JP6016916B2 - ディーゼルパティキュレートフィルタ及び排気ガス浄化装置 - Google Patents
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Description
このようなDPFは、通常、ハニカム構造を呈する多孔質製のフィルタ基材が骨格を為し、該基材の隔壁内部を排気ガスが流通する際に、該隔壁表面でPMを捕集するようになっている。
また、白金などの貴金属を含有する貴金属触媒層を、前記銀触媒層を形成した基材の反対面に形成した場合、銀触媒層中の銀が上記のように基材内を移動して貴金属触媒層中の貴金属と接触し、貴金属の触媒活性をも失活させてしまうという課題も明らかになってきた。
本DPF1は、フィルタ基材2における、排気ガスが流入する側の隔壁の表面の一部又は全部に、銀及びパラジウムを含む銀合金を触媒活性成分として含有する銀触媒層5を形成してなる構成を備えたディーゼルパティキュレートフィルタである。
本DPFの骨格をなすフィルタ基材2は、図1及び図2に示すように、ハニカム構造を呈し、排気ガスの流動方向に連通した複数のセル3を有し、各セル3は隔壁で互いに仕切られ、隣接するセルの端部が交互に目封じされている。これにより、排気ガスの上流側を開口し、下流側が封鎖されたガス流入セル3Aと、排気ガスの上流側が封鎖され、下流側が開口してなるガス流出セル3Bとが、基材隔壁を介して隣接して配置してなる構成を備えたものとなっている。
セラミック製基材の材質としては、耐火性セラミック材料、例えば炭化ケイ素(SiC)、コージライト、コージライト−アルファアルミナ、窒化ケイ素、ジルコンムライト、スポジュメン、アルミナ−シリカマグネシア、ケイ酸ジルコン、シリマナイト(sillimanite)、ケイ酸マグネシウム、ジルコン、ペタライト(petalite)、アルファアルミナおよびアルミノシリケート類などを挙げることができる。
金属製基材の材質としては、耐火性金属、例えばステンレス合金、Fe-Cr-Al合金、ムライト、アルミナ、チタン酸アルミニウム等が挙げられる。
これらの中でも、PdによるFeの基材への浸透抑制効果の観点から、炭化ケイ素(SiC)が特に好ましい。
本DPFでは、上記フィルタ基材2において、ガスが流入する側の隔壁の表面の一部又は全部に、銀及びパラジウムを含む銀合金を触媒活性成分として含有する銀触媒層5を形成する。
例えば、図1及び図2に示すフィルタ基材2であれば、ガス流入セル3Aの隔壁の表面の一部又は全部に銀触媒層5を形成するのが好ましい。この際、ガス流入セル3Aの隔壁のうち、排気ガスが隔壁を通過する部分の表面に銀触媒層5を形成すればよい。
銀に対してパラジウムを1wt%以上含有させることで、高温時における銀の拡散をより効果的に抑制することができる。また、75wt%以下であれば、銀の触媒活性効果を妨げることもない。
かかる観点から、銀とパラジウムの比率は5:1〜1:3であるのがさらに好ましい。
より具体的には、例えばアルミナ、シリカ、シリカ−アルミナ、アルミノ−シリケート類、アルミナ−ジルコニア、アルミナ−クロミアおよびアルミナ−セリアから選択される化合物からなる多孔質体を挙げることができる。
中でも、セリウム酸化物の量が5〜50重量%であるであるセリウム-ジルコニウム複合酸化物からなる無機多孔質体が特に好ましい。セリウム酸化物の量が50重量%以下であれば、高温時、例えば700℃以上の温度に加熱された場合であっても、担体の比表面積が低下することがなく、触媒の熱劣化を引き起こすことを防止できるから好ましい。
また、当該無機多孔質体は、Nb、La、Fe、Y、Pr、Ba、Ca、Mg、SnおよびSrよりなる群から選ばれる少なくとも一種類の原子の酸化物を含有していてもよい。
バインダー成分としては、SiO2、TiO2、ZrO2およびAl2O3よりなる群から選ばれる少なくとも一種類のバインダー成分を挙げることができる。
安定剤としては、例えばアルカリ土類金属やアルカリ金属を挙げることができる。中でも、マグネシウム、バリウム、ホウ素、トリウム、ハフニウム、ケイ素、カルシウム、カリウム、ナトリウム、セシウム及びストロンチウムから成る群から選択される金属のうちの一種又は二種以上を選択可能である。
銀触媒層5の表面にこのような表面凹凸部を形成すれば、表面凹凸部による隙間を通じて排気ガスが流れるため、排ガスによる背圧の上昇を抑制することができると共に、滞留したPM粒子の燃焼効率も向上させることができる。
かかる観点から、当該表面凹凸部の平均厚さは、銀触媒層5の厚さの50%以上であるのが好ましく、中でも60%以上、中でも65%以上、その中でも75%以上或いは95%以下であるのが好ましい。
測定原理としては、最初に試料を水平にしてSEM画像を撮影し、次に、試料を所定角度(θ)傾けて再度SEM画像を撮影する。このように試料をθ傾けて、観察像上でaの移動距離を計測してaの高さを求め、観察像からaに相当する点を自動的に数万ポイント抽出して演算し、3D像を構築することにより、表面凹凸部の平均厚さを測定するものである。
この際、スラリーを湿式粉砕する際の粉砕エネルギーを制御することで、銀触媒層5の表面凹凸部の平均厚さを調整することができる。例えばボールミルを使用して粉砕する場合であれば、ボールミルの大きさ、スラリー量に対するボールミルの個数割合、回転数及び回転時間などを調整して粉砕エネルギーを制御すればよく、粉砕エネルギーを大きくすれば、銀触媒層5の表面凹凸部の平均厚さを小さくすることができる。
本DPFは、図3に示すように、さらに前記ガス流出セル3Bの隔壁の表面の一部又は全部に、Pt、Pd及びRhからなる群から選ばれる少なくとも一種類の貴金属および/または該貴金属の酸化物を含む貴金属触媒層6を積層するようにしてもよい。
また、図4に示すように、貴金属触媒層6をガス流出セル3Bの隔壁の表面から内部に向けて埋設するように設けてもよいし、また、貴金属触媒層6の一部をガス流出セル3Bの隔壁の表面に設け、一部を埋設するように設けてもよい。
ガス流出セル3Bの隔壁の一部又は全部に貴金属触媒層6を設けることにより、排ガス温度を上げるために添加した燃料の未燃焼分であるCOやHCなどを、この貴金属触媒層6によって効率的に処理することができる。
但し、該貴金属触媒層6は必要に応じて設けるのが好ましく、必ず設ける必要はない。
より具体的には、例えばアルミナ、シリカ、シリカ−アルミナ、アルミノ−シリケート類、アルミナ−ジルコニア、アルミナ−クロミアおよびアルミナ−セリアから選択される化合物からなる多孔質体を挙げることができる。
中でも、セリウム酸化物の量が5〜50重量%であるであるセリウム-ジルコニウム複合酸化物からなる無機多孔質体が特に好ましい。セリウム酸化物の量が50重量%を上回る場合には、高温時、例えば700℃以上の温度に加熱すると担体の比表面積が低下して、最終的に触媒の熱劣化を引き起こす傾向が生ずる。
また、当該無機多孔質体は、Nb、La、Fe、Y、Pr、Ba、Ca、Mg、SnおよびSrよりなる群から選ばれる少なくとも一種類の原子の酸化物を含有していてもよい。
バインダー成分としては、SiO2、TiO2、ZrO2およびAl2O3よりなる群から選ばれる少なくとも一種類のバインダー成分を挙げることができる。
安定剤としては、例えばアルカリ土類金属やアルカリ金属を挙げることができる。中でも、マグネシウム、バリウム、ホウ素、トリウム、ハフニウム、ケイ素、カルシウムおよびストロンチウムから成る群から選択される金属のうちの一種又は二種以上を選択可能である。
次に、本DPFの製造方法の一例について説明する。
該銀化合物としては、例えば硝酸銀、酢酸銀、フッ化銀などを用いることができ、溶媒としては、酢酸、アンモニア水などを用いることができる。
この際、還元剤としては、例えば、ヒドラジン、ハイドロサルファイト、チオ硫酸ソーダ、ホルマリン、亜硝酸カリウム、亜硝酸水素カリウム、亜硝酸ナトリウム、亜硫酸水素ナトリウム、アンモニウム、グリコース、クエン酸第一鉄溶液、タンニン酸、ヒドラジンヒドラード、エチレンジアミン四酢酸、テトラヒドロホウ酸ナトリウム、次亜リン酸などを挙げることができる。
次に、前述した本DPFを用いた排気ガス浄化装置(「本排気ガス浄化装置」と称する)について説明する。
第1触媒構造体11は、例えば、多孔質セラミックス製の基材を用いて形成することができる。
多孔質セラミックス製基材は、例えばコージェライト、炭化ケイ素、窒化ケイ素などで形成することができる。また、メタルハニカム基材も第一酸化触媒21の基材として有効に使用することもできる。
隔壁の厚さ(T)は、10〜300μmの範囲内にあることが好ましい。
また、この多孔質基材は、排気ガスとの接触面積が大きいことが好ましく、基材の表面積は10〜50cm2/cm3の範囲内にあることが好ましい。
このような多孔質基材の断面1cm2あたり、15〜200個のセルが形成された多孔質基材を使用することが好ましい。
ここで、無機多孔質体としては、例えばシリカ、アルミナおよびチタニア化合物から成る群から選択される無機多孔質体、或いは、セリウム化合物、ジルコニウム化合物、セリア・ジルコニア複合酸化物などのOSC材からなる多孔質体を挙げることができる。
排気ガス中のPMが本DPFの表面に捕集され堆積すると、DPFのPM捕集能力が低下するため、適宜のタイミングで本DPFの表面に堆積したPMを燃焼させることにより、本DPFを再生させる必要がある。
内燃機関からの排気ガス中には、PMが含まれており、500℃以下の低温では、有効に触媒が作用しない。この内燃機関からの排気ガスの温度は150〜180℃程度であり、この温度では、煤(PM)を燃焼させることはできないので、煤が燃焼する550℃以上、好適には600〜650℃にまで排気ガスの温度を上げることで、本DPFの銀触媒層に堆積した煤(PM)を、銀の触媒作用により効率よく燃焼させることができ、本DPFを短時間で再生することができる。
ここで使用されるNOx触媒は、通常使用されている尿素SCR触媒やNOx触媒を用いることができる。
本明細書において「X〜Y」(X,Yは任意の数字)と表現する場合、特にことわらない限り「X以上Y以下」の意と共に、「好ましくはXより大きい」或いは「好ましくはYより小さい」の意も包含する。
また、「X以上」(Xは任意の数字)或いは「Y以下」(Yは任意の数字)と表現した場合、「Xより大きいことが好ましい」或いは「Y未満であることが好ましい」旨の意図も包含する。
Al2O3(80質量部)に、硝酸銀水溶液及び硝酸パラジウム水溶液を含浸させ、120℃で蒸発乾固させた。これを800℃×20時間焼成し、AgとPdを合金化させてAgPd合金パティキュレート焼成触媒粉末を得た。この際、AgPd合金におけるAgとPdのモル比率は99:1であった。
このAgPd合金パティキュレート燃焼粉末200g、アルミナ濃度20質量%のアルミナゾル500g及び純水300gを混合し、ボールミルで湿式粉砕し、AgPdスラリーを得た。なお、この際のボールミルは、メディア(球石)としてアルミナ製ボールミル(大きさ20nm)を使用し、スラリー量に対するボールミルの個数割合を30%とし、回転数40rpm、回転時間5時間で行った。
この際、銀触媒層の厚さは30μmであった。
実施例1において、AgPd合金を含有する銀触媒層を形成する代わりに、硝酸銀水溶液のみを含浸させて、Pdを含有しない同量の銀触媒層を形成してAgパティキュレート燃焼触媒を得た。
この際、銀触媒層の厚さは30μmであった。
実施例1において、AgPd合金を含有する銀触媒層を形成する代わりに、硝酸Pt水溶液のみを含浸させて、同量のPt触媒層を形成してなるPtパティキュレート燃焼触媒を得た。
この際、Pt触媒層の厚さは30μmであった。
実施例1と同様に、AgPd合金を含有する銀触媒層を形成してなるAgPd合金パティキュレート燃焼触媒を得た。
次いで、Pt粉末200g、アルミナ濃度20質量%のアルミナゾル500g、純水300gを混合し、ボールミルで湿式粉砕し、Ptスラリーを得た。なお、この際のボールミルは、メディア(球石)としてアルミナ製ボールミル(大きさ20nm)を使用し、スラリー量に対するボールミルの個数割合を30%とし、回転数40rpm、回転時間5時間で行った。
DPFの入口側から減圧にして、出口側からPtスラリーを押し込み、ガス流出セルにスラリーを注入した。余剰スラリーは、吸引により取り除き、70℃で3時間乾燥後、500℃で1時間焼成しパラフィンを除去して、ガス流出セルの出口側から長さ方向で80%の位置までの隔壁表面全面に、Ptを含有するPt触媒層を形成してなるAgPd合金パティキュレート燃焼触媒を得た。
この時のPtは、基材体積に対して0.5g/L含有していた。
AgPd合金におけるAgとPdのモル比率を表2のように変化させた以外は、実施例2と同様にAgPd合金パティキュレート燃焼触媒を得た。
AgPd合金におけるAgとPdのモル比率を、表2のように変化させて実施例1と同様にAgPdスラリーを得た。次いで、直径143.8mm、長さ152.4mmのSiC製DPF(300セル/平方インチ、壁厚12ミル)に、当該AgPdスラリーを、DPFの入口側から長さ方向で80%の位置まで含浸させ、乾燥、焼成して、ガス流入セルの入口側から80%の位置までの基材隔壁の表面から内部にかけて、銀及びパラジウムを含む合金が散在してなるAgPd合金パティキュレート燃焼触媒を得た。
次いで、実施例2と同様に、ガス流出セルの出口側から長さ方向で80%の位置までの隔壁表面全面に、Ptを含有するPt触媒層を形成してなるAgPd合金パティキュレート燃焼触媒を得た。
実施例及び比較例で作製したパティキュレート燃焼触媒を、電気炉で900℃、75時間耐久処理した。900℃耐久処理しないパティキュレート燃焼触媒(表中の「Fresh」)と、900℃耐久処理したパティキュレート燃焼触媒(表中の「900℃耐久」)それぞれについて、下記の方法でPM燃焼速度(g/min)を測定した。測定結果は表1及び表2に示す。
その後、ハニカム型酸化触媒の上流側から、JIS2号軽油を0.97L/h噴霧し、軽油成分を該酸化触媒で燃焼させることで、パティキュレート燃焼触媒入口の排ガス温度を10分間、600℃に保持した。これにより、パティキュレート燃焼触媒上に堆積したPMを燃焼させることができた。この時、PM燃焼前後でのパティキュレート燃焼触媒の質量変化量を測定し、この値からPM燃焼速度(g/min)を算出した。
○○○:0.95g/min以上
○○:0.83g/min以上0.95g/min未満
○:0.80g/min以上0.83g/min未満
△:0.60g/min以上0.80g/min未満
×:0.60g/min未満
実施例及び比較例で作製したパティキュレート燃焼触媒を、電気炉で700℃、75時間耐久処理し、その後、エンジン回転数2600rpm、負荷140Nmで10分間運転し、前処理をおこなった。その後、負荷変動により温度を昇降温し、各成分に対する浄化性能(T50)を測定した。
=CO(℃)=
○○○:130℃以下
○○:130℃より高く135℃以下
○:135℃より高く140℃以下
△:140℃より高く145℃以下
×:145℃より高い
○○○:135℃以下
○○:135℃より高く140℃以下
○:140℃より高く145℃以下
△:145℃より高く150℃以下
×:150℃より高い
表1及び表2中の「コート状態」において「メンブレン」とは、基材隔壁の表面に、銀及びパラジウムを含む合金を含む表面層を、薄膜状に形成した状態を意味し、「通常」とは、基材隔壁の表面から内部にかけて、銀及びパラジウムを含む合金が散在した状態で担持されている状態を意味する。
表1及び表2中の「CO(℃)」「THC(℃)」は50%浄化温度(T50)を意味するものである。
これに対し、銀にパラジウムを加えて合金化した銀合金を、基材の隔壁内部に担持させたものは、900℃での耐久処理後、PM燃焼速度が顕著に低下した。これは、基材の隔壁内部に担持することで、基材中のケイ素(Si)と銀が接触し易い環境にあるためであると考えることができる。
また、基材の隔壁の表面に銀触媒層を形成した場合でも、パラジウムを加えない場合には、やはり900℃での耐久処理後、PM燃焼速度が顕著に低下することが認められた。
Al2O3(80質量部)に、硝酸銀水溶液及び硝酸パラジウム水溶液を含浸させ、120℃で蒸発乾固させた。これを800℃×20時間焼成し、AgとPdを合金化させてAgPd合金パティキュレート焼成粉末を得た。この際、AgPd合金におけるAgとPdのモル比率は99:1であった。
このAgPd合金パティキュレート燃焼粉末200gと、アルミナ濃度20質量%のアルミナゾル500gと、純水300gとを混合し、ボールミルで湿式粉砕し、AgPdスラリーを得た。
この際のボールミルは、メディア(球石)としてアルミナ製ボールミル(大きさ5mm)を使用し、スラリー量に対するボールミルの個数割合を30%とし、回転数20rpm、回転時間5時間で行った。
この際、当該銀触媒層の厚さは30μmであった。
実施例14において、ボールミルの条件を、アルミナ製ボールミル(大きさ5mm)、スラリー量に対するボールミルの個数割合30%、回転数30rpm、回転時間5時間に変更した以外、実施例14と同様にして、パティキュレートフィルタ(サンプル)を得た。この際、銀触媒層の厚さは30μmであった。
実施例14において、ボールミルの条件を、アルミナ製ボールミル(大きさ10mm)、スラリー量に対するボールミルの個数割合30%、回転数20rpm、回転時間5時間に変更した以外、実施例14と同様にして、パティキュレートフィルタ(サンプル)を得た。この際、銀触媒層の厚さは30μmであった。
実施例14において、ボールミルの条件を実施例1などと同様、すなわちアルミナ製ボールミル(大きさ20nm)、スラリー量に対するボールミルの個数割合30%、回転数40rpm、回転時間5時間に変更した以外、実施例14と同様にして、パティキュレートフィルタ(サンプル)を得た。この際、銀触媒層の厚さは30μmであった。
実施例14において、ボールミルによる湿式粉砕を、ディスクミル(Retsch製ディスク)、回転数500rpm、回転時間10分に変更した以外、実施例14と同様にして、パティキュレートフィルタ(サンプル)を得た。この際、銀触媒層の厚さは30μmであった。
測定装置としては、株式会社キーエンス製「3Dリアルサーフェスビュー顕微鏡VE−8800」を用いて、下記条件・手順で、実施例14−18で得たパティキュレートフィルタ(サンプル)における銀触媒層の表面凹凸部の平均厚さ(凹凸高さの平均値)を測定した。
倍率:150X
WD:16.6mm
加速電圧:2kV
検出器:2次電子検出器
真空度:高真空
(1)実施例14−18で得たパティキュレートフィルタ(サンプル)を、高さ1cm×横2cm×奥行2cmの大きさにサンプリングした。そのとき、銀触媒層の表面が表面に位置するようにした。
(2)水平状態でSEM画像を撮影し、次に角度を5度傾けた状態でSEM画像を撮影した。
(3)撮影したSEM画像から装置付属ソフトにより、銀触媒層の表面凹凸部の平均厚さを算出した。
(4)次に、サンプルをセル断面が表面(上側)にくるようにし、SEM画像を撮影した。
(5)撮影したSEM画像から装置付属ソフトにより、銀触媒層の厚みを算出した。
(6)(3)、(4)で算出された数値より、銀触媒層の厚みに対する表面凹凸部の平均厚さの割合(%)={ (表面凹凸厚み)/( 銀触媒層厚み) }×100を算出した。
実施例14−18で得たパティキュレートフィルタ(サンプル)について、下記の方法で圧損増加量(ΔkPa/hr Δ:デルタ)を測定した。測定結果を表3に示す。
圧損増加量(△kPa/hr)=(煤捕集後の圧損‐煤捕集前の圧損)/煤堆積時間
○○○:4.0△kPa/hr以下
○○:4.0△kPa/hr以上5△kPa/hr未満
○:5.0△kPa/hr以上6.5△kPa/hr未満
△:6.5△kPa/hr以上
Claims (9)
- フィルタ基材の隔壁内部を排気ガスが流通するディーゼルパティキュレートフィルタであって、排気ガスが流入する側の前記隔壁の表面の一部又は全部に、銀及びパラジウムを含む銀合金を触媒活性成分として含有すると共に複数の粒子状の無機多孔質体を含有し、且つ、前記銀合金が前記粒子状の無機多孔質体に担持された状態で存在する銀触媒層を形成してなる構成を備えたディーゼルパティキュレートフィルタであって、
前記銀触媒層の表面に、前記銀触媒層の厚さの50%以上の平均厚さを有し、銀触媒層に添加された前記複数の粒子状の無機多孔質体によって形成される表面凹凸部を備えることを特徴とするディーゼルパティキュレートフィルタ。 - 排気ガスの上流側を開口し、下流側が封鎖されたガス流入セルと、排気ガスの上流側が封鎖され、下流側を開口してなるガス流出セルとを、基材隔壁を介して隣接して設けてなる構成を有するフィルタ基材を備えたディーゼルパティキュレートフィルタであって、
前記ガス流入セルの隔壁表面の一部又は全部に、銀及びパラジウムを含む銀合金を触媒活性成分として含有すると共に複数の粒子状の無機多孔質体を含有し、且つ、前記銀合金が前記粒子状の無機多孔質体に担持された状態で存在する銀触媒層を形成してなる構成を備えたディーゼルパティキュレートフィルタであって、
前記銀触媒層の表面に、前記銀触媒層の厚さの50%以上の平均厚さを有し、銀触媒層に添加された前記複数の粒子状の無機多孔質体によって形成される表面凹凸部を備えることを特徴とするディーゼルパティキュレートフィルタ。 - 前記ガス流出セルの隔壁の一部又は全部に、Pt、Pd及びRhのよりなる群から選ばれる少なくとも一種類の貴金属および/または該貴金属の酸化物を、触媒活性成分として含有する貴金属触媒層を備えた請求項2に記載のディーゼルパティキュレートフィルタ。
- 前記銀及びパラジウムを含む銀合金における、銀とパラジウムの比率は99:1〜1:3であることを特徴とする請求項1〜3の何れかに記載のディーゼルパティキュレートフィルタ。
- 前記銀触媒層は、銀及びパラジウムを含む銀合金が、前記粒子状の無機多孔質体に担持されてなる触媒担持体を含有することを特徴とする請求項1〜4の何れかに記載のディーゼルパティキュレートフィルタ。
- 前記銀触媒層の厚さは、70μm以下であることを特徴とする請求項1〜5の何れかに記載のディーゼルパティキュレートフィルタ。
- 前記銀触媒層中の銀は、基材体積に対して1g/L以上の割合で含有することを特徴とする請求項1〜6の何れかに記載のディーゼルパティキュレートフィルタ。
- 請求項1〜7の何れかに記載のディーゼルパティキュレートフィルタを備えた排気ガス浄化装置。
- 内燃機関から排出される排気ガスが流動するガス流通路内において、請求項1〜7の何れかに記載のディーゼルパティキュレートフィルタの上流側に、Pt、Pd及びRhのよりなる群から選ばれる少なくとも一種類の貴金属および/または該貴金属の酸化物を含む触媒構造体を備えた排気ガス浄化装置。
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