JP2013125961A - 垂直発光ダイオードチップ及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】垂直発光ダイオードチップ及びその製造方法の提供。
【解決手段】垂直発光ダイオードチップは、第1表面、該第1表面に背向する第2表面、及び第1面積を有する第1金属と、該第1金属の該第2表面上に位置し、並びに該第1面積より小さい第2面積を有し、第1金属と階段状構造を形成する第2金属と、エピタキシャルスタックであって、該第1金属の上に位置し、該第1金属の該第1表面の上に位置する第1型半導体層と、該第1型半導体層の上に位置し、発光に用いられる多重量子井戸層と、該多重量子井戸層の上に位置する第2型半導体層とを包含する上記エピタキシャルスタックと、を包含する。
【選択図】図2
【解決手段】垂直発光ダイオードチップは、第1表面、該第1表面に背向する第2表面、及び第1面積を有する第1金属と、該第1金属の該第2表面上に位置し、並びに該第1面積より小さい第2面積を有し、第1金属と階段状構造を形成する第2金属と、エピタキシャルスタックであって、該第1金属の上に位置し、該第1金属の該第1表面の上に位置する第1型半導体層と、該第1型半導体層の上に位置し、発光に用いられる多重量子井戸層と、該多重量子井戸層の上に位置する第2型半導体層とを包含する上記エピタキシャルスタックと、を包含する。
【選択図】図2
Description
本発明は光電素子の技術に係り、特に一種の垂直発光ダイオード(VLED)チップ及びその製造方法に関する。
発光ダイオード(LED)を例とする光電システム中、それは、基板上に取り付けられた一つ以上の発光ダイオードチップを包含する。発光ダイオードチップは多種類があり、その一つは垂直式発光ダイオード(VLED)チップとされ、複合物半導体材料、たとえば窒化ガリウム(GaN)で形成された多層半導体基板を包含する。該半導体基板はp型ドーパントを包含するp型閉込め層、n型ドーパントを備えたn型閉込め層、及び発光に用いられる多重量子井戸(MQW)層が、これら閉込め層の間に位置する。
本発明は一種の垂直発光ダイオードチップ及びその製造方法に対するものである。該垂直発光ダイオードチップは極めて良好な熱及び電気特性を備えた発光ダイオードを構成するのに用いられる。
本発明は一方で、ある実施例において、一種の垂直発光ダイオード(VLED)チップを提供する。それは、第1表面とその反対側の第2表面を具えた第1金属と、該第1金属の該第2表面の上に位置する第2金属と、該第1金属の上に位置するエピタキシャルスタックを有する。該第1金属及び該第2金属は階段状構造を形成し、該エピタキシャルスタックを保護するのに用いられる。
該エピタキシャルスタックは、該第1金属の該第1表面の上に位置する第1型半導体層と、該第1型半導体層の上に位置し発光に用いられる多重量子井戸(MQW)層と、該多重量子井戸(MQW)層の上に位置する第2型半導体層を包含する。
そのうち、該第1型半導体層はp型半導体層、たとえばp型窒化ガリウム(p−GaN)を包含し得て、且つ該第2型半導体層はn型半導体層、たとえばn型窒化ガリウム(n−GaN)を包含し得る。
本発明はまた一方で、ある実施例において、一種の発光ダイオード構造の製造方法を提供し、それは、
載置基板を提供する工程、
エピタキシャル層を該載置基板上にスタックする工程、
複数の第1凹溝を形成し、これら第1凹溝は十字形のパターンを形成し且つ該エピタキシャルスタックと該載置基板を貫通するものとし、これにより該載置基板の上の複数のチップを規定する工程、
シード層を該エピタキシャルスタックの上及びこれら第1凹溝の内側に形成する工程、 反射層を該シード層の上に形成する工程、
第1面積を具えた第1金属を該シード層の上に形成する工程、
第2面積を具えた第2金属を、該第1金属上に形成し、且つ該第2面積は該第1面積より小さくする工程、
該載置基板を除去する工程、
複数の第2凹溝を形成し、それは該エピタキシャルスタックを貫通し該シード層に至るものとする工程、
これらチップを分離し複数の垂直発光ダイオード(VLED)チップとなす工程、
以上の工程を包含する。
載置基板を提供する工程、
エピタキシャル層を該載置基板上にスタックする工程、
複数の第1凹溝を形成し、これら第1凹溝は十字形のパターンを形成し且つ該エピタキシャルスタックと該載置基板を貫通するものとし、これにより該載置基板の上の複数のチップを規定する工程、
シード層を該エピタキシャルスタックの上及びこれら第1凹溝の内側に形成する工程、 反射層を該シード層の上に形成する工程、
第1面積を具えた第1金属を該シード層の上に形成する工程、
第2面積を具えた第2金属を、該第1金属上に形成し、且つ該第2面積は該第1面積より小さくする工程、
該載置基板を除去する工程、
複数の第2凹溝を形成し、それは該エピタキシャルスタックを貫通し該シード層に至るものとする工程、
これらチップを分離し複数の垂直発光ダイオード(VLED)チップとなす工程、
以上の工程を包含する。
本発明は一種の垂直発光ダイオードチップ及びその製造方法を提供し、該垂直発光ダイオードチップは極めて良好な熱及び電気特性を備えた発光ダイオードを構成するのに用いられる。
本発明の技術内容、構造特徴、達成する目的を詳細に説明するため、以下に実施例を挙げ並びに図面を組み合わせて説明する。
各実施例の説明中、一つの素子がもう一つの素子の「上方又は上」或いは「下方又は下」にあるとは、「直接的に」或いは「間接的に」、該もう一つの素子の上或いは下にある状況を指し、それは、その間に設置されたその他の素子を包含し得る。「上方又は上」或いは「下方又は下」等の記述は、図面を基準として説明するものであるが、その他の可能な方向の変換も包含する。全ての明細書及び図面中、同じ符号を採用する素子は同じ或いは類似の素子を指定するものである。説明上便利で明確であるように、図面中の各素子の厚さ及び寸法は、誇張或いは省略或いは概略の方式で表示され、且つ各元素のサイズは完全にはその実際のサイズとされない。
図1Aから図1Cは本発明の実施例の垂直発光ダイオード(VLED)チップ10の構造表示図である。そのうち、図1Aはその断面図、図1Bはその平面図、図1Cはその底面図である。図1Aから図1Cに示されるように、該垂直発光ダイオード(VLED)チップ10は、第1金属12、第2金属14、p型半導体層16、多重量子井戸(MQW)層18、n型半導体層20を包含する。そのうち、該p型半導体層16は該第1金属12の上に位置し、該多重量子井戸(MQW)層18は該p型半導体層16の上に位置し、且つ該n型半導体層20は該多重量子井戸(MQW)層18の上に位置する。該垂直発光ダイオード(VLED)チップ10はまたシード層22及び反射層24を包含する。そのうち、該シード層22は該第1金属12の上に位置し、且つ該反射層24は該シード層22の上に位置する。
該p型半導体層16の好ましい材料は、p型窒化ガリウム(p−GaN)を包含し得る。その他の該p型半導体層16に適用される材料は、窒化アルミニウムガリウム(AlGaN)、窒化インジウムガリウム(InGaN)、或いは窒化インジウムガリウムアルミニウム(AlInGaN)を包含する。
該n型半導体層20の好ましい材料は、n型窒化ガリウム(n−GaN)を包含し得る。その他の該n型半導体層20に適用される材料は、窒化アルミニウムガリウム(AlGaN)、窒化インジウムガリウム(InGaN)、或いは窒化インジウムガリウムアルミニウム(AlInGaN)を包含する。
該多重量子井戸(MQW)層18は半導体材料、たとえば、砒素化ガリウム(GaAs)を包含し得て、それは2層の別の半導体材料、たとえば、比較的広いバンドギャップを有する砒素化アルミニウムの間に挟み置かれる。
該第1金属12は相互に背向する第1表面26と第2表面28を有する。該反射層24は該第1表面26の上に形成され、且つ該第2金属14は該第2表面28の上に形成される。図1Bに示されるように、該第1金属12は略正方形(四つの等辺を有する)の周辺輪郭を有する。或いは、該第1金属12は、任意の適合する多角形周辺輪郭、たとえば、矩形或いは三角形を有するか、或いは円形輪郭を有する。
このほか、該第1金属12の厚さ及び各側辺の幅をそれぞれd1及びW1とすると、該第1金属12の代表的厚さ(d1)範囲は、1μmから500μmとされる。該第1金属12の代表的幅(W1)範囲は、1μmから10000μmとされる。該第1金属12が円形の輪郭とされる場合は、上述の幅(W1)は該円形の直径(D)に相当し得る。該第1金属12の代表的面積範囲は1μm2から10000μm2とされ得る。
該第1金属12は、単一金属層或いは少なくとも二つの金属層のスタックを包含し得て、並びに適合する成長工程により形成される。このほか、該第1金属12には高導電性及び高熱伝導性の構成材料が選択され得て、その適合する材料は、銅(Cu)、ニッケル(Ni)、銀(Ag)、金(Au)、コバルト(Co)、銅−コバルト(Cu−Co)、ニッケル−コバルト(Ni−Co)、銅−モリブデン(Cu−Mo)、ニッケル/銅(Ni/Cu)、ニッケル/銅−モリブデン(Ni/Cu−Mo)、或いは上述の金属の合金を包含する。
該第1金属12を形成するのに適用される成長工程は、電着法(electro−deposition)、無電解めっき法(electroless−deposition)、化学気相成長法(CVD)、プラズマ増強型化学気相成長法(PECVD)、物理気相成長法(PVD)、蒸着法、及びプラズマジェットコーティング法等を包含する。
図1Cに示されるように、該第2金属14は、ほぼ正方形(四つの等辺)の周辺輪郭を有し、中心に対称に該第1金属12の上に設置される。或いは、第2金属14は任意の適合する多角形周辺輪郭(たとえば、矩形或いは三角形)を有するものとされ得て、並びに偏って該第1金属12の上に設置される。または、該第1金属12及び該第2金属14は相互に同心円の円形周辺輪郭とされ得る。
このほか、該第2金属14の厚さ及び各側辺の幅は、それぞれd2及びW2とされる。該第1金属12の代表的厚さ(d2)範囲は1μmから500μmとされる。該第1金属12の代表的幅(W1)の範囲は0.5μmから9999μmとされる。該第2金属14の最大幅(W2)及び面積は、該第1金属12の最大幅(W1)及び面積により変動するが、ただし、該第1金属12の最大幅(W1)及び面積より小さい。言い換えると、該第1金属12の最大幅(W1)及び面積は、それぞれ該第2金属14の最大幅(W2)及び面積より大きい。これにより、該第1金属12及び該第2金属14は階段状保護構造を形成できる。該第1金属12の面積は特許請求の範囲において、「第1面積」と称され、該第2金属14の面積は、特許請求の範囲において、「第2面積」と称される。
該第2金属14は、単一金属層或いは少なくとも二つの金属層のスタックを包含し得て、並びに適合する成長工程により形成される。このほか、該第2金属14には高導電性及び高熱伝導性の構成材料が選択され得て、その適合する材料は、銅(Cu)、ニッケル(Ni)、銀(Ag)、金(Au)、コバルト(Co)、銅−コバルト(Cu−Co)、ニッケル−コバルト(Ni−Co)、銅−モリブデン(Cu−Mo)、ニッケル/銅(Ni/Cu)、ニッケル/銅−モリブデン(Ni/Cu−Mo)、或いは上述の金属の合金を包含する。
該第2金属14を形成するのに適用される成長工程は、電着法(electro−deposition)、無電解めっき法(electroless−deposition)、化学気相成長法(CVD)、プラズマ増強型化学気相成長法(PECVD)、物理気相成長法(PVD)、蒸着法、及びプラズマジェットコーティング法等を包含する。
該シード層22は、適合する製造工程(たとえば、電着法或いは無電解めっき法)を使用して形成した金属被覆層を包含し得る。該シード層22は該第1金属12及び該第2金属14の上述の成長工程、たとえば電気めっき法或いは無電解めっきでの形成を補助する。これについては後に詳しく述べる。
このほか、該シード層22は、単一金属層或いは金属スタックを包含し、その適合する材料は、Ta/Cu、Ta/TaN/Cu、TaN/Cu、Ti/TaN/Cu、Ta/TiN/Cu、Ti/Cu、Ti/Tn/Cu、TiN/Cu、Cr/Au、Cr/Au/Ni/Au、Cr/Au/Ti/Ni/Au、Ti/Au、及びTi/Ni/Auを包含する。
該反射層24もまた単一金属層或いは金属スタックを包含し、その適合する材料は、Ag/Ti/Au、Ag/TiN/Cu、Ag/Ta/Au、Ag/W/Au、Ag/TaN/Cu、Ag/Ni/Au、Al/Ta/Au、Al/TaN/Cu、Ni/Ag、Ni/Al、及びNi/Ag/Ni/Auを包含する。
該p型半導体層16、該多重量子井戸(MQW)層18、及び該n型半導体層20は共同でエピタキシャルスタック30を形成し、その厚さはdとされ且つ該シード層22の上に位置する。該エピタキシャルスタック30中、該p型半導体層16及び該n型半導体層20の機能は閉込め層とされ、該多重量子井戸(MQW)層18の機能は発光層とされる。
該エピタキシャルスタック30は、適合する成長工程、たとえば気相エピタキシー(VPE)、分子ビームエピタキシー(MBE)、或いは液相エピタキシー(LPE)を使用して該反射層24の上に成長させられる。該エピタキシャルスタック30の代表的厚さ(d)の範囲は、1μmから50μmとされる。
このほか、エピタキシャルスタック30は四つの傾斜する側壁32を有し、これら側壁32と該シード層22の表面はある角度Aを形成する。そのうち、該シード層22の表面は、該第1金属12の該第1表面26に平行である。該角度Aは90度より大きく、且つその代表的角度(A)範囲は100度から145度である。
このほか、該エピタキシャルスタック30の形状はほぼ角錐形或いは金字塔形とされ、並びに平らな上端部(一般の角錐物の具備する尖った上端部とは異なる)を有する。このほか、該反射層24の面積及び最大幅はそれぞれ該p型半導体層16の面積及び最大幅より小さい。
該エピタキシャルスタック30は該p型半導体層16が形成する4辺基部(その幅はW3とされる)及び該n型半導体層20が形成する4辺上端部(その幅はW4とされる)を有し得る。該n型半導体層20の最大幅W4は該p型半導体層16の最大幅W3より小さい。このほか、該エピタキシャルスタック30の上端部(すなわち、該n型半導体層20の上端面)の面積は、該エピタキシャルスタック30の基部(すなわち、該p型半導体層16の底面)面積より小さい。言い換えると、該エピタキシャルスタック30の断面積は基部から上端部へと漸減する。
角錐形の形状のほか、該エピタキシャルスタック30はまたほぼ円錐形の形状を有し得て、その上端部は平らとされ、且つその上端部及び基部はいずれも円形とされる。或いは、該エピタキシャルスタック30はまた長方形の角錐形の形状を有し得て、その基部は長方形とされる。
図2は複数の垂直発光ダイオードチップを包含する発光ダイオードシステムの断面図である。図2を参照されたい。発光ダイオード(LED)34は、基板36、該垂直発光ダイオード(VLED)チップ10、及び保護層40を包含する。そのうち、該垂直発光ダイオードチップ10は該基板36の上に取り付けられ、該保護層40は電気絶縁性で且つ透光材料とされ、それは該垂直発光ダイオードチップ10を密封する。
図2では、該発光ダイオード34はただ一つの垂直発光ダイオードチップ10が該基板36の上に取り付けられている。しかし、実際の応用に応じて、該発光ダイオード34は複数の垂直発光ダイオードチップ10が該基板36の上に取り付けられ、並びに必要なアレイ形式をなすように設置されて、たとえば発光ダイオード(LED)ディスプレイの光電装置を形成し得る。
該基板36の材料は、半導体材料、たとえば、ケイ素、砒素化ガリウム(GaAs)、炭化ケイ素(SiC)、窒化アルミニウム(AlN)、酸化アルミニウム(Al2O3)、或いはサファイア(sapphire)等を包含し得る。
該基板36はカップ46及び背面48を有する。そのうち、該カップ46は該垂直発光ダイオードチップ10をそのうちに取り付けるのに用いられる。導電性のダイ接着層(図示せず)が該垂直発光ダイオードチップ10の該基板36への接着に用いられ得る。
図2に示されるように、導線38が該n型半導体層20を該基板36上のn型電極42に電気的に接続する。このほか、該第1金属12及び該第2金属14は該p型半導体層16を、該基板36上のp型電極44に電気的に接続する。該第1金属12及び該第2金属14はまた該垂直発光ダイオードチップ10から該基板36に至る放熱経路を提供する。該第1金属12及び該第2金属14が構成する階段状構造は、上述の放熱経路の放熱効果をさらに増強する。このほか、該第1金属12の該第2金属14より大きい構造は保護の機能を有し、ダイ接着材料(たとえば銀ろう或いは半田)が溢れ出て該エピタキシャルスタック30に接触するのを防止できる。
図3Aから図3Kを参照されたい。それは、該垂直発光ダイオード(VLED)チップ10の製造方法の工程表示図である。まず、図3Aに示されるように、載置基板50を提供する。該載置基板50はウエハーの形式とされ得て、その材質は、たとえば、サファイヤ、炭化ケイ素(SiC)、ケイ素、ゲルマニウム(Ge)、酸化亜鉛(ZnO)、或いは砒素化ガリウム(GaAs)とされ得る。本実施例では、該載置基板50はサファイア基板とされる。
図3Aに示されるように、適合する成長工程、たとえば気相エピタキシー(VPE)、分子エピタキシー(MBE)、或いは液相エピタキシー(LPE)を使用して、多層エピタキシャル構造52Aを該載置基板50の上に形成する。該多層エピタキシャル構造52Aは、n型層54、少なくとも一つの量子井戸層56、及びp型層58を包含し得る。本実施例では、該n型層54は、n型窒化ガリウム(n−GaN)を包含し且つ該p型層58はp型窒化ガリウム(p−GaN)を包含し得る。窒化ガリウムのほか、該n型層54及び該p型層58はまた、その他の各種の複合物半導体層材料、たとえば、窒化アルミニウムガリウム(AlGaN)、窒化インジウムガリウム(InGaN)、或いは窒化インジウムガリウムアルミニウム(AlInGaN)を包含し得る。該量子井戸層56の材料は、適合する材料、たとえば、砒素化ガリウム(GaAs)層とされ得て、それは2層の別の材料(たとえば、より広いバンドギャップを有する砒素化アルミニウム(AlAs))の間に挟まれる。
続いて、図3Bに示されるように、適合する工程を使用して、該多層エピタキシャル構造52Aを貫通する凹溝62を形成する。これら凹溝62の底端は該載置基板50の上にあるか、或いは延伸されて該載置基板50に所定距離進入する。これら凹溝62は十字形パターンを形成し得て、伝統的な半導体工程のダイの間の分離道に類似し、複数のダイ60を規定することができ、並びに該エピタキシャルスタック52を分離するのに用いられる。上述の適合する工程は、ハードマスク(hard mask)のドライエッチング法を包含し得る。このほか、レーザーカット法、ナイフカット法、ダイアモンドカット法、ウエットエッチング法、及びウォータージェット法もまた、その他の適合する工程とされ得る。本凹溝形成工程のあと、これらダイ60は、液体或いは溶剤で洗浄され、該エッチングマスク或いはその他の保護コート層が除去される。これら凹溝62の幅wの範囲は、約0.1μmから300μmである。
このほか、図3Bに示されるように、適合する工程を使用して、該p型層58の上に反射層66を形成する。その機能は反射器或いは反射鏡とされて、該垂直発光ダイオードチップ10の発光を反射することにある。たとえば、該反射層66は多層金属、たとえば、Ni/Ag/Ni/Au、Ag/Ni/Au、Ti/Ag/Ni/Au、Ag/Pt、Ag/Pd、或いは、Ag/Crを包含し得て、それは銀(Ag)、金(Au)、クロム(Cr)、白金(Pt)、鉛(Pd)、或いは、アルミニウム(Al)を含有する合金を成長させることで形成され得る。
該反射層(反射鏡)66の厚さは、約1.0μmより小さくされ得て、該反射層66の高温アニール或いは合金化は、その接触抵抗とその該p型層58に対する接着性を改善するために用いられ得る。たとえば、上述のアニール或いは合金化工程は、少なくとも摂氏150度の温度及び不活性の環境(たとえば、少量の酸素、水素、酸素水素があるか完全にない環境)で実行される。
続いて、図3Cに示されるように、シード層72が電気めっき或いは無電解めっき法により該反射層66の上及びこれら凹溝62の側壁上に形成される。該シード層72は、単一層或いは多層スタック、たとえば、Ta/Cu、Ta/TaN/Cu、TaN/Cu、Ti/TaN/Cu、Ta/TiN/Cu、Ti/Cu、Ti/Tn/Cu、TiN/Cu、Ti/Cu、Ti/Tn/Cu、TiN/Cu、Cr/Au、Cr/Au/Ni/Au、Cr/Au/Ti/Ni/Au、Ti/Au、Ti/Ni/Au、Ni/Au、或いはNi/Cuを包含し得る。
該反射層66はまた被覆層を形成し得て、それはまた、シード層の機能を有し得る。本実施例では、該反射層66は単一層或いは多層スタック、たとえば、Ag/Ti/Au、Ag/TiN/Cu、Ag/Ta/Au、Ag/W/Au、Ag/TaN/Cu、Al/Ta/Au、Al/TaN/Cu、Ni/Ag、Ni/Al、あるいいはNi/Ag/Ni/Auを包含し得る。
続いて、図3D及び3Eに示されるように、厚さd1の第1金属層74を該シード層72の上に成長させ、且つ厚さd2の第2金属層76を該第1金属層74の上に成長させる。該第1金属層74は図1Aの該第1金属12のように形成され、且つ該第2金属層76は図1Aの該第2金属14のように形成される。該第1金属層74は、適合する成長工程、たとえば、電着法(electro−deposition)或いは無電解めっき法(electroless−deposition)で、必要な厚さd1を達成する。該第1金属層74の代表的厚さ(d1)範囲は1μmから500μmとされる。同様に、該第2金属層76は、適合する成長工程、たとえば、電着法或いは無電解めっき法で、必要な厚さd2を達成する。該第2金属層76の代表的厚さ(d2)範囲は1μmから500μmとされる。
該第1金属層74及び該第2金属層76は、単層の金属、たとえば、銅(Cu)、ニッケル(Ni)、銀(Ag)、金(Au)、コバルト(Co)、金属合金、たとえば、銅−コバルト(Cu−Co)或いは銅−モリブデン(Cu−Mo)、或いは金属層スタック、たとえば、ニッケル/銅(Ni/Cu)、ニッケル/銅−モリブデン(Ni/Cu−Mo)を包含し得る。その他の、該第1金属層74及び該第2金属層76の形成に適用される成長工程は、化学気相成長法(CVD)、プラズマ増強型化学気相成長法(PECVD)、物理気相成長法(PVD)、蒸着法、及びプラズマジェットコーティング法等を包含する。
続いて、図3Eに示されるように、該第2金属層76は適合する工程を使用してパターン化され、たとえば、もともと成長させた層膜に対してエッチング(たとえば、減法工程)を実行するか或いはマスクのパターン化成長(たとえば、加法工程)により、該第2金属14の形状を規定する。該第2金属層76のパターン化工程は、該第2金属14の面積と幅W2を、それぞれ該第1金属12の面積及び幅W1より小さくする。
このほか、一つ或いは複数の余分の金属層(たとえば、Cr/Au、Ni、或いはNi/Au、図示せず)が該第2金属層76の上、及び第1金属層74の露出面上に形成され得て、それにより酸化と腐食を防止する。
続いて図3Fに示されるように、該載置基板50が適合する工程、たとえば、パルス式レーザー照射法、エッチング法、或いは化学機械平坦化工程(Chemical Mechanical planarization,CMP)を使用して、該n型層54上より除去される。
続いて、図3Gに示されるように、硬式マスク78が該載置基板50を除去後の該n型層54の表面上に形成され得る。該硬式マスク78はたとえば、酸化ケイ素(SiO2)、或いは窒化ケイ素(Si3N4)の成長材料を包含し得る。該硬式マスク78もまた有機重合物材料、たとえば、エポキシ(epoxy)、ポリイミド(polyimide)、熱可塑性材料或いはゾルゲル(sol−gel)材料を包含し得る。該硬式マスク78はまた感光性有機材料、たとえば、SU−8、NR−7、或いはAZ5214Eを採用可能である。或いは、該硬式マスク78は無機材料、たとえば、酸化ケイ素(SiO2)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化タンタル(Ta2O5)、酸化チタン(TiO2)、ハフニウム酸化物(HfO)、或いは酸化マグネシウム(MgO)を包含し得る。
続いて図3Hに示されるように、該硬式マスク78に、エッチングにより複数の凹溝80が形成される。それは、該エピタキシャルスタック52を貫通して該シード層72に至る。使用するエッチング工程は、ドライエッチング(ICP RIE)、ウエットケミカルエッチング、或いは光増強式ケミカルエッチングを包含し得る。
このほか、該n型層54の表面に近接するこれら凹溝80のサイズは、該p型層58の表面に近接するこれら凹溝80のサイズより大きい。言い換えると、これら凹溝80のサイズは、その深さの増加により減少する。これら凹溝80の傾斜度に90度を加えると、図1Aに示される該垂直発光ダイオードチップ10の該エピタキシャルスタックの角度Aに等しくなる。
続いて、図3Iに示されるように、該硬式マスク78を適合する溶剤を使用するか、或いは適合するドライ或いはウェットエッチング工程を使用して除去する。
続いて図3Jに示されるように、ダイシング工程を実行し、これらダイ60を適合する方法、たとえば、レーザーカット法、ダイシングソーを使用する方法、ブレーキング法、エアナイフ法、或いはウォータージェット法により裁断する。
このほか、一つ或いは複数の抗酸化層(図示せず)を、適合する形成方法を使用して、特定の表面(たとえばエッジ領域)に塗布することができ、たとえば、ウォータージェット法溶液を使用したメッキ法を使用できる。
図3Kに示されるように、各垂直発光ダイオード(VLED)チップ10は、第1金属12、第2金属14、p型半導体層16、多重量子井戸(MQW)層18、及びn型半導体層20を包含する。
そのうち、一部の該第1金属層74が該第1金属12を形成し(図3Jに示されるとおり)、一部の該第2金属層76が該第2金属14を形成し(図3Jに示されるとおり)、一部の該p型層58が該p型半導体層16を形成し(図3Jに示されるとおり)、一部の該多重量子井戸層56が該多重量子井戸(MQW)層18を形成し(図3Jに示されるとおり)、且つ一部の該n型層54が該n型半導体層20を形成する(図3Jに示されるとおり)。
各垂直発光ダイオード(VLED)チップ10はまた、シード層22及び反射層24を包含する。そのうち、一部の該シード層72は該シード層22を形成し(図3Jに示されるとおり)、且つ一部の該反射層66は該反射層24を形成する(図3Jに示されるとおり)。
以上述べたことは、本発明の実施例にすぎず、本発明の実施の範囲を限定するものではなく、本発明の特許請求の範囲に基づきなし得る同等の変化と修飾は、いずれも本発明の権利のカバーする範囲内に属するものとする。
10 垂直発光ダイオードチップ
12 第1金属
14 第2金属
16 p型半導体層
18 多重量子井戸層
20 n型半導体層
22 シード層
24 反射層
30/52 エピタキシャルスタック
34 発光ダイオード
36 基板
38 導線
40 保護層
42 n型電極
44 p型電極
46 カップ
48 背面
50 載置基板
52A 多層エピタキシャル構造
54 n型層
56 量子井戸層
58 p型層
60 ダイ
62/80 凹溝
66 反射層
72 シード層
74 第1金属層
76 第2金属層
78 硬式マスク
12 第1金属
14 第2金属
16 p型半導体層
18 多重量子井戸層
20 n型半導体層
22 シード層
24 反射層
30/52 エピタキシャルスタック
34 発光ダイオード
36 基板
38 導線
40 保護層
42 n型電極
44 p型電極
46 カップ
48 背面
50 載置基板
52A 多層エピタキシャル構造
54 n型層
56 量子井戸層
58 p型層
60 ダイ
62/80 凹溝
66 反射層
72 シード層
74 第1金属層
76 第2金属層
78 硬式マスク
Claims (20)
- 垂直発光ダイオードチップにおいて、
第1金属であって、第1表面、該第1表面に背向する第2表面、及び第1面積を有する上記第1金属と、
第2金属であって、該第1金属の該第2表面上に位置し、並びに第2面積を有し、該第1金属の該第1面積は、該第2金属の該第2面積より大きく、階段状構造を形成する上記第2金属と、
該第1金属の上に位置するエピタキシャルスタックであって、
該第1金属の該第1表面の上に位置する第1型半導体層と、
該第1型半導体層の上に位置し、発光に用いられる多重量子井戸層と、
該多重量子井戸層の上に位置する第2型半導体層と、
を包含する上記エピタキシャルスタックと、
を包含したことを特徴とする、垂直発光ダイオードチップ。 - 請求項1記載の垂直発光ダイオードチップにおいて、該第1型半導体層はp型半導体層を包含し、且つ該第2型半導体層はn型半導体層を包含することを特徴とする、垂直発光ダイオードチップ。
- 請求項1記載の垂直発光ダイオードチップにおいて、該第1金属の該第1表面の上に位置する反射層をさらに包含することを特徴とする、垂直発光ダイオードチップ。
- 請求項1記載の垂直発光ダイオードチップにおいて、該エピタキシャルスタックは略角錐形の形状とされ、該第1型半導体層はその基部に形成され、且つ該第2型半導体層はその上端部に形成されることを特徴とする、垂直発光ダイオードチップ。
- 請求項1記載の垂直発光ダイオードチップにおいて、該第1金属は、銅(Cu)、ニッケル(Ni)、銀(Ag)、金(Au)、コバルト(Co)、銅−コバルト(Cu−Co)、ニッケル−コバルト(Ni−Co)、銅−モリブデン(Cu−Mo)、ニッケル/銅(Ni/Cu)、ニッケル/銅−モリブデン(Ni/Cu−Mo)からなる金属群或いはその合金の材料より選択されることを特徴とする、垂直発光ダイオードチップ。
- 請求項1記載の垂直発光ダイオードチップにおいて、該第2金属は、銅(Cu)、ニッケル(Ni)、銀(Ag)、金(Au)、コバルト(Co)、銅−コバルト(Cu−Co)、ニッケル−コバルト(Ni−Co)、銅−モリブデン(Cu−Mo)、ニッケル/銅(Ni/Cu)、ニッケル/銅−モリブデン(Ni/Cu−Mo)からなる金属群或いはその合金の材料より選択されることを特徴とする、垂直発光ダイオードチップ。
- 請求項1記載の垂直発光ダイオードチップにおいて、該第1型半導体層は、p型半導体層を包含し、それは、窒化ガリウム(GaN)、窒化アルミニウムガリウム(AlGaN)、窒化インジウムガリウム(InGaN)、或いは窒化インジウムガリウムアルミニウム(AlInGaN)で組成された材料群より選択されることを特徴とする、垂直発光ダイオードチップ。
- 請求項1記載の垂直発光ダイオードチップにおいて、該第2型半導体層は、n型半導体層を包含し、それは、窒化ガリウム(GaN)、窒化アルミニウムガリウム(AlGaN)、窒化インジウムガリウム(InGaN)、或いは窒化インジウムガリウムアルミニウム(AlInGaN)で組成された材料群より選択されることを特徴とする、垂直発光ダイオードチップ。
- 請求項1記載の垂直発光ダイオードチップにおいて、該第1型半導体層は、p型窒化ガリウム(p−GaN)を包含し、且つ該第2型半導体層は、n型窒化ガリウム(n−GaN)を包含することを特徴とする、垂直発光ダイオードチップ。
- 垂直発光ダイオードチップにおいて、
第1金属であって、第1表面、該第1表面に背向する第2表面、及び第1面積を有する上記第1金属と、
第2金属であって、該第1金属の該第2表面上に位置し、並びに第2面積を有し、該第1金属の該第1面積は、該第2金属の該第2面積より大きい、上記第2金属と、
該第1金属の該第1表面の上に位置するエピタキシャルスタックであって、
該第1金属の該第1表面の上に位置するp型半導体層と、
該p型半導体層の上に位置し、発光に用いられる多重量子井戸層と、
該多重量子井戸層の上に位置するn型半導体層と、
を包含する上記エピタキシャルスタックと、
を包含し、該第1金属及び該第2金属が該エピタキシャルスタックを保護する階段状保護構造を形成し、
該エピタキシャルスタックは傾斜する側壁を具え、且つ該側壁と該第1金属の間の角度は90度より大きいことを特徴とする、垂直発光ダイオードチップ。 - 請求項10記載の垂直発光ダイオードチップにおいて、該第1金属の該第1表面の上に位置する反射層をさらに具えたことを特徴とする、垂直発光ダイオードチップ。
- 請求項10記載の垂直発光ダイオードチップにおいて、該エピタキシャルスタックは略角錐形の形状とされ、該p型半導体層はその基部に形成され、且つ該n型半導体層はその上端部に形成されることを特徴とする、垂直発光ダイオードチップ。
- 請求項10記載の垂直発光ダイオードチップにおいて、該第1金属及び該第2金属は、銅(Cu)、ニッケル(Ni)、銀(Ag)、金(Au)、コバルト(Co)、銅−コバルト(Cu−Co)、ニッケル−コバルト(Ni−Co)、銅−モリブデン(Cu−Mo)、ニッケル/銅(Ni/Cu)、ニッケル/銅−モリブデン(Ni/Cu−Mo)からなる金属群或いはその合金の材料より選択されることを特徴とする、垂直発光ダイオードチップ。
- 請求項10記載の垂直発光ダイオードチップにおいて、該p型半導体層及び該n型半導体層は、窒化ガリウム(GaN)、窒化アルミニウムガリウム(AlGaN)、窒化インジウムガリウム(InGaN)、或いは窒化インジウムガリウムアルミニウム(AlInGaN)で組成された材料群より選択されることを特徴とする、垂直発光ダイオードチップ。
- 請求項10記載の垂直発光ダイオードチップにおいて、該n型半導体層の面積及び最大幅は該p型半導体層の面積及び最大幅より小さいことを特徴とする、垂直発光ダイオードチップ。
- 垂直発光ダイオードチップの製造方法において、
載置基板を提供する工程、
エピタキシャルスタックを該載置基板上に形成する工程、
複数の第1凹溝を形成し、これら第1凹溝は十字形のパターンを形成し並びに該エピタキシャルスタック及び該載置基板を貫通するものとし、これにより該載置基板上の複数のチップを規定する工程、
シード層を該エピタキシャルスタックの上及びこれら第1凹溝の内側に形成する工程、 反射層を該シード層の上に形成する工程、
第1面積を具えた第1金属を該シード層の上に形成する工程、
第2面積を具えた第2金属を、該第1金属の上に形成し、且つ該第2面積は該第1面積より小さくする工程、
該載置基板を除去する工程、
複数の第2凹溝を形成し、それは該エピタキシャルスタックを貫通し該シード層に至るものとする工程、
これらチップを分離し複数の垂直発光ダイオードチップとなす工程、
以上の工程を包含することを特徴とする、垂直発光ダイオードチップの製造方法。 - 請求項16記載の垂直発光ダイオードチップの製造方法において、該エピタキシャルスタックは、
該第1金属の該第1表面の上に位置するp型半導体層と、
該p型半導体層の上に位置し、発光に用いられる多重量子井戸層と、
該多重量子井戸層の上に位置するn型半導体層と、
を包含することを特徴とする、垂直発光ダイオードチップの製造方法。 - 請求項16記載の垂直発光ダイオードチップの製造方法において、該エピタキシャルスタックの側壁と該第1金属の間の角度は90度より大きいことを特徴とする、垂直発光ダイオードチップの製造方法。
- 請求項16記載の垂直発光ダイオードチップの製造方法において、該第1金属及び該第2金属は、銅(Cu)、ニッケル(Ni)、銀(Ag)、金(Au)、コバルト(Co)、銅−コバルト(Cu−Co)、ニッケル−コバルト(Ni−Co)、銅−モリブデン(Cu−Mo)、ニッケル/銅(Ni/Cu)、ニッケル/銅−モリブデン(Ni/Cu−Mo)からなる金属群或いはその合金の材料より選択されることを特徴とする、垂直発光ダイオードチップの製造方法。
- 請求項16記載の垂直発光ダイオードチップの製造方法において、これら第2凹溝を形成する工程は、マスクによるエッチング工程を包含することを特徴とする、垂直発光ダイオードチップの製造方法。
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