JP5881689B2 - 発光素子チップ及びその製造方法 - Google Patents
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Description
この支持部の一部からなる突出部分は、物理的に、半導体層における他方の面、及び他方の電極を保護することができるものである。
突出している外周部の頂部は、該他方の電極の表面よりも0.2μm以上高い位置にあることがよく、さらに、該半導体層の側面はテーパー加工され、該支持部の外周部と少なくとも絶縁体層を挟んで隣接することがよい。
また、該支持部は、金属または合金であることがよい。
また、該半導体層はIII族窒化物半導体で構成され、他方の面における凹凸を構成するミクロな表面は、{10−1−1}面群からなる半極性面であることがよい。
発光素子チップの製造方法は、発光素子チップを1枚の成長基板を用いて複数製造する、発光素子チップの製造方法であって、リフトオフ層と、該リフトオフ層上に発光層を有する半導体層とを成長基板上に順次形成するエピタキシャル成長工程と、隣接する発光素子チップに対応する箇所の間において、半導体層及びリフトオフ層が除去され成長基板が露出した分離溝を形成する分離溝形成工程と、分離溝において、分離溝と面した半導体層の側面を少なくとも囲う絶縁体層を形成する絶縁体層形成工程と、半導体層における成長基板と反対側の表面である一方の面に、一方の電極を形成する第1電極形成工程と、半導体層を支持する支持部を半導体層における成長基板と反対側の面上及び分離溝中に形成する支持部形成工程と、リフトオフ層をウェット処理によって除去し、半導体層と成長基板とを分離するリフトオフ工程と、リフトオフ工程によって露出した半導体層の他方の面をエッチングすることにより、当該他方の面の周囲を囲む支持部(分離溝中に形成された支持部の外周部)を、当該他方の面よりも突出させる半導体層エッチング工程と、当該他方の面に凹凸を形成する処理を行う凹凸形成工程と、当該他方の面における前記凹凸上に、他方の電極を形成する第2電極形成工程と、を具備する。
発光素子チップの製造方法は、分離溝形成工程において、分離溝と接する半導体の側面をテーパー加工することが好ましい。
また、発光素子チップの製造方法は、凹凸形成工程において、他方の面をアルカリ溶液を用いてエッチングすることが好ましい。
さらに、支持部形成工程において、支持部に貫通孔が存在するように支持部を形成し、リフトオフ工程において、貫通孔を通して、リフトオフ層をエッチングするエッチング液をリフトオフ層に供給することが好ましい。
PCT出願(国際出願番号:PCT/JP2010/007611)で報告した構成を用いることができる。また、前記の通り、n側電極15は、ボンディングパッド部15aと、格子状にパターニングされた補助電極15bとを具備する。n側電極15の成膜方法、パターニング方法は、p側電極14と同様である。n型層12eの表面は前記の通りの半極性面で構成され、n側電極15とn型層12eとの間のオーミック性は良好であるため、コンタクト抵抗を小さくすることができる。また、前記の通り、補助電極15bによって発光の面内均一性を高めることができる。
以下に、実際に上記の構成を具備する発光素子チップを製造した結果について説明する。まず、サファイア基板(成長基板20)上に、リフトオフ層21(Cr及びこれが窒化されたCrN、厚さ18nm)を形成後、n型層12e(n型GaN、厚さ7μm)、InGaNのMQW発光層12a(厚さ0.1μm)、p型層12c(p型GaN、厚さ0.2μm)からなる半導体層12を形成した(エピタキシャル成長工程)。そして、ドライエッチング法により半導体層12の一部を除去し、p型層12cの上面が1辺1000μmの四角形からなる個々の素子領域を分離する分離溝を形成した(分離溝形成工程)。ここで、半導体層12端部のテーパー角度θは約40°とした。素子間のピッチは1250μmとした。分離溝の形成は、サファイア基板を0.2μmエッチングするまで行い、サファイア基板が露出したことを確認した。露出したサファイア基板表面に、露出したリフトオフ層21及びn型層12eの一部の側面を覆うことのできる厚さのCr層(厚さ400nm)を、レジストパターンを用いたリフトオフにより形成した(分離溝充填工程)。
ここでは、比較例として、実施例のような支持部外周部11aをもたない構造の発光素子チップを製造した。この製造は、開口部保護工程における半導体層間の分離溝をすべてフォトレジストで埋め、他の工程は同様に行うことによって製造された。図7は、この製造方法における開口部保護工程(a)、支持部形成工程(b)、リフトオフ工程(c)における形態を実施例と同様に示す図である。また、図8には、その凹凸形成工程(d)、保護膜形成工程(e)における形態を同様に示す。開口部保護工程よりも前の工程については、実施例と同様であり、リフトオフ工程よりも後の工程で図8に示されていない工程における形状は、図7(d)(e)に示された形状に応じた形状となっている。
実施例に係る発光素子チップをアセンブリした1000個の発光素子を、定電流電源を用いて、350mAの電流を流し、発光させた。なお、発光素子チップの周囲には反射カップ・樹脂レンズ等、発光素子チップ自身以外で発光効率に影響を与える構造は形成していない。実施例と比較例の素子における室温での軸上発光出力の発光強度のヒストグラムの実測結果を図10に示す。実施例の発光素子では80%以上の発光素子が380mW〜410mWの発光出力を示している。これに対して、比較例の発光素子では、70%の発光素子が350mW〜380mWの発光出力を示していた。この結果は、従来の平坦な支持部が用いられた比較例の発光素子チップでは、図9に示されるように、発光層から横方向へ放出される光がそのまま横方向へと漏れ、光を十分効果的に上側に取り出すことができなかったことを示している。一方、実施例の発光素子チップでは、発光層12aから側面に達した光が、支持部外周部11aで反射されることによって光を上側に効果的に取り出すことができる。すなわち、実施例の発光素子チップは、発光素子チップ自身で、軸上発光出力を向上させることがわかった。
前記の通り、半導体層あるいは支持部外周部のテーパー角θは、分離溝形成工程におけるドライエッチング条件によって制御することができる。また、このテーパー角θは、光の取り出し効率に影響を与える。図11は、図1(b)の鉛直方向における発光出力(軸上出力向上比率:θ=0°の場合を1.0としている)とθとの関係を実測した結果である。この結果より、θ>0とすることによって発光出力が増大し、θ=55°程度で最大値をとる。なお、θが90°に近づいた場合には、発光面積が同等である場合には発光チップ全体の面積が大きくなるため、好ましくない。
上記の構成の発光素子チップあるいは発光素子は、半導体層12の材料構成で決まる単色の光を発する。これに対して、この発光素子チップの発光面上に蛍光体層を形成することにより、この蛍光体が発する光と半導体層が発する光とが混合された光を得ることができる。疑似白色を得るために、青色を発する発光素子に、この蛍光体として黄色を発するYAGを使用した場合について以下に説明する。
11 支持部
11a 支持部外周部
11b 頂部
12 半導体層
12a 発光層
12b 一方の面
12c p型GaN層(p型半導体層:p型層)
12d 他方の面
12e n型GaN層(n型半導体層:n型層)
13 下地層
14 p側電極(一方の電極)
15 n側電極(他方の電極)
15a ボンディングパッド部(n側電極)
15b 補助電極(n側電極)
16 絶縁体層
16a 絶縁体層開口
17 保護膜
20 成長基板
21 リフトオフ層
23 充填剤
100 レジスト層(マスク)
200 蛍光体層
Claims (9)
- 発光層を具備する半導体層が導電性の支持部の上に形成された構成を具備し、前記支持部は、前記半導体層の一方の面に接続された一方の電極と接続された構成を具備する発光素子チップであって、
前記半導体層における他方の面には凹凸が形成され、かつ他方の電極が前記他方の面における前記凹凸上に形成され、
前記支持部は、前記半導体層における他方の面の周囲を囲む外周部を具備し、当該外周部は、前記半導体層における他方の面、及び前記他方の電極よりも上側に突出していることを特徴とする発光素子チップ。 - 前記外周部の頂部は、前記他方の電極の表面よりも0.2μm以上高い位置にあることを特徴とする請求項1記載の発光素子チップ。
- 前記半導体層の側面はテーパー加工され、前記支持部の外周部と少なくとも絶縁体層を挟んで隣接することを特徴とする請求項1又は2に記載の発光素子チップ。
- 前記支持部は、金属または合金であることを特徴とする請求項1から請求項3までのいずれか1項に記載の発光素子チップ。
- 前記半導体層はIII族窒化物半導体で構成され、前記他方の面における凹凸を構成するミクロな表面は、{10−1−1}面群からなる半極性面であることを特徴とする請求項1から請求項4までのいずれか1項に記載の発光素子チップ。
- 発光素子チップを1枚の成長基板を用いて複数製造する、発光素子チップの製造方法であって、
リフトオフ層と、前記リフトオフ層上に発光層を有する半導体層とを前記成長基板上に順次形成するエピタキシャル成長工程と、
隣接する発光素子チップに対応する箇所の間において、前記半導体層及び前記リフトオフ層が除去され前記成長基板が露出した分離溝を形成する分離溝形成工程と、
前記分離溝に面する前記半導体層の側面を少なくとも囲う絶縁体層を形成する絶縁体層形成工程と、
前記半導体層における前記成長基板と反対側の表面である一方の面に、一方の電極を形成する第1電極形成工程と、
前記半導体層を支持する支持部を、前記半導体層における前記成長基板と反対側の面上、及び前記分離溝中に形成する支持部形成工程と、
前記リフトオフ層をウェット処理によって除去し、前記半導体層と前記成長基板とを分離するリフトオフ工程と、
前記半導体層における前記リフトオフ工程によって露出した他方の面をエッチングすることにより、当該他方の面の周囲を囲む前記支持部を、前記他方の面よりも突出させる半導体層エッチング工程と、
前記他方の面に凹凸を形成する処理を行う凹凸形成工程と、
前記他方の面における前記凹凸上に、他方の電極を形成する第2電極形成工程と、
を具備することを特徴とする発光素子チップの製造方法。 - 前記分離溝形成工程において、前記分離溝と接する前記半導体の側面をテーパー加工することを特徴とする請求項6に記載の発光素子チップの製造方法。
- 前記凹凸形成工程において、前記他方の面をアルカリ溶液を用いてエッチングすることを特徴とする請求項6又は7に記載の発光素子チップの製造方法。
- 前記支持部形成工程において、前記支持部に貫通孔が存在するように前記支持部を形成し、
前記リフトオフ工程において、前記貫通孔を通して、前記リフトオフ層をエッチングするエッチング液を前記リフトオフ層に供給することを特徴とする請求項6から請求項8までのいずれか1項に記載の発光素子チップの製造方法。
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JP2014157989A (ja) * | 2013-02-18 | 2014-08-28 | Toshiba Corp | 半導体発光装置及びその製造方法 |
JP2014157991A (ja) * | 2013-02-18 | 2014-08-28 | Toshiba Corp | 半導体発光装置及びその製造方法 |
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KR102295812B1 (ko) * | 2015-02-06 | 2021-09-02 | 서울바이오시스 주식회사 | 반도체 발광소자 |
DE102015105486A1 (de) * | 2015-04-10 | 2016-10-13 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Optoelektronisches Bauelement und Verfahren zu seiner Herstellung |
KR102568252B1 (ko) | 2016-07-21 | 2023-08-22 | 삼성디스플레이 주식회사 | 발광 장치 및 그의 제조방법 |
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DE102018107667A1 (de) * | 2018-03-15 | 2019-09-19 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Optoelektronischer halbleiterchip |
KR102393092B1 (ko) | 2019-11-05 | 2022-05-03 | (주)일리드 | 실내 인테리어 디자인 생성 방법 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008235883A (ja) * | 2007-03-21 | 2008-10-02 | Samsung Electro Mech Co Ltd | 発光装置、発光装置の製造方法及びモノリシック発光ダイオードアレイ |
JP2009259904A (ja) * | 2008-04-14 | 2009-11-05 | Sharp Corp | 窒化物系化合物半導体発光素子 |
JP2010123717A (ja) * | 2008-11-19 | 2010-06-03 | Stanley Electric Co Ltd | 半導体発光素子及び半導体発光素子の製造方法 |
JP2010157551A (ja) * | 2008-12-26 | 2010-07-15 | Toyoda Gosei Co Ltd | Iii族窒化物半導体発光素子、およびその製造方法 |
Family Cites Families (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0442582A (ja) * | 1990-06-08 | 1992-02-13 | Eastman Kodak Japan Kk | 発光ダイオードアレイ |
TW564584B (en) * | 2001-06-25 | 2003-12-01 | Toshiba Corp | Semiconductor light emitting device |
JP2006107743A (ja) * | 2004-09-30 | 2006-04-20 | Toshiba Corp | 有機エレクトロルミネッセンス表示装置 |
KR20070049211A (ko) * | 2004-09-30 | 2007-05-10 | 가부시끼가이샤 도시바 | 유기 일렉트로루미네센스 표시 장치 |
US7795600B2 (en) * | 2006-03-24 | 2010-09-14 | Goldeneye, Inc. | Wavelength conversion chip for use with light emitting diodes and method for making same |
KR101371511B1 (ko) * | 2007-10-04 | 2014-03-11 | 엘지이노텍 주식회사 | 수직형 발광 소자 |
US8222063B2 (en) * | 2008-03-26 | 2012-07-17 | Lattice Power (Jiangxi) Corporation | Method for fabricating robust light-emitting diodes |
US8809893B2 (en) * | 2008-11-14 | 2014-08-19 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Semiconductor light emitting device |
JP2010205988A (ja) * | 2009-03-04 | 2010-09-16 | Panasonic Corp | 窒化物半導体素子及びその製造方法 |
US8987711B2 (en) * | 2009-11-19 | 2015-03-24 | Konica Minolta Holdings, Inc. | Organic electroluminescence element, method for producing organic electroluminescence element, and illumination device using organic electroluminescence element |
KR100974787B1 (ko) * | 2010-02-04 | 2010-08-06 | 엘지이노텍 주식회사 | 발광 소자, 발광 소자 제조방법 및 발광 소자 패키지 |
KR101081169B1 (ko) * | 2010-04-05 | 2011-11-07 | 엘지이노텍 주식회사 | 발광 소자 및 그 제조방법, 발광 소자 패키지, 조명 시스템 |
EP2641277A4 (en) * | 2010-11-18 | 2016-06-15 | 3M Innovative Properties Co | LIGHT EMITTING DIODE COMPONENT COMPRISING A POLYSILAZANE BONDING LAYER |
EP2660855A4 (en) * | 2010-12-28 | 2014-07-02 | Dowa Electronics Materials Co | SEMICONDUCTOR DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR |
JP2012174730A (ja) * | 2011-02-17 | 2012-09-10 | Mitsubishi Chemicals Corp | GaN系LED素子 |
JP2012178453A (ja) * | 2011-02-25 | 2012-09-13 | Mitsubishi Chemicals Corp | GaN系LED素子 |
KR101839929B1 (ko) * | 2011-03-18 | 2018-03-20 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기 발광 표시 장치 및 유기 발광 표시 장치 제조 방법 |
US8409965B2 (en) * | 2011-04-26 | 2013-04-02 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Method and structure for LED with nano-patterned substrate |
JP2013016537A (ja) * | 2011-06-30 | 2013-01-24 | Toyoda Gosei Co Ltd | Iii族窒化物半導体発光素子の製造方法 |
JP5368620B1 (ja) * | 2012-11-22 | 2013-12-18 | 株式会社東芝 | 半導体発光素子及びその製造方法 |
-
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008235883A (ja) * | 2007-03-21 | 2008-10-02 | Samsung Electro Mech Co Ltd | 発光装置、発光装置の製造方法及びモノリシック発光ダイオードアレイ |
JP2009259904A (ja) * | 2008-04-14 | 2009-11-05 | Sharp Corp | 窒化物系化合物半導体発光素子 |
JP2010123717A (ja) * | 2008-11-19 | 2010-06-03 | Stanley Electric Co Ltd | 半導体発光素子及び半導体発光素子の製造方法 |
JP2010157551A (ja) * | 2008-12-26 | 2010-07-15 | Toyoda Gosei Co Ltd | Iii族窒化物半導体発光素子、およびその製造方法 |
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