모두는 백색 침전물을 함유한다. 표 4에서 확인할 수 있는 바와 같이, 0.075% 시스테인을 함유한 희석된 샘플의 pH를 땀의 pH에 유사한 pH로 바꿀 때, 희석액 중 어느 것도 침전물을 함유하지 않는다.
0.09 중량%의 시스테인을 함유한 2배 희석된 샘플은 표 D에 제시한 바와 같이, 약 89% 투과율에서 안정하게 유지된다. 환언하면, 20분 측정기간 동안, 2배 희석액은 침전물을 형성하지 않는다. 4배, 8배, 16배 및 32배 희석액은 백색 침전물을 순간적으로 형성하며, 측정기간 동안 매우 유사하게 작용한다. 4배 희석액은 측정기간 전체에 걸쳐 침전물을 연속적으로 형성한다. 4배 희석액의 최종 투과 백분율은 30.59%이다. 4배 희석액은 모든 샘플 중에서 최대 초기 침전을 형성하며, 이어서 8배 희석액, 16배 희석액 및 32배 희석액이 각각 이 순서로 형성한다.
0.09 중량%의 시스테인을 함유한 희석된 샘플의 초기 pH는 표 5에서 확인할 수 있는 바와 같이, 9.8 내지 10.2 범위이다. 희석된 샘플은 모두 백색 침전물을 함유한다. 표 6에서 확인할 수 있는 바와 같이, 0.09% 시스테인을 함유한 희석된 샘플의 pH를 땀의 pH와 유사한 pH로 바꿀 때, 희석액 중 어느 것도 침전물을 함유하지 않는다.
표 E는 0.1% 시스테인을 함유한 용액에 대해, 2배 및 4배 희석된 용액이 둘 다 20분 측정기간 전체에 걸쳐 안정하다는 것을 보여준다. 순간 침전은 8배, 16배, 및 32배 희석액에서 관찰된다. 8배 희석액은 2배 및 4배 희석액보다 더 많은 양의 침전물을 생성한다. 8배 희석액은 초기 % 투과율이 70%이며, 약 7분 후, 이것은 20분의 나머지 기간 동안 약 77%에 유지된다. 이는 8배 희석액에 대해 약 7분 후 추가 침강이 일어나지 않는다는 것을 시사한다. 16배 희석액은 0.05% 시스테인 용액의 8배 및 16배 희석액보다 아직 적지만, 가장 많은 양의 침전물을 생성한다. 32배 희석액은 또한 침전물을 순간적으로 형성하지만, 그 양은 16배 희석액보다 더 적다. 32배 희석액의 % 투과율은 약 65%에서 유지되며, 이는 측정기간 중에 침강이 일어나지 않는다는 것을 의미한다.
0.1 중량%의 시스테인을 함유한 희석액의 초기 pH는 표 7에서 확인될 수 있는 바와 같이, 9.70 내지 10.00 범위이며, 최대로 희석된 샘플은 pH가 최저이다. 희석액 모두는 백색 침전물을 함유한다. 표 8에서 확인할 수 있는 바와 같이, 0.1% 시스테인을 함유한 희석된 용액의 pH를 땀(약 5.5)과 유사한 pH로 바꿀 때, 침전물은 용액 모두에 존재한다(32배 희석액은 침전물을 초기에 가지지 않는 듯이 보이지만, 용액을 밤새 앉히면, 침전물이 시험관의 바닥에 가라앉는다.). 2배 희석액은 가장 많은 침전물을 함유하며, 희석액의 순서로, 희석된 샘플 중 나머지는 점점 더 적은 침전물을 함유한다.
표 F는 0.15% 시스테인을 함유한 용액에 대해, 희석액 모두가 순간 침전을 겪는다는 것을 보여준다. 2배 희석액은 측정기간 동안 약 65.5% 투과율에서 정체로 유지된다. 8배 및 32배 희석액은 매우 유사한 초기 투과 백분율로서, 8배 희석액에 대해 19.02%이고, 32배 희석액에 대해 19.97%이다. 4배 및 16배 희석액은 또한 매우 유사한 초기 투과 백분율로서, 4배 희석액에 대해 25.9%이고, 16배 희석액에 대해 24.82%이다. 측정기간 동안, 4배 희석액의 투과 백분율은 초기에 증가하지만, 약 3분 후 이것은 나머지 기간 동안 감소한다. 20분 측정기간의 종료에, 4배 희석액은 최저 투과 백분율이고, 이어서 8배 희석액, 다음 16배 희석액, 다음 32배 희석액, 및 끝으로 2배 희석액이 최고 투과 백분율이다.
0.15 중량%의 시스테인을 함유한 희석된 샘플의 초기 pH는 표 9에서 확인될 수 있는 바와 같이, 9.63 내지 10.21 범위이다. 희석된 샘플 모두는 백색 침전물을 함유한다. 표 10에서 확인할 수 있는 바와 같이, 0.15% 시스테인을 함유한 희석된 샘플의 pH를 땀의 pH에 유사한 pH로 바꿀 때, 32배 희석액이 약간의 침전물이 있지만, 모든 희석액은 뿌연 백색 침전물을 함유한다.
시스테인이 0.05%인 TBZC-Lys-Cys의 희석된 샘플의 초기 pH
희석액 2x 4x 8x 16x 32x
pH 10.1 10 10 9.9 9.7
관찰 맑음 뿌연 백색 침전물 뿌연 백색 침전물 뿌연 백색 침전물 뿌연 백색 침전물
시스테인이 0.05%이고, 땀과 유사한 pH인 TBZC-Lys-Cys의 희석된 샘플
희석액 2x 4x 8x 16x 32x
pH 5.5 5.2 5.2 5.2 5.4
관찰 맑음 맑음 맑음 맑음 맑음
시스테인이 0.075%인 TBZC-Lys-Cys의 희석된 샘플의 초기 pH
희석액 2x 4x 8x 16x 32x
pH 10.2 10 10 9.9 9.7
관찰 백색 침전물 백색 침전물 백색 침전물 백색 침전물 매우 적은 백색 침전물
땀과 유사한 pH로 조정 후 시스테인이 0.075%인 TBZC-Lys-Cys의 희석된 샘플
희석액 2x 4x 8x 16x 32x
pH 5.5 5.5 5.5 5 5.5
관찰 침전물 무 침전물 무 침전물 무 침전물 무 침전물 무
시스테인이 0.09%인 TBZC-Lys-Cys의 희석된 샘플의 초기 pH
희석액 2x 4x 8x 16x 32x
pH 10.3 10.1 10 9.9 9.8
관찰 매우 적은 침전물 백색 침전물 백색 침전물 백색 침전물 백색 침전물
땀과 유사한 pH로 조정 후 시스테인이 0.09%인 TBZC-Lys-Cys의 희석된 샘플
희석액 2x 4x 8x 16x 32x
pH 5.5 5.5 5.5 5.5 5.4
관찰 침전물 무 침전물 무 침전물 무 침전물 무 침전물 무
시스테인이 0.1%인 TBZC-Lys-Cys의 희석된 샘플의 초기 pH
희석액 2x 4x 8x 16x 32x
pH 10 10 9.9 9.8 9.7
관찰 침전물 무 침전물 무 뿌연 백색 침전물 뿌연 백색 침전물 뿌연 백색 침전물
땀과 유사한 pH이고, 시스테인이 0.1%인 TBZC-Lys-Cys의 희석된 샘플
희석액 2x 4x 8x 16x 32x
pH 5.5 5.4 5.5 5.4 5.5
관찰 뿌연 백색 침전물 뿌연 백색 침전물 뿌연 백색 침전물 뿌연 백색 침전물 뿌연 백색 침전물
시스테인이 0.15%인 TBZC-Lys-Cys의 희석된 샘플의 초기 pH
희석액 2x 4x 8x 16x 32x
pH 10.2 10 9.9 9.6 9.8
관찰 뿌연 백색침전물 뿌연 백색침전물 뿌연 백색 침전물 뿌연 백색 침전물 매우 적은 침전물
땀과 유사한 pH이고, 시스테인이 0.15%인 TBZC-Lys-Cys의 희석된 샘플
희석액 2x 4x 8x 16x 32x
pH 5.5 5.5 5.5 5.4 5.4
관찰 뿌연 백색 침전물 뿌연 백색 침전물 뿌연 백색 침전물 뿌연 백색 침전물 매우 적은 침전물
시스테인의 가변 수준에 관해 TBZC-Lys-Cys에서 침전의 다양한 pH 범위
시스테인 중량% 0.09 0.10 0.12 0.15
초기 pH 8.7 8.7 8.7 8.5
초기 침전(μL HCl) 60 50 50 40
초기 침전 pH 7.4 7.4 7.3 7.3
맑은 용액(μL HCl) 140 140 130 130
맑은 용액 pH 5 5.2 5 5.1
[표 B]
20분의 간격에 걸쳐 시스테인이 0.05%인 TBZC-Lys-Cys의 다양한 희석액에서 탁도
Figure pct00002
[표 C]
20분의 간격에 걸쳐 시스테인이 0.075%인 TBZC-Lys-Cys의 다양한 희석액에서 탁도
Figure pct00003
[표 D]
20분의 간격에 걸쳐 시스테인이 0.09%인 TBZC-Lys-Cys의 다양한 희석액에서 탁도
Figure pct00004
[표 E]
20분의 간격에 걸쳐 시스테인이 0.1%인 TBZC-Lys-Cys의 다양한 희석액에서 탁도
Figure pct00005
[표 F]
20분의 간격에 걸쳐 시스테인이 0.15%인 TBZC-Lys-Cys의 다양한 희석액에서 탁도
Figure pct00006
실시예 3- 구강 세정제 제제
활성 성분으로서 TBZC-Lys/시스테인을 함유한 구강 세정제를 표 I에 제시된 성분으로 제제화한다.
[표 I]
Figure pct00007
제제는 맑은, 안정한 용액을 형성할 수 있지만, 희석될 때 침전물을 생성한다. 이러한 구강 세정제 제제는 pH가 중성이고, 37℃에서 및 진열대에서 안정하지만, 묽은 용액에서 침전된다. 이러한 희석에 의한 불용성 침전물의 형성은 상아질 세관에서 "충전" 형성을 가능하게 하며, 과민증에 대한 이점을 제공한다.
실시예 4- TBZC - 리신을 포함하는 겔 제제
이전 실시예의 구강 세정제 제제는 맑은 제제를 제공하며, 물에 의해 희석될 때 침전된다. 이러한 독특한 특성은 항과민성(anti-sensitive) 및 충치 예방 작용을 용이하게 하며, 따라서 치약 제품에서 중요하다.
활성 성분으로서 TBZC-Lys/시스테인이 있는 겔을 표 II에 제시한 성분으로서 제제화한다. 투명도와 희석에 의한 침전을 평가한다. 하기 배치에서 아연 이온 농도는 0.5%(w/w) 아연 수준이다.
[표 II]
Figure pct00008
겔을 단독으로 또는 겔 상과 연마제 페이스트 상을 가진 치약에서 사용할 수 있다. 활성 성분으로서 TBZC-Lys/시스테인은 치약 제제의 겔 상에 있다. 희석에 의한 불용성 침전물의 형성은 이러한 형태의 치약을 사용한 후 상아질 세관에서 "충전"의 형성을 용이하게 하고, 더구나, 이것은 소비 사용 중에 백색 침전물 신호를 제공한다.
실시예 6- TBZC - Lys /시스테인을 포함하는 치약 제제
ZLC/시스테인, 1450 ppm의 불화물, 및 인산염을 포함하는 시험 치약을 다음과 같이 제조한다:
[표 III]
Figure pct00009

Claims (23)

  1. (i) 4 염기성 아연 아미노산 또는 트리알킬 글리신 할로겐화물 착물, 및 (ii) 시스테인을 유리되거나 경구로 또는 미용상(cosmetically) 허용가능한 염 형태로 포함하는 조성물.
  2. 제1항에 있어서, 아연 아미노산 또는 트리알킬 글리신 할로겐화물 착물이 전구체로부터 형성되며, 전구체는 4 염기성 염화아연, 아미노산 원, 및 염화물 원이고, 염화물 원의 부분은 아미노산 원, 또는 염산일 수 있는 것인 조성물.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 아미노산 원은 염기성 아미노산, 리신, 아르기닌, 및 글리신 중 하나 이상인 조성물.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 트리알킬 글리신은 C1-C4 알킬 글리신 또는 트리메틸 글리신인 조성물.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 4 염기성 할로겐화아연은 4 염기성 염화아연인 조성물.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 4 염기성 할로겐화아연 아미노산 착물은 4 염기성 염화아연을 아미노산 염산염 또는 유리 염기성 아미노산과 배합함으로써 제조되는 것인 조성물.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 아미노산은 리신인 조성물.
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 물에 의한 희석 시, 불용성 아연 함유 착물을 포함하는 침전물을 제공하는 조성물.
  9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 물에 의한 4배 이상 희석 시 침전물을 순간적으로 형성하는 조성물.
  10. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 물에 의한 4배 이상 희석 후 지연 침전을 제공하는데 유효한 양의 시스테인을 포함하는 조성물.
  11. 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 물에 의한 4배 이상 희석 시 침전물을 형성할 수 있고, 침전물은 적어도 pH 5.5에서 내산성이 있는 것인 조성물.
  12. 제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, 조성물에 존재하는 아연의 총량은 조성물의 0.2 내지 8 중량%인 조성물.
  13. 제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서, 희석 전에 pH가 8.4 내지 8.8인 조성물.
  14. 제1항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서, 시스테인의 양은 0.05 내지 0.5 중량%인 조성물.
  15. 제1항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서, 시스테인은 시스테인 히드로할라이드, 임의로, 시스테인 염산염인 조성물.
  16. 제1항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서, 추가로 미용상 허용가능한 담체(carrier)를 포함하는, 발한억제제 또는 탈취제 제품인 조성물.
  17. 제1항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서, 추가로 미용상 허용가능한 담체를 포함하며, 액체 핸드 소프(hand soap), 바디 워시(body wash), 피부 로션, 피부 크림, 및 피부 컨디셔너(conditioner)로부터 선택되는 개인 관리 용품인 조성물.
  18. 살균하며, 발한을 줄이고/줄이거나 체취를 줄이는 방법으로서, 제17항의 조성물의 유효량을 피부에 적용하는 것을 포함하는 방법.
  19. 살균하며, 여드름 또는 국소 피부 감염의 발병을 치료하거나 감소시키고, 또는 씻을 때 시각 신호(visual signal)를 제공하는 방법으로서, 피부를 물과 제17항의 조성물의 유효량으로 씻는 것을 포함하는 방법.
  20. 제1항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서, 추가로 경구로 허용가능한 담체를 포함하는, 구강 관리 용품인 조성물.
  21. 에나멜의 산식증을 줄이고, 억제하며, 치아를 청소하고, 세균 생성 생체막과 치석을 줄이며, 치은염을 줄이고, 충치와 충치 구멍(cavity) 형성을 억제하며/하거나, 상아질 과민증을 줄이는 방법으로서, 제20항에 따른 조성물의 유효량을 이를 필요로 하는 인간의 구강에 적용하는 것을 포함하는 방법.
  22. 제18항, 제19항, 또는 제21항의 방법 중 어느 하나에서 사용하기 위한 조성물의 제조에서 유리되거나 경구로 허용가능한 염 형태로 시스테인과 함께 4 염기성 아연 아미노산 또는 트리알킬 글리신 할로겐화물 착물의 용도.
  23. 4 염기성 아연 아미노산 또는 트리알킬 글리신 할로겐화물 착물을 안정화하기 위해 유리되거나 경구로 허용가능한 염 형태인 시스테인의 용도.
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PCT/US2012/070506 WO2014098822A1 (en) 2012-12-19 2012-12-19 Zinc amino acid halide mouthwashes
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PCT/US2012/070537 WO2014098829A1 (en) 2012-12-19 2012-12-19 Oral care products comprising zinc oxide and trimethylglycine
PCT/US2012/070521 WO2014098825A1 (en) 2012-12-19 2012-12-19 Oral care products comprising a tetrabasic zinc - amino acid - halide complex
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PCT/US2012/070525 WO2014098826A1 (en) 2012-12-19 2012-12-19 Oral care compositions comprising zinc amino acid halides
USPCT/US2012/070521 2012-12-19
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PCT/US2013/046268 WO2014204439A1 (en) 2013-06-18 2013-06-18 Zinc amino acid halide complex with cysteine
USPCT/US2013/050845 2013-07-17
PCT/US2013/050845 WO2014099039A2 (en) 2012-12-19 2013-07-17 Method for indicating time for washing or indicating delivery of antibacterial agent
PCT/US2013/068854 WO2014099165A2 (en) 2012-12-19 2013-11-07 Zinc amino acid complex with cysteine

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Families Citing this family (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9504858B2 (en) 2012-12-19 2016-11-29 Colgate-Palmolive Company Zinc amino acid halide complex with cysteine
AU2013364202B2 (en) * 2012-12-19 2015-08-13 Colgate-Palmolive Company Zinc amino acid halide complex with cysteine
CN107308013A (zh) 2012-12-19 2017-11-03 高露洁-棕榄公司 锌‑赖氨酸络合物
EP2934445B1 (en) 2012-12-19 2017-10-04 Colgate-Palmolive Company Teeth whitening methods, visually perceptible signals and compositions therefor comprising zinc amino acid halides
AU2012397267B2 (en) 2012-12-19 2015-10-08 Colgate-Palmolive Company Oral care compositions comprising zinc amino acid halides
MX368741B (es) 2012-12-19 2019-10-14 Colgate Palmolive Co Haluro de aminoacidos/trimetilglicina de zinc.
WO2014098814A1 (en) 2012-12-19 2014-06-26 Colgate-Palmolive Company Composition with zinc amino acid/trimethylglycine halide precursors
US9901523B2 (en) 2012-12-19 2018-02-27 Colgate-Palmolive Company Oral care products comprising zinc oxide and trimethylglycine
AU2012397265B2 (en) 2012-12-19 2016-02-25 Colgate-Palmolive Company Oral gel comprising zinc - amino acid complex
MX353216B (es) 2012-12-19 2018-01-08 Colgate Palmolive Co Productos antitranspirantes con proteinas y sales antitranspirantes.
RU2625763C2 (ru) 2012-12-19 2017-07-18 Колгейт-Палмолив Компани Продукты для ухода за полостью рта, содержащие комплекс четырехосновный цинк-аминокислота-галогенид
US9750670B2 (en) 2012-12-19 2017-09-05 Colgate-Palmolive Company Zinc amino acid complex with cysteine
BR112015014453B1 (pt) 2012-12-19 2019-06-11 Colgate-Palmolive Company Composição para higiene oral, complexo iônico, usos de um haleto de zinco tetrabásico em conjunto com trimetilglicina na forma de sal de adição de ácido e complexo
US9675823B2 (en) 2012-12-19 2017-06-13 Colgate-Palmolive Company Two component compositions containing zinc amino acid halide complexes and cysteine
RU2648513C2 (ru) 2012-12-19 2018-03-26 Колгейт-Палмолив Компани Ополаскиватель для полости рта с галогенидом цинка-аминокислоты
US10188112B2 (en) 2012-12-19 2019-01-29 Colgate-Palmolive Company Personal cleansing compositions containing zinc amino acid/trimethylglycine halide
US9498421B2 (en) 2012-12-19 2016-11-22 Colgate-Palmolive Company Two component compositions containing tetrabasic zinc-amino acid halide complexes and cysteine
RU2704312C2 (ru) 2015-05-01 2019-10-28 Колгейт-Палмолив Компани Композиции в виде средства для чистки зубов с низким содержанием воды
US10780114B2 (en) * 2015-06-12 2020-09-22 Jfe Mineral Company, Ltd. Therapeutic agent for skin wound or rough skin
DE102015214145A1 (de) * 2015-07-27 2017-02-02 Beiersdorf Ag Schweiß verringernde kosmetische Zubereitung
DE102015214137A1 (de) * 2015-07-27 2017-02-02 Beiersdorf Ag Schweiß verringernde kosmetische Zubereitung
DE102015214144A1 (de) * 2015-07-27 2017-02-02 Beiersdorf Ag Schweiß verringernde kosmetische Zubereitung
EP3377026B1 (en) * 2015-12-22 2022-02-02 Colgate-Palmolive Company Oral care compositions comprising zinc amino acid halides
BR112018013014A2 (pt) * 2015-12-31 2018-12-04 Colgate Palmolive Co composições de higiene pessoal
CN105908324A (zh) * 2016-06-29 2016-08-31 江苏华信亚麻纺织有限公司 一种棉麻交织双层布
JP7004378B2 (ja) * 2017-03-24 2022-02-10 Ｎｅｃソリューションイノベータ株式会社 アプタマーセットの選択方法
EP3727283A1 (en) * 2017-12-19 2020-10-28 Colgate-Palmolive Company Personal care compositions
WO2023152199A1 (en) * 2022-02-09 2023-08-17 Unilever Ip Holdings B.V. Use of oral care composition comprising zinc

Citations (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57156329A (en) * 1981-03-19 1982-09-27 Shiseido Co Ltd Solubilization of zinc oxide
EP0083486A2 (en) * 1982-01-01 1983-07-13 Itzhak Binderman Dental care compositions
EP0108937A2 (en) * 1982-10-14 1984-05-23 Verla-Pharm Arzneimittelfabrik Apotheker H.J. von Ehrlich GmbH &amp; Co. KG Process for the production of amino-dicarboxylic acid-bivalent metal-halogen complexes and novel such complexes
JPH0597668A (ja) * 1991-04-12 1993-04-20 Unilever Nv 歯周炎の治療
KR970000507B1 (ko) * 1987-08-05 1997-01-13 스미도모 세이야꾸 가부시기가이샤 안정된 안트라사이클린 제제
US5643559A (en) * 1991-10-30 1997-07-01 Colgate-Palmolive Company Deodorant compositions comprising inhibitors of odor-producing axillary bacterial exoenzymes
US5714447A (en) * 1996-01-24 1998-02-03 Church & Dwight Co., Inc. Deodorant soap or detergent composition containing a zinc compound and a polyamine
US20030003059A1 (en) * 2001-04-03 2003-01-02 Frederic Dana Dentifrice compositions
US20030012744A1 (en) * 1997-10-07 2003-01-16 Pedersen Ejvind Jersie Mouth Hygienic Composition For The Treatment of Halitosis
JP2004175790A (ja) * 2002-11-12 2004-06-24 Arita Junichi α−グルコシダーゼ阻害作用を有する亜鉛含有物
JP2006131522A (ja) * 2004-11-04 2006-05-25 Naris Cosmetics Co Ltd 化粧料
US20100021573A1 (en) * 2008-07-22 2010-01-28 Michael J Gonzalez Compositions and methods for the prevention of cardiovascular disease
WO2011005577A1 (en) * 2009-06-24 2011-01-13 Soparkar Charles N S Zinc supplementation to increase responsiveness to metalloprotease therapy
JP2013523730A (ja) * 2010-03-31 2013-06-17 コルゲート・パーモリブ・カンパニー 口腔ケア組成物

Family Cites Families (52)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE735096C (de) 1940-12-09 1943-05-06 Ig Farbenindustrie Ag Verfahren zur Herstellung von Sulfonsaeuren
US2503280A (en) 1947-10-24 1950-04-11 Du Pont Azo catalysts in preparation of sulfonic acids
US2507088A (en) 1948-01-08 1950-05-09 Du Pont Sulfoxidation process
FR1247957A (fr) 1958-09-28 1960-12-09 Ajinomoto Kk Procédé de séparation continue d'aminoacides racémiques
US3320174A (en) 1964-04-20 1967-05-16 Colgate Palmolive Co Detergent composition
US3372188A (en) 1965-03-12 1968-03-05 Union Oil Co Sulfoxidation process in the presence of sulfur trioxide
US3538230A (en) 1966-12-05 1970-11-03 Lever Brothers Ltd Oral compositions containing silica xerogels as cleaning and polishing agents
US3678154A (en) 1968-07-01 1972-07-18 Procter & Gamble Oral compositions for calculus retardation
US3535421A (en) 1968-07-11 1970-10-20 Procter & Gamble Oral compositions for calculus retardation
US3741911A (en) 1970-12-21 1973-06-26 Hart Chemical Ltd Phosphate-free detergent composition
US3959458A (en) 1973-02-09 1976-05-25 The Procter & Gamble Company Oral compositions for calculus retardation
US3937807A (en) 1973-03-06 1976-02-10 The Procter & Gamble Company Oral compositions for plaque, caries, and calculus retardation with reduced staining tendencies
US3862307A (en) 1973-04-09 1975-01-21 Procter & Gamble Dentifrices containing a cationic therapeutic agent and improved silica abrasive
US3941818A (en) * 1973-08-20 1976-03-02 Zinpro Corporation 1:1 Zinc methionine complexes
US4051234A (en) 1975-06-06 1977-09-27 The Procter & Gamble Company Oral compositions for plaque, caries, and calculus retardation with reduced staining tendencies
US4340583A (en) 1979-05-23 1982-07-20 J. M. Huber Corporation High fluoride compatibility dentifrice abrasives and compositions
GB2052978A (en) * 1979-06-20 1981-02-04 Unilever Ltd Oral compositions containing zinc salts
US4316824A (en) 1980-06-26 1982-02-23 The Procter & Gamble Company Liquid detergent composition containing alkyl sulfate and alkyl ethoxylated sulfate
JPS57158724A (en) * 1981-03-26 1982-09-30 Shiseido Co Ltd Antimicrobial composition
US4565693A (en) * 1981-11-09 1986-01-21 Colgate-Palmolive Company Deodorant composition
US4487757A (en) 1981-12-28 1984-12-11 Colgate-Palmolive Company Dispensing container of toothpaste which effervesces during toothbrushing
US4885155A (en) 1982-06-22 1989-12-05 The Procter & Gamble Company Anticalculus compositions using pyrophosphate salt
US4687663B1 (en) 1983-03-01 1997-10-07 Chesebrough Ponds Usa Co Dental preparation article and method for storage and delivery thereof
US4642445A (en) * 1985-06-28 1987-02-10 Westinghouse Electric Corp. Shielding apparatus for metal processing operations
US5188821A (en) 1987-01-30 1993-02-23 Colgate-Palmolive Company Antibacterial antiplaque oral composition mouthwash or liquid dentifrice
US5192531A (en) 1988-12-29 1993-03-09 Colgate-Palmolive Company Antibacterial antiplaque oral composition
US4866161A (en) 1987-08-24 1989-09-12 University Of South Alabama Inhibition of tartar deposition by polyanionic/hydrophobic peptides and derivatives thereof which have a clustered block copolymer structure
US5004597A (en) 1987-09-14 1991-04-02 The Procter & Gamble Company Oral compositions comprising stannous flouride and stannous gluconate
US4842847A (en) 1987-12-21 1989-06-27 The B. F. Goodrich Company Dental calculus inhibiting compositions
US5061815A (en) * 1988-07-06 1991-10-29 Zinpro Corporation Metal lysine complexes and method for producing metal lysine complexes
GB2243775A (en) * 1990-05-09 1991-11-13 Unilever Plc Oral compositions
JPH0578243A (ja) * 1990-12-11 1993-03-30 Shiseido Co Ltd 鎮痒剤及び鎮痒組成物
CN1241934A (zh) * 1996-10-31 2000-01-19 尤尼利弗公司 含有金属－氨基酸络合物的头发处理组合物
CA2334344C (en) * 1998-06-09 2005-08-16 William J. Embro Method and composition for the treatment of epidermal irritations and infections
US6558710B1 (en) * 1999-06-14 2003-05-06 Helen Rebecca Godfrey Topical zinc compositions and methods of use
US7164035B2 (en) * 2000-01-07 2007-01-16 Newsome David A Zinc-monocysteine complex and method of using zinc-cysteine complexes
US6660699B2 (en) * 2001-09-28 2003-12-09 Unilever Home & Personal Care Usa Toilet bar having a latent acidifier
RU2226109C1 (ru) * 2002-07-24 2004-03-27 Закрытое акционерное общество "ЭЛИТ ХОЛДИНГ" Дезинфицирующее средство (варианты)
US20040033916A1 (en) * 2002-06-28 2004-02-19 Kuzmin Vladimir Semenovich Disinfecting composition
US20040198998A1 (en) * 2003-04-04 2004-10-07 Marian Holerca Glycine-free antiperspirant salts with betaine for enhanced cosmetic products
JP4377263B2 (ja) * 2004-03-03 2009-12-02 日光ケミカルズ株式会社 化粧料及び皮膚外用剤
CN101128181B (zh) * 2005-03-10 2011-11-23 株式会社资生堂 油系皮肤外用剂
US7700079B2 (en) * 2005-09-26 2010-04-20 Jamie Collins Doss Therapeutic soap product with UV protection
CN101316570A (zh) * 2005-11-29 2008-12-03 宝洁公司 洁齿剂组合物
JP2009519235A (ja) * 2005-11-29 2009-05-14 ザ プロクター アンド ギャンブル カンパニー 親水性粘土材を含む結合剤系を備える歯磨剤組成物
MY153101A (en) * 2005-12-21 2014-12-31 Colgate Palmolive Co Improved oral compositions comprising zinc citrate and/or tocopherol agents
CN101367745A (zh) * 2008-10-20 2009-02-18 许昌元化生物科技有限公司 纳米氨基酸络合物制备新工艺
US9149057B2 (en) * 2011-03-01 2015-10-06 Zinpro Corporation Enhanced bioavailable iodine molecules
US8741375B2 (en) * 2011-06-07 2014-06-03 Zinpro Corporation Mixed amino acid metal salt complexes
US9901523B2 (en) * 2012-12-19 2018-02-27 Colgate-Palmolive Company Oral care products comprising zinc oxide and trimethylglycine
AU2013364202B2 (en) * 2012-12-19 2015-08-13 Colgate-Palmolive Company Zinc amino acid halide complex with cysteine
CN107308013A (zh) * 2012-12-19 2017-11-03 高露洁-棕榄公司 锌‑赖氨酸络合物

Patent Citations (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57156329A (en) * 1981-03-19 1982-09-27 Shiseido Co Ltd Solubilization of zinc oxide
EP0083486A2 (en) * 1982-01-01 1983-07-13 Itzhak Binderman Dental care compositions
EP0108937A2 (en) * 1982-10-14 1984-05-23 Verla-Pharm Arzneimittelfabrik Apotheker H.J. von Ehrlich GmbH &amp; Co. KG Process for the production of amino-dicarboxylic acid-bivalent metal-halogen complexes and novel such complexes
KR970000507B1 (ko) * 1987-08-05 1997-01-13 스미도모 세이야꾸 가부시기가이샤 안정된 안트라사이클린 제제
JPH0597668A (ja) * 1991-04-12 1993-04-20 Unilever Nv 歯周炎の治療
US5643559A (en) * 1991-10-30 1997-07-01 Colgate-Palmolive Company Deodorant compositions comprising inhibitors of odor-producing axillary bacterial exoenzymes
US5714447A (en) * 1996-01-24 1998-02-03 Church & Dwight Co., Inc. Deodorant soap or detergent composition containing a zinc compound and a polyamine
US20030012744A1 (en) * 1997-10-07 2003-01-16 Pedersen Ejvind Jersie Mouth Hygienic Composition For The Treatment of Halitosis
US20030003059A1 (en) * 2001-04-03 2003-01-02 Frederic Dana Dentifrice compositions
JP2004175790A (ja) * 2002-11-12 2004-06-24 Arita Junichi α−グルコシダーゼ阻害作用を有する亜鉛含有物
JP2006131522A (ja) * 2004-11-04 2006-05-25 Naris Cosmetics Co Ltd 化粧料
US20100021573A1 (en) * 2008-07-22 2010-01-28 Michael J Gonzalez Compositions and methods for the prevention of cardiovascular disease
WO2011005577A1 (en) * 2009-06-24 2011-01-13 Soparkar Charles N S Zinc supplementation to increase responsiveness to metalloprotease therapy
JP2013523730A (ja) * 2010-03-31 2013-06-17 コルゲート・パーモリブ・カンパニー 口腔ケア組成物

Also Published As

Publication number Publication date
AU2013363649A1 (en) 2015-06-11
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