JP5840078B2 - 薄膜形成装置及び薄膜形成方法 - Google Patents

Description

本発明は、ノズル孔から薄膜材料の液滴を吐出させて基板に薄膜パターンを形成する薄膜形成装置、及び薄膜形成方法に関する。

プリント配線板にソルダーレジストのパターンを形成する従来の方法について説明する。まず、表面に回路パターンが形成されたプリント配線板の全面に、感光性のソルダーレジストを塗布する。所定のマスクパターンを用いて、ソルダーレジスト膜を露光し、その後現像することにより、ソルダーレジストのパターンが形成される。

ソルダーレジストを液滴化して、プリント配線板の所望の領域にのみ液滴を付着させ、硬化させることにより、ソルダーレジストのパターンを形成する技術が注目されている。ソルダーレジストの液滴は、複数のノズル孔からプリント配線板に向けて吐出される。プリント配線板の表面に付着した液滴に紫外線を照射することにより、液滴を硬化させることができる。プリント配線板をＸＹステージに保持して、Ｘ方向またはＹ方向に移動させながら、複数のノズル孔の各々から所定のタイミングで液滴を吐出させることにより、所定のパターンの薄膜が形成される。

特開２００４−１０４１０４号公報

基板をＸ方向及びＹ方向に移動させる構成を採用すると、薄膜形成装置を設置するために、少なくとも１方向に関して基板の寸法の２倍の寸法を有するフットプリントを確保しなければならない。
本発明の目的は、フットプリントを小さくすることが可能な薄膜形成装置、及び薄膜形成方法を提供することである。

本発明の一観点によると、
処理対象物である基板を保持面に保持するステージと、
前記ステージの前記保持面に対向し、前記保持面に保持された基板に向けて薄膜材料の液滴を吐出する複数のノズル孔が設けられたノズルユニットと、
前記保持面に垂直な仮想直線を回転中心として、前記ステージ及び前記ノズルユニットの一方を他方に対して回転させる回転駆動機構と、
前記ノズルユニットからの液滴の吐出を制御する制御装置と
を有し、
前記制御装置は、前記回転中心を中心とする円周上に分布する前記液滴が着弾可能な点の個数が、外周側において相対的に多く、内周側において相対的に少なくなるように、前記ノズルユニットを制御するとともに、
形成すべき薄膜のパターンを定義した画像データに基づいて、前記回転駆動機構及び前記ノズルユニットを制御する薄膜形成装置が提供される。
本発明の他の観点によると、
薄膜を形成すべき塗布表面を有する基板を、前記塗布表面に対して垂直な仮想直線を回転中心として回転させる工程と、
回転している前記基板の前記塗布表面に向けて、複数のノズル孔から薄膜材料の液滴を吐出させて前記薄膜材料を前記塗布表面に付着させる工程と
を有し、
前記薄膜材料を前記塗布表面に付着させる工程において、前記回転中心を中心とする円周上に分布する前記液滴が着弾可能な点の個数が、外周側において相対的に多く、内周側において相対的に少なくなるように、前記薄膜のパターンを定義した画像データに基づいて、前記液滴を吐出させる薄膜形成方法が提供される。

ステージまたはノズルユニットの一方を回転させる構成とすることにより、装置のフットプリントを小さくすることが可能になる。

図１は、実施例１による薄膜形成装置の概略図である。 図２Ａは、実施例１による薄膜形成装置のステージ及びノズルユニットの平面図であり、図２Ｂは、薄膜が形成された基板の平面図である。 図３は、実施例１による薄膜形成装置で形成される薄膜パターンの画素の分布を示す図である。 図４Ａ及び図４Ｂは、それぞれ実施例１及び比較例による薄膜形成装置のフットプリントの大きさを示す図である。 図５は、実施例２による薄膜形成装置のステージ及びノズルユニットの平面図である。 図６は、実施例３による薄膜形成装置のステージ及びノズルユニットの平面図である。 図７は、実施例４による薄膜形成装置のステージ及びノズルユニットの平面図である。 図８は、実施例５による薄膜形成装置のステージ及びノズルユニットの平面図である。 図９は、実施例６による薄膜形成装置のステージ、ノズルユニット及び基板の平面図である。 図１０Ａ及び図１０Ｂは、実施例７による薄膜形成装置のステージ及びノズルユニットの平面図である。 図１１は、実施例８による薄膜形成装置の概略図である。 図１２Ａ及び図１２Ｂは、実施例８による薄膜形成装置のステージ及びノズルユニットの平面図である。 図１３は、実施例９による薄膜形成装置の概略図である。 図１４は、実施例１０による薄膜形成装置の概略図である。 図１５は、実施例１１による薄膜形成装置の概略図である。

［実施例１］
図１に、実施例１による薄膜形成装置の概略図を示す。定盤２０の上に、回転駆動機構２１によりステージ２５が支持されている。ステージ２５の上面（保持面）に、プリント配線板等の基板３０が保持される。ステージ２５の保持面に平行な方向をＸ方向及びＹ方向とし、保持面の法線方向をＺ方向とするＸＹＺ直交座標系を定義する。回転駆動機構２１は、Ｚ軸に平行な仮想直線を回転中心として、定盤２０に対してステージ２５を回転させる。

定盤２０の上方に、支柱２６によって梁２７が支えられている。梁２７に、ノズルユニット支持機構４１及び撮像装置４２が取り付けられている。ノズルユニット支持機構４１に、ノズルユニット４０が支持されている。撮像装置４２及びノズルユニット４０は、ステージ２５に保持された基板３０に対向する。ノズルユニット支持機構４１はノズルユニット４０を定盤２０に対して昇降（Ｚ方向に移動）させる。

撮像装置４２は、基板３０の表面に形成されている配線パターン、アライメントマーク、基板３０に形成された薄膜パターン等を撮像する。撮像されて得られた画像データが、制御装置３３に入力される。ノズルユニット４０は、複数のノズル孔から基板３０に向けて、紫外線硬化型の薄膜材料の液滴、例えばソルダーレジスト等の液滴を吐出する。吐出された薄膜材料が、基板３０の表面に付着する。

制御装置３３が、移動機構２１、ノズルユニット４０、及び撮像装置４２を制御する。制御装置３３には、基板３０に形成すべき薄膜パターンの画像データ等が記憶されている。オペレータが、入力装置３５を通して制御装置３３に、種々の指令（コマンド）や、制御に必要な数値データを入力する。入力装置３５には、例えばキーボード、タッチパネル、ポインティングデバイス等が用いられる。制御装置３３は、出力装置３６からオペレータに対して各種情報を出力する。出力装置３６には液晶ディスプレイ等が用いられる。

図２Ａに、ステージ２５及びノズルユニット４０の平面図を示す。平面視において、ステージ２５に基板３０が内包される。ステージ２５は、Ｚ軸に平行な回転中心４３を中心として回転する。基板３０の平面形状は、例えば長方形または正方形である。基板３０は、その中心が回転中心４３と一致するように、ステージ２５に保持される。

ノズルユニット４０が、回転中心４３から半径方向に伸びる。ノズルユニット４０の、ステージ２５に対向する面に、複数のノズル孔４５が配置されている。ノズル孔４５は、回転中心４３を中心とする円の半径方向に沿って、等間隔に配置されている。半径方向に沿って配置された複数のノズル孔４５を含むノズル列４６の長さは、ステージ２５を１回転させたとき、基板３０の表面の全域がノズル列４６の直下を通過するように設定されている。すなわち、ノズル列４６は、基板３０の対角線の長さの１／２以上である。ステージ２５を回転させながら、ノズル孔４５から薄膜材料の液滴を吐出させることにより、基板３０の表面に薄膜材料を付着させることができる。

ノズル列４６に並走するように、紫外光源４７が配置されている。紫外光源４７は、基板３０の表面の、半径方向に長い領域に紫外線を照射する。紫外光源４７は、ステージ２５の回転によって、液滴の着弾点が移動する方向に関して、ノズルユニット４０よりも下流側に配置されている。このため、基板３０の表面に着弾した薄膜材料は、着弾した直後に、紫外光源４７から放射された紫外線に照射され、硬化される。これにより、液状材料の面内方向の広がりを抑制することができる。

図２Ｂに、薄膜が形成された基板３０の平面図を示す。基板３０の表面に、ソルダーレジストの薄膜３１が形成されている。図２Ｂでは、薄膜材料で覆われる領域にハッチングが付されている。一例として、１枚の基板３０から、複数のプリント配線板が切り出される。図２Ｂでは、４行２列にプリント配線板が配置された例を示している。行方向及び列方向に隣り合うプリント配線板の間には、余白領域３２が確保されている。余白領域３２には薄膜が形成されない。基板３０をステージ２５（図２Ａ）に保持するとき、ステージ２５の回転中心４３が余白領域３２内に位置するように、位置合わせされる。

図３に、基板３０（図２Ｂ）に形成すべき薄膜パターンを構成する画素の配置を示す。基板３０を直線的に走査しながら薄膜材料の液滴を着弾させる通常の方法の場合には、薄膜パターンを構成する画素の位置は、２次元直交座標で表される。実施例においては、画素４６の位置が極座標で表される。具体的には、回転中心４３を原点とした基準方位４４からの方位角θと、半径方向の距離ｒとからなる極座標（ｒ，θ）で、各画素４９の位置が表される。

基板３０に形成すべき薄膜パターンの画像データは、一般的にはガーバーフォーマットで提供される。制御装置３３は、形成すべき薄膜のパターンを定義したガーバーフォーマット等の画像データに基づいて、画素４９の位置が極座標（ｒ，θ）で表された画像データを生成する。この極座標で表された画像データに基づいて、制御装置３３が、回転駆動機構２１（図１）及びノズルユニット４０（図１）を制御する。これにより、基板３０の表面に、所望の薄膜パターン３１（図２Ｂ）を形成することができる。

薄膜パターンを構成する画素４９は、回転中心４３からの距離に依らず、周方向に関する画素４９の周期（ピッチ）を同一にすることが好ましい。例えば、半径ｒの位置の画素数をＮｒとすると、２πｒ／Ｎｒが一定になるように、画素４９を配置することが好ましい。また、半径方向のピッチと、周方向のピッチとを等しくすることが好ましい。このように画素４９を配置することにより、基板３０の面内に画素４９を均等に分布させることができる。

必ずしも、２πｒ／Ｎｒが厳密に一定になるように画素４９を配置しなくてもよい。例えば、回転中心４３を中心とする円周上に分布する画素４９の個数が、外周側において相対的に多く、内周側において相対的に少なくなるようにすればよい。このように画素４９を配置することにより、単位方位角あたりの画素数を同一にする場合に比べて、画素４９の分布を均一に近づけることができる。

ここで、「画素」は、ノズル孔４５から吐出された液滴が着弾可能な点（着弾目標点）と言い換えることができる。制御装置３３（図１）は、各画素４９に液滴が着弾するように、回転駆動機構２１（図１）及びノズルユニット４０（図１）を制御する。

相対的に外周側の画素４９は、相対的に内周側の画素４９よりも、円周方向の移動速度が速い。相対的に外周側に配置されたノズル孔４５は、相対的に内周側に配置されたノズル孔４５よりも、液滴を吐出させることができる周波数の上限値が高い特性を有する。外周側のノズル孔４５の吐出周波数の上限値を高く設定することにより、相対的に移動速度が速い外周側の画素４９の移動に追随して、薄膜材料の液滴を吐出させることができる。

図４Ａを参照して、薄膜形成装置の設置に必要な領域（フットプリント）について説明する。以下、基板３０の平面形状が正方形である場合について考察する。基板３０の一辺の長さをＬで表す。基板３０の中心が回転中心４３と一致する。基板３０を１回転させるのに必要なフットプリントは、半径（１／（２^１／２））×Ｌの円形と等しい。この円形に外接する正方形の面積は、２×Ｌ^２である。基板３０の全域に薄膜材料の液滴を着弾させるために、ノズル列４６の長さを（１／（２^１／２））×Ｌとすればよい。

図４Ｂに、基板３０をＸ方向及びＹ方向に直線的に並進移動させて薄膜パターンを形成する場合に必要となるプットプリントを示す。ノズル列４６の長さは、図４Ａの場合と同一とする。ノズル列４６に直交する方向に関する基板３０のストロークはＬになる。このため、ノズル列４６に直交する方向に関するプットプリントの寸法は、２×Ｌになる。ノズル列４６に平行な方向に関するフットプリントの寸法は、（２−（１／２^１／２））×Ｌになる。このため、フットプリントの面積は、約２．５８×Ｌ^２になる。

図４Ａ及び図４Ｂに示したように、実施例１による薄膜形成装置のフットプリントは、基板３０を並進移動させる構造の薄膜形成装置のフットプリントより小さい。実施例１による薄膜形成装置のように、基板３０を並進移動させる構成に代えて回転移動させる構成とすることにより、装置のフットプリントを小さくすることができる。さらに、基板３０を並進移動させる構成では、相互に直交する２方向の移動機構を備える必要がある。これに比べて、実施例１による構成では、１つの回転駆動機構を備えればよい。このため、装
置のコスト低減を図ることができる。

［実施例２］
図５に、実施例２による薄膜形成装置に用いられているノズルユニット４０及び紫外光源４７の平面図を示す。以下、実施例１との相違点について説明し、同一の構成については説明を省略する。

実施例２においては、回転中心４３から遠ざかるに従って、回転中心４３を中心とする円周方向に並ぶノズル孔４５の個数が、段階的に多くなっている。例えば、ノズル列４６が、半径方向に関して３つの領域Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３に区分されている。領域Ｒ１が最も内周側に配置され、領域Ｒ３が最も外周側に配置される。領域Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３において、それぞれ１個、２個、３個のノズル孔４５が円周方向に並んでいる。なお、半径方向には、複数のノズル孔４５が等間隔に並んでいる。

回転中心４３を中心とする１つの円周上に分布する画素４９（図３）の数は、内周側において相対的に少なく、外周側において相対的に多い。１つの円周に１つのノズル孔４５を対応付けると、外周側のノズル孔４５は、内周側のノズル孔４５に比べて、液滴の吐出周波数を高くしなければならない。液滴の吐出周波数には、ノズル孔の構造上の上限値が存在する。ノズル孔４５の吐出周波数の上限値、及び周方向の画素ピッチにより、最外周の画素の周方向の移動速度が決まる。このとき、内周側のノズル孔４５は、吐出可能周波数の上限値よりも低い周波数で駆動される。

実施例２による薄膜形成装置では、外周側において円周方向により多くのノズル孔４５が配置されている。このため、外周側に位置するノズル孔４５の１つ当たりの吐出周波数を下げることができる。言い換えると、薄膜形成時の基板３０の回転速度を速くすることができる。また、内周側のノズル孔４５を、より上限値に近い周波数で駆動することが可能になる。

［実施例３］
図６に、実施例３による薄膜形成装置に用いられているノズルユニット４０及び紫外光源４７の平面図を示す。以下、実施例２との相違点について説明し、同一の構成については説明を省略する。

実施例３では、ノズルユニット４０が複数のノズルヘッド４８で構成されている。複数のノズルヘッド４８は、同一の構造を有する。すなわち、すべてのノズルヘッド４８において、ノズル孔４５の配置のパターンが同一である。各ノズルヘッド４８に設けられている複数のノズル孔４５が、回転中心４３を通過する仮想直線３９と平行に並ぶ。

実施例２の場合と同様に、ノズルユニット４０が半径方向に関して３つの領域Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３に区分されている。領域Ｒ１が最も内周側に配置され、領域Ｒ３が最も外周側に配置される。領域Ｒ１には、１個のノズルヘッド４８が配置されている。領域Ｒ２には、２個のノズルヘッド４８が、仮想直線３９と平行な姿勢で配置されている。領域Ｒ３には、３個のノズルヘッド４８が、仮想直線３９と平行な姿勢で配置されている。このため、領域Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３において、それぞれ仮想直線３９と直交する方向に１個、２個、３個のノズル孔４５が並ぶ。すなわち、領域Ｒ２、Ｒ３において、２個、３個のノズル孔４５が、近似的に円周方向に並んでいる。このため、実施例２と同様に、薄膜形成時の基板３０の回転速度を速くすることができる。また、内周側のノズル孔４５を、より上限値に近い周波数で駆動することが可能になる。

さらに、実施例２においては、ノズルヘッド４８の各々に対応して、紫外光源４７が配
置されている。ノズルヘッド４８と、それに対応する紫外光源４７との相対位置関係は、すべてのノズルヘッド４８において同一である。このため、どのノズル孔４５から吐出された薄膜材料の液滴も、基板３０に着弾後、直ちに硬化させることができる。

［実施例４］
図７に、実施例４による薄膜形成装置に用いられているノズルユニット４０及び紫外光源４７の平面図を示す。以下、実施例３との相違点について説明し、同一の構成については説明を省略する。

実施例４では、複数のノズルヘッド４８の各々のノズル孔４５が、回転中心４３を中心とした円の半径方向と平行に配列している。すなわち、ノズルヘッド４８が放射状に配置されている。実施例３においては、領域Ｒ３において、３個のノズル孔４８が仮想直線３９と直交する方向に並んでいた。このため、厳密には、３個のノズル孔４８は、円周に沿って並んでいるとはいえない。実施例４においては、領域Ｒ３において、３個のノズル孔４８が、回転中心４３を中心とする円周に沿って並ぶ。このため、図３に示したように画素４９の位置が極座標で表されている画像データと、ノズル孔４５の配置との整合性が高い。

［実施例５］
図８に、実施例５による薄膜形成装置に用いられているノズルユニット４０及び紫外光源４７の平面図を示す。以下、実施例４との相違点について説明し、同一の構成については説明を省略する。

実施例４では、複数のノズルヘッド４８が回転中心４３を通過する１本の仮想直線の近傍に配置されていた。実施例５では、図８に示すように、中心角にして、より広い範囲にノズルヘッド４８が配置されている。例えば、領域Ｒ１の１個のノズルヘッド４８は、方位角０°の位置に配置されている。領域Ｒ２の２個のノズルヘッド４８は、それぞれ方位角４５°及び−４５°の位置に配置されている。領域Ｒ３の３個のノズルヘッド４８は、それぞれ９０°、０°、−９０°の位置に配置されている。ノズルヘッド４８と、それに対応する紫外光源４７との相対位置関係は、実施例４の場合と同一である。実施例５のように、ノズルヘッド４８を、周方向に関して、より広い範囲に分布させてもよい。

［実施例６］
図９に、実施例６による薄膜形成装置に用いられているステージ２５、ノズルユニット４０及び紫外光源４７の平面図を示す。以下、実施例１との相違点について説明し、同一の構成については説明を省略する。

実施例１では、ステージ２５（図２Ａ）に１枚の基板３０を保持し、回転中心４３と基板３０の中心とを一致させた。実施例６では、図９に示すように、ステージ２５に複数の基板３０が保持される。例えば、複数の基板３０が、ステージ２５の回転中心４３を中心とする円周に沿って、ｎ回回転対称の位置に配置される。図９では、半径が異なる２つの円周に沿って基板３０を配したが、１つの円周に沿って基板３０を配置してもよいし、３つの以上の円周に沿って基板３０を配置してもよい。

ステージ２５を回転させると、各基板３０が、回転中心４３を中心として公転する。基板３０がノズルユニット４０の直下を通過するときに、基板３０に薄膜材料の液滴が付着する。薄膜形成装置のフットプリントは大きくなるが、基板３０の１枚あたりのフットプリントを小さくすることができる。

［実施例７］
図１０Ａ及び図１０Ｂを参照して、実施例７による薄膜形成装置について説明する。以下、実施例１との相違点について説明し、同一の構成については説明を省略する。

図１０Ａに示すように、実施例７においては、ノズルユニット４０に設けられたノズル列４６の長さが、基板３０の対角線の長さの１／２より短い。例えば、ノズル列４６の長さが、基板３０の対角線の長さの１／４である。このため、基板３０を１回転させただけでは、基板３０の表面の全域に薄膜を形成することができない。

実施例７による薄膜形成装置においては、ノズルユニット４０が直動機構５０を介して梁２７に支持されている。直動機構５０は、制御装置３３（図１）からの制御を受けて、ノズルユニット４０をノズル列４６の長さ方向、すなわち回転中心４３を中心とする円の半径方向に移動させる。

薄膜形成時には、ノズル列４６の一端を回転中心４３に一致させた状態で、基板３０を１回転させながら薄膜材料の液滴をノズルユニット４０から吐出させる。これにより、半径がノズル列４６の長さに等しい円形の領域Ｑ１に薄膜を形成することができる。領域Ｑ１よりも外側の領域Ｑ２には、薄膜が形成されない。図１０Ａに示したノズルユニット４０の位置で薄膜が形成される領域に、右上がりのハッチングを付している。

図１０Ｂに示すように、ノズルユニット４０を、回転中心４３から遠ざかる方向に、ノズル列４６の長さに相当する距離だけ移動させる。この状態で、基板３０を回転させながら、ノズルユニット４０から薄膜材料の液滴を吐出させる。これにより、領域Ｑ１よりも外側の領域Ｑ２に薄膜を形成することができる。図１０Ｂに示したノズルユニット４０の位置で薄膜が形成される領域に、右下がりのハッチングを付している。

実施例７のように、基板３０の寸法に比べてノズル列４６の長さが短い場合、ノズルユニット４０をノズル列４６の長さ方向に移動させることにより、基板３０の全域に薄膜を形成することができる。

［実施例８］
図１１に、実施例８による薄膜形成装置の概略図を示す。以下、実施例７との相違点について説明し、同一の構成については説明を省略する。

実施例７では、ノズルユニット４０を半径方向に移動させる直動機構５０（図１０Ａ、図１０Ｂ）が備えられていた。実施例８では、ノズルユニット４０を半径方向に移動させる代わりに、直動機構５１がステージ２５を半径方向（ノズルユニット４０に設けられているノズル列の長さ方向）に移動させる。

図１２Ａに示すように、薄膜形成時には、ノズル列４６の一端を回転中心４３に一致させた状態で、基板３０を１回転させながら薄膜材料の液滴をノズルユニット４０から吐出させる。これにより、円形の領域Ｑ１に薄膜を形成することができる。

次に、図１２Ｂに示すように、ステージ２５を、ノズル列４６の長さに相当する距離だけ、半径方向に移動させる。この状態で、基板３０を回転させながら、ノズルユニット４０から薄膜材料の液滴を吐出させる。これにより、領域Ｑ１よりも外側の領域Ｑ２に薄膜を形成することができる。

実施例８のように、ステージ２５を半径方向に移動させても、実施例７と同様に基板３０の全域に薄膜を形成することができる。

［実施例９］
図１３に、実施例９による薄膜形成装置の概略図を示す。以下、実施例１との相違点について説明し、同一の構成については説明を省略する。

実施例１では、ステージ２５が回転駆動機構２１によって回転した。これに対し、実施例９では、ステージ２５を回転させる構成に代えて、回転駆動機構５２が、Ｚ方向に平行な仮想直線を回転中心として、ノズルユニット４０を定盤２０に対して回転させる。ノズルユニット４０に設けられたノズル列の長さは、実施例１による薄膜形成装置のノズル列４６（図２Ａ）の長さと同一である。実施例９のように、ノズルユニット４６を回転させる構成を採用することも可能である。

［実施例１０］
図１４に、実施例１０による薄膜形成装置の概略図を示す。以下、実施例８（図１１）との相違点について説明し、同一の構成については説明を省略する。

実施例８では、ステージ２５が、回転駆動機構２１により回転し、直動機構５１により半径方向に移動した。これに対し、実施例１０では、ステージ２５が回転する構成に代えて、ノズルユニット４０が、回転駆動機構５２により定盤２０に対して回転する。ノズルユニット４０に設けられたノズル列の長さは、実施例８による薄膜形成装置のノズル列４６（図１２Ａ）の長さと同一である。実施例１０のように、ノズルユニット４０を回転させ、ステージ２５を半径方向に移動させてもよい。

［実施例１１］
図１５に、実施例１１による薄膜形成装置の概略図を示す。以下、実施例１０（図１４）との相違点について説明し、同一の構成については説明を省略する。

実施例１０では、ノズルユニット４０が回転駆動機構５２（図１４）によって回転し、ステージ２５が直動機構５１（図１４）によって半径方向に移動した。これに対し、実施例１１では、ステージ２５を半径方向に移動させる構成に代えて、ノズルユニット４０が直動機構５０によって定盤２０に対して半径方向に移動する。ノズルユニット４０に設けられたノズル列の長さは、実施例１０による薄膜形成装置のノズル列４６（図１４）の長さと同一である。実施例１１のように、ノズルユニット４０を回転させ、かつ半径方向に移動させてもよい。

以上実施例に沿って本発明を説明したが、本発明はこれらに制限されるものではない。例えば、種々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者に自明であろう。

２０ 定盤
２１ 回転駆動機構
２５ ステージ
２６ 支柱
２７ 梁
３０ 基板
３１ 薄膜パターン
３２ 余白領域
３３ 制御装置
３５ 入力装置
３６ 出力装置
３９ 仮想直線
４０ ノズルユニット
４１ ノズルユニット支持機構
４２ 撮像装置
４３ 回転中心
４４ 基準方位
４５ ノズル孔
４６ ノズル列
４７ 紫外光源
４８ ノズルヘッド
４９ 画素
５０ 直動機構
５１ 直動機構
５２ 回転駆動機構

Claims (14)

1. 処理対象物である基板を保持面に保持するステージと、
   前記ステージの前記保持面に対向し、前記保持面に保持された基板に向けて薄膜材料の液滴を吐出する複数のノズル孔が設けられたノズルユニットと、
   前記保持面に垂直な仮想直線を回転中心として、前記ステージ及び前記ノズルユニットの一方を他方に対して回転させる回転駆動機構と、
   前記ノズルユニットからの液滴の吐出を制御する制御装置と
   を有し、
   前記制御装置は、前記回転中心を中心とする円周上に分布する前記液滴が着弾可能な点の個数が、外周側において相対的に多く、内周側において相対的に少なくなるように、前記ノズルユニットを制御するとともに、
   形成すべき薄膜のパターンを定義した画像データに基づいて、前記回転駆動機構及び前記ノズルユニットを制御する薄膜形成装置。
2. 前記回転中心から遠ざかるに従って、前記回転中心を中心とする円周方向に並ぶノズル孔の個数が、段階的に多くなっている請求項１に記載の薄膜形成装置。
3. 前記ノズルユニットは、前記ノズル孔の配置のパターンが同一の複数のノズルヘッドを含み、前記ノズルヘッドの各々は、第１の方向に配列した複数のノズル孔からなるノズル列を含み、前記ノズル列が前記回転中心を中心とする半径方向に沿う姿勢で配置されており、内周側よりも外周側において、より多くの前記ノズルヘッドが周方向に並んでいる請求項１または２に記載の薄膜形成装置。
4. 相対的に外周側に配置された前記ノズル孔は、相対的に内周側に配置された前記ノズル孔よりも、液滴を吐出させることができる周波数の上限値が高い特性を有する請求項１または２に記載の薄膜形成装置。
5. さらに、前記ステージ、前記ノズルユニット、及び前記回転駆動機構を支持する定盤を有し、
   前記回転駆動機構は、前記定盤に対して前記ステージを回転させる請求項１乃至３のいずれか１項に記載の薄膜形成装置。
6. さらに、前記ステージを、前記定盤に対して前記回転中心を中心とする半径方向に並進移動させる並進移動機構を有する請求項５に記載の薄膜形成装置。
7. さらに、前記ノズルユニットを、前記定盤に対して前記回転中心を中心とする半径方向に並進移動させる並進移動機構を有する請求項５に記載の薄膜形成装置。
8. さらに、前記ステージ、前記ノズルユニット、及び前記回転駆動機構を支持する定盤を有し、
   前記回転駆動機構は、前記定盤に対して前記ノズルユニットを回転させる請求項１乃至３のいずれか１項に記載の薄膜形成装置。
9. さらに、前記ステージを、前記定盤に対して前記回転中心を中心とする半径方向に並進移動させる並進移動機構を有する請求項８に記載の薄膜形成装置。
10. さらに、前記ノズルユニットを、前記定盤に対して前記回転中心を中心とする半径方向に並進移動させる並進移動機構を有する請求項８に記載の薄膜形成装置。
11. 前記薄膜材料は、紫外線の照射によって硬化する材料であり、
    さらに、前記ステージに保持された基板の表面に紫外線を照射する紫外光源を有する請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の薄膜形成装置。
12. 前記紫外光源から放射された紫外線は、前記保持面のうち、前記回転中心を中心とする半径方向に長い平面形状を有する被照射領域に照射され、
    前記ノズル孔から吐出される前記薄膜材料の液滴の着弾点の移動方向に関して、前記ノズルユニットよりも下流側に前記紫外光源が配置されている請求項１１に記載の薄膜形成装置。
13. 前記制御装置は、形成すべき薄膜のパターンを定義した前記画像データに基づいて、前記回転中心を原点とした方位角と、半径方向の距離とで表される極座標で表された画像データを生成し、前記極座標で表された画像データに基づいて、前記回転駆動機構及び前記ノズルユニットを制御する請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の薄膜形成装置。
14. 薄膜を形成すべき塗布表面を有する基板を、前記塗布表面に対して垂直な仮想直線を回転中心として回転させる工程と、
    回転している前記基板の前記塗布表面に向けて、複数のノズル孔から薄膜材料の液滴を吐出させて前記薄膜材料を前記塗布表面に付着させる工程と
    を有し、
    前記薄膜材料を前記塗布表面に付着させる工程において、前記回転中心を中心とする円周上に分布する前記液滴が着弾可能な点の個数が、外周側において相対的に多く、内周側において相対的に少なくなるように、前記薄膜のパターンを定義した画像データに基づいて、前記液滴を吐出させる薄膜形成方法。
    

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