JP2015100748A - 薄膜形成方法及び薄膜形成装置 - Google Patents
薄膜形成方法及び薄膜形成装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2015100748A JP2015100748A JP2013243431A JP2013243431A JP2015100748A JP 2015100748 A JP2015100748 A JP 2015100748A JP 2013243431 A JP2013243431 A JP 2013243431A JP 2013243431 A JP2013243431 A JP 2013243431A JP 2015100748 A JP2015100748 A JP 2015100748A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- curing
- substrate
- film material
- degree
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Abstract
【解決手段】 基板に、液状の薄膜材料を着弾させた後、着弾した薄膜材料を第1の硬化度まで硬化させることにより、第1の薄膜部分を形成する。第1の薄膜部分と部分的に重なるように、液状の薄膜材料を着弾させた後、新たに着弾した薄膜材料を第2の硬化度まで硬化させることにより、第2の薄膜部分を形成する。第1の薄膜部分と第2の薄膜部分との境界が識別不能になった後、第1の薄膜部分及び第2の薄膜部分を第1の硬化度及び第2の硬化度のいずれよりも高い第3の硬化度まで硬化させる。
【選択図】 図6
Description
基板に、液状の薄膜材料を着弾させた後、着弾した前記薄膜材料を第1の硬化度まで硬化させることにより、第1の薄膜部分を形成する工程と、
前記第1の薄膜部分と部分的に重なるように、液状の前記薄膜材料を着弾させた後、新たに着弾した前記薄膜材料を第2の硬化度まで硬化させることにより、第2の薄膜部分を形成する工程と、
前記第1の薄膜部分と前記第2の薄膜部分との境界が識別不能になった後、前記第1の
薄膜部分及び前記第2の薄膜部分を前記第1の硬化度及び前記第2の硬化度のいずれよりも高い第3の硬化度まで硬化させる工程と
を有する薄膜形成方法が提供される。
基板を保持するステージと、
前記ステージに保持された前記基板に対向し、前記基板に向けて、光硬化性の薄膜材料を液滴化して吐出する複数のノズル孔が設けられた少なくとも2つのノズルヘッドと、
前記基板に対向し、前記基板に付着した前記薄膜材料に硬化用の光を照射する少なくとも3つの硬化用光源と、
前記ノズルヘッド及び前記硬化用光源に対して、前記基板を相対的に移動させる移動機構と、
複数の前記硬化用光源の各々に対向する位置を、前記基板に付着した液状の前記薄膜材料が通過するとき、前記硬化用光源からの光による前記薄膜材料の硬化度が異なるように前記硬化用光源を制御する制御装置と
を有し、
前記制御装置は、
前記基板を走査方向に移動させながら、前記ノズル孔から前記薄膜材料を吐出させ、前記基板に付着した前記薄膜材料に硬化用の光を照射することによって薄膜が形成されるように前記ノズルヘッド、前記硬化用光源、及び前記移動機構を制御するときに、
前記ステージに保持された前記基板に、前記ノズル孔から液状の前記薄膜材料が着弾した後、着弾した前記薄膜材料に前記硬化用光源の少なくとも1つから光が照射されることによって第1の硬化度まで硬化されて第1の薄膜部分が形成され、
前記第1の薄膜部分と部分的に重なるように、前記ノズル孔から液状の前記薄膜材料が着弾した後、新たに着弾した前記薄膜材料に前記硬化用光源の少なくとも1つから光が照射されることによって第2の硬化度まで硬化されて第2の薄膜部分が形成され、
前記第1の薄膜部分と前記第2の薄膜部分との境界が識別不能になった後、前記第1の薄膜部分及び前記第2の薄膜部分に、前記硬化用光源の少なくとも1つから光が照射されることによって、前記第1の薄膜部分及び前記第2の薄膜部分が、前記第1の硬化度及び前記第2の硬化度のいずれよりも高い第3の硬化度まで硬化されるように、前記ノズルヘッド、前記硬化用光源、及び前記移動機構を制御する薄膜形成装置が提供される。
にハッチングが付されている。図4に示した例では、1つの薄膜形成領域61が、内部に円形や長方形の開口62を含む。他の薄膜形成領域61は円形や正方形である。薄膜形成領域61のパターンを定義するビットマップ形式の画像データが、制御装置50(図1)に記憶されている。一例として、基板60は、ビルドアップ基板のコア基板に相当し、薄膜は、層間絶縁膜に相当する。
射されて第3の硬化度まで硬化されることにより、第2の薄膜部分79が形成される。
の時間を確保するために、第2の硬化度まで硬化された第2の薄膜部分74(図6D)が、第3の硬化度まで硬化されるまでの経過時間を0.5秒より長くすることが好ましい。
部まで硬化されることにより、薄膜70が形成される。薄膜70の表面は平坦である。このように、ある走査時に仮硬化された薄膜材料が、次の走査時に、第3の硬化度まで硬化される。
21 移動機構
22 ステージ
30 ノズルユニット
31 ベースプレート
32 ノズルヘッド
33 ノズル孔
40 第1の硬化用光源
41 第2の硬化用光源
50 制御装置
60 基板
61 薄膜形成領域
62 開口
64 第1の仮想直線
65 第2の仮想直線
70 薄膜
71 液状の薄膜材料
72 第1の薄膜部分
72a 皮膜
73 液状の薄膜材料
74 第2の薄膜部分
74a 皮膜
76 液状の薄膜材料
77 第1の薄膜部分
78 液状の薄膜材料
79 第2の薄膜部分
80 液状の薄膜
81 薄膜
85 第3の薄膜部分
85a 皮膜
86 第4の薄膜部分
86a 皮膜
87 薄膜
88 薄膜部分
89 薄膜
90 薄膜部分
91、92 薄膜
Claims (7)
- 基板に、液状の薄膜材料を着弾させた後、着弾した前記薄膜材料を第1の硬化度まで硬化させることにより、第1の薄膜部分を形成する工程と、
前記第1の薄膜部分と部分的に重なるように、液状の前記薄膜材料を着弾させた後、新たに着弾した前記薄膜材料を第2の硬化度まで硬化させることにより、第2の薄膜部分を形成する工程と、
前記第1の薄膜部分と前記第2の薄膜部分との境界が識別不能になった後、前記第1の薄膜部分及び前記第2の薄膜部分を前記第1の硬化度及び前記第2の硬化度のいずれよりも高い第3の硬化度まで硬化させる工程と
を有する薄膜形成方法。 - 前記第1の薄膜部分を形成する工程が、
相互に平行に、かつ等間隔に配置された第1の仮想直線に沿って着弾位置をずらしながら、前記薄膜材料を着弾させる工程と、
着弾した前記薄膜材料を前記第1の硬化度まで硬化させる工程と
を含み、
前記第2の薄膜部分を形成する工程が、
相互に隣り合う前記第1の仮想直線の間に、前記第1の仮想直線と平行に配置された第2の仮想直線に沿って着弾位置をずらしながら、両側の前記第1の薄膜部分と部分的に重なるように、前記薄膜材料を着弾させる工程と、
新たに着弾した前記薄膜材料を前記第2の硬化度まで硬化させる工程と
を含む請求項1に記載の薄膜形成方法。 - 前記第1の薄膜部分を形成する工程において、前記薄膜材料が前記基板に着弾してから、着弾した前記薄膜材料を前記第1の硬化度まで硬化させるまでの経過時間が0.2秒よりも短く、
前記第2の薄膜部分を形成する工程において、前記薄膜材料が前記基板に着弾してから、着弾した前記薄膜材料を前記第2の硬化度まで硬化させるまでの経過時間が0.2秒よりも短く、
前記第2の薄膜部分が前記第2の硬化度まで硬化された後、前記第1の薄膜部分及び前記第2の薄膜部分を前記第3の硬化度まで硬化させるまでの経過時間が0.5秒より長い請求項1または2に記載の薄膜形成方法。 - 前記薄膜材料は、光硬化性樹脂を含み、前記第1の薄膜部分及び前記第2の薄膜部分を前記第3の硬化度まで硬化させるときに照射される光のパワー密度が、前記第1の薄膜部分を形成する工程及び前記第2の薄膜部分を形成する工程において前記薄膜材料に照射される光のパワー密度よりも高い請求項1乃至3のいずれか1項に記載の薄膜形成方法。
- 基板を保持するステージと、
前記ステージに保持された前記基板に対向し、前記基板に向けて、光硬化性の薄膜材料を液滴化して吐出する複数のノズル孔が設けられた少なくとも2つのノズルヘッドと、
前記基板に対向し、前記基板に付着した前記薄膜材料に硬化用の光を照射する少なくとも3つの硬化用光源と、
前記ノズルヘッド及び前記硬化用光源に対して、前記基板を相対的に移動させる移動機構と、
複数の前記硬化用光源の各々に対向する位置を、前記基板に付着した液状の前記薄膜材料が通過するとき、前記硬化用光源からの光による前記薄膜材料の硬化度が異なるように前記硬化用光源を制御する制御装置と
を有し、
前記制御装置は、
前記基板を走査方向に移動させながら、前記ノズル孔から前記薄膜材料を吐出させ、前記基板に付着した前記薄膜材料に硬化用の光を照射することによって薄膜が形成されるように前記ノズルヘッド、前記硬化用光源、及び前記移動機構を制御するときに、
前記ステージに保持された前記基板に、前記ノズル孔から液状の前記薄膜材料が着弾した後、着弾した前記薄膜材料に前記硬化用光源の少なくとも1つから光が照射されることによって第1の硬化度まで硬化されて第1の薄膜部分が形成され、
前記第1の薄膜部分と部分的に重なるように、前記ノズル孔から液状の前記薄膜材料が着弾した後、新たに着弾した前記薄膜材料に前記硬化用光源の少なくとも1つから光が照射されることによって第2の硬化度まで硬化されて第2の薄膜部分が形成され、
前記第1の薄膜部分と前記第2の薄膜部分との境界が識別不能になった後、前記第1の薄膜部分及び前記第2の薄膜部分に、前記硬化用光源の少なくとも1つから光が照射されることによって、前記第1の薄膜部分及び前記第2の薄膜部分が、前記第1の硬化度及び前記第2の硬化度のいずれよりも高い第3の硬化度まで硬化されるように、前記ノズルヘッド、前記硬化用光源、及び前記移動機構を制御する薄膜形成装置。 - 前記基板が前記走査方向に移動するとき、前記基板の表面のある位置が、1つの前記ノズルヘッド、1つの前記硬化用光源、他の1つの前記ノズルヘッド、他の1つの前記硬化用光源、及びさらに他の1つの前記硬化用光源にそれぞれ対向する位置を順番に通過するように、前記ノズルヘッド及び前記硬化用光源が配置されており、
前記基板の移動方向の最も下流側に配置された前記硬化用光源による前記基板の表面におけるパワー密度が、他の前記硬化用光源による前記基板の表面におけるパワー密度より高い請求項5に記載の薄膜形成装置。 - 複数の前記ノズルヘッドが、前記走査方向に配列しており、
複数の前記硬化用光源が、前記ノズルヘッドの間、及び両端に配置されている前記ノズルヘッドよりもさらに外側に配置されており、
前記制御装置は、前記ノズルヘッド、前記硬化用光源、及び前記移動機構を制御して、
前記基板を前記走査方向に移動させながら、前記ノズルヘッドから前記薄膜材料を吐出させ、前記ノズルヘッドの下流側の前記硬化用光源からの光によって、前記基板に付着した前記薄膜材料を、第1の硬化度まで硬化させ、
その後、前記基板の移動方向を反転させて、1つの前記硬化用光源からの光によって、前記第1の硬化度まで硬化した前記薄膜材料の硬化度を高めるとともに、前記ノズルヘッドから前記薄膜材料を吐出させ、前記ノズルヘッドの下流側の前記硬化用光源からの光によって、前記基板に付着した前記薄膜材料を、前記第1の硬化度まで硬化させる請求項5に記載の薄膜形成装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013243431A JP6274832B2 (ja) | 2013-11-26 | 2013-11-26 | 薄膜形成方法及び薄膜形成装置 |
TW103131155A TWI594809B (zh) | 2013-11-26 | 2014-09-10 | Thin film formation method and thin film formation apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013243431A JP6274832B2 (ja) | 2013-11-26 | 2013-11-26 | 薄膜形成方法及び薄膜形成装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015100748A true JP2015100748A (ja) | 2015-06-04 |
JP6274832B2 JP6274832B2 (ja) | 2018-02-07 |
Family
ID=53376947
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013243431A Active JP6274832B2 (ja) | 2013-11-26 | 2013-11-26 | 薄膜形成方法及び薄膜形成装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6274832B2 (ja) |
TW (1) | TWI594809B (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2017022285A1 (ja) * | 2015-08-04 | 2017-02-09 | デクセリアルズ株式会社 | 光学部材の製造方法 |
KR20190092240A (ko) * | 2018-01-30 | 2019-08-07 | 스미도모쥬기가이고교 가부시키가이샤 | 막형성방법, 막형성장치, 및 막이 형성된 복합기판 |
JP2020110780A (ja) * | 2019-01-16 | 2020-07-27 | 東レエンジニアリング株式会社 | インクジェット塗布方法及びインクジェット塗布装置 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009208228A (ja) * | 2008-02-29 | 2009-09-17 | Mimaki Engineering Co Ltd | 紫外線硬化型インクジェットプリンタ、紫外線硬化型インクジェットプリンタの印刷方法及びヘッドユニット構造 |
JP2012181290A (ja) * | 2011-02-28 | 2012-09-20 | Fujifilm Corp | 反射防止膜の製造方法 |
JP2013233472A (ja) * | 2011-07-27 | 2013-11-21 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 薄膜形成方法及び薄膜形成装置 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW525030B (en) * | 2001-02-13 | 2003-03-21 | Ishii Hyoki Corp | Method for forming alignment film used on liquid crystal display |
TWI242663B (en) * | 2002-07-09 | 2005-11-01 | Seiko Epson Corp | Jetting method of liquid, jetting apparatus of liquid, production method of substrate for electro-optical apparatus and production method of electro-optical apparatus |
JP3791518B2 (ja) * | 2003-10-29 | 2006-06-28 | セイコーエプソン株式会社 | 製膜方法、及び製膜装置 |
JP4289172B2 (ja) * | 2004-02-19 | 2009-07-01 | セイコーエプソン株式会社 | 吐出装置 |
JP4618256B2 (ja) * | 2006-02-13 | 2011-01-26 | セイコーエプソン株式会社 | パターン形成方法、配向膜形成方法、液滴吐出装置及び配向膜形成装置 |
-
2013
- 2013-11-26 JP JP2013243431A patent/JP6274832B2/ja active Active
-
2014
- 2014-09-10 TW TW103131155A patent/TWI594809B/zh active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009208228A (ja) * | 2008-02-29 | 2009-09-17 | Mimaki Engineering Co Ltd | 紫外線硬化型インクジェットプリンタ、紫外線硬化型インクジェットプリンタの印刷方法及びヘッドユニット構造 |
JP2012181290A (ja) * | 2011-02-28 | 2012-09-20 | Fujifilm Corp | 反射防止膜の製造方法 |
JP2013233472A (ja) * | 2011-07-27 | 2013-11-21 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 薄膜形成方法及び薄膜形成装置 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2017022285A1 (ja) * | 2015-08-04 | 2017-02-09 | デクセリアルズ株式会社 | 光学部材の製造方法 |
US10689546B2 (en) | 2015-08-04 | 2020-06-23 | Dexerials Corporation | Method for manufacturing optical member |
US11124676B2 (en) | 2015-08-04 | 2021-09-21 | Dexerials Corporation | Method for manufacturing optical member |
KR20190092240A (ko) * | 2018-01-30 | 2019-08-07 | 스미도모쥬기가이고교 가부시키가이샤 | 막형성방법, 막형성장치, 및 막이 형성된 복합기판 |
JP2019130447A (ja) * | 2018-01-30 | 2019-08-08 | 住友重機械工業株式会社 | 膜形成方法、膜形成装置、及び膜が形成された複合基板 |
KR102563456B1 (ko) | 2018-01-30 | 2023-08-03 | 스미도모쥬기가이고교 가부시키가이샤 | 막형성방법 및 막형성장치 |
JP2020110780A (ja) * | 2019-01-16 | 2020-07-27 | 東レエンジニアリング株式会社 | インクジェット塗布方法及びインクジェット塗布装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6274832B2 (ja) | 2018-02-07 |
TW201519963A (zh) | 2015-06-01 |
TWI594809B (zh) | 2017-08-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6200135B2 (ja) | インプリント装置、インプリント方法、および、物品製造方法 | |
JP5936612B2 (ja) | 薄膜形成方法及び薄膜形成装置 | |
TWI704016B (zh) | 油墨塗佈裝置及油墨塗佈方法 | |
JP6274832B2 (ja) | 薄膜形成方法及び薄膜形成装置 | |
KR102563456B1 (ko) | 막형성방법 및 막형성장치 | |
US20180071983A1 (en) | Shaping device and shaping method | |
WO2016027796A1 (ja) | 3次元造形物の製造方法 | |
WO2017077603A1 (ja) | 印刷硬化方法、印刷硬化装置、及びプリント配線基板の製造方法 | |
KR101713813B1 (ko) | 막 형성방법 및 막 형성장치 | |
US20170210065A1 (en) | Shaping apparatus | |
JP6952243B2 (ja) | 印刷方法および印刷装置 | |
JP2005066530A (ja) | パターン形成装置およびパターン形成方法 | |
JP2011062590A (ja) | 吐出方法及び液滴吐出装置 | |
TW201420208A (zh) | 基板製造方法及基板製造裝置 | |
JP2015100747A (ja) | 薄膜形成方法及び薄膜形成装置 | |
US20170246795A1 (en) | Shaping apparatus | |
JP7428470B2 (ja) | 回路形成方法 | |
KR20150130836A (ko) | 잉크젯 마킹방법 및 잉크젯 마킹 시스템 | |
JP2020080379A (ja) | 膜形成装置及び方法 | |
TWI771005B (zh) | 油墨塗佈裝置、其控制裝置及油墨塗佈方法 | |
JP7195357B2 (ja) | インクジェット印刷方法及びインクジェット印刷装置 | |
JP6801277B2 (ja) | 硬化装置、液体吐出装置、硬化制御方法およびプログラム | |
JP2018099634A (ja) | インクジェット塗布装置、及び、膜パターン形成方法 | |
JP2014099520A (ja) | 基板製造方法及び基板製造装置 | |
JP2019061201A (ja) | パターン形成装置およびパターン形成方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20160713 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20170203 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170207 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170407 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170919 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20171113 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180109 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180109 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6274832 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |