JP5680381B2 - 液晶化合物、その製造方法、液晶組成物および液晶電気光学素子 - Google Patents
液晶化合物、その製造方法、液晶組成物および液晶電気光学素子 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5680381B2 JP5680381B2 JP2010258633A JP2010258633A JP5680381B2 JP 5680381 B2 JP5680381 B2 JP 5680381B2 JP 2010258633 A JP2010258633 A JP 2010258633A JP 2010258633 A JP2010258633 A JP 2010258633A JP 5680381 B2 JP5680381 B2 JP 5680381B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- liquid crystal
- compound
- carbon atoms
- compound represented
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims description 139
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 title claims description 86
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 38
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 22
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 39
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 23
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 21
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 20
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 17
- IUHFWCGCSVTMPG-UHFFFAOYSA-N [C].[C] Chemical group [C].[C] IUHFWCGCSVTMPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 125000001140 1,4-phenylene group Chemical group [H]C1=C([H])C([*:2])=C([H])C([H])=C1[*:1] 0.000 claims description 12
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 11
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims description 10
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 9
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 125000005407 trans-1,4-cyclohexylene group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])[C@]([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])[C@@]1([H])[*:1] 0.000 claims description 7
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 6
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 claims description 2
- FFBHFFJDDLITSX-UHFFFAOYSA-N benzyl N-[2-hydroxy-4-(3-oxomorpholin-4-yl)phenyl]carbamate Chemical compound OC1=C(NC(=O)OCC2=CC=CC=C2)C=CC(=C1)N1CCOCC1=O FFBHFFJDDLITSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 230000001548 androgenic effect Effects 0.000 claims 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims 1
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 54
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 45
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 24
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 11
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 9
- JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N benzonitrile Chemical compound N#CC1=CC=CC=C1 JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 9
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 8
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 8
- -1 stilbene compound Chemical class 0.000 description 8
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 8
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 8
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 7
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 6
- 239000002585 base Substances 0.000 description 6
- 238000013213 extrapolation Methods 0.000 description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 6
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- 125000002015 acyclic group Chemical group 0.000 description 5
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 5
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 5
- 210000002858 crystal cell Anatomy 0.000 description 5
- 125000004428 fluoroalkoxy group Chemical group 0.000 description 5
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 5
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 5
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 5
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 5
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 4
- WADSJYLPJPTMLN-UHFFFAOYSA-N 3-(cycloundecen-1-yl)-1,2-diazacycloundec-2-ene Chemical compound C1CCCCCCCCC=C1C1=NNCCCCCCCC1 WADSJYLPJPTMLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 4
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- 238000002290 gas chromatography-mass spectrometry Methods 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 4
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 4
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 125000004450 alkenylene group Chemical group 0.000 description 3
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 3
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 3
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 239000010779 crude oil Substances 0.000 description 3
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 3
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 3
- 238000006317 isomerization reaction Methods 0.000 description 3
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 3
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 3
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N palladium Substances [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000819 phase cycle Methods 0.000 description 3
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 3
- IUBQJLUDMLPAGT-UHFFFAOYSA-N potassium bis(trimethylsilyl)amide Chemical compound C[Si](C)(C)N([K])[Si](C)(C)C IUBQJLUDMLPAGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 3
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 3
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 description 3
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 3
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 3
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005657 1,3-cyclobutylene group Chemical group [H]C1([H])C([H])([*:1])C([H])([H])C1([H])[*:2] 0.000 description 2
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GVNVAWHJIKLAGL-UHFFFAOYSA-N 2-(cyclohexen-1-yl)cyclohexan-1-one Chemical compound O=C1CCCCC1C1=CCCCC1 GVNVAWHJIKLAGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005653 3,5-difluoro-1,4-phenylene group Chemical group [H]C1=C(F)C([*:2])=C(F)C([H])=C1[*:1] 0.000 description 2
- 125000005451 3-fluoro-1,4-phenylene group Chemical group [H]C1=C([*:1])C([H])=C(F)C([*:2])=C1[H] 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 2
- 101150065749 Churc1 gene Proteins 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 102100038239 Protein Churchill Human genes 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N Sodium methoxide Chemical compound [Na+].[O-]C WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PJANXHGTPQOBST-VAWYXSNFSA-N Stilbene Natural products C=1C=CC=CC=1/C=C/C1=CC=CC=C1 PJANXHGTPQOBST-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 2
- 125000004419 alkynylene group Chemical group 0.000 description 2
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 2
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical class OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 2
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 2
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 2
- 239000005262 ferroelectric liquid crystals (FLCs) Substances 0.000 description 2
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 2
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 2
- OKJPEAGHQZHRQV-UHFFFAOYSA-N iodoform Chemical compound IC(I)I OKJPEAGHQZHRQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- ZCSHNCUQKCANBX-UHFFFAOYSA-N lithium diisopropylamide Chemical compound [Li+].CC(C)[N-]C(C)C ZCSHNCUQKCANBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 2
- 125000005702 oxyalkylene group Chemical group 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Substances [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000007342 radical addition reaction Methods 0.000 description 2
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 2
- 235000021286 stilbenes Nutrition 0.000 description 2
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UVFFOABHOIMLNB-UHFFFAOYSA-N 1-ethynyl-4-propylbenzene Chemical group CCCC1=CC=C(C#C)C=C1 UVFFOABHOIMLNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005450 2,3-difluoro-1,4-phenylene group Chemical group [H]C1=C([*:2])C(F)=C(F)C([*:1])=C1[H] 0.000 description 1
- RCEJCSULJQNRQQ-UHFFFAOYSA-N 2-methylbutanenitrile Chemical compound CCC(C)C#N RCEJCSULJQNRQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDTMFDGELKWGFT-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropan-2-olate Chemical compound CC(C)(C)[O-] SDTMFDGELKWGFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NFPBWZOKGZKYRE-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-ylperoxypropane Chemical compound CC(C)OOC(C)C NFPBWZOKGZKYRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NSGDYZCDUPSTQT-UHFFFAOYSA-N N-[5-bromo-1-[(4-fluorophenyl)methyl]-4-methyl-2-oxopyridin-3-yl]cycloheptanecarboxamide Chemical compound Cc1c(Br)cn(Cc2ccc(F)cc2)c(=O)c1NC(=O)C1CCCCCC1 NSGDYZCDUPSTQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KYIKRXIYLAGAKQ-UHFFFAOYSA-N abcn Chemical compound C1CCCCC1(C#N)N=NC1(C#N)CCCCC1 KYIKRXIYLAGAKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005456 alcohol based solvent Substances 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000004183 alkoxy alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006350 alkyl thio alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 125000000751 azo group Chemical group [*]N=N[*] 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- UORVGPXVDQYIDP-BJUDXGSMSA-N borane Chemical class [10BH3] UORVGPXVDQYIDP-BJUDXGSMSA-N 0.000 description 1
- UWTDFICHZKXYAC-UHFFFAOYSA-N boron;oxolane Chemical compound [B].C1CCOC1 UWTDFICHZKXYAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004965 chloroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003098 cholesteric effect Effects 0.000 description 1
- 150000001845 chromium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000007697 cis-trans-isomerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 239000013065 commercial product Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 150000001879 copper Chemical class 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 238000006114 decarboxylation reaction Methods 0.000 description 1
- LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N di-tert-butyl peroxide Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)C LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000532 dioxanyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 230000004313 glare Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 230000026045 iodination Effects 0.000 description 1
- 238000006192 iodination reaction Methods 0.000 description 1
- 229960004592 isopropanol Drugs 0.000 description 1
- 239000011133 lead Substances 0.000 description 1
- YNESATAKKCNGOF-UHFFFAOYSA-N lithium bis(trimethylsilyl)amide Chemical compound [Li+].C[Si](C)(C)[N-][Si](C)(C)C YNESATAKKCNGOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UBJFKNSINUCEAL-UHFFFAOYSA-N lithium;2-methylpropane Chemical compound [Li+].C[C-](C)C UBJFKNSINUCEAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920001690 polydopamine Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000714 pyrimidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 description 1
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L sodium thiosulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=S AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000019345 sodium thiosulphate Nutrition 0.000 description 1
- PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N stilbene Chemical group C=1C=CC=CC=1C=CC1=CC=CC=C1 PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LALRXNPLTWZJIJ-UHFFFAOYSA-N triethylborane Chemical compound CCB(CC)CC LALRXNPLTWZJIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000876 trifluoromethoxy group Chemical group FC(F)(F)O* 0.000 description 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Liquid Crystal Substances (AREA)
Description
本発明は、新規な含フッ素液晶化合物、該化合物を含有する液晶組成物、該液晶組成物を含有する液晶電気光学素子、および該化合物の製造方法に関する。
液晶素子は携帯電話やＰＤＡのような携帯機器、複写機やパソコンモニタのようなＯＡ機器用表示装置、液晶テレビなどの家電製品用表示装置をはじめ、時計、電卓、測定器、自動車用計器、カメラなどの用途に使用されており、広い動作温度範囲、低動作電圧、高速応答性、化学的安定性等の種々の性能が要求されている。
このような液晶素子には液晶相を示す材料が使用されているが、現在のところ、これら全ての特性を単独の化合物で満たすわけではなく、一つまたは二つ以上の特性の優れた複数の液晶化合物や非液晶性化合物を混合して液晶組成物として要求性能を満たしている。
液晶素子の分野において、液晶組成物に使用される化合物に要求される種々の特性の中でも、他の液晶材料または非液晶材料との相溶性に優れ、化学的にも安定であり、かつ液晶素子に用いた場合に広い温度範囲で高速応答性に優れ低電圧駆動できる性質を有する化合物を提供することは重要な課題である。
このような液晶素子には液晶相を示す材料が使用されているが、現在のところ、これら全ての特性を単独の化合物で満たすわけではなく、一つまたは二つ以上の特性の優れた複数の液晶化合物や非液晶性化合物を混合して液晶組成物として要求性能を満たしている。
液晶素子の分野において、液晶組成物に使用される化合物に要求される種々の特性の中でも、他の液晶材料または非液晶材料との相溶性に優れ、化学的にも安定であり、かつ液晶素子に用いた場合に広い温度範囲で高速応答性に優れ低電圧駆動できる性質を有する化合物を提供することは重要な課題である。
このような課題の解決策として、例えば、−ＣＦ＝ＣＦ−連結基を有するスチルベン化合物などが報告されている（特許文献１）。この化合物は粘性が低く液晶表示素子に用いた場合は応答速度が速いという特長が有るが、光に対して不安定であり紫外線カットフィルターなどを併用しなければならないという問題が有る。
また、−ＣＨ＝ＣＨＣＨ２ＣＨ２−連結基を有する化合物なども報告されている（特許文献２、特許文献３）。この化合物も粘性が低いなどの特長を有するとされているが、−ＣＨ＝ＣＨ−部位を有するため、ｃｉｓ−ｔｒａｎｓの異性化が生じやすいと考えられる。
また、−ＣＨ＝ＣＨＣＨ２ＣＨ２−連結基を有する化合物なども報告されている（特許文献２、特許文献３）。この化合物も粘性が低いなどの特長を有するとされているが、−ＣＨ＝ＣＨ−部位を有するため、ｃｉｓ−ｔｒａｎｓの異性化が生じやすいと考えられる。
このように、液晶組成物などに用いられる化合物は、特定の性能を向上させると他の性能が犠牲になることが多いため、特定の性能を向上させつつ他の性能が大幅に低下しない化合物の開発が望まれている。
本発明は、液晶材料として有用な、新規な含フッ素液晶化合物を提供することを目的とする。また、該化合物を含有する液晶組成物および該液晶組成物を含有する液晶電気光学素子を提供することも目的とする。さらに、該化合物の工業的に利用可能な製造方法を提供することも目的とする。
本明細書においては、式（１）で表される化合物を化合物（１）と記し、他の式で表される化合物も同様に記す。また、本明細書において、特に断りのない限り、式（１）におけるＲ1に近いほうを常に１位とする。
本発明は、上記の目的を達成するため、化合物（１）を提供する。
Ｒ1-(Ａ1-Ｚ1)ｍ-(Ａ２-Ｚ２)ｎ-(Ａ３-Ｚ３)ｏ-Ａ４-ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ-Ａ５-(Ｚ４-Ａ６)ｐ-(Ｚ５-Ａ７)ｑ-(Ｚ６-Ａ８)ｒ-Ｒ２ （１）
上記式中の記号は以下の意味を示す。
Ｒ１、Ｒ２：相互に独立して、水素原子、ハロゲン原子、または炭素数１〜１０の一価の非環式脂肪族炭化水素基。ただし、該脂肪族炭化水素基中の１以上の水素原子がハロゲン原子で置換されていてもよく、該脂肪族炭化水素基中の炭素−炭素原子間または該脂肪族炭化水素基の結合末端に、−Ｏ−または−Ｓ−が挿入されていてもよい。
Ａ1、Ａ２、Ａ３、Ａ４、Ａ５、Ａ６、Ａ７、Ａ８：相互に独立して、トランス−１，４−シクロへキシレン基、１，４−シクロヘキセニレン基、１，３−シクロブチレン基、１，２−シクロプロピレン基、ナフタレン−２，６−ジイル基、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、または１，４−フェニレン基。該基中の１つ以上の水素原子はハロゲン原子で置換されていてもよく、該基中に存在する１つまたは２つの＝ＣＨ−基は窒素原子で置換されていてもよく、１つまたは２つの−ＣＨ２−基は−Ｏ−または−Ｓ−で置換されていてもよい。
Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３、Ｚ４、Ｚ５、Ｚ６：相互に独立して、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯＯ−または炭素数１〜４の二価の非環式脂肪族炭化水素基。ただし、該脂肪族炭化水素基中の１つ以上の水素原子がハロゲン原子で置換されていてもよく、該脂肪族炭化水素基中の炭素−炭素原子間または該脂肪族炭化水素基の結合末端に、−Ｏ−または−Ｓ−が挿入されていてもよい。
ｍ、ｎ、ｏ、ｐ、ｑ、ｒ：相互に独立して０または１。ただし、ｍ＋ｎ＋ｏ＋ｐ＋ｑ＋ｒは３以下である。
なお、化合物全体中で上記−Ｏ−または−Ｓ−が連続することはない。
Ｒ1-(Ａ1-Ｚ1)ｍ-(Ａ２-Ｚ２)ｎ-(Ａ３-Ｚ３)ｏ-Ａ４-ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ-Ａ５-(Ｚ４-Ａ６)ｐ-(Ｚ５-Ａ７)ｑ-(Ｚ６-Ａ８)ｒ-Ｒ２ （１）
上記式中の記号は以下の意味を示す。
Ｒ１、Ｒ２：相互に独立して、水素原子、ハロゲン原子、または炭素数１〜１０の一価の非環式脂肪族炭化水素基。ただし、該脂肪族炭化水素基中の１以上の水素原子がハロゲン原子で置換されていてもよく、該脂肪族炭化水素基中の炭素−炭素原子間または該脂肪族炭化水素基の結合末端に、−Ｏ−または−Ｓ−が挿入されていてもよい。
Ａ1、Ａ２、Ａ３、Ａ４、Ａ５、Ａ６、Ａ７、Ａ８：相互に独立して、トランス−１，４−シクロへキシレン基、１，４−シクロヘキセニレン基、１，３−シクロブチレン基、１，２−シクロプロピレン基、ナフタレン−２，６−ジイル基、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、または１，４−フェニレン基。該基中の１つ以上の水素原子はハロゲン原子で置換されていてもよく、該基中に存在する１つまたは２つの＝ＣＨ−基は窒素原子で置換されていてもよく、１つまたは２つの−ＣＨ２−基は−Ｏ−または−Ｓ−で置換されていてもよい。
Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３、Ｚ４、Ｚ５、Ｚ６：相互に独立して、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯＯ−または炭素数１〜４の二価の非環式脂肪族炭化水素基。ただし、該脂肪族炭化水素基中の１つ以上の水素原子がハロゲン原子で置換されていてもよく、該脂肪族炭化水素基中の炭素−炭素原子間または該脂肪族炭化水素基の結合末端に、−Ｏ−または−Ｓ−が挿入されていてもよい。
ｍ、ｎ、ｏ、ｐ、ｑ、ｒ：相互に独立して０または１。ただし、ｍ＋ｎ＋ｏ＋ｐ＋ｑ＋ｒは３以下である。
なお、化合物全体中で上記−Ｏ−または−Ｓ−が連続することはない。
前記化合物（１）は、好ましくは下記式（１−１）で示される。
Ｒ１１-(Ａ１１-Ｚ１１)ｍ-(Ａ２１-Ｚ２１)ｎ-(Ａ３１-Ｚ３１)ｏ-Ａ４１-ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ-Ａ５１-(Ｚ４１-Ａ６１)ｐ-(Ｚ５１-Ａ７１)ｑ-(Ｚ６１-Ａ８１)ｒ-Ｒ２１（１−１）
上記式（１−１）中の記号は以下の意味を示す。
Ｒ１１、Ｒ２１：相互に独立して、ハロゲン原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数２〜１０のアルケニル基、または炭素数２〜１０のアルキニル基。ただし、基中の１つ以上の水素原子がフッ素原子で置換されていてもよく、基中の炭素−炭素原子間または基の結合末端に−Ｏ−または−Ｓ−が挿入されていてもよい。
Ａ１１、Ａ２１、Ａ３１、Ａ４１、Ａ５１、Ａ６１、Ａ７１、Ａ８１：相互に独立して、トランス−１，４−シクロヘキシレン基または１，４−フェニレン基。ただし該１，４−フェニレン基中に存在する水素原子の１つ以上がフッ素原子に置換されていてもよい。
Ｚ１１、Ｚ２１、Ｚ３１、Ｚ４１、Ｚ５１、Ｚ６１：相互に独立して、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、または炭素数１〜４のアルキレン基。ただし、該基中の１つ以上の水素原子がハロゲン原子で置換されていてもよく、該基中の炭素−炭素原子間または該基の結合末端に、−Ｏ−または−Ｓ−が挿入されていてもよい。
ｍ、ｎ、ｏ、ｐ、ｑおよびｒは前記と同じ意味を示す。
Ｒ１１-(Ａ１１-Ｚ１１)ｍ-(Ａ２１-Ｚ２１)ｎ-(Ａ３１-Ｚ３１)ｏ-Ａ４１-ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ-Ａ５１-(Ｚ４１-Ａ６１)ｐ-(Ｚ５１-Ａ７１)ｑ-(Ｚ６１-Ａ８１)ｒ-Ｒ２１（１−１）
上記式（１−１）中の記号は以下の意味を示す。
Ｒ１１、Ｒ２１：相互に独立して、ハロゲン原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数２〜１０のアルケニル基、または炭素数２〜１０のアルキニル基。ただし、基中の１つ以上の水素原子がフッ素原子で置換されていてもよく、基中の炭素−炭素原子間または基の結合末端に−Ｏ−または−Ｓ−が挿入されていてもよい。
Ａ１１、Ａ２１、Ａ３１、Ａ４１、Ａ５１、Ａ６１、Ａ７１、Ａ８１：相互に独立して、トランス−１，４−シクロヘキシレン基または１，４−フェニレン基。ただし該１，４−フェニレン基中に存在する水素原子の１つ以上がフッ素原子に置換されていてもよい。
Ｚ１１、Ｚ２１、Ｚ３１、Ｚ４１、Ｚ５１、Ｚ６１：相互に独立して、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、または炭素数１〜４のアルキレン基。ただし、該基中の１つ以上の水素原子がハロゲン原子で置換されていてもよく、該基中の炭素−炭素原子間または該基の結合末端に、−Ｏ−または−Ｓ−が挿入されていてもよい。
ｍ、ｎ、ｏ、ｐ、ｑおよびｒは前記と同じ意味を示す。
また、本発明は、下記工程１および工程２を含む、上記化合物（１）の製造方法を提供する。
工程１：下記化合物（２）と下記化合物（３）との付加反応により、下記化合物（４）を製造する工程。
工程２：下記化合物（４）を塩基の存在下で脱ハロゲン化水素して、上記化合物（１）を得る工程。
Ｒ1-(Ａ1-Ｚ1)ｍ-(Ａ２-Ｚ２)ｎ-(Ａ３-Ｚ３)ｏ-Ａ４-ＣＦ２ＣＦ２Ｘ１（２）
ＣＨ２＝ＣＨ-Ａ５-(Ｚ４-Ａ６)ｐ-(Ｚ５-Ａ７)ｑ-(Ｚ６-Ａ８)ｒ-Ｒ２（３）
Ｒ1-(Ａ1-Ｚ1)ｍ-(Ａ２-Ｚ２)ｎ-(Ａ３-Ｚ３)ｏ-Ａ４-ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＣＨＸ１-Ａ５-(Ｚ４-Ａ６)ｐ-(Ｚ５-Ａ７)ｑ-(Ｚ６-Ａ８)ｒ-Ｒ２（４）
上記各式中、Ｘ１は塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子であり、Ｒ１、Ｒ２、Ａ１、Ａ２、Ａ３、Ａ４、Ａ５、Ａ６、Ａ７、Ａ８、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３、Ｚ４、Ｚ５、Ｚ６、ｍ、ｎ、ｏ、ｐ、ｑ、ｒは前記と同じ意味を示す。
工程１：下記化合物（２）と下記化合物（３）との付加反応により、下記化合物（４）を製造する工程。
工程２：下記化合物（４）を塩基の存在下で脱ハロゲン化水素して、上記化合物（１）を得る工程。
Ｒ1-(Ａ1-Ｚ1)ｍ-(Ａ２-Ｚ２)ｎ-(Ａ３-Ｚ３)ｏ-Ａ４-ＣＦ２ＣＦ２Ｘ１（２）
ＣＨ２＝ＣＨ-Ａ５-(Ｚ４-Ａ６)ｐ-(Ｚ５-Ａ７)ｑ-(Ｚ６-Ａ８)ｒ-Ｒ２（３）
Ｒ1-(Ａ1-Ｚ1)ｍ-(Ａ２-Ｚ２)ｎ-(Ａ３-Ｚ３)ｏ-Ａ４-ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＣＨＸ１-Ａ５-(Ｚ４-Ａ６)ｐ-(Ｚ５-Ａ７)ｑ-(Ｚ６-Ａ８)ｒ-Ｒ２（４）
上記各式中、Ｘ１は塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子であり、Ｒ１、Ｒ２、Ａ１、Ａ２、Ａ３、Ａ４、Ａ５、Ａ６、Ａ７、Ａ８、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３、Ｚ４、Ｚ５、Ｚ６、ｍ、ｎ、ｏ、ｐ、ｑ、ｒは前記と同じ意味を示す。
また、本発明は、化合物（２）と下記化合物（５）とを反応させることによる、化合物（１）の製造方法も提供する。
Ｒ1-(Ａ1-Ｚ1)ｍ-(Ａ２-Ｚ２)ｎ-(Ａ３-Ｚ３)ｏ-Ａ４-ＣＦ２ＣＦ２Ｘ１（２）
ＣＨＸ２＝ＣＨ-Ａ５-(Ｚ４-Ａ６)ｐ-(Ｚ５-Ａ７)ｑ-(Ｚ６-Ａ８)ｒ-Ｒ２（５）
上記各式中、Ｘ１およびＸ２は相互に独立して塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子であり、Ｒ１、Ｒ２、Ａ１、Ａ２、Ａ３、Ａ４、Ａ５、Ａ６、Ａ７、Ａ８、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３、Ｚ４、Ｚ５、Ｚ６、ｍ、ｎ、ｏ、ｐ、ｑ、ｒは前記と同じ意味を示す。
Ｒ1-(Ａ1-Ｚ1)ｍ-(Ａ２-Ｚ２)ｎ-(Ａ３-Ｚ３)ｏ-Ａ４-ＣＦ２ＣＦ２Ｘ１（２）
ＣＨＸ２＝ＣＨ-Ａ５-(Ｚ４-Ａ６)ｐ-(Ｚ５-Ａ７)ｑ-(Ｚ６-Ａ８)ｒ-Ｒ２（５）
上記各式中、Ｘ１およびＸ２は相互に独立して塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子であり、Ｒ１、Ｒ２、Ａ１、Ａ２、Ａ３、Ａ４、Ａ５、Ａ６、Ａ７、Ａ８、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３、Ｚ４、Ｚ５、Ｚ６、ｍ、ｎ、ｏ、ｐ、ｑ、ｒは前記と同じ意味を示す。
また、本発明は、化合物（１）を含有する液晶組成物を提供する。
また、本発明は、化合物（１）を含有する液晶組成物を、電極付き基板間に挟持した液晶電気光学素子を提供する。
本発明の化合物（１）は、粘性が低く、透明点が高く、化学的に安定という特長を有することから、高速応答性、広い動作温度範囲などの条件を満たした液晶組成物を調製できる。また、該液晶組成物を液晶電気光学素子に用いた場合にも、広い温度範囲で高速応答性に優れる。
また、本発明の製造方法に従えば、本発明の化合物（１）を工業的にも容易かつ簡便に合成することができる。
また、本発明の製造方法に従えば、本発明の化合物（１）を工業的にも容易かつ簡便に合成することができる。
化合物（１）において、Ｒ１およびＲ２は、相互に独立して、水素原子、ハロゲン原子、または炭素数１〜１０の一価の非環式脂肪族炭化水素基である。ただし、該脂肪族炭化水素基は１つ以上の水素原子がハロゲン原子で置換されていてもよい。また、該脂肪族炭化水素基中の炭素−炭素原子間または該脂肪族炭化水素基の結合末端に、−Ｏ−または−Ｓ−が挿入されていてもよい。なお、ハロゲン原子による置換と、−Ｏ−または−Ｓ−の挿入は、同一の脂肪族炭化水素基に同時に行われていてもよい。
炭素数１〜１０の一価の非環式脂肪族炭化水素基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基が挙げられる。また、これらの基中の１つ以上の水素原子がハロゲン原子に置換した基としては、フルオロアルキル基、クロロアルキル基が挙げられる。更に、これらの基中の炭素−炭素原子間に−Ｏ−や−Ｓ−が挿入された基としてはアルコキシアルキル基またはアルキルチオアルキル基が挙げられる。また、基の結合末端に−Ｏ−または−Ｓ−が挿入された基としてはアルコキシ基またはアルキルチオ基が挙げられる。また、ハロゲン原子による置換と−Ｏ−の挿入が同一の脂肪族炭化水素基に行われた基としてはフルオロアルコキシ基が挙げられる。これらの基は、直鎖状と分岐状のどちらでもかまわないが直鎖状が好ましい。
上記のうちでも、Ｒ１およびＲ２としては、ハロゲン原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数２〜１０のアルケニル基、または炭素数２〜１０のアルキニル基が好ましく挙げられる。該アルキル基、アルケニル基またはアルケニル基中の１つ以上の水素原子がフッ素原子で置換されていてもよく、基中の炭素−炭素原子間または基の結合末端に−Ｏ−または−Ｓ−が挿入されていてもよい。
ハロゲン原子としては、フッ素原子または塩素原子が好ましく、特にフッ素原子が好ましい。
ハロゲン原子としては、フッ素原子または塩素原子が好ましく、特にフッ素原子が好ましい。
特に好ましいＲ１およびＲ２は、フッ素原子、直鎖状で炭素数１〜１０、特に炭素数１〜５のアルキル基、アルコキシ基、フルオロアルキル基またはフルオロアルコキシ基である。この炭素数１〜５のアルキル基のうちでも、特にエチル基、プロピル基、またはペンチル基が好ましい。炭素数１〜５のアルコキシ基のうちでも、特にメトキシ基またはエトキシ基が好ましい。炭素数１〜５のフルオロアルキル基のうちでも、特にトリフルオロメチル基が好ましい。炭素数１〜５のフルオロアルコキシ基のうちでも、特にトリフルオロメトキシ基が好ましい。
式（１）において、Ａ１、Ａ２、Ａ３、Ａ４、Ａ５、Ａ６、Ａ７およびＡ８は、相互に独立して、トランス−１，４−シクロへキシレン基、１，４−シクロヘキセニレン基、１，３−シクロブチレン基、１，２−シクロプロピレン基、ナフタレン−２，６−ジイル基、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、または１，４−フェニレン基である。ただし、該基中の１つ以上の水素原子がハロゲン原子で置換されていてもよく、該基中に存在する１つまたは２つの−ＣＨ＝が窒素原子に置換されていてもよく、該基中に存在する１つまたは２つの−ＣＨ２−が−Ｏ−または−Ｓ−に置換されていてもよい。上記置換のためのハロゲン原子としては、フッ素原子または塩素原子が好ましく、特にフッ素原子が好ましい。
Ａ１、Ａ２、Ａ３、Ａ４、Ａ５、Ａ６、Ａ７およびＡ８は、化合物が直線的な構造となり、液晶用として用いやすいことから、トランス−１，４−シクロヘキシレン基、１，４−フェニレン基が好ましい。また、液晶用として用いた場合の相溶性や誘電率異方性の観点からは、１，４−フェニレン基の少なくとも１つは１つ以上のフッ素原子で置換されていることも好ましい。１つ以上のフッ素原子で置換された１，４−フェニレン基としては、３−フルオロ−１，４−フェニレン基、３，５−ジフルオロ−１，４−フェニレン基、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン基が好ましい。
Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３、Ｚ４、Ｚ５およびＺ６は、相互に独立して、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯＯ−または炭素数１〜４の二価の非環式脂肪族炭化水素基である。ただし、該脂肪族炭化水素基中の１つ以上の水素原子がハロゲン原子で置換されていてもよく、該脂肪族炭化水素基中の炭素−炭素原子間または該脂肪族炭化水素基の結合末端に、−Ｏ−または−Ｓ−が挿入されていてもよい。なお、ハロゲン原子による置換と、−Ｏ−または−Ｓ−の挿入は、同一の脂肪族炭化水素基に同時に行われていてもよい。
Ｚ１が単結合である場合にはＺ１の両側の環基は直接結合することを意味する。例えば、ｍおよびｏが１でありＺ１が単結合でありｎが０の場合はＡ１とＡ３とは直接結合する。また、ｍが１でありＺ１が単結合でありｎが１の場合はＡ１とＡ２とは直接結合する。Ｚ２、Ｚ３、Ｚ４、Ｚ５およびＺ６においても同様である。
炭素数１〜４の二価の非環式脂肪族炭化水素基としては、炭素数１〜４のアルキレン基、炭素数２〜４のアルケニレン基、または炭素数２〜４のアルキニレン基が挙げられる。また、ハロゲン原子としては、フッ素原子または塩素原子が挙げられ、これらの基中の１つ以上の水素原子がハロゲン原子で置換された基としては、フルオロアルキレン基、クロロアルキレン基、またはフルオロアルケニレン基が挙げられる。更に、これらの基中の炭素−炭素原子間または基の結合末端に、−Ｏ−または−Ｓ−が挿入された基としては、オキシアルキレン基、アルキルオキシアルキレン基、チオアルキレン基、オキシフルオロアルキレン基、またはチオフルオロアルキレン基が挙げられる。
炭素数１〜４のアルキレン基としては、−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、および−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−などが挙げられ、特に−ＣＨ２−または−ＣＨ２ＣＨ２−が好ましい。
炭素数２〜４のアルケニレン基としては、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−、および−ＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ２−などが挙げられ、これらの基は逆向きでも構わない。特に−ＣＨ＝ＣＨ−が好ましい。
炭素数２〜４のアルキニレン基としては、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｃ≡Ｃ−ＣＨ２−、−Ｃ≡Ｃ−ＣＨ２−ＣＨ２−、−Ｃ≡Ｃ−Ｃ≡Ｃ−、および−ＣＨ２−Ｃ≡Ｃ−ＣＨ２−などが挙げられ、さらには、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ≡Ｃ−のように、二重結合と三重結合が混在した基も挙げられる。これらの基は逆向きでも構わない。特に−Ｃ≡Ｃ−が好ましい。
炭素数１〜４のフルオロアルキレン基、クロロアルキレン基およびフルオロアルケニレン基としては、−ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＨ２ＣＦ２−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−ＣＣｌ２ＣＨ２−、および−ＣＦ＝ＣＦ−Ｃ≡Ｃ−などが挙げられ、特に−ＣＦ２ＣＦ２−または−ＣＦ＝ＣＦ−が好ましい。
炭素数１〜４のオキシアルキレン基、チオアルキレン基、アルキルオキシアルキレン基、オキシフルオロアルキレン基およびチオフルオロアルキレン基としては、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＳＣＨ２−、−ＣＨ２Ｓ−、−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２−、−ＯＣＦ２−、−ＳＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ−、および−ＣＦ２Ｓ−などが挙げられ、−ＯＣＦ２−または−ＣＦ２Ｏ−が好ましい。
Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３、Ｚ４、Ｚ５およびＺ６は、化合物の安定性と合成の容易さから、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、または炭素数１〜４のアルキレン基が好ましい。該アルキレン基中の１つ以上の水素原子がフッ素原子で置換されていてもよく、該基中の炭素−炭素原子間または基の結合末端に−Ｏ−または−Ｓ−が挿入されていてもよい。特に単結合または炭素数１〜４のアルキレン基が好ましく、単結合がより好ましい。
化合物（１）において、ｍ、ｎ、ｏ、ｐ、ｑおよびｒは相互に独立して０または１である。ただし、ｍ＋ｎ＋ｏ＋ｐ＋ｑ＋ｒは３以下である。粘性があまり高くならないことから、ｍ＋ｎ＋ｏ＋ｐ＋ｑ＋ｒは２以下であることが好ましい。
一般に、−ＣＨ＝ＣＨ−や−ＣＦ＝ＣＦ−などの二重結合を有する基を連結基とする化合物において、該連結基にフェニル基が結合している場合は、紫外光や可視光によりシス−トランスの異性化が生じ易いという問題が有る。その典型はスチルベン構造を有する化合物である。これに対し、−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ＝ＣＦ−を連結基とする本発明の化合物は、連結基の両端にフェニル基が結合していても、スチルベン化合物のように二重結合の両端にフェニル基が存在するのではないため、共役系が短くなり異性化が生じ難いと考えられる。また、−ＣＨ＝ＣＨＣＨ２ＣＨ２−連結基と比べても、−ＣＨ２ＣＨ２−部分の水素原子がフッ素原子で置換されているため、異性化が生じ難いと考えられる。これらのことから、本発明の化合物は、既存の二重結合を有する基を連結基とする化合物に比べて、安定性に優れると考えられる。
上記のような本発明の化合物（１）のうちでも、下記化合物（１−１）が好ましい。
Ｒ１１-(Ａ１１-Ｚ１１)ｍ-(Ａ２１-Ｚ２１)ｎ-(Ａ３１-Ｚ３１)ｏ-Ａ４１-ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ-Ａ５１-(Ｚ４１-Ａ６１)ｐ-(Ｚ５１-Ａ７１)ｑ-(Ｚ６１-Ａ８１)ｒ-Ｒ２１（１−１）
上記式（１−１）式中の記号は以下の意味を示す。
Ｒ１１、Ｒ２１：相互に独立して、ハロゲン原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数２〜１０のアルケニル基、または炭素数２〜１０のアルキニル基。ただし、基中の１つ以上の水素原子がフッ素原子で置換されていてもよく、基中の炭素−炭素原子間または基の結合末端に−Ｏ−または−Ｓ−が挿入されていてもよい。
Ａ１１、Ａ２１、Ａ３１、Ａ４１、Ａ５１、Ａ６１、Ａ７１、Ａ８１：相互に独立して、トランス−１，４−シクロヘキシレン基または１，４−フェニレン基。ただし該１，４−フェニレン基中に存在する水素原子の１つ以上がフッ素原子に置換されていてもよい。
Ｚ１１、Ｚ２１、Ｚ３１、Ｚ４１、Ｚ５１、Ｚ６１：相互に独立して、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、または炭素数１〜４のアルキレン基。ただし、該基中の１つ以上の水素原子がハロゲン原子で置換されていてもよく、該基中の炭素−炭素原子間または該基の結合末端に、−Ｏ−または−Ｓ−が挿入されていてもよい。
ｍ、ｎ、ｏ、ｐ、ｑおよびｒは前記と同じ意味を示し、各基の具体的説明も前記のとおりである。
Ｒ１１-(Ａ１１-Ｚ１１)ｍ-(Ａ２１-Ｚ２１)ｎ-(Ａ３１-Ｚ３１)ｏ-Ａ４１-ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ-Ａ５１-(Ｚ４１-Ａ６１)ｐ-(Ｚ５１-Ａ７１)ｑ-(Ｚ６１-Ａ８１)ｒ-Ｒ２１（１−１）
上記式（１−１）式中の記号は以下の意味を示す。
Ｒ１１、Ｒ２１：相互に独立して、ハロゲン原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数２〜１０のアルケニル基、または炭素数２〜１０のアルキニル基。ただし、基中の１つ以上の水素原子がフッ素原子で置換されていてもよく、基中の炭素−炭素原子間または基の結合末端に−Ｏ−または−Ｓ−が挿入されていてもよい。
Ａ１１、Ａ２１、Ａ３１、Ａ４１、Ａ５１、Ａ６１、Ａ７１、Ａ８１：相互に独立して、トランス−１，４−シクロヘキシレン基または１，４−フェニレン基。ただし該１，４−フェニレン基中に存在する水素原子の１つ以上がフッ素原子に置換されていてもよい。
Ｚ１１、Ｚ２１、Ｚ３１、Ｚ４１、Ｚ５１、Ｚ６１：相互に独立して、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、または炭素数１〜４のアルキレン基。ただし、該基中の１つ以上の水素原子がハロゲン原子で置換されていてもよく、該基中の炭素−炭素原子間または該基の結合末端に、−Ｏ−または−Ｓ−が挿入されていてもよい。
ｍ、ｎ、ｏ、ｐ、ｑおよびｒは前記と同じ意味を示し、各基の具体的説明も前記のとおりである。
より好ましい本発明の化合物（１）は、下記化合物（１−２）である。
Ｒ１２-(Ａ１１-Ｚ１２)ｍ-(Ａ２１-Ｚ２２)ｎ-(Ａ３１-Ｚ３２)ｏ-Ａ４１-ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ-Ａ５１-(Ｚ４２-Ａ６１)ｐ-(Ｚ５２-Ａ７１)ｑ-(Ｚ６２-Ａ８１)ｒ-Ｒ２２ （１−２）
上記式（１−２）中の記号は以下の意味を示す。Ｒ１２、Ｒ２２：相互に独立して、フッ素原子、直鎖状の炭素数１〜１０のアルキル基、アルコキシ基、フルオロアルキル基、またはフルオロアルコキシ基。Ｚ１２、Ｚ２２、Ｚ３２、Ｚ４２、Ｚ５２、Ｚ６２：相互に独立して、単結合または炭素数１〜４のアルキレン基。Ａ１１、Ａ２１、Ａ３１、Ａ４１、Ａ５１、Ａ６１、Ａ７１、Ａ８１、ｍ、ｎ、ｏ、ｐ、ｑおよびｒは前記と同じ意味を示し、各基の具体的説明も前記のとおりである。
Ｒ１２-(Ａ１１-Ｚ１２)ｍ-(Ａ２１-Ｚ２２)ｎ-(Ａ３１-Ｚ３２)ｏ-Ａ４１-ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ-Ａ５１-(Ｚ４２-Ａ６１)ｐ-(Ｚ５２-Ａ７１)ｑ-(Ｚ６２-Ａ８１)ｒ-Ｒ２２ （１−２）
上記式（１−２）中の記号は以下の意味を示す。Ｒ１２、Ｒ２２：相互に独立して、フッ素原子、直鎖状の炭素数１〜１０のアルキル基、アルコキシ基、フルオロアルキル基、またはフルオロアルコキシ基。Ｚ１２、Ｚ２２、Ｚ３２、Ｚ４２、Ｚ５２、Ｚ６２：相互に独立して、単結合または炭素数１〜４のアルキレン基。Ａ１１、Ａ２１、Ａ３１、Ａ４１、Ａ５１、Ａ６１、Ａ７１、Ａ８１、ｍ、ｎ、ｏ、ｐ、ｑおよびｒは前記と同じ意味を示し、各基の具体的説明も前記のとおりである。
特に好ましい本発明の化合物（１）は、下記化合物（１−３）である。
Ｒ１３-(Ａ１１)ｍ-Ａ４１-ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ-Ａ５１-(Ａ８１)ｒ-Ｒ２３ （１−３）
上記式（１−３）中の記号は以下の意味を示す。Ｒ１３、Ｒ２３：相互に独立して、フッ素原子、直鎖状の炭素数１〜５のアルキル基、アルコキシ基、フルオロアルキル基またはフルオロアルコキシ基。Ａ１１、Ａ４１、Ａ５１、Ａ８１し、ｍ、ｒは、相互に独立して０または１であり、各基の具体的説明も前記のとおりである。
Ｒ１３-(Ａ１１)ｍ-Ａ４１-ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ-Ａ５１-(Ａ８１)ｒ-Ｒ２３ （１−３）
上記式（１−３）中の記号は以下の意味を示す。Ｒ１３、Ｒ２３：相互に独立して、フッ素原子、直鎖状の炭素数１〜５のアルキル基、アルコキシ基、フルオロアルキル基またはフルオロアルコキシ基。Ａ１１、Ａ４１、Ａ５１、Ａ８１し、ｍ、ｒは、相互に独立して０または１であり、各基の具体的説明も前記のとおりである。
上記のような本発明の化合物（１）は、たとえば下記に示す製法１または製法２により製造することができる。
まず、製法１について説明する。
［製法１］下記工程１および工程２を含む、化合物（１）の製造方法。
工程１：化合物（２）に、化合物（３）を付加させて、下記化合物（４）を製造する工程。
Ｒ1-(Ａ1-Ｚ1)ｍ-(Ａ２-Ｚ２)ｎ-(Ａ３-Ｚ３)ｏ-Ａ４-ＣＦ２ＣＦ２Ｘ１（２）
ＣＨ２＝ＣＨ-Ａ５-(Ｚ４-Ａ６)ｐ-(Ｚ５-Ａ７)ｑ-(Ｚ６-Ａ８)ｒ-Ｒ２（３）
Ｒ1-(Ａ1-Ｚ1)ｍ-(Ａ２-Ｚ２)ｎ-(Ａ３-Ｚ３)ｏ-Ａ４-ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＣＨＸ１-Ａ５-(Ｚ４-Ａ６)ｐ-(Ｚ５-Ａ７)ｑ-(Ｚ６-Ａ８)ｒ-Ｒ２（４）
上記各式中の各記号は式（１）で前記のとおりであり、Ｘ１は塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子である。
工程２：上記化合物（４）を、塩基の存在下で脱ハロゲン化水素する。
まず、製法１について説明する。
［製法１］下記工程１および工程２を含む、化合物（１）の製造方法。
工程１：化合物（２）に、化合物（３）を付加させて、下記化合物（４）を製造する工程。
Ｒ1-(Ａ1-Ｚ1)ｍ-(Ａ２-Ｚ２)ｎ-(Ａ３-Ｚ３)ｏ-Ａ４-ＣＦ２ＣＦ２Ｘ１（２）
ＣＨ２＝ＣＨ-Ａ５-(Ｚ４-Ａ６)ｐ-(Ｚ５-Ａ７)ｑ-(Ｚ６-Ａ８)ｒ-Ｒ２（３）
Ｒ1-(Ａ1-Ｚ1)ｍ-(Ａ２-Ｚ２)ｎ-(Ａ３-Ｚ３)ｏ-Ａ４-ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＣＨＸ１-Ａ５-(Ｚ４-Ａ６)ｐ-(Ｚ５-Ａ７)ｑ-(Ｚ６-Ａ８)ｒ-Ｒ２（４）
上記各式中の各記号は式（１）で前記のとおりであり、Ｘ１は塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子である。
工程２：上記化合物（４）を、塩基の存在下で脱ハロゲン化水素する。
上記化合物（２）は、公知の方法に基づいて得ることができ、たとえば特開２００２−１２８７７６およびJournal of Fluorine Chemistry 2004,125,595-601に記載された方法に従い得ることができる。
例えば、化合物（２）が下記化合物（２−１）である場合、カルボン酸（６）を脱炭酸によりヨウ素化することにより得ることができる。
Ｒ1-(Ａ1-Ｚ1)ｍ-(Ａ２-Ｚ２)ｎ-(Ａ３-Ｚ３)ｏ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＯＯＨ （６）
Ｒ1-(Ａ1-Ｚ1)ｍ-(Ａ２-Ｚ２)ｎ-(Ａ３-Ｚ３)ｏ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２Ｉ （２−１）
また、化合物（２）が下記化合物（２−２）の場合、２，２−ジフルオロ−２−ハロ−アセトアルデヒド（７）をフッ素化することにより得ることができる。
Ｒ1-(Ａ1-Ｚ1)ｍ-(Ａ２-Ｚ２)ｎ-(Ａ３-Ｚ３)ｏ−Ｐｈ−ＣＯ−ＣＦ２Ｘ （７）
Ｒ1-(Ａ1-Ｚ1)ｍ-(Ａ２-Ｚ２)ｎ-(Ａ３-Ｚ３)ｏ−Ｐｈ−ＣＦ２ＣＦ２Ｘ （２−２）
なお、−Ｃｙ−はトランス−１，４−シクロヘキシレン基を表し、−Ｐｈ−は１，４−フェニレン基を表し、Ｘはハロゲン原子を表す。他の記号は前記と同じ意味である。
例えば、化合物（２）が下記化合物（２−１）である場合、カルボン酸（６）を脱炭酸によりヨウ素化することにより得ることができる。
Ｒ1-(Ａ1-Ｚ1)ｍ-(Ａ２-Ｚ２)ｎ-(Ａ３-Ｚ３)ｏ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＯＯＨ （６）
Ｒ1-(Ａ1-Ｚ1)ｍ-(Ａ２-Ｚ２)ｎ-(Ａ３-Ｚ３)ｏ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２Ｉ （２−１）
また、化合物（２）が下記化合物（２−２）の場合、２，２−ジフルオロ−２−ハロ−アセトアルデヒド（７）をフッ素化することにより得ることができる。
Ｒ1-(Ａ1-Ｚ1)ｍ-(Ａ２-Ｚ２)ｎ-(Ａ３-Ｚ３)ｏ−Ｐｈ−ＣＯ−ＣＦ２Ｘ （７）
Ｒ1-(Ａ1-Ｚ1)ｍ-(Ａ２-Ｚ２)ｎ-(Ａ３-Ｚ３)ｏ−Ｐｈ−ＣＦ２ＣＦ２Ｘ （２−２）
なお、−Ｃｙ−はトランス−１，４−シクロヘキシレン基を表し、−Ｐｈ−は１，４−フェニレン基を表し、Ｘはハロゲン原子を表す。他の記号は前記と同じ意味である。
化合物（３）は、市販品としても入手可能である。また、特開平０８−１７００７８号公報、特開平１０−１１４６９０号公報等の文献や、新実験化学講座（丸善株式会社出版）等、有機合成の成書に記載されている方法に基づいて得ることができる。
工程１において、化合物（３）は、化合物（２）１モルに対し、通常０．５〜２モルの量で用いられる。
工程１は、通常、ラジカル付加反応が行われる。
工程１に用いることができるラジカル開始剤としては、ジ−tert−ブチルパーオキサイド、ジベンゾイルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキサイドなどの有機化酸化物、アゾビスイソブチロニトリル、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）、２，２−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）などのアゾ化合物、トリエチルボランなどのボラン化合物、銅紛、亜次チオン酸ナトリウムなどの無機塩、［Ｐｄ（ＰＰｈ３）４］、ＡｌＭｅ３などの金属錯体を用いることができる。また、光照射や加熱によっても同様のラジカル付加反応を行うことができる。
工程１に用いることができるラジカル開始剤としては、ジ−tert−ブチルパーオキサイド、ジベンゾイルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキサイドなどの有機化酸化物、アゾビスイソブチロニトリル、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）、２，２−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）などのアゾ化合物、トリエチルボランなどのボラン化合物、銅紛、亜次チオン酸ナトリウムなどの無機塩、［Ｐｄ（ＰＰｈ３）４］、ＡｌＭｅ３などの金属錯体を用いることができる。また、光照射や加熱によっても同様のラジカル付加反応を行うことができる。
上記ラジカル開始剤の使用量としては、化合物（２）に対して ０．００００１倍モルから１．０倍モル、好ましくは０．００１倍モルから０．１倍モルである。
工程１は、無溶媒または溶媒中で実施される。反応溶媒としては、水、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、t-ブチルメチルエーテル等のエーテル系溶媒、ピリジン、トリエチルアミン等のアミン系溶媒、アセトニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル系溶媒、塩化メチレン、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒または上記溶媒の適当な混合溶媒などを用いることができるが、特に、無溶媒または脂肪族炭化水素系溶媒中で行うことが好ましい。
溶媒量は、合成の規模により大きく異なり、適宜変更することが可能である。
溶媒量は、合成の規模により大きく異なり、適宜変更することが可能である。
工程１の温度は−１００℃から２５０℃が好ましく、特に５０℃から１００℃が好ましい。
工程１の反応時間は０．５時間から４８時間が好ましく、特に０．５時間から８時間が好ましい。
工程２は、工程１で得られた化合物（４）を、塩基を用いて脱ハロゲン化水素することで化合物（１）を得る工程である。
塩基としては、たとえばトリエチルアミン、ジアザビシクロウンデセン等のアミン、カリウム、tert−ブトキシド、ナトリウムメトキシド等の金属アルコキサイド、水酸化ナトリウム、水素化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属塩、ｎ−ブチルリチウム、tert−ブチルリチウム等のアルキル化金属、リチウムヘキサメチルジシラジド、リチウムジイソプロピルアミド等の金属アミドを用いることができる。特に、ジアザビシクロウンデセンおよびカリウムヘキサメチルジシラジドが好ましい。
塩基としては、たとえばトリエチルアミン、ジアザビシクロウンデセン等のアミン、カリウム、tert−ブトキシド、ナトリウムメトキシド等の金属アルコキサイド、水酸化ナトリウム、水素化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属塩、ｎ−ブチルリチウム、tert−ブチルリチウム等のアルキル化金属、リチウムヘキサメチルジシラジド、リチウムジイソプロピルアミド等の金属アミドを用いることができる。特に、ジアザビシクロウンデセンおよびカリウムヘキサメチルジシラジドが好ましい。
上記塩基は、化合物（４）に対し、通常０．８〜１．２倍モルの量で用いられる。
工程２は、無溶媒または溶媒中で実施される。反応溶媒としては、水、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、iso−プロパノール、エチレングリコール等のアルコール系溶媒、ピリジン、トリエチルアミン等のアミン系溶媒、アセトニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル系溶媒、塩化メチレン、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒または上記溶媒の適当な混合溶媒などを用いることができるが、特に、脂肪族炭化水素系溶媒またはエーテル系溶媒中で行うことが好ましい。
溶媒量は、合成の規模により大きく異なり、適宜変更することが可能である。
溶媒量は、合成の規模により大きく異なり、適宜変更することが可能である。
工程２の温度は−１００℃から２５０℃が好ましく、特に−７５℃から０℃が好ましい。
工程２の反応時間は０．５時間から４８時間℃が好ましく、特に０．５時間から８時間が好ましい。
次に、製法２について説明する。
［製法２］化合物（２）と化合物（５）とを反応させることによる、化合物（１）の製造方法。
Ｒ1-(Ａ1-Ｚ1)ｍ-(Ａ２-Ｚ２)ｎ-(Ａ３-Ｚ３)ｏ-Ａ４-ＣＦ２ＣＦ２Ｘ１（２）
ＣＨＸ２＝ＣＨ-Ａ５-(Ｚ４-Ａ６)ｐ-(Ｚ５-Ａ７)ｑ-(Ｚ６-Ａ８)ｒ-Ｒ２（５）
上記各式中の各記号は式（１）で前記のとおりであり、Ｘ１およびＸ２は相互に独立して塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子である。
［製法２］化合物（２）と化合物（５）とを反応させることによる、化合物（１）の製造方法。
Ｒ1-(Ａ1-Ｚ1)ｍ-(Ａ２-Ｚ２)ｎ-(Ａ３-Ｚ３)ｏ-Ａ４-ＣＦ２ＣＦ２Ｘ１（２）
ＣＨＸ２＝ＣＨ-Ａ５-(Ｚ４-Ａ６)ｐ-(Ｚ５-Ａ７)ｑ-(Ｚ６-Ａ８)ｒ-Ｒ２（５）
上記各式中の各記号は式（１）で前記のとおりであり、Ｘ１およびＸ２は相互に独立して塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子である。
化合物（２）の入手方法は、製法１において説明のとおりである。
化合物（５）も公知の方法に基づいて得ることができ、例えば下記の文献の方法に従い得ることができる。
Synlett 1999,No.8,1268-1270、Journal of American Chemical Society 1986,108,7408-7410、Journal of American Chemical Society 1973,95,6456-5457、Journal of American Chemical Society 1973,95,5786-5787およびOrganic Letters 2008,10,5485-5488。
例えば、化合物（５）が下記化合物（５−１）の場合、下記化合物（８）をクロム化合物とヨードホルムを反応するか、下記化合物（９）にヒドロホウ素化を行った後、ヨウ素を反応させることで得ることができる。
Ｒ1-(Ａ1-Ｚ1)ｍ-(Ａ２-Ｚ２)ｎ-(Ａ３-Ｚ３)ｏ−Ｐｈ−ＣＨＯ （８）
Ｒ1-(Ａ1-Ｚ1)ｍ-(Ａ２-Ｚ２)ｎ-(Ａ３-Ｚ３)ｏ−Ｐｈ−Ｃ≡ＣＨ （９）
Ｒ1-(Ａ1-Ｚ1)ｍ-(Ａ２-Ｚ２)ｎ-(Ａ３-Ｚ３)ｏ−Ｐｈ−ＣＨ＝ＣＨＩ （５−１）
化合物（５）も公知の方法に基づいて得ることができ、例えば下記の文献の方法に従い得ることができる。
Synlett 1999,No.8,1268-1270、Journal of American Chemical Society 1986,108,7408-7410、Journal of American Chemical Society 1973,95,6456-5457、Journal of American Chemical Society 1973,95,5786-5787およびOrganic Letters 2008,10,5485-5488。
例えば、化合物（５）が下記化合物（５−１）の場合、下記化合物（８）をクロム化合物とヨードホルムを反応するか、下記化合物（９）にヒドロホウ素化を行った後、ヨウ素を反応させることで得ることができる。
Ｒ1-(Ａ1-Ｚ1)ｍ-(Ａ２-Ｚ２)ｎ-(Ａ３-Ｚ３)ｏ−Ｐｈ−ＣＨＯ （８）
Ｒ1-(Ａ1-Ｚ1)ｍ-(Ａ２-Ｚ２)ｎ-(Ａ３-Ｚ３)ｏ−Ｐｈ−Ｃ≡ＣＨ （９）
Ｒ1-(Ａ1-Ｚ1)ｍ-(Ａ２-Ｚ２)ｎ-(Ａ３-Ｚ３)ｏ−Ｐｈ−ＣＨ＝ＣＨＩ （５−１）
製法２において、化合物（５）は、化合物（２）１モルに対し、通常０．５〜２モルの量で用いられる。
上記化合物（２）と化合物（５）との反応は、金属試薬を用いて行われる。金属試薬として、アルミニウム、鉛、銅、亜鉛、パラジウムテトラキストリフェニルホスフィン、マグネシウム等を用いることができる。特に、銅を使用することが好ましい。
製法２は無溶媒または溶媒中で実施される。反応溶媒としては、水、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル等のエーテル系溶媒、ピリジン、トリエチルアミン等のアミン系溶媒、アセトニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル系溶媒、塩化メチレン、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒あるいは上記溶媒の適当な混合溶媒などを用いることができるが、特に、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドまたはジメチルスルホキシド中で行うことが好ましい。
溶媒量は、合成の規模により大きく異なり、適宜変更することが可能である。
溶媒量は、合成の規模により大きく異なり、適宜変更することが可能である。
製法２の反応温度は−１００℃から２５０℃が好ましく、特に８０℃から１６０℃が好ましい。
反応時間は０．５時間から４８時間℃が好ましく、特に２時間から１６時間が好ましい。
本発明の化合物（１）は、粘性が低く、透明点が高く、化学的に安定という特長を有することから、その少なくとも１種を、他の液晶化合物および／または非液晶化合物と混合することにより、高速応答性、広い動作温度範囲などの条件を満たした液晶組成物を調製できる。
液晶組成物中の化合物（１）以外の化合物としては、液晶組成物の用途、要求性能などにより異なるが、通常は液晶化合物および該液晶化合物に類似の構造を有する化合物を主成分とし、これに必要に応じた他の化合物を添加するのが好ましい。
他の化合物の具体例としては、誘電異方性を向上させる成分、高温で液晶性を示す成分、低粘性成分、屈折率異方性値を調整する成分、コレステリック性を付与する成分、２色性を示す成分、導電性を付与する成分等が挙げられる。液晶組成物中に含ませ得る他の化合物の例としては、以下の具体例が挙げられる。なお、下式におけるＲ３、Ｒ４は、それぞれ同一であっても異なっていてもよく、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、またはシアノ基等の基を表し、−Ｐｈ−および−Ｃｙ−は前記と同じ意味を示す。
Ｒ３−Ｃｙ−Ｃｙ−Ｒ４
Ｒ３−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｒ４
Ｒ３−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｒ４
Ｒ３−Ｐｈ−Ｃ≡Ｃ−Ｐｈ−Ｒ４
Ｒ３−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｒ４
Ｒ３−Ｐｈ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｒ４
Ｒ３−Ｃｙ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｒ４
Ｒ３−Ｃｙ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｐｈ−Ｒ４
Ｒ３−Ｐｈ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｐｈ−Ｒ４
Ｒ３−Ｃｙ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｒ４
Ｒ３−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｒ４
Ｒ３−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ≡Ｃ−Ｐｈ−Ｒ４
Ｒ３−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｒ４
Ｒ３−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｒ４
Ｒ３−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ≡Ｃ−Ｐｈ−Ｒ４
Ｒ３−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｒ４
Ｒ３−Ｃｙ−Ｐｈ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｒ４
Ｒ３−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｐｈ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｒ４
Ｒ３−Ｐｈ−ＣＯＯ−Ｐｈ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｒ４
Ｒ３−Ｐｈ−ＣＯＯ−Ｐｈ−ＯＣＯ−Ｐｈ−Ｒ４
Ｒ３−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｒ４
Ｒ３−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｒ４
Ｒ３−Ｐｈ−Ｃ≡Ｃ−Ｐｈ−Ｒ４
Ｒ３−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｒ４
Ｒ３−Ｐｈ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｒ４
Ｒ３−Ｃｙ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｒ４
Ｒ３−Ｃｙ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｐｈ−Ｒ４
Ｒ３−Ｐｈ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｐｈ−Ｒ４
Ｒ３−Ｃｙ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｒ４
Ｒ３−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｒ４
Ｒ３−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ≡Ｃ−Ｐｈ−Ｒ４
Ｒ３−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｒ４
Ｒ３−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｒ４
Ｒ３−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ≡Ｃ−Ｐｈ−Ｒ４
Ｒ３−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｒ４
Ｒ３−Ｃｙ−Ｐｈ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｒ４
Ｒ３−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｐｈ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｒ４
Ｒ３−Ｐｈ−ＣＯＯ−Ｐｈ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｒ４
Ｒ３−Ｐｈ−ＣＯＯ−Ｐｈ−ＯＣＯ−Ｐｈ−Ｒ４
また、液晶組成物中に含ませる他の化合物としては、上記化合物に限定されない。例えば、上記化合物の環構造または末端基の水素原子は、ハロゲン原子、シアノ基、またはメチル基等へ置換されていてもよく、また、上記化合物の環構造または末端基の水素原子は、シクロヘキサン環、ベンゼン環、ピリミジン環、またはジオキサン環等の他の六員環または五員環等へ置換されていてもよい。また、環と環との間に存在する結合基を他の結合基に変更してもよい。これらの置換または変更は、目的とする性能に合わせて適宜選択すればよい。
本発明の化合物（１）を含む液晶組成物は、液晶セルに注入するなどして、電極付の基板間に挟持され、液晶電気光学素子を構成する。代表的な液晶セルとしては、ＴＮ型液晶電気光学素子がある。なお、ここで液晶電気光学素子と表現しているのは、表示用途以外、たとえば、調光窓、光シャッタ、偏光交換素子等にも使用できることを明らかにしているためである。
上記液晶電気光学素子は、ＴＮ方式、ＳＴＮ方式、ＥＣＢモード、ＶＡモード、ゲスト・ホスト（ＧＨ）方式、動的散乱方式、フェーズチェンジ方式、ＤＡＰ方式、二周波駆動方式、強誘電性液晶表示方式など種々のモードで使用できる。駆動モードとしては、パッシブ駆動、アクティブ駆動で使用できる。
以下に、液晶電気光学素子の構成および製法の具体例を示す。プラスチック、ガラス等の基板上に、必要に応じてＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３等のアンダーコート層やカラーフィルタ層を形成し、Ｉｎ２Ｏ３−ＳｎＯ２（ＩＴＯ）、ＳｎＯ２等の電極を設け、パターニングした後、必要に応じてポリイミド、ポリアミド、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３等のオーバーコート層を形成し、配向処理し、これにシール材を印刷し、電極面が相対向するように配して周辺をシールし、シール材を硬化して空セルを形成する。
この空セルに、本発明の化合物を含む組成物を注入し、注入口を封止剤で封止して液晶セルを構成する。この液晶セルに必要に応じて偏光板、カラー偏光板、光源、カラーフィルタ、半透過反射板、反射板、導光板、紫外線カットフィルター等を積層する、文字、図形等を印刷する、ノングレア加工するなどして液晶電気光学素子とする。
なお、上記の説明は、液晶素子の基本的な構成及び製法を説明したものであり、他の構成も採用出来る。例えば、２層電極を用いた基板、２層の液晶層を形成した２層液晶セル、反射電極を用いた基板、ＴＦＴ、ＭＩＭ等の能動素子を形成したアクティブマトリクス基板を用いたアクティブマトリクス素子等、種々の構成のものが使用できる。特に本発明の組成物は、ＴＦＴ、ＭＩＭ等のアクティブマトリクス素子にも好適である。
さらに、前記したＴＮ型以外のモード、即ち、高ツイスト角のスーパーツイストネマチック（ＳＴＮ）型液晶素子や、多色性色素を用いたゲスト−ホスト（ＧＨ）型液晶素子、横方向の電界で液晶分子を基板に対して平行に駆動させるインプレーンスイッチング（ＩＰＳ）型液晶素子、液晶分子を基板に対して垂直配向させるＶＡ型液晶素子、強誘電性液晶素子等、種々の方式で使用することが出来る。また、電気的に書き込みをする方式ではなく、熱により書き込みをする方式に用いることもできる。
以下に、実施例を用いて本発明を具体的に説明する。ただし、以下に示す実施例は本発明の例示を目的とするものであり、本発明はこれに限定されない。
（実施例１）
特開２００２−１２８７７６号の記載に準じて合成した化合物（２Ａ）１２．７９ｇ、特開平８−１７００７８号の記載に準じて合成した化合物（３Ａ）７．４０ｇおよび過酸化ベンゾイル（約２５％水湿潤品）１．２６ｇとを９０℃で１２時間撹拌した。水２０ｍｌ、ヘキサン２０ｍｌを加えクエンチを行い、５％重炭酸ナトリウム水溶液および水で有機層を洗浄した後、濃縮をし化合物（４Ａ）を粗生成物として２０．６０ｇ得た。それ以上の精製を行うことなく、そのまま次工程に用いた。
上記で得られた化合物（４Ａ）２４．６１ｇとＴＨＦ１２０ｍｌとを−７０℃まで冷却後、ジアザビシクロウンデセン９．８８ｇを滴下し、２時間撹拌した。さらに、カリウムヘキサメチルジシラジドの約０．５［ｍｏｌ／ｌ］トルエン溶液１３０ｍｌを滴下し、徐々に室温まで昇温させ一晩撹拌した。１０％塩化アンモニウム水溶液１００ｍｌを用いクエンチを行った後、ヘキサンを加え、５％塩酸、５％重炭酸ナトリウム水溶液、水で洗浄し、濃縮を行った。得られた粗生成物をシリカクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン）および、エタノールとヘキサンの混合溶媒を用いて再結晶を行い化合物（１Ａ）１．７４ｇを得た。
特開２００２−１２８７７６号の記載に準じて合成した化合物（２Ａ）１２．７９ｇ、特開平８−１７００７８号の記載に準じて合成した化合物（３Ａ）７．４０ｇおよび過酸化ベンゾイル（約２５％水湿潤品）１．２６ｇとを９０℃で１２時間撹拌した。水２０ｍｌ、ヘキサン２０ｍｌを加えクエンチを行い、５％重炭酸ナトリウム水溶液および水で有機層を洗浄した後、濃縮をし化合物（４Ａ）を粗生成物として２０．６０ｇ得た。それ以上の精製を行うことなく、そのまま次工程に用いた。
上記で得られた化合物（４Ａ）２４．６１ｇとＴＨＦ１２０ｍｌとを−７０℃まで冷却後、ジアザビシクロウンデセン９．８８ｇを滴下し、２時間撹拌した。さらに、カリウムヘキサメチルジシラジドの約０．５［ｍｏｌ／ｌ］トルエン溶液１３０ｍｌを滴下し、徐々に室温まで昇温させ一晩撹拌した。１０％塩化アンモニウム水溶液１００ｍｌを用いクエンチを行った後、ヘキサンを加え、５％塩酸、５％重炭酸ナトリウム水溶液、水で洗浄し、濃縮を行った。得られた粗生成物をシリカクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン）および、エタノールとヘキサンの混合溶媒を用いて再結晶を行い化合物（１Ａ）１．７４ｇを得た。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．６ＭＨｚ、溶媒ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：−１１０．６０（ｍ，Ｆ，ＣＦ２）、−１１９．３４（ｍ，２Ｆ，ＣＦ２）
１Ｈ−ＮＭＲ（２８２．６ＭＨｚ、溶媒ＣＤＣｌ３、基準：ＳｉＭｅ４）δ（ｐｐｍ）：６．２０（ｍ，１Ｈ，vinyl），５．５４（ｍ，１Ｈ，vinyl），２．０−０．８（ｍ，３４Ｈ）
ＧＣ−ＭＳ Ｍ＋ = ３７６
相系列：Ｃ６５．３Ｎ７７．３Ｉ（Ｃ：結晶、Ｎ：ネマチック相、Ｉ：等方相）
１Ｈ−ＮＭＲ（２８２．６ＭＨｚ、溶媒ＣＤＣｌ３、基準：ＳｉＭｅ４）δ（ｐｐｍ）：６．２０（ｍ，１Ｈ，vinyl），５．５４（ｍ，１Ｈ，vinyl），２．０−０．８（ｍ，３４Ｈ）
ＧＣ−ＭＳ Ｍ＋ = ３７６
相系列：Ｃ６５．３Ｎ７７．３Ｉ（Ｃ：結晶、Ｎ：ネマチック相、Ｉ：等方相）
上記化合物（１Ａ）１０質量％と、メルク社製液晶組成物「ＺＬＩ−１５６５」９０質量％とを混合して得られた組成物を用いて、２５℃における屈折率異方性（Δｎ）を外挿により求めたところ、０．０６７であった。
（実施例２）
窒素雰囲気下、前述のJournal of Fluorine Chemistryの記載に準じて合成した化合物（２Ｂ）２０．１７ｇ、実施例１と同様に合成した化合物（３Ａ）１１．４５ｇ、過酸化ベンゾイル（約２５％水湿潤品）１．８６ｇとを９０℃で８時間加熱撹拌した。得られた粗油にヘキサンと水を加え、有機層を５％重炭酸ナトリウム水溶液および水で洗浄し、濃縮を行い化合物（４Ｂ）を粗生成物として３０．６３ｇを得た。それ以上の精製を行うことなく、そのまま次工程に用いた。
窒素雰囲気下、前述のJournal of Fluorine Chemistryの記載に準じて合成した化合物（２Ｂ）２０．１７ｇ、実施例１と同様に合成した化合物（３Ａ）１１．４５ｇ、過酸化ベンゾイル（約２５％水湿潤品）１．８６ｇとを９０℃で８時間加熱撹拌した。得られた粗油にヘキサンと水を加え、有機層を５％重炭酸ナトリウム水溶液および水で洗浄し、濃縮を行い化合物（４Ｂ）を粗生成物として３０．６３ｇを得た。それ以上の精製を行うことなく、そのまま次工程に用いた。
化合物（４Ｂ）３０．６３ｇとＴＨＦ１５０ｍｌとを−７０℃まで冷却後、ジアザビシクロウンデセン１２．９５ｇを滴下し、さらに、カリウムヘキサメチルジシラジドの約０．５ｍｏｌ／ｌトルエン溶液１６０ｍｌを滴下し、徐々に室温まで昇温させ一晩撹拌した。１０％塩化アンモニウム水溶液１００ｍｌを用いクエンチを行った後、ヘキサンを加え、５％塩酸、５％重炭酸ナトリウム水溶液、水で洗浄し、濃縮を行った。得られた粗生成物をシリカクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン）および、エタノールとヘキサンの混合溶媒を用いて再結晶を行い化合物（１Ｂ）２．４５ｇを得た。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．６ＭＨｚ、溶媒ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：−１１２．３４（ｍ，２Ｆ，ＣＦ２）、−１１２．７２（ｍ，２Ｆ，ＣＦ２）
1Ｈ−ＮＭＲ（２８２．６ＭＨｚ、溶媒ＣＤＣｌ３、基準：ＳｉＭｅ４）δ（ｐｐｍ）：７．３６（ｄ，２Ｈ，Ａｒ）、７．１６（ｄ，２Ｈ，Ａｒ）、６．０５（ｍ，２Ｈ，vinyl）、５．４７（ｍ，２Ｈ，vinyl）、２．５５（ｔ，２Ｈ，ＣＨ２）、１．６９−０．７８（ｍ，２２Ｈ）
ＧＣ−ＭＳ Ｍ＋ = ３７０
相系列：Ｃ１７．６Ｉ（Ｃ：結晶、Ｉ：等方相）
1Ｈ−ＮＭＲ（２８２．６ＭＨｚ、溶媒ＣＤＣｌ３、基準：ＳｉＭｅ４）δ（ｐｐｍ）：７．３６（ｄ，２Ｈ，Ａｒ）、７．１６（ｄ，２Ｈ，Ａｒ）、６．０５（ｍ，２Ｈ，vinyl）、５．４７（ｍ，２Ｈ，vinyl）、２．５５（ｔ，２Ｈ，ＣＨ２）、１．６９−０．７８（ｍ，２２Ｈ）
ＧＣ−ＭＳ Ｍ＋ = ３７０
相系列：Ｃ１７．６Ｉ（Ｃ：結晶、Ｉ：等方相）
上記化合物（１Ｂ）１０質量％と、メルク社製液晶組成物「ＺＬＩ−１５６５」９０質量％とを混合して得られた組成物を用いて、２５℃における屈折率異方性（Δｎ）を外挿により求めたところ、０．０５５であった。
（合成例１）
窒素気流下、カテコール１８．６５ｇとＴＨＦ９０ｍｌを氷冷したところに、０．９［ｍｏｌ／ｌ］ボラン−テトラヒドロフラン錯体のＴＨＦ溶液１６８ｍｌ滴下し、室温まで徐々に昇温を行った。（４−プロピルフェニル）アセチレン２０．０５ｇを滴下し、４０℃で３時間撹拌した。氷冷した後、水１９０ｍｌを滴下し、一晩撹拌した。トルエンで抽出、濃縮しホウ酸誘導体の粗生成物３５．７１ｇを得た。精製を行うことなくそのまま次工程に用いた。
上記で得られたホウ酸誘導体３５．７１ｇとエーテル１００ｍｌを冷却し、水酸化ナトリウム１２ｇと水１００ｍｌを滴下した。さらに、ヨウ素４２．６０ｇとエーテル３００ｍｌを滴下し、１時間撹拌した。１０％チオ硫酸ナトリウムを用いてクエンチを行った後、ろ過、有機層をトルエンで抽出し、５％重炭酸ナトリウム水溶液、水で洗浄し、濃縮を行った。得られた粗生成物をシリカクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン）で精製を行い化合物（５Ｃ）２４．５３ｇを得た。
窒素気流下、カテコール１８．６５ｇとＴＨＦ９０ｍｌを氷冷したところに、０．９［ｍｏｌ／ｌ］ボラン−テトラヒドロフラン錯体のＴＨＦ溶液１６８ｍｌ滴下し、室温まで徐々に昇温を行った。（４−プロピルフェニル）アセチレン２０．０５ｇを滴下し、４０℃で３時間撹拌した。氷冷した後、水１９０ｍｌを滴下し、一晩撹拌した。トルエンで抽出、濃縮しホウ酸誘導体の粗生成物３５．７１ｇを得た。精製を行うことなくそのまま次工程に用いた。
上記で得られたホウ酸誘導体３５．７１ｇとエーテル１００ｍｌを冷却し、水酸化ナトリウム１２ｇと水１００ｍｌを滴下した。さらに、ヨウ素４２．６０ｇとエーテル３００ｍｌを滴下し、１時間撹拌した。１０％チオ硫酸ナトリウムを用いてクエンチを行った後、ろ過、有機層をトルエンで抽出し、５％重炭酸ナトリウム水溶液、水で洗浄し、濃縮を行った。得られた粗生成物をシリカクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン）で精製を行い化合物（５Ｃ）２４．５３ｇを得た。
（実施例３）
窒素気流下、化合物（２Ｂ）２８．０５ｇ、合成例１と同様にして得た化合物（５Ｃ）３２．４１ｇ、銅粉１０．８１ｇおよびジメチルスルホキシド２００ｍｌとを、１３０℃で５時間加熱後、１４０℃で８時間加熱を行った。得られた粗油を室温まで冷却し、水１００ｍｌを滴下した。有機層をヘキサンで抽出、中性になるまで水で洗浄し、濃縮を行った。得られた粗生成物をシリカクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン）で精製後、ヘキサンから再結晶を行い化合物（１Ｃ）４．９０ｇを得た。
窒素気流下、化合物（２Ｂ）２８．０５ｇ、合成例１と同様にして得た化合物（５Ｃ）３２．４１ｇ、銅粉１０．８１ｇおよびジメチルスルホキシド２００ｍｌとを、１３０℃で５時間加熱後、１４０℃で８時間加熱を行った。得られた粗油を室温まで冷却し、水１００ｍｌを滴下した。有機層をヘキサンで抽出、中性になるまで水で洗浄し、濃縮を行った。得られた粗生成物をシリカクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン）で精製後、ヘキサンから再結晶を行い化合物（１Ｃ）４．９０ｇを得た。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．６ＭＨｚ、溶媒ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：−１１０．３７（ｍ，２Ｆ，ＣＦ２）、−１１８．９４（ｍ，２Ｆ，ＣＦ２）
１Ｈ−ＮＭＲ（２８２．６ＭＨｚ、溶媒ＣＤＣｌ３、基準：ＳｉＭｅ４）δ（ｐｐｍ）：７．３７（ｄ，２Ｈ，Ａｒ）、７．１７（ｄ，２Ｈ，Ａｒ）、７．０３（ｄ，１Ｈ，vinyl）、６．１９（ｍ，１Ｈ，vinyl）、２．５９（ｔ，２Ｈ，ＣＨ２）、２．０−１．０（ｍ，２２Ｈ）
ＧＣ−ＭＳ Ｍ＋ = ３６４
相系列：Ｃ３９．４℃Ｉ（Ｃ：結晶、Ｉ：等方相）
１Ｈ−ＮＭＲ（２８２．６ＭＨｚ、溶媒ＣＤＣｌ３、基準：ＳｉＭｅ４）δ（ｐｐｍ）：７．３７（ｄ，２Ｈ，Ａｒ）、７．１７（ｄ，２Ｈ，Ａｒ）、７．０３（ｄ，１Ｈ，vinyl）、６．１９（ｍ，１Ｈ，vinyl）、２．５９（ｔ，２Ｈ，ＣＨ２）、２．０−１．０（ｍ，２２Ｈ）
ＧＣ−ＭＳ Ｍ＋ = ３６４
相系列：Ｃ３９．４℃Ｉ（Ｃ：結晶、Ｉ：等方相）
上記化合物（１Ｃ）１０質量％と、メルク社製液晶組成物「ＺＬＩ−１５６５」９０質量％とを混合して得られた組成物を用いて、２５℃における屈折率異方性（Δｎ）を外挿により求めたところ、０．１００であった。
（実施例４）
窒素気流下、化合物（２Ａ）２８．０５ｇ、合成例１と同様にして得た化合物（５Ｃ）２０．０８ｇ、銅粉１１．０２ｇ およびジメチルスルホキシド２００ｍｌとを、１３０℃で２時間半、１４０℃で６時間加熱を行った。得られた粗油を室温まで冷却し、水１００ｍｌを滴下した。有機層をヘキサンで抽出後、５％重炭酸ナトリウム水溶液および水で洗浄し、濃縮を行った。得られた粗生成物をシリカクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン）で精製後、ヘキサンから再結晶を行い化合物（１Ｄ）８．３４ｇを得た。
窒素気流下、化合物（２Ａ）２８．０５ｇ、合成例１と同様にして得た化合物（５Ｃ）２０．０８ｇ、銅粉１１．０２ｇ およびジメチルスルホキシド２００ｍｌとを、１３０℃で２時間半、１４０℃で６時間加熱を行った。得られた粗油を室温まで冷却し、水１００ｍｌを滴下した。有機層をヘキサンで抽出後、５％重炭酸ナトリウム水溶液および水で洗浄し、濃縮を行った。得られた粗生成物をシリカクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン）で精製後、ヘキサンから再結晶を行い化合物（１Ｄ）８．３４ｇを得た。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．６ＭＨｚ、溶媒ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：−１１０．３３（ｍ，２Ｆ，ＣＦ２），１１８．８４（ｍ，２Ｆ，ＣＦ２）
１Ｈ−ＮＭＲ（２８２．６ＭＨｚ、溶媒ＣＤＣｌ３、基準：ＳｉＭｅ４）δ（ｐｐｍ）：７．３７（ｄ，２Ｈ，Ａｒ），７．１７（ｄ，２Ｈ，Ａｒ），７．０２（ｍ，１Ｈ，vinyl），６．１９（ｍ，１Ｈ，vinyl），２．５９（ｔ，２Ｈ，benzyl），２．６−０．８５（ｍ，２２Ｈ）
ＧＣ−ＭＳ Ｍ＋＝３６０
相系列：Ｃ（４３．１Ｎ）４５．８℃Ｉ（Ｃ：結晶、Ｎ：ネマチック相、Ｉ：等方相）
１Ｈ−ＮＭＲ（２８２．６ＭＨｚ、溶媒ＣＤＣｌ３、基準：ＳｉＭｅ４）δ（ｐｐｍ）：７．３７（ｄ，２Ｈ，Ａｒ），７．１７（ｄ，２Ｈ，Ａｒ），７．０２（ｍ，１Ｈ，vinyl），６．１９（ｍ，１Ｈ，vinyl），２．５９（ｔ，２Ｈ，benzyl），２．６−０．８５（ｍ，２２Ｈ）
ＧＣ−ＭＳ Ｍ＋＝３６０
相系列：Ｃ（４３．１Ｎ）４５．８℃Ｉ（Ｃ：結晶、Ｎ：ネマチック相、Ｉ：等方相）
上記化合物（１Ｄ）１０質量％と、メルク社製液晶組成物「ＺＬＩ−１５６５」９０質量％とを混合して得られた組成物を用いて、２５℃における屈折率異方性（Δｎ）を外挿により求めたところ、０．１２２であった。
また、メルク社製液晶組成物ＺＬＩ−１５６５を母液晶として用い、下記物性を測定した。なお、化合物Ｃ１および化合物Ｃ２は、特開平１０−７５９８号公報記載の方法を参考に合成した。
［透明点］
偏光顕微鏡を備えた融点測定装置のホットプレート（メトラー社ＦＰ−８２ＨＴ型ホットステージ）に、試料（目的化合物と母液晶との混合物）を置き、１℃／分の速度で加熱しながら偏光顕微鏡を観察した。試料の一部が液晶相から等方性液体に変化したときの温度を透明点（Ｔｃ）として、外挿により求めた。試料として母液晶９０質量％、化合物（１Ａ）１０質量％からなる液晶組成物と、母液晶９０質量％、化合物（Ｃ１）１０質量％からなる液晶組成物をそれぞれ調整し、透明点を求めた。結果を表１に示す。
偏光顕微鏡を備えた融点測定装置のホットプレート（メトラー社ＦＰ−８２ＨＴ型ホットステージ）に、試料（目的化合物と母液晶との混合物）を置き、１℃／分の速度で加熱しながら偏光顕微鏡を観察した。試料の一部が液晶相から等方性液体に変化したときの温度を透明点（Ｔｃ）として、外挿により求めた。試料として母液晶９０質量％、化合物（１Ａ）１０質量％からなる液晶組成物と、母液晶９０質量％、化合物（Ｃ１）１０質量％からなる液晶組成物をそれぞれ調整し、透明点を求めた。結果を表１に示す。
[バルク粘度]
母液晶９０質量％、化合物（１Ａ）１０質量％からなる液晶組成物を調整し、ずり粘度計を用いて２５℃にて測定後、外挿によって算出した。母液晶９０質量％、比較化合物（Ｃ２）１０質量％からなる液晶組成物を調製し、同様に測定と算出を行なった。結果を表２に示す。
母液晶９０質量％、化合物（１Ａ）１０質量％からなる液晶組成物を調整し、ずり粘度計を用いて２５℃にて測定後、外挿によって算出した。母液晶９０質量％、比較化合物（Ｃ２）１０質量％からなる液晶組成物を調製し、同様に測定と算出を行なった。結果を表２に示す。
実施例および合成例に基づいて、化合物（１）として下記の化合物を製造することができる。
下記に示す式中、−Ｐｈ−および−Ｃｙ−は前記と同様であり、他の記号は以下の意味を示す。
−Ｐｈ（３Ｆ）−：３−フルオロ−１，４−フェニレン基。
−Ｐｈ（３Ｆ，５Ｆ）−：３，５−ジフルオロ−１，４−フェニレン基。
−Ｐｈ（２Ｆ，３Ｆ）−：２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン基。
下記に示す式中、−Ｐｈ−および−Ｃｙ−は前記と同様であり、他の記号は以下の意味を示す。
−Ｐｈ（３Ｆ）−：３−フルオロ−１，４−フェニレン基。
−Ｐｈ（３Ｆ，５Ｆ）−：３，５−ジフルオロ−１，４−フェニレン基。
−Ｐｈ（２Ｆ，３Ｆ）−：２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン基。
ＣＨ３−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｃ３Ｈ７
Ｃ２Ｈ５−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｃ２Ｈ５
Ｃ２Ｈ５−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｃ３Ｈ７
Ｃ２Ｈ５−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｃ５Ｈ１１
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｃ４Ｈ９
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｃ５Ｈ１１
Ｃ５Ｈ１１−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｃ５Ｈ１１
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−ＯＣＨ３
Ｃ２Ｈ５−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｃ２Ｈ５
Ｃ２Ｈ５−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｃ３Ｈ７
Ｃ２Ｈ５−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｃ５Ｈ１１
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｃ４Ｈ９
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｃ５Ｈ１１
Ｃ５Ｈ１１−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｃ５Ｈ１１
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−ＯＣＨ３
ＣＨ３−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｃ３Ｈ７
Ｃ２Ｈ５−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｃ３Ｈ７
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｃ２Ｈ５
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｃ４Ｈ９
Ｃ５Ｈ１１−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｃ３Ｈ７
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−ＯＣＨ３
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−ＣＦ３
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−ＯＣＦ３
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｆ
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ（３Ｆ）−Ｆ
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ（３Ｆ，５Ｆ）−Ｆ
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｆ
Ｃ２Ｈ５−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｃ３Ｈ７
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｃ２Ｈ５
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｃ４Ｈ９
Ｃ５Ｈ１１−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｃ３Ｈ７
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−ＯＣＨ３
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−ＣＦ３
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−ＯＣＦ３
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｆ
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ（３Ｆ）−Ｆ
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ（３Ｆ，５Ｆ）−Ｆ
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｆ
ＣＨ３−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ３Ｈ７
Ｃ２Ｈ５−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ３Ｈ７
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ２Ｈ５
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ３Ｈ７
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ４Ｈ９
Ｃ５Ｈ１１−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ３Ｈ７
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−ＯＣＨ３
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−ＣＦ３
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−ＯＣＦ３
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｆ
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ（３Ｆ）−Ｆ
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ（３Ｆ，５Ｆ）−Ｆ
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｆ
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ（３Ｆ，５Ｆ）−Ｐｈ（３Ｆ，５Ｆ）−Ｆ
Ｃ２Ｈ５−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ３Ｈ７
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ２Ｈ５
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ３Ｈ７
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ４Ｈ９
Ｃ５Ｈ１１−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ３Ｈ７
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−ＯＣＨ３
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−ＣＦ３
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−ＯＣＦ３
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｆ
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ（３Ｆ）−Ｆ
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ（３Ｆ，５Ｆ）−Ｆ
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｆ
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ（３Ｆ，５Ｆ）−Ｐｈ（３Ｆ，５Ｆ）−Ｆ
ＣＨ３−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ３Ｈ７
Ｃ２Ｈ５−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ３Ｈ７
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ２Ｈ５
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ３Ｈ７
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ４Ｈ９
Ｃ５Ｈ１１−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ３Ｈ７
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｐｈ−ＯＣＨ３
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｐｈ−ＣＦ３
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｐｈ−ＯＣＦ３
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｆ
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｐｈ（３Ｆ）−Ｆ
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｐｈ（３Ｆ，５Ｆ）−Ｆ
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｐｈ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｆ
Ｃ２Ｈ５−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ３Ｈ７
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ２Ｈ５
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ３Ｈ７
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ４Ｈ９
Ｃ５Ｈ１１−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ３Ｈ７
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｐｈ−ＯＣＨ３
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｐｈ−ＣＦ３
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｐｈ−ＯＣＦ３
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｆ
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｐｈ（３Ｆ）−Ｆ
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｐｈ（３Ｆ，５Ｆ）−Ｆ
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｐｈ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｆ
ＣＨ３−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｃ３Ｈ７
Ｃ２Ｈ５−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｃ２Ｈ５
Ｃ２Ｈ５−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｃ３Ｈ７
Ｃ２Ｈ５−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｃ５Ｈ１１
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｃ２Ｈ５
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｃ３Ｈ７
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｃ４Ｈ９
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｃ５Ｈ１１
Ｃ５Ｈ１１−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｃ２Ｈ５
Ｃ５Ｈ１１−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｃ３Ｈ７
Ｃ５Ｈ１１−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｃ５Ｈ１１
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−ＯＣＨ３
Ｃ２Ｈ５−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｃ２Ｈ５
Ｃ２Ｈ５−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｃ３Ｈ７
Ｃ２Ｈ５−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｃ５Ｈ１１
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｃ２Ｈ５
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｃ３Ｈ７
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｃ４Ｈ９
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｃ５Ｈ１１
Ｃ５Ｈ１１−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｃ２Ｈ５
Ｃ５Ｈ１１−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｃ３Ｈ７
Ｃ５Ｈ１１−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｃ５Ｈ１１
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−ＯＣＨ３
ＣＨ３−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｃ３Ｈ７
Ｃ２Ｈ５−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｃ３Ｈ７
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｃ２Ｈ５
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｃ３Ｈ７
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｃ４Ｈ９
Ｃ５Ｈ１１−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｃ３Ｈ７
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−ＯＣＨ３
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−ＣＦ３
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−ＯＣＦ３
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｆ
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ（３Ｆ）−Ｆ
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ（３Ｆ，５Ｆ）−Ｆ
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｆ
Ｃ２Ｈ５−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｃ３Ｈ７
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｃ２Ｈ５
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｃ３Ｈ７
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｃ４Ｈ９
Ｃ５Ｈ１１−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｃ３Ｈ７
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−ＯＣＨ３
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−ＣＦ３
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−ＯＣＦ３
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｆ
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ（３Ｆ）−Ｆ
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ（３Ｆ，５Ｆ）−Ｆ
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｆ
ＣＨ３−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｃｙ−Ｃ３Ｈ７
Ｃ２Ｈ５−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｃｙ−Ｃ２Ｈ５
Ｃ２Ｈ５−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｃｙ−Ｃ３Ｈ７
Ｃ２Ｈ５−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｃｙ−Ｃ５Ｈ１１
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｃｙ−Ｃ２Ｈ５
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｃｙ−Ｃ３Ｈ７
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｃｙ−Ｃ４Ｈ９
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｃｙ−Ｃ５Ｈ１１
Ｃ５Ｈ１１−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｃｙ−Ｃ２Ｈ５
Ｃ５Ｈ１１−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｃｙ−Ｃ３Ｈ７
Ｃ５Ｈ１１−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｃｙ−Ｃ５Ｈ１１
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｃｙ−ＯＣＨ３
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ３
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｃｙ−ＯＣＦ３
Ｃ２Ｈ５−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｃｙ−Ｃ２Ｈ５
Ｃ２Ｈ５−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｃｙ−Ｃ３Ｈ７
Ｃ２Ｈ５−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｃｙ−Ｃ５Ｈ１１
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｃｙ−Ｃ２Ｈ５
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｃｙ−Ｃ３Ｈ７
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｃｙ−Ｃ４Ｈ９
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｃｙ−Ｃ５Ｈ１１
Ｃ５Ｈ１１−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｃｙ−Ｃ２Ｈ５
Ｃ５Ｈ１１−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｃｙ−Ｃ３Ｈ７
Ｃ５Ｈ１１−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｃｙ−Ｃ５Ｈ１１
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｃｙ−ＯＣＨ３
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ３
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｙ−Ｃｙ−ＯＣＦ３
ＣＨ３−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ３Ｈ７
Ｃ２Ｈ５−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ３Ｈ７
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ２Ｈ５
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ３Ｈ７
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ４Ｈ９
Ｃ５Ｈ１１−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ３Ｈ７
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−ＯＣＨ３
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−ＣＦ３
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−ＯＣＦ３
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｆ
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ（３Ｆ）−Ｆ
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ（３Ｆ，５Ｆ）−Ｆ
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｆ
Ｃ２Ｈ５−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ３Ｈ７
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ２Ｈ５
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ３Ｈ７
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ４Ｈ９
Ｃ５Ｈ１１−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ３Ｈ７
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−ＯＣＨ３
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−ＣＦ３
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−ＯＣＦ３
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｆ
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ（３Ｆ）−Ｆ
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ（３Ｆ，５Ｆ）−Ｆ
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｆ
ＣＨ３−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ３Ｈ７
Ｃ２Ｈ５−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ３Ｈ７
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ２Ｈ５
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ３Ｈ７
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ４Ｈ９
Ｃ５Ｈ１１−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ３Ｈ７
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−ＯＣＨ３
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−ＣＦ３
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−ＯＣＦ３
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｆ
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ（３Ｆ）−Ｆ
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ（３Ｆ，５Ｆ）−Ｆ
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｆ
Ｃ２Ｈ５−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ３Ｈ７
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ２Ｈ５
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ３Ｈ７
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ４Ｈ９
Ｃ５Ｈ１１−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ３Ｈ７
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−ＯＣＨ３
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−ＣＦ３
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−ＯＣＦ３
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｆ
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ（３Ｆ）−Ｆ
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ（３Ｆ，５Ｆ）−Ｆ
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｆ
ＣＨ３−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ３Ｈ７
Ｃ２Ｈ５−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ３Ｈ７
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ２Ｈ５
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ３Ｈ７
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ４Ｈ９
Ｃ５Ｈ１１−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ３Ｈ７
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−ＯＣＨ３
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−ＣＦ３
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−ＯＣＦ３
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｆ
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ（３Ｆ）−Ｆ
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ（３Ｆ，５Ｆ）−Ｆ
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｆ
Ｃ２Ｈ５−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ３Ｈ７
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ２Ｈ５
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ３Ｈ７
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ４Ｈ９
Ｃ５Ｈ１１−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ３Ｈ７
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−ＯＣＨ３
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−ＣＦ３
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−ＯＣＦ３
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｆ
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ（３Ｆ）−Ｆ
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ（３Ｆ，５Ｆ）−Ｆ
Ｃ３Ｈ７−Ｃｙ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｆ
Claims (5)
- 下式（１）で表される含フッ素液晶化合物。
Ｒ1-(Ａ1-Ｚ1)ｍ-(Ａ２-Ｚ２)ｎ-(Ａ３-Ｚ３)ｏ-Ａ４-ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ-Ａ５-(Ｚ４-Ａ６)ｐ-(Ｚ５-Ａ７)ｑ-(Ｚ６-Ａ８)ｒ-Ｒ２ （１）
上記式（１）中の記号は以下の意味を示す。
Ｒ１、Ｒ２：相互に独立して、ハロゲン原子、または炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数２〜１０のアルケニル基または炭素数２〜１０のアルキニル基。ただし、基中の１以上の水素原子がフッ素原子で置換されていてもよく、基中の炭素−炭素原子間または該脂肪族炭化水素基の結合末端に、−Ｏ−または−Ｓ−が挿入されていてもよい。
Ａ1、Ａ２、Ａ３、Ａ４、Ａ５、Ａ６、Ａ７、Ａ８：相互に独立して、トランス−１，４−シクロへキシレン基または１，４−フェニレン基。ただし該１，４−フェニレン基中に存在する水素原子の１つ以上がフッ素原子に置換されていてもよい。
Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３、Ｚ４、Ｚ５、Ｚ６ ：単結合。
ｍ、ｎ、ｏ、ｐ、ｑ、ｒ：相互に独立して０または１。ただし、ｍ＋ｎ＋ｏ＋ｐ＋ｑ＋ｒは３以下である。 - 下記工程１および工程２を含む、請求項１に記載の式（１）で表される化合物の製造方法。
工程１：下式（２）で表される化合物と下式（３）で表される化合物との付加反応により、下式（４）で表される化合物を製造する工程。
工程２：下式（４）で表される化合物を塩基の存在下で脱ハロゲン化水素して、下式（１）で表される化合物を得る工程。
Ｒ1-(Ａ1-Ｚ1)ｍ-(Ａ２-Ｚ２)ｎ-(Ａ３-Ｚ３)ｏ-Ａ４-ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ-Ａ５-(Ｚ４-Ａ６)ｐ-(Ｚ５-Ａ７)ｑ-(Ｚ６-Ａ８)ｒ-Ｒ２ （１）
Ｒ1-(Ａ1-Ｚ1)ｍ-(Ａ２-Ｚ２)ｎ-(Ａ３-Ｚ３)ｏ-Ａ４-ＣＦ２ＣＦ２Ｘ１（２）
ＣＨ２＝ＣＨ-Ａ５-(Ｚ４-Ａ６)ｐ-(Ｚ５-Ａ７)ｑ-(Ｚ６-Ａ８)ｒ-Ｒ２（３）
Ｒ1-(Ａ1-Ｚ1)ｍ-(Ａ２-Ｚ２)ｎ-(Ａ３-Ｚ３)ｏ-Ａ４-ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＣＨＸ１-Ａ５-(Ｚ４-Ａ６)ｐ-(Ｚ５-Ａ７)ｑ-(Ｚ６-Ａ８)ｒ-Ｒ２（４）
上記各式中、Ｘ１は塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子であり、Ｒ１、Ｒ２、Ａ１、Ａ２、Ａ３、Ａ４、Ａ５、Ａ６、Ａ７、Ａ８、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３、Ｚ４、Ｚ５、Ｚ６、ｍ、ｎ、ｏ、ｐ、ｑ、ｒは、請求項１における各記号と同じ意味を示す。 - 下式（２）で表される化合物を下式（５）で表される化合物に反応させることによる、請求項１に記載の式（１）で表される化合物の製造方法。
Ｒ1-(Ａ1-Ｚ1)ｍ-(Ａ２-Ｚ２)ｎ-(Ａ３-Ｚ３)ｏ-Ａ４-ＣＦ２ＣＦ２Ｘ１（２）
↓ＣＨＸ２＝ＣＨ-Ａ５-(Ｚ４-Ａ６)ｐ-(Ｚ５-Ａ７)ｑ-(Ｚ６-Ａ８)ｒ-Ｒ２（５）
Ｒ1-(Ａ1-Ｚ1)ｍ-(Ａ２-Ｚ２)ｎ-(Ａ３-Ｚ３)ｏ-Ａ４-ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ-Ａ５-(Ｚ４-Ａ６)ｐ-(Ｚ５-Ａ７)ｑ-(Ｚ６-Ａ８)ｒ-Ｒ２ （１）
上記各式中、Ｘ１およびＸ２は相互に独立して塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子であり、Ｒ１、Ｒ２、Ａ１、Ａ２、Ａ３、Ａ４、Ａ５、Ａ６、Ａ７、Ａ８、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３、Ｚ４、Ｚ５、Ｚ６、ｍ、ｎ、ｏ、ｐ、ｑ、ｒは、請求項１における各記号と同じ意味を示す。 - 請求項１に記載の含フッ素液晶化合物を含有する液晶組成物。
- 請求項４に記載の液晶組成物を電極付き基板間に挟持した液晶電気光学素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2010258633A JP5680381B2 (ja) | 2010-11-19 | 2010-11-19 | 液晶化合物、その製造方法、液晶組成物および液晶電気光学素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2010258633A JP5680381B2 (ja) | 2010-11-19 | 2010-11-19 | 液晶化合物、その製造方法、液晶組成物および液晶電気光学素子 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2012106969A JP2012106969A (ja) | 2012-06-07 |
| JP5680381B2 true JP5680381B2 (ja) | 2015-03-04 |
Family
ID=46493023
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2010258633A Active JP5680381B2 (ja) | 2010-11-19 | 2010-11-19 | 液晶化合物、その製造方法、液晶組成物および液晶電気光学素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5680381B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN113717735B (zh) * | 2021-08-12 | 2023-08-08 | 烟台显华科技集团股份有限公司 | 正介电各向异性液晶化合物、液晶组合物及液晶显示器件 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5204018A (en) * | 1990-02-01 | 1993-04-20 | Hoffmann-La Roche Inc. | Liquid crystals |
| JP3669058B2 (ja) * | 1995-06-22 | 2005-07-06 | チッソ株式会社 | アルケニルシクロヘキサン誘導体、液晶組成物および液晶表示素子 |
| TW386106B (en) * | 1996-03-28 | 2000-04-01 | Chisso Corp | Alkenyl compounds, liquid crystal compositions, and liquid crystal display devices |
| CN101616883B (zh) * | 2007-01-24 | 2014-06-18 | Jnc株式会社 | 液晶性化合物、液晶组成物以及液晶显示元件 |
-
2010
- 2010-11-19 JP JP2010258633A patent/JP5680381B2/ja active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2012106969A (ja) | 2012-06-07 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP6137419B2 (ja) | ネマチック液晶組成物及びこれを用いた液晶表示素子 | |
| KR20140043838A (ko) | 액정 조성물 및 상기 액정 조성물을 포함하는 액정 디스플레이 디바이스 | |
| US9315727B2 (en) | Compound having fluorinated naphthalene structure and liquid crystal composition of the same | |
| TW201502254A (zh) | 液晶組成物及液晶顯示元件 | |
| US7108895B2 (en) | Liquid crystal composition containing an optically active compound and liquid crystal electro-optical element | |
| JP4887605B2 (ja) | クロマン誘導体及びこの化合物を含有する液晶組成物 | |
| JP6070110B2 (ja) | フッ素化ナフタレン構造を持つ化合物 | |
| US8273420B2 (en) | Liquid crystal compound and process for production thereof, liquid crystal composition, and liquid crystal electrooptical element | |
| JP5199552B2 (ja) | 含フッ素化合物、含フッ素化合物の製造方法およびその用途 | |
| JP2019099515A (ja) | 液晶化合物及びその組成物 | |
| JP6115303B2 (ja) | 隣接基としてカルボニル基を有するフェノール化合物およびその用途 | |
| JP5680381B2 (ja) | 液晶化合物、その製造方法、液晶組成物および液晶電気光学素子 | |
| JPWO2010074071A1 (ja) | 含フッ素液晶化合物、液晶組成物および液晶電気光学素子 | |
| JP2011207871A (ja) | 液晶化合物、その製造方法、液晶組成物および液晶電気光学素子 | |
| JP2013112621A (ja) | 液晶化合物、その製造方法、液晶組成物および液晶電気光学素子 | |
| JP5680380B2 (ja) | 液晶化合物、その製造方法、液晶組成物および液晶電気光学素子 | |
| JP5763937B2 (ja) | 液晶化合物、その製造方法、液晶組成物および液晶電気光学素子 | |
| JP4573399B2 (ja) | ジフルオロベンゾニトリル化合物およびその中間体、製造方法、液晶組成物および液晶電気光学素子 | |
| JP5763938B2 (ja) | 液晶化合物、その製造方法、液晶組成物および液晶電気光学素子 | |
| JP2013112620A (ja) | 液晶化合物、その製造方法、液晶組成物および液晶電気光学素子 | |
| JP2012126709A (ja) | 液晶化合物、液晶組成物および液晶素子 | |
| JP4501388B2 (ja) | ジフルオロテトラヒドロナフタレン誘導体を含有する液晶組成物及び液晶性化合物 | |
| JP2003261562A (ja) | 含フッ素結合基を有する化合物及びそれを含有する液晶組成物及び液晶素子 | |
| JPH10130188A (ja) | トラン誘導体化合物およびその用途 | |
| JP2012006860A (ja) | 含フッ素液晶化合物、該化合物の製造方法、液晶組成物および液晶電気光学素子 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130829 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140812 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20141014 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20141216 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150107 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5680381 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |