JP5848447B2 - 液晶組成物およびその液晶組成物を含む液晶ディスプレイ装置 - Google Patents

液晶組成物およびその液晶組成物を含む液晶ディスプレイ装置 Download PDF

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本発明は、AM(活性マトリクス)装置などに用いる液晶組成物、およびその液晶組成物を含有するAM装置に関し、特に、ネマチック相を有する組成物および正の誘電率異方性を有する組成物に関する。
液晶の表示モードに基づく液晶ディスプレイ装置に関して、その液晶ディスプレイ装置は、PC(相変化)、TN(ねじれネマチック)、STN(超ねじれネマチック)、ECB(電気制御複屈折)、OCB(光学補償ベンド)、IPS(面内スウィッチング)、VA(垂直アライメント)などに分類されうる。装置の走行モードに基いて、液晶ディスプレイ装置は、PM(単純マトリクス)型およびAM(活性マトリクス)型に分類され得る。PMは、静的型、多重型などに分類され、およびAMはTFT(薄膜トランジスタ)型、MIM(金属−絶縁体−金属)型などに分類される。TFT型は非晶ケイ素および多結晶ケイ素を含む。多結晶ケイ素は、その製造プロセスに基いて高温型および低温型に分類される。光源の型に基いて、液晶ディスプレイ装置は自然光を用いる反射型、バックグラウンドを用いる透過型、および自然光とバックグラウンドの両方を用いる反透過型に分類される。
液晶材料は、良好な化学安定性および熱的安定性ならびに電場および電磁放射線に対する良好な安定性を有することが必要とされる。加えて、液晶材料は、粘度が低く、高速応答時間、低スレショルド電圧および高いコントラスト比を有するべきである。液晶組成物の種々の性能指数は、良好な特徴を有するAM装置を得るために改良されている。液晶組成物の一つの性能とAM装置の対応する性能の関係は以下の表1にまとめられている。組成物の種々の性能指数は、市販のAM装置に基づきさらに説明されるだろう。ネマチック相の温度範囲は装置の動作温度範囲に関する。ネマチック相の望ましい上限温度は70℃以上であり、ネマチック相の望ましい下限温度は−10℃以下である。組成物の粘度は、装置の応答時間に関する。装置の高速応答時間は、装置において動画を映し出すのに望ましい。したがって、低粘度の組成物が望ましい。低温で低粘度の組成物がより望ましい。
Figure 0005848447
組成物の光学異方性は、装置のコントラスト比に関する。液晶組成物の光学異方性(Δn)の生産物価値(Δn*d)および液晶層の厚さ(d)は、固定値であると設定され得る。好適な生産物価値は、操作モードの種類に応じる。TN型である装置において、好適な値は、およそ0.45μmである。この場合、大きい光学異方性を有する組成物は、小さい厚さの液晶層を有する装置に好ましい。大きい誘電率異方性の組成物は、装置の低いスレショルド電圧、小さい電力消費量および大きいコントラスト比に寄与する。したがって、大きい誘電率異方性が望ましい。大きい比抵抗の組成物は、装置の大きい電圧保持比および大きいコントラスト比に寄与する。したがって、大きい比抵抗を有する組成物は、初期段階において室温および高温でも望ましい。室温および高温でも大きい比抵抗を有する組成物は、装置を長時間用いた後に望ましい。紫外線および熱への組成物の安定性は、液晶ディスプレイ装置の耐用年数に関する。安定性が高いときに、装置の耐用年数は長い。これらの特徴は液晶プロジェクター、液晶テレビなどに用いられるAM装置に望ましい。
望ましいAM装置は、広く有用な温度範囲、短い応答時間、大きいコントラスト比、低いスレショルド電圧、大きい電圧保持比、長い耐用年数、などを有することを特徴づけられる。まさに1ミリ秒の短い応答時間が望ましい。したがって、ネマチック相の高い上限温度、ネマチック相の低い下限温度、低粘度、大きい光学異方性、大きい誘電率異方性、大きい比抵抗、紫外光に対する高い安定性、熱に対する高い安定性、などの特徴を有する組成物がとりわけ望ましい。
1つの液晶化合物は、普通、その特徴などを提供するのは難しく、したがって、通常、様々な他の液晶化合物と混合して組成物を調製する。それゆえ、われわれは上述した利点を有する液晶組成物を必要とする。特許文献1で述べられている化合物は液晶組成物に配合され、より良好な特性となるだろう。当該化合物の構造は、以下のとおりである。
Figure 0005848447
しかしながら、その特許出願で述べられている化合物の誘電率異方性は、まだ十分大きくはない。
特許文献2において、その発明の構造は、以下のとおりである。
Figure 0005848447
しかしながら、その文献で述べられている化合物は、本発明のみの要求を満たすことはできない。
中国特許1823151(A)号 欧州特許出願公開第2292720(A1)号
本発明の目的の1つは、ネマチック相の高い上限温度、ネマチック相の低い下限温度、低粘度、大きい光学異方性、大きい誘電率異方性、大きい比抵抗、紫外光に対する高い安定性、熱に対する高い安定性、などの特徴の少なくとも1つの特徴を満たす液晶組成物を提供することである。本発明の別の目的は、上記特徴の少なくとも2つに関して適切にバランスのとれている液晶組成物を提供することである。本発明の別の目的は、そのような組成物を含む液晶ディスプレイ装置を提供することである。本発明の別の目的は、大きい光学異方性、大きい誘電率異方性、紫外光に対する高い安定性などの特徴を有する組成物を含むAM装置および、高速応答時間、大きい電圧保持比、大きいコントラスト比、高耐用性などの特徴を有するAM装置を提供することである。
本発明の1つの態様は、液晶組成物の総重量に基いて、以下を含む液晶組成物を提供する;
8重量%〜50重量%の一般式(I)で表される化合物、
Figure 0005848447
10重量%〜70重量%の一般式(II)で表される化合物、
Figure 0005848447
5重量%〜50重量%の一般式(III)で表される化合物、
Figure 0005848447
0重量%〜20重量%の一般式(IV)で表される化合物、
Figure 0005848447
0重量%〜15重量%の一般式(V)で表される化合物、
Figure 0005848447
式中、
は、C1−10アルキルであり、
、RおよびRは、独立に、C1−10アルキルまたはアルコキシ、C2−10アルケニルまたは任意の水素原子はフッ素原子で置換されているC2−10アルケニルであり、
、X、XおよびXは、独立に水素またはフッ素であり、ここでXおよびXは、同時に水素またはフッ素ではなく、
Zは、−CO−O−、−O−CO−、−CFO−、−OCF−、−CHO−、−OCH−、−CHCH−、−(CH−、−C−、−CHCF−、−CF=CF−、−CH=CH−または単結合であり、ならびに
m、nは、0または1であり、
、A、Aはtrans−1,4−シクロヘキシリデンまたは1,4−フェニレンであり、
、AおよびAは、独立に以下の基の一つを表し:
Figure 0005848447
、Rは、独立にC1−10アルキルまたはC2−10アルケニルであり、
、Rは、独立にC1−10アルキルであり、
、X、XおよびXは、独立に水素またはフッ素であり、ならびに、それぞれの場合、それぞれの場合、X、X、XおよびXの一つだけフッ素であり得、他はすべて水素であり得る。
本発明の別の態様は、本発明の液晶組成物を含む液晶ディスプレイ装置を提供する。
特に、本発明は、上記組成物を含有する液晶組成物および液晶ディスプレイ装置に関する。上記液晶組成物は、第一構成成分として式(I)で表される化合物の群から選択される少なくとも1つの化合物、第二構成成分として式(II)で表される化合物の群から選択される少なくとも1つの化合物、および第三構成成分として式(III)で表される化合物の群から選択される少なくとも1つの化合物を含み,および上記液晶組成物はネマチック相を有する。
Figure 0005848447
上記一般式(I),(II)および(III)によって表される化合物において、
は、C1−10アルキル、好ましくはC2−7アルキルであり、
、RおよびRは、独立に、C1−10アルキルまたはアルコキシ、C2−10アルケニルまたは任意の水素原子はフッ素原子で置換されているC2−10アルケニルであり、好ましくは、R、RおよびRは、独立に、C2−7アルキルまたはアルコキシ、C2−7アルケニルまたは任意の水素原子はフッ素原子で置換されているC2−7アルケニルであり、
、X、XおよびXは、独立に水素またはフッ素であり、ここでXおよびXは、同時に水素またはフッ素ではない、
Zは、−CO−O−、−O−CO−、−CFO−、−OCF−、−CHO−、−OCH−、−CHCH−、−(CH−、−C−、−CHCF−、−CF=CF−、−CH=CH−または単結合であり、好ましくは、−CFO−、−CHCH−または単結合であり、および
m、nは、0または1であり、ここでmは好ましくは0であり、
一般式(I)および(II)におけるA、A、Aは独立にtrans−1,4−シクロヘキシリデンまたは1,4−フェニレンであり、
一般式(III)におけるA、AおよびAは独立に以下の基から選択される。
Figure 0005848447
好ましくは、一般式(III)におけるA、AおよびAは独立に以下の基から選択される。
Figure 0005848447
本発明の液晶組成物において、一般式(I)で表されるタイプIの単量体は、極めて高い光学異方性を有し、可能な液晶組成物の屈折率を増加させる。アルケン鎖の末端は、2つのフッ素原子を含むので、より大きい誘電率異方性が成し遂げられ得、紫外光に対する安定性、熱に対する安定性などの機能は同時に増強される。
本発明の液晶組成物において、一般式(II)で表されるタイプIIの単量体は、低粘度および低融点を有し。生成物の応答時間を大きく改善し、混合された液晶に良好な混和性を与える。
本発明の液晶組成物において、一般式(III)で表されるタイプIIIの化合物は、高極性を有し、可能な液晶組成物のスレショルド電圧を低下させる。
本発明の液晶組成物は、1以上の一般式(I)に係るタイプIの化合物、1以上の一般式(II)に係るタイプIIの化合物、1以上の一般式(III)に係るタイプIIIの化合物を含む。
本発明は、本発明の液晶組成物の第四構成成分として一般式(IV)で表される1以上の化合物をさらに含むことができる。
Figure 0005848447
式中、R、Rは、独立にC1−10アルキル、C2−10アルケニル、好ましくは、C2−7 アルキルまたはC2−7アルケニルである。
一般式(IV)によって表されるタイプIVの化合物は、より低粘度を有し、液晶組成物の動作温度の上限を特定の温度に上昇しうる。
本発明は、第五構成成分として一般式(V)で表される1以上の化合物をさらに含むことができる。
Figure 0005848447
式中、R、Rは、独立にC1−10アルキル、好ましくはC2−7アルキルである。X、X、XおよびXは、独立に水素またはフッ素であり、それぞれの場合、X、X、XおよびXの一つだけフッ素であり得、他はすべて水素であり得る
一般式(V)によって表されるタイプVの化合物は、極めて高い透明点を有し、液晶組成物の動作温度の上限を大きく上昇し得る。
本発明の上記ネマチック液晶組成物の構成成分の比は、それぞれ、一般式(I)で表される化合物は8%〜50%、一般式(II)で表される化合物は10%〜70%、一般式(III)で表される化合物は5%〜50%、一般式(IV)で表される化合物は0%〜20%、一般式(V)で表される化合物は0%〜15%である。好ましくは、上記液晶組成物は、10%〜40%の一般式(I)で表される化合物、15%〜65%の一般式(II)で表される化合物、6%〜40%の一般式(III)で表される化合物、0%〜15%の一般式(IV)で表される化合物、および0%〜10%の一般式(V)で表される化合物を含む。
本発明は、以下に詳述される実施形態を組み合わせて説明される。以下の実施例は本発明の最適条件であり、本発明を説明するためにだけ用いられ、本発明を限定するものではないことに留意されたい。本発明の概念の範囲内での他の組み合わせおよび種々の変更は本発明の主題および範囲から逸脱せずに可能である。
式(I−2)の化合物の合成経路である。 上記合成で得られた式(I−2)の化合物の質量スペクトルである。 式(I−3)の化合物の質量スペクトルである。
表現の便宜のため、以下の実施例における液晶化合物の単位構造を表2に挙げる記号により表す。
Figure 0005848447
一例として、以下の構造式の化合物を挙げる。
Figure 0005848447
表1に挙げる記号を用いて表す場合、この構造式はnCCGFと表され、式中の記号におけるnはアルキル基の炭素原子数を表し、例えば、nは「3」であることは、アルキルが−Cであることを表し、記号におけるCはシクロヘキシルを表す。
以下の実施例における試験物質の短縮記号をそれぞれ以下に示す:
TN I(℃) 透明点(ネマチック−等方性相転移温度)
粘度 フロー粘度(mm・s−1、20℃(特に指定された場合を除く))
Δn 光学異方性(589nm、20℃)
Δε 誘電率異方性(1KHz、25℃)
VHR−1 電圧保持比(25℃、開始)
VHR−2 電圧保持比(25℃、UV照射)
VHR−3 電圧保持比(25℃、高温焼成)
ここで、フロー粘度をコーンプレート粘度計により分析した。屈折率異方性を20℃でナトリウムランプ(589nm)光源下でアッベ屈折計を用いて分析し、得た。誘電被検セルはタイプTN90であり、セルギャップは7μmだった。VHRを25℃でTOYO6254装置を用いて分析し、得た。
詳細な実施形態
以下の実施例において用いられる成分は、すべて周知の方法に基いて本願の発明者により合成されている。これらの合成技術は、通常のものであり、分析により、得られた液晶組成物は電子用化合物の基準を満たす。
以下の合成経路は、化合物II〜Vの説明のための単に一つの方法であり、他の公知の合成方法もこれらの化合物を得るために用いられうる。
一般式IIで表される一つの化合物の簡略な合成経路は以下のとおりである。
Figure 0005848447
一般式IIIで表される一つの化合物の簡略な合成経路は以下のとおりである。
Figure 0005848447
一般式IVで表される一つの化合物の簡略な合成経路は以下のとおりである。
Figure 0005848447
一般式Vで表される一つの化合物の簡略な合成経路は以下のとおりである。
Figure 0005848447
液晶組成物を、以下の比較例および実施例に具体的に示される組成物の処方に従って調製する。液晶組成物の調製は、加熱、超音波、懸濁液などの手段を用いた特定の処方に従って混合することにより調製するなどの、当該技術分野における従来の方法にしたがって進む。
調製実施例1:式(I−2)の化合物の調製
式(I−2)の化合物の合成経路を図1Aに示す。その中の化合物Aとして示される化合物は、本発明の式(I−2)の化合物である。調製プロセスは以下のとおりである。
1.A1の合成
m−フルオロフェニルボロン酸70g、ブロモ−4−エチルベンゼン93g、トルエン1.6L、エタノール0.8L、水0.8Lおよび炭酸ナトリウム212gを5Lの三つ口フラスコに添加する。窒素雰囲気下で、Pd(PPh 3gを添加し、当該混合物を加熱して6時間還流させる。反応完了後、混合物を通常の後処理する。75gの無色の液体を、減圧蒸留精製をして得る。GC≧99%、収率:75%。
2.A2の合成
A1 20g、無水テトラヒドロフラン200mLおよびカリウムt−ブトキシド10gを500mLの三つ口フラスコに添加する。窒素雰囲気下かつ温度を−100℃に低下して、50mLのn−ブチルリチウム溶液(2.4mol/Lのn−ヘキサン溶液)を滴下して添加する。滴下を完了して、当該混合物を、温度を−100℃に制御して2時間撹拌する。その後、ホウ酸トリイソブチル30gを滴下して添加し、温度を室温まで自然昇温させる。混合物を後処理し、石油エーテルを用いて打撃を与えながら精製をして、18gの単黄色の固体を得る。収率:74%。
3.A3の合成
(メトキシメチル)トリフェニルホスホニウム塩化物8.5kgおよび無水テトラヒドロフラン30Lを50Lの反応容器に添加する。窒素雰囲気下かつ温度を−5℃に低下して、カリウムt−ブトキシド3.2kgをバッチ(各バッチの温度を5度未満に制御する)に添加し、30分間撹拌する。p−ブロモベンズアルデヒド3.5kgおよび無水テトラヒドロフラン10Lの混合物を添加する。滴下プロセスの間、温度を10℃未満に制御する。滴下を完了後、温度を室温まで自然昇温させる。撹拌をさらに6時間続ける。混合物を通常の後処理する。カラムクロマトグラフィ精製により、4.1kgの黄色液体を得る。GC:91%(cis−trans混合物)、収率:89%。
4.A4の合成
A3 200g、テトラヒドロフラン600mLおよび塩酸(10%)600mLを2Lの三つ口フラスコに添加する。当該混合物が軽く還流するまで加熱し、4.5時間撹拌する。反応の完了後、混合物を通常の後処理する。溶媒を除去して167gの粗生成物を得る。粗生成物を生成する必要はなく、次の工程に直接用いる。GC≧83%、収率:89%。
5.A5の合成
(メトキシメチル)トリフェニルホスホニウム塩化物343gおよび無水テトラヒドロフラン2Lを5Lの三つ口フラスコに添加する。窒素雰囲気下かつ温度を−5℃に低下して、カリウムt−ブトキシド123gをバッチ(各バッチの温度を5度未満に制御する)に添加する。30分間の撹拌後、事前段階において得た167gのA4と無水テトラヒドロフラン500mLとの混合物を滴下して加える。滴下プロセスの間、10℃未満に制御する。滴下を完了後、温度を室温まで自然昇温させる。撹拌をさらに6時間続ける。混合物を通常の後処理する。180gの赤褐色の液体を得、それを精製する必要はなく、次の工程に直接用いる。GC:77%(cis−transの混合物)、収率:94%。
6.A6の合成
A2 18g、A5 17g、トルエン240mL、エタノール120mL、水120mLおよび炭酸ナトリウム30gを1Lの三つ口フラスコに添加する。窒素雰囲気下で、Pd(PPh 0.4gを添加し、当該混合物を加熱して6時間還流させる。反応完了後、混合物を通常の後処理する。12gの白色固体をカラムクロマトグラフィおよびエタノールを用いた再結晶精製により得る。GC≧85%(cis−trans混合物)、収率:47%。
7.A7の合成
A6 12g、テトラヒドロフラン25mLおよび塩酸(10%)25mLを250mLの三つ口フラスコに添加する。当該混合物が軽く還流するまで加熱し、4.5時間撹拌する。反応の完了後、混合物を通常の後処理する。5.5gの白色固体を石油エーテル(90−120℃)を用いて再結晶により得る。GC≧97%、収率:48%。
8.Aの合成
A7 5.5g、トリフェニルホスフィン9g、クロロジフルオロ酢酸ナトリウム10gおよびDMF100mLを250mLの三つ口フラスコに添加し、90℃に加熱して、6時間反応させる。反応の完了後、混合物を通常の後処理する。3.5gの白色固体をカラムクロマトグラフィ精製により得る。GC≧99%、収率:58%、相転移:C39N126I。化合物A(式(I−2)の化合物)の質量スペクトルを図1Bに示す。
調製実施例2:式(I−3)の化合物の合成
化合物Bとして示される化合物は、本発明の式(I−3)の化合物である。調製プロセスは以下のとおりである。
Figure 0005848447
原料として1−ブロモ−4−プロピルベンゼンを用い、白色固体の化合物Bを化合物Aの調製方法を用いて得ることができる。相転移:C44S128N149I。化合物B(式(I−3)の化合物)の質量スペクトルを図2に示す。
調製実施例3:式(I−1)の化合物の合成
化合物Cとして示される化合物は、本発明の式(I−1)の化合物である。調製プロセスは以下のとおりである。
Figure 0005848447
原料としてパラブロモトルエンを用い、白色固体の化合物Cを化合物Aの調製方法を用いて得ることができる。相転移:C66N151I
比較例
比較例の液晶組成物の成分およびそれらの重量比を表3に示した。比較例の液晶組成物を液晶ディスプレイ装置の2つの基板の間を満たし、その特性の試験をした。試験結果も表3に示した。
Figure 0005848447
実施例1
本発明の液晶組成物を表4に示す化合物およびそれらの重量比に従って調製し、液晶ディスプレイ装置の2つの基板の間に満たし、その性能を試験した。試験データも表4に示した。
Figure 0005848447
実施例2
本発明の液晶組成物を表5に示す化合物およびそれらの重量比に従って調製し、液晶ディスプレイ装置の2つの基板の間に満たし、その性能を試験した。試験データも表5に示した。
Figure 0005848447
実施例1および実施例2から、粘度は有意に増加せず、当該液晶組成物の屈折率は明らかに増加し、これにより、より薄いセルをより早い応答速度を達成するために使用することができるということがわかる。
実施例3
本発明の液晶組成物を表6に示す化合物およびそれらの重量比に従って調製し、液晶ディスプレイ装置の2つの基板の間に満たし、その性能を試験した。試験データも表6に示した。
Figure 0005848447
表7は2つの液晶組成物の電圧保持比(VHR)データを提供する。
Figure 0005848447
上記のデータによれば、初期の2つの化合物のVHRは似ているということに基いて、UVおよび高温による変性後、末端基に2つのフッ素を有する化合物はより信頼性が高いということがわかる。
本発明の優位点は、以下の特徴のうちの少なくとも1つを有する液晶組成物を提供することである:ネマチック相の高い上限温度、ネマチック相の低い下限温度、低粘度、大きい光学異方性、大きい誘電率異方性、大きい電気抵抗率、紫外光に対する高い安定性、熱に対する高い安定性など。それと同時に、上記液晶組成物を含有する液晶ディスプレイ装置が提供される。




Claims (2)

  1. 液晶組成物の総重量に基いて、以下を含む液晶組成物
    式I−1(化合物I)7重量%
    Figure 0005848447
    式I−2(化合物I)7重量%
    Figure 0005848447
    式I−3(化合物I)7重量%
    Figure 0005848447
    式II−1(化合物II)46重量%
    Figure 0005848447
    式II−2(化合物II)5重量%
    Figure 0005848447
    式III−1(化合物III)6重量%
    Figure 0005848447
    式III−2(化合物III)6重量%
    Figure 0005848447
    式III−3(化合物III)6重量%
    Figure 0005848447
    式III−4(化合物III)5重量%
    Figure 0005848447
    式III−5(化合物III)5重量%
    Figure 0005848447
    または、液晶組成物の総重量に基いて、以下を含む液晶組成物;
    式I−1(化合物I)6重量%
    Figure 0005848447
    式I−2(化合物I)6重量%
    Figure 0005848447
    式I−3(化合物I)7重量%
    Figure 0005848447
    式II−1(化合物II)46重量%
    Figure 0005848447
    式II−2(化合物II)5重量%
    Figure 0005848447
    式III−1(化合物III)6重量%
    Figure 0005848447
    式III−2(化合物III)6重量%
    Figure 0005848447
    式III−3(化合物III)6重量%
    Figure 0005848447
    式III−6(化合物III)6重量%
    Figure 0005848447
    式III−7(化合物III)6重量%
    Figure 0005848447
    または、液晶組成物の総重量に基いて、以下を含む液晶組成物、
    式I−1(化合物I)6重量%
    Figure 0005848447
    式I−2(化合物I)6重量%
    Figure 0005848447
    式I−3(化合物I)7重量%
    Figure 0005848447
    式II−1(化合物II)47重量%
    Figure 0005848447
    式II−3(化合物II)6重量%
    Figure 0005848447
    式III−1(化合物III)4重量%
    Figure 0005848447
    式III−2(化合物III)4重量%
    Figure 0005848447
    式III−6(化合物III)5重量%
    Figure 0005848447
    式III−7(化合物III)6重量%
    Figure 0005848447
    式III−8(化合物III)2重量%
    Figure 0005848447
    式IV−1(化合物IV)4重量%
    Figure 0005848447
    式V−1(化合物V)3重量%。
    Figure 0005848447
  2. 請求項に記載の液晶組成物を含む液晶ディスプレイ装置。
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