JP5826938B2 - 反射防止フィルム - Google Patents

Description

本発明は反射防止フィルムに関する。

一般にＰＤＰ、ＣＲＴ、ＬＣＤなどのディスプレイ装置には外部から画面に入射する光の反射を最少化するための反射防止フィルム（または防眩フィルム）が装着される。

従来の反射防止フィルムは主に透光性基材上に反射防止層が配置されて形成される。この時、反射防止層は透光性基材側からハードコート層、高屈折率層及び低屈折率層が順次に積層された３層構造のものが最も幅広く使用されている。最近は製造工程を単純化するために、前記反射防止層でハードコート層または高屈折率層を省略した２層構造のものも商用化されている。また、防眩性と耐スクラッチ性を兼備するために防眩性ハードコート層が備えられた反射防止フィルムも使用されている。

一方、反射防止フィルムは一般に乾式法または湿式法で製造される。そのうちの乾式法は蒸着やスパッタリングなどを用いて複数の薄膜層を積層する方法であって、層間界面密着力は強いが、製造費用が高いため商業的に幅広く使用されていない。

反面、湿式法はバインダ、溶媒などを含む組成物を基材上に塗布し、これを乾燥及び硬化させる方法であって、前記乾式法に比べて製造費用が低いため商業的に幅広く使用されている。しかし、湿式法は一般にハードコート層、高屈折率層及び低屈折率層など各層の形成に必要な組成物をそれぞれ製造し、これを用いて各層を順次に形成させるため、製造工程が複雑で、層間界面密着力が弱いという短所がある。

よって、一度の湿式コーティングで２層以上の構造が形成できる反射防止コーティング用組成物に関する研究が活発に行われているが、製造過程で組成物の塗布時に相分離が円滑に行われず各層としての機能が落ちるなど様々な問題点が依然として存在する。

そして、ハードコート層または高屈折率層は通常基材の上に純粋なバインダとして形成されるか、基材の上にバインダ及び無機微粒子などを含む別途の層として形成され、その上に中空粒子などが分散した低屈折率層が形成される。しかし、このような構造の反射防止フィルムは層間界面密着力が弱く耐久性が落ちるなどの問題点が依然として存在する。

本発明は、より向上した層間界面密着力及び耐擦傷性を示しながらも、単純化された工程で形成できる反射防止フィルムを提供することを目的とする。

本発明の一実施形態によれば、
バインダと、無機微粒子を含み、基材内に浸潤している第１層；及び
バインダと、中空シリカ粒子を含み、第１層を覆っている第２層を含み、
前記第１層及び第２層内の官能基分布をＦＴ−ＩＲスペクトルで分析したとき、１１００±５０ｃｍ^-1において観察されるピークの強度が下記式１の関係を充足する反射防止フィルムが提供される：

上記式１で、Ｉ₀は第２層の表面で分析された１１００±５０ｃｍ^-1におけるピークの相対強度を示し、Ｉ₄₂₀は第２層の表面から４２０ｎｍの深さで分析された１１００±５０ｃｍ^-1におけるピークの相対強度を示す。

ここで、前記反射防止フィルムは、第１（メタ）アクリレート系バインダと、前記第１（メタ）アクリレート系バインダ内の無機微粒子を含み、基材内に浸潤している第１層；及び第２（メタ）アクリレート系バインダと、前記第２（メタ）アクリレート系バインダ内の中空シリカ粒子を含み、第１層を覆っている第２層を含むものであり得る。

そして、前記反射防止フィルムは前記式１でＩ₀／Ｉ₄₂₀値が５以上１０以下である関係を充足することができる。

また、前記反射防止フィルムは前記第１層及び第２層内の官能基分布をＦＴ−ＩＲスペクトルで分析したとき、１１００±５０ｃｍ^-1において観察されるピークの強度が下記式２の関係を充足することができる：

上記式２で、Ｉ₀は第２層の表面で分析された１１００±５０ｃｍ^-1におけるピークの相対強度を示し、Ｉ₁₄₀は第２層の表面から１４０ｎｍの深さで分析された１１００±５０ｃｍ^-1におけるピークの相対強度を示す。

そして、前記１１００±５０ｃｍ^-1において観察されるピークの強度は第２層の表面から４２０ｎｍの深さに至るまで漸進的に減少できる。

また、前記第２層は１０乃至３００ｎｍの厚さを有し得る。

一方、前記第２層は連続的に連結された中空シリカ粒子を含む中空粒子層を含むことができ；前記第２層は前記中空粒子層を２乃至５層で含み、各中空粒子層は互いに隣接しているものであり得る。

本発明による反射防止フィルムは一度のコーティングによってそれをなす２つの層の形成が可能であるのでより単純化された工程で形成されながらも、より向上した層間の界面密着力及び耐擦傷性を維持することができる。また、前記反射防止フィルムは優れた反射防止効果を示すことができ、ディスプレイ装置などの反射防止フイルムとして好ましく適用できる。

発明の一実施形態による反射防止フィルムに対するＦＴ−ＩＲスペクトル測定結果を示すグラフである。 発明の一実施形態による反射防止フィルムの構造を概略的に示す断面図である。 発明の一実施形態による反射防止フィルムの製造方法を概略的に示すフローチャートである。 実施例１による反射防止フィルムの断面を拡大観察した写真である。 実施例２による反射防止フィルムの断面を拡大観察した写真である。 実施例４による反射防止フィルムの断面を拡大観察した写真である。 比較例１による反射防止フィルムの断面を拡大観察した写真である。

以下、添付した図面を参照して、発明の実施形態による反射防止フィルム及びその製造方法について説明する。

それに先立ち、本明細書全体で明示的な言及がない限り、本明細書に使用されるいくつかの用語は次の通り定義される。

まず、‘無機微粒子’とは各種無機素材から導出される粒子であって、例えば、ナノメートルスケールの数平均粒径、一例として１００ｎｍ以下の数平均粒径を示す粒子を総称することができる。このような‘無機微粒子’は粒子内部に実質的に空いた空間がない無定形の粒子であり得る。一例として、‘シリカ微粒子’とはケイ素化合物または有機ケイ素化合物から導出される粒子であって、数平均粒径が１００ｎｍ以下であり粒子内部に空いた空間がないケイ素化合物または有機ケイ素化合物粒子を意味し得る。

また、‘中空粒子’（ｈｏｌｌｏｗ ｐａｒｔｉｃｌｅｓ）とは有機または無機粒子の表面及び／または内部に空いた空間が存在する形態の粒子を意味するものであり得る。一例として、‘中空シリカ粒子’とはケイ素化合物または有機ケイ素化合物から導出されるシリカ粒子であって、シリカ粒子の表面及び／または内部に空いた空間が存在する形態の粒子を意味し得る。

そして、‘中空粒子層’とは基材と平行な方向に連続的に連結された中空粒子を含んで基材上の層の形態を成している中空粒子列を指称することができる。但し、一つの‘中空粒子層’に含まれている中空粒子全体が連続的に連結されなくてもよく、‘中空粒子層’をなす中空粒子のうちの、例えば、約５％以内、あるいは約１％以内は他の中空粒子と連結されずに不連続的であり得る。また、このような‘中空粒子層’が‘互いに隣接’しているというのはある‘中空粒子層’をなす中空粒子のうちの少なくとも約４０％以上、あるいは約５０％以上、あるいは約６０％以上、あるいは約７０％以上、あるいは約８０％以上、あるいは約９０％以上の個数に該当する中空粒子が基材と平行な方向に他の‘中空粒子層’をなす中空粒子と接していることを意味し得る。

また、‘（メタ）アクリレート’とはアクリレート（ａｃｒｙｌａｔｅ）またはメタクリレート（ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ）をひっくるめて称すると定義する。また、このような‘（メタ）アクリレート’はフッ素含有置換基を有しないと定義し、これとの区別のためにフッ素含有置換基を有する化合物をフッ素系（メタ）アクリレート化合物と指称することができる。

そして、‘コーティング層’とは後述する反射防止コーティング用組成物を所定の基材フィルム上に塗布（コーティング）することによって形成される組成物層を意味する。

また、‘相分離’とは構成成分の密度、表面張力またはその他の物性の差によって組成物に含まれる特定成分の分布に差が形成されることを意味する。ここで、コーティング層が相分離される場合、特定成分の分布有無、例えば中空粒子の分布有無を基準に少なくとも二つの層に区分することができる。

また、‘基材内に浸潤’するというのは反射防止フィルムのある層を形成するための成分（例えば、該当層のバインダを形成するための（メタ）アクリレート系化合物及び無機微粒子など）が基材内に浸透して該当層を形成するのを指称することができる。例えば、基材内に浸透した成分は基材内の一定の領域に浸透したまま乾燥及び硬化され、該当領域の基材内に一定の層を形成することができる。これとは反対に、ある層が‘基材の上に’形成されるというのは該当層を形成するための成分が基材内に実質的に浸潤せず、基材と界面をなしたまま乾燥及び硬化されることにより、基材と重なる領域を有しない一定の層を形成するのを指称することができる。

そして、ある層（例えば、後述する一実施形態の第２層）が他の層（例えば、後述する一実施形態の第１層）を‘覆っている’というのはこれら二つの層の間にこれらと区分される他の層が実質的に存在しないのを指称することができる。例えば、後述する一実施形態の反射防止フィルムで、中空粒子層を含む第２層が基材内に浸潤した第１層を‘覆っている’というのは基材内浸潤層である第１層と、中空粒子層含有第２層との間に別途の層、例えば、基材内に浸潤もせず、中空粒子層も含まれない別途の層が存在しないことを意味し得る。一例として、前記一実施形態で、浸潤層である第１層と、中空粒子層含有第２層との間に、バインダ（例えば、（メタ）アクリレート系化合物から形成された架橋重合体）及び／または無機微粒子のみを含みながら基材内に浸潤しない別途の層が存在しないことを意味し得る。

一方、本発明者らは反射防止フィルムに対する研究を重ねる過程で、後述する所定の組成物を用いて自発的な相分離を誘導しながら反射防止フィルムを形成することによって、より向上した層間の界面密着力及び耐擦傷性と共に優れた反射防止効果を示す反射防止フィルムを提供することができるのを確認した。また、前記低屈折率層及びハードコート層内の官能基分布をＦＴ−ＩＲスペクトルで分析したとき、１１００±５０ｃｍ^-1で観察されるピークの強度が下記式１及び式２の関係を充足する場合に耐擦傷性及び反射防止効果がさらに向上できるのを確認して、本発明を完成した。このような反射防止フィルムの優れた特性はハードコート層として作用する第１層が基材内に浸潤した形態に形成されており、低屈折率層として作用する第２層が前記第１層を覆うように形成されているフィルムの構造的特性に起因すると見られる。

これに比べて、基材と、低屈折率層の間に、中空粒子を実質的に含まない別途のハードコート層（例えば、中空粒子を実質的に含まず、バインダのみを含むか、バインダ及び無機微粒子のみを含む別途のハードコート層または高屈折率層）が形成された構造の反射防止フィルムの場合、各層の形成のために別途のコーティングまたは硬化工程が必要で工程が複雑であったり、層間の界面密着力などが低下するという短所がある。

しかし、基材内に浸潤した第１層（ハードコート層）が第２層（低屈折率層）を覆っている一実施形態の反射防止フィルムは単一化されたコーティング及び硬化工程を通じた単純化された方法で形成されながらも、優れた層間の界面密着力を示すことができる。

具体的な一例によれば、前記反射防止フィルムは第１（メタ）アクリレート系バインダと、前記第１（メタ）アクリレート系バインダ内の無機微粒子を含み、基材内に浸潤している第１層；及び第２（メタ）アクリレート系バインダと、前記第２（メタ）アクリレート系バインダ内の中空シリカ粒子を含み、第１層を覆っている第２層を含むことができる。

また、一実施形態の反射防止フィルムは第２層（低屈折率層）内に中空粒子が稠密に形成され（即ち、連続的に連結された中空シリカ粒子が含まれており）、これら中空粒子が連続的に連結された中空粒子層を２乃至５層で形成し、さらに、このような中空粒子層が第２層内に互いに隣接するように形成されている。

特に、一実施形態の反射防止フィルムはバインダと、無機微粒子を含み、基材内に浸潤している第１層；及びバインダと、中空シリカ粒子を含み、第１層を覆っている第２層を含み；前記第１層及び第２層内の官能基分布をＦＴ−ＩＲスペクトルで分析したとき、１１００±５０ｃｍ^-1で観察されるピークの強度が下記式１の関係を充足する：

上記式１で、Ｉ₀は第２層の表面で分析された１１００±５０ｃｍ^-1におけるピークの相対強度を示し、Ｉ₄₂₀は第２層の表面から４２０ｎｍの深さで分析された１１００±５０ｃｍ^-1におけるピークの相対強度を示す。

つまり、前記１１００±５０ｃｍ^-1でのピークは主にＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合による官能基ピークであって、上記式１によれば、一実施形態の反射防止フィルムは、第２層の表面でのピーク相対強度Ｉ₀が第２層の表面から４２０ｎｍの深さでのピーク相対強度Ｉ₄₂₀に比べて５倍以上である関係を充足することができる。これは一実施形態の反射防止フィルムで第２層の表面に中空シリカ粒子が大部分分布することを意味するものであって、実質的に低屈折率層の表面から４２０ｎｍの深さには中空シリカ粒子がほとんど分布しない。これにより、本発明の反射防止フィルムはより向上した膜強度と反射防止性能を示すことができる。

本発明によれば、上記式１のＩ₀／Ｉ₄₂₀値は５以上であるのが前記効果の実現側面から有利であり、具体的に、５以上１０以下、あるいは５以上９．５以下、あるいは５以上９以下、あるいは５以上８．５以下、あるいは５以上８以下であり得る。

さらに、一実施形態の反射防止フィルムは前記第１層及び第２層内の官能基分布をＦＴ−ＩＲスペクトルで分析したとき、１１００±５０ｃｍ^-1で観察されるピークの強度が下記式２の関係を充足することができる：

上記式２で、Ｉ₀は第２層の表面で分析された１１００±５０ｃｍ^-1におけるピークの相対強度を示し、Ｉ₁₄₀は第２層の表面から１４０ｎｍの深さで分析された１１００±５０ｃｍ^-1におけるピークの相対強度を示す。

上記式２によれば、本発明による反射防止フィルムは、第２層の表面でのピーク相対強度Ｉ₀が第２層の表面から１４０ｎｍの深さでのピーク相対強度Ｉ₁₄₀と同一であるか、または２．５倍まで高く示される関係を充足することができる。つまり、一実施形態による反射防止フィルムは、上記式１の関係のように第２層の表面に中空シリカ粒子が大部分分布するだけでなく、上記式２のように第２層内には中空シリカ粒子がほとんど同一な密度に稠密に存在し得る。これにより、第２層に同一量の中空粒子が分布する場合にも、一実施形態による反射防止フィルムは中空粒子がさらに高密度に存在して薄い厚さの第２層を形成することができ、より向上した膜強度と反射防止性能を示すことができる。

そして、前記１１００±５０ｃｍ^-1で観察されるピークの強度は第２層の表面から４２０ｎｍの深さに至るまで漸進的に減少する傾向を示すことができる。つまり、前記第２層に含まれる中空シリカ粒子は基材方向に行くほど粒子間距離が漸進的に遠くなる傾向を示すことができる。但し、これは上記式１と式２の関係を満足する範囲内で示され得る分布傾向の一例に過ぎないものであって、本発明の範囲が前記例に制限されるわけではない。

より具体的な一例によれば、前記反射防止フィルムは第１（メタ）アクリレート系バインダと、前記第１（メタ）アクリレート系バインダ内の無機微粒子を含み、基材内に浸潤している第１層；及び第２（メタ）アクリレート系バインダと、前記第２（メタ）アクリレート系バインダ内の２乃至５層の中空粒子層を含みながら、第１層を覆っている第２層を含むことができる。

このような反射防止フィルムで、基材内に浸潤している第１層は反射防止フィルムのハードコート層として作用しながら、約１．５以上の屈折率を示す高屈折率層として作用できる。このようなハードコート層には基材内に浸潤した第１（メタ）アクリレート系バインダが含まれ、このような第１（メタ）アクリレート系バインダは分子量６００未満の（メタ）アクリレート系化合物の架橋重合体を含むことができる。また、前記ハードコート層は第１（メタ）アクリレート系バインダ内の無機微粒子を含むことができる。

また、基材内浸潤層である第１層と接触してこれを覆っている第２層は中空粒子の全部または大部分（例えば、約９７重量％以上、あるいは約９９重量％以上）が実質的に分布して反射防止フィルムの低屈折率層として作用できる。このような低屈折率層は約１．４５以下の低い屈折率を示して適切な反射防止効果を示すことができる。より具体的に、第２層内の中空粒子は互いに連続的に連結されて中空粒子層をなしており、このような中空粒子層の２乃至５層、あるいは２乃至４層が互いに隣接して第２層内に稠密に形成されている。これにより、第２層がより低い屈折率及び優れた反射防止効果を示すことができ、優れた耐擦傷性などを示すことができる。

そして、このような低屈折率層には第２（メタ）アクリレート系バインダが含まれ、このような第２（メタ）アクリレート系バインダは分子量６００未満の（メタ）アクリレート系化合物及び分子量６００乃至１００，０００の（メタ）アクリレート系化合物の架橋共重合体を含むことができる。また、前述した２乃至５層の中空粒子層は前記低屈折率層の第２（メタ）アクリレート系バインダ内に含まれ得る。

このような反射防止フィルムで、ハードコート層として作用する第１層の第１（メタ）アクリレート系バインダは分子量６００未満の（メタ）アクリレート系化合物及び分子量６００乃至１００，０００の（メタ）アクリレート系化合物の架橋共重合体をさらに含むことができる。また、低屈折率層として作用する第２層は無機微粒子をさらに含むことができる。

このような反射防止フィルムの一例に対する概略的な模式図が図２に示されている。図２を参照すれば、このような反射防止フィルムではハードコート層として作用する第１層２が基材１内に浸潤して硬化された状態で形成され、低屈折率層として作用する第２層３が浸潤層である第１層２と接触してこれを覆いながら浸潤層が形成された基材の上に形成され得る。この時、基材内に浸潤した第１層２と、基材上の第２層３との間にこれらと区分される別途の層を含まない。このように別途の層が形成されないというのは、浸潤層である第１層と、中空粒子が実質的に分布する第２層との間に、例えば、バインダ及び／または無機微粒子のみを含み中空粒子を実質的に含まず基材内に浸潤しない別途の層が含まれないのを指称することができる。

このように、ハードコート層として作用する第１層２が基材１内に浸潤した状態で存在し、これらと接触するように低屈折率層として作用する第２層３が基材の上に形成されることによって、他の実施形態の反射防止フィルムは基材、ハードコート層及び低屈折率層の界面密着力に優れ使用過程での剥離現象を最少化することができる。

また、前記第２層の任意の断面面積に対する前記中空粒子の断面面積比率が約７０乃至９５％、あるいは約７５乃至９３％、あるいは約８０乃至９０％、あるいは約８５乃至９２％になるほどに、低屈折率層として作用する第２層内に中空粒子が稠密に分布し得る。したがって、一実施形態の反射防止フィルムは優れた低屈折特性及び反射防止効果を示すことができる。

以下、一実施形態の反射防止フィルムに含まれる各層についてより具体的に説明する。

まず、反射防止フィルムは基材（ｓｕｂｓｔｒａｔｅ）を含む。図２に示したように、基材１は通常の透明薄膜であって、第１層の第１（メタ）アクリレート系バインダ及び無機微粒子が浸潤できる素材のものであればその種類が特に制限されない。例えば、基材としてはポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、アクリル系樹脂、アセテートセルロース樹脂などの素材に由来したものを使用することができる。一例で、透明性と反射防止効果の向上のために、トリアセテートセルロース（ＴＡＣ）樹脂を基材として使用することができる。

また、反射防止フィルムは、分子量６００未満の（メタ）アクリレート系化合物の架橋重合体を第１（メタ）アクリレート系バインダとして含み、このような第１（メタ）アクリレート系バインダ内の無機微粒子を含む第１層２をハードコート層として含むことができる。このようなハードコート層は基材内に浸潤した層であり得る。このような第１層２は前記第１（メタ）アクリレート系バインダと無機微粒子が基材内に浸潤して基材と一体に硬化されたものであり得る。たとえ図２では第１層２が基材１の全面に浸潤したと示されたが、他の例では第１層２が基材１の一部分に浸潤して構成され得る。

低屈折率層として作用する第２層３は基材１内に浸潤した第１層２に接触してこれを覆うように形成され、互いに隣接した２乃至５層の中空粒子層４を含む層であり得る。このような中空粒子層４のそれぞれは基材と平行な方向に連続的に連結された複数個の中空粒子を含んで基材上の層形態をなしており、このような中空粒子層４の２乃至５層が互いに隣接しながら第２層内に中空粒子が稠密に分布している。このような中空粒子及び中空粒子層の分布によって、一実施形態の反射防止フィルムはより優れた反射防止効果を示すことができる。

但し、一実施形態の反射防止フィルムは第２層内に稠密に分布されている２乃至５層の中空粒子層４と離隔している一つ以上の中空粒子５をさらに含むこともできる。しかし、一実施形態の反射防止フィルムでは、このように離隔している中空粒子５も前記２乃至５層の中空粒子層４と約１５０ｎｍ以下、あるいは約１００ｎｍ以下、あるいは約５０ｎｍ以下、あるいは約３０ｎｍ以下、あるいは約５乃至３０ｎｍの比較的に短い距離を置いて離隔できる。また、一実施形態の反射防止フィルムで、前記２乃至５層の中空粒子層４と離隔している中空粒子５の個数はフィルム全体に含まれている中空粒子個数の約１０％以下、あるいは約７％以下、あるいは約５％以下、あるいは約３％以下、あるいは約１乃至３％であり得る。このように、大部分の中空粒子が第２層内に稠密に分布しており、独立的に離隔した最小限の中空粒子を含むことによって、一実施形態の反射防止フィルムはさらに向上した反射防止特性を示すことができる。

また、前記中空粒子層４を含む第２層３は約１０乃至３００ｎｍ、あるいは約５０乃至２００ｎｍ、あるいは約１００乃至１５０ｎｍの厚さを有し得る。第２層３の厚さは反射防止コーティング用組成物を用いた反射防止フィルムの製造工程で自発的な相分離及びバインダ形成用化合物の基材内浸潤程度などによって変わり得る。このような第２層３の厚さが上述した範囲を有することによって、低屈折率層として作用する第２層３内に中空粒子層４が稠密に分布し、第２層３が基材内浸潤層である第１層２を直接覆うように形成され得る。その結果、前記低屈折率層として作用する第２層３がより低い屈折率及び反射率を示すことができ、一実施形態の反射防止フィルムがより向上した反射防止特性を示すことができる。

一方、前述した第１層２及び第２層３の間には、バインダ及び／または無機微粒子のみを含み基材内に浸潤しない別途の層が含まれない。以前に知られたフィルムのようにハードコート層と低屈折率層の間にバインダのみからなる別途の層が存在する場合、各層と基材の密着力が低下するという短所が示されることがあり、一実施形態の反射防止フィルムは低屈折率層として作用する第２層３が基材１及びハードコート層として作用する第１層２に接触するように真上に形成されることによって、より向上した層間密着力、耐擦傷性及び反射防止効果を示すことができる。

ここで、第２層３の第２（メタ）アクリレート系バインダは分子量６００未満の（メタ）アクリレート系化合物及び分子量６００乃至１００，０００の（メタ）アクリレート系化合物の架橋共重合体を含むことができる。他の例で、前記第２（メタ）アクリレート系バインダは分子量６００未満の（メタ）アクリレート系化合物、分子量６００乃至１００，０００の（メタ）アクリレート系化合物及びフッ素系（メタ）アクリレート化合物の架橋共重合体を含むこともできる。このようなフッ素系（メタ）アクリレート化合物がさらに共重合された架橋共重合体が第２（メタ）アクリレート系バインダに含まれることによって、低屈折率層として作用する第２層３のより低い屈折率及び優れた反射防止効果を実現することができる。また、第２層３の耐スクラッチ性をより向上させることができる。

また、第２層３は第２（メタ）アクリレート系バインダ内の無機微粒子をさらに含むことができ、これによって第２層３の耐擦傷性及び反射防止効果がより向上できる。

一方、第１層２の第１（メタ）アクリレート系バインダは前述した分子量６００未満の（メタ）アクリレート系化合物の架橋重合体以外に、分子量６００未満の（メタ）アクリレート系化合物及び分子量６００乃至１００，０００の（メタ）アクリレート系化合物の架橋共重合体をさらに含むことができる。

この時、第１層２の第１（メタ）アクリレート系バインダに含まれる架橋共重合体は第１層２と、第２層３の境界面を基準に第１層２の一定の領域、例えば、第１層２の約５乃至５０％の深さまで、あるいは約５乃至４５％の深さまで、あるいは約５乃至４０％の深さまで含まれ得る。そして、第１層２のバインダに含まれる架橋共重合体は第２層３方向に分布勾配が増加するように含まれ得る。

このように、分子量６００乃至１００，０００の（メタ）アクリレート系化合物が第１層２の一定の深さまで分布勾配を有して分子量６００未満の（メタ）アクリレート系化合物と架橋共重合されており、連続して第２層３の全体に架橋共重合されて含まれることによって、第１層２及び第２層３間の界面密着力がより向上でき、第２層３に含まれる中空粒子が稠密に分布できる。

そして、前述した反射防止フィルムで、第１層２は低屈折率層として作用する第２層３より屈折率がさらに高い層であって、屈折率が約１．５乃至１．５８、あるいは約１．５乃至１．５７、あるいは約１．５１乃至１．５６であり得る。また、前記第２層３は屈折率が約１．１乃至１．４５、あるいは約１．１５乃至１．４３、あるいは約１．２乃至１．４２であり得る。

また、前述した他の実施形態の反射防止フィルムは反射率が約０．５乃至４％、あるいは約０．８乃至３％、あるいは約１乃至２％である優れた反射防止特性を示し、ＰＤＰ、ＣＲＴまたはＬＣＤなどの多様なディスプレイ装置で反射防止フイルムとして適切に適用することができる。

以下、一実施形態の反射防止フィルムを形成するための反射防止コーティング用組成物及びこれを用いた反射防止フィルムの製造方法について説明する。

前記反射防止コーティング用組成物は分子量６００未満の（メタ）アクリレート系化合物；分子量６００乃至１００，０００の（メタ）アクリレート系化合物；無機微粒子；及び中空粒子を含むことができる。このような組成物の各組成物について説明すれば以下の通りである。

＜分子量６００未満の（メタ）アクリレート系化合物＞
前記反射防止コーティング用組成物は分子量６００未満の（メタ）アクリレート系化合物を含むことができる。このような低分子量の（メタ）アクリレート系化合物は、任意の基材に組成物が塗布される場合、少なくとも一部が基材内に浸潤し得る。

このように基材に浸潤する低分子量の（メタ）アクリレート系化合物は単独重合または後述する分子量６００乃至１００，０００の高分子量（メタ）アクリレート系化合物と共に共重合されて浸潤領域に対応する第１層のバインダを形成することができる。

そして、前記低分子量（メタ）アクリレート系化合物の残部は浸潤せず基材上に残り得る。このような残部の化合物は後述する高分子量（メタ）アクリレート系化合物と共に共重合され前記浸潤領域の第１層を覆っている第２層のバインダを形成することができる。

このような低分子量（メタ）アクリレート系化合物が基材内に十分に浸潤し反射防止フィルムのハードコート層として作用する第１層のバインダが形成できるようにするために、前記低分子量（メタ）アクリレート系化合物は、例えば、約６００未満、あるいは約５００未満、あるいは約４００未満の分子量を有し、また他の例では、約５０以上、あるいは約１００以上の分子量を有し得る。

一例で、基材内に浸潤してより高い屈折率を示す第１層（例えば、ハードコート層及び／または高屈折率層）が形成されるようにするために、前記低分子量（メタ）アクリレート系化合物は硫黄、塩素または金属などの置換基や芳香族置換基を有し得る。

このような低分子量（メタ）アクリレート系化合物はペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリメチレンプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、９，９−ビス（４−（２−アクリロキシエトキシフェニル）フルオレン（屈折率１．６２）、ビス（４−メタクリロキシチオフェニル）スルフィド（屈折率１．６８９）、及びビス（４−ビニルチオフェニル）スルフィド（屈折率１．６９５）からなる群より選択される化合物を含むことができ、これらの中で選択された２種以上の混合物を含むこともできる。

＜分子量６００乃至１００，０００の（メタ）アクリレート系化合物＞
一方、反射防止コーティング用組成物には分子量６００乃至１００，０００の高分子量（メタ）アクリレート系化合物が含まれ得る。このような高分子量（メタ）アクリレート系化合物は、大きい分子量及びこれによるバルキーな化学構造などにより、任意の基材に組成物が塗布される場合、前述した低分子量の化合物に比べて、相対的に少量が基材内に浸潤し、残り相当量は基材の上に残り得る。

これにより、高分子量の（メタ）アクリレート系化合物は前述した低分子量の（メタ）アクリレート系化合物と同等な深さまで浸潤しなくなる。その結果、基材内の浸潤領域は次の２つの領域に区分され得る。まず、低分子量（メタ）アクリレート系化合物のみが浸潤した領域あるいは浸潤できる深さでの領域であって、ここには、低分子量（メタ）アクリレート系化合物の架橋重合体からなるバインダが存在し得る。浸潤領域の残り領域として、高分子量（メタ）アクリレート系化合物が浸潤している領域には、高分子量（メタ）アクリレート系化合物と、低分子量（メタ）アクリレート系化合物が架橋共重合されたバインダが存在し得る。

そして、基材に浸潤しない高分子量（メタ）アクリレート系化合物の残りは前述した低分子量化合物と共に共重合され前記浸潤層を覆っている第２層（例えば、反射防止フィルムの低屈折率層）の第２（メタ）アクリレート系バインダを形成することができる。これにより、反射防止フィルムのハードコート層として作用できる第１層と、その上を覆っている第２層（低屈折率層）の間の界面密着力が向上すると同時に、低屈折率層の耐擦傷性が向上し、低屈折率層に含まれる中空粒子がより稠密に分布されるようにする。

このような高分子量（メタ）アクリレート系化合物は前述した低分子量化合物に比べて相対的に分子量が大きくてバルキー（ｂｕｌｋｙ）な構造を有する化合物であって、例えば、約４００以上、あるいは約５００以上、あるいは約６００以上の分子量を有し、また他の例として約１００，０００以下、あるいは約８０，０００以下、あるいは約５０，０００以下の分子量を有し得る。

このような大きい分子量及びバルキーな構造のために、高分子量（メタ）アクリレート系化合物は前述した低分子量（メタ）アクリレート系化合物の２分子以上がリンカーによって連結された構造の化合物を含むことができる。この時、リンカーは（メタ）アクリレート系化合物を連結できると知られた任意の化学結合、例えば、ウレタン結合、チオエーテル結合、エーテル結合またはエステル結合などを含む２価以上のラジカルであり得る。

また、前記高分子量（メタ）アクリレート系化合物はよりバルキーな構造のために、エポキシ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、チオール基、炭素数６以上の芳香族または脂肪族炭化水素基及びイソシアネート基からなる群より選択された１種以上の置換基を有し得る。

このような高分子量（メタ）アクリレート系化合物としては前記条件を満足する商用品を使用するか直接合成して使用することができる。このような商用品の例としては、ＵＡ−３０６Ｔ、ＵＡ−３０６Ｉ、ＵＡ−３０６Ｈ、ＵＡ−５１０Ｔ、ＵＡ−５１０Ｉ、ＵＡ−５１０Ｈ（以上、共栄社化学株式会社製品）；ＢＰＺＡ−６６、ＢＰＺＡ−１００（以上、共栄社化学株式会社製品）；ＥＢ９２６０、ＥＢ９９７０（以上、ＢＡＥＹＥＲ社製品）；Ｍｉｒａｍｅｒ ＳＰ１１０７、Ｍｉｒａｍｅｒ ＳＰ１１１４（以上、ＭＩＷＯＮ社製品）などが例として挙げられる。

前述した高分子量（メタ）アクリレート系化合物は前記低分子量化合物１００重量部に対して、約５乃至３０重量部、あるいは約５乃至２５重量部、あるいは約５乃至２０重量部で反射防止コーティング用組成物に含まれ得る。このような高分子量（メタ）アクリレート系化合物の含量比は高分子量及び低分子量（メタ）アクリレート系化合物を含むバインダ形成用化合物の混合使用による最小限度の効果を確保しながらも、過量添加時の構成層の物性最適化または中空粒子の分布傾向変化などを考慮して設定することができる。

＜フッ素系（メタ）アクリレート化合物＞
一方、前述した反射防止コーティング用組成物はバインダ形成用化合物として一つ以上のフッ素が置換されたフッ素系（メタ）アクリレート化合物をさらに含むことができる。このようなフッ素系（メタ）アクリレート化合物はフッ素含有置換基の存在によって、基材に組成物が塗布された時に基材内に浸潤しなくなる。そのため、フッ素系（メタ）アクリレート化合物は前述した低分子量及び高分子量の（メタ）アクリレート化合物と共に反射防止フィルムの低屈折率層として作用する第２層の第２（メタ）アクリレート系バインダを形成することができる。このようなフッ素系（メタ）アクリレート化合物はより低い屈折率を示すので低屈折率層の屈折率をより低くすることができ、極性官能基を含むことによって後述する中空粒子との相溶性に優れ、低屈折率層の耐スクラッチ性向上を助けることができる。

このようなフッ素系（メタ）アクリレート化合物は任意の（メタ）アクリレート化合物に一つ以上のフッ素含有置換基が結合された構造を有し得、このようなフッ素系（メタ）アクリレート化合物の例としては、下記の化学式１乃至化学式５の化合物からなる群より選択される１種以上の化合物が挙げられる：

上記化学式１で、Ｒ¹は水素基または炭素数１乃至６のアルキル基であり、ａは０乃至７の整数であり、ｂは１乃至３の整数であり；

上記化学式２で、ｃは１乃至１０の整数であり；

上記化学式３で、ｄは１乃至１１の整数であり；

上記化学式４で、ｅは１乃至５の整数であり；

上記化学式５で、ｆは４乃至１０の整数である。

一方、フッ素系（メタ）アクリレート化合物は前述した低分子量（メタ）アクリレート化合物１００重量部に対して、約０．５乃至２０重量部、あるいは約５乃至１８重量部、あるいは約１０乃至１６重量部で反射防止コーティング用組成物に含まれ得る。

このようなフッ素系（メタ）アクリレート化合物としては前記条件を満足する商用品を使用することができ、このような商用品の例としては、オプツールＡＲ１１０（製造社：ダイキン工業株式会社）、ＬＩＮＣ−３Ａ及びＬＩＮＣ−１０２Ａ（製造社：共栄社化学株式会社）、ＰＦＯＡ（製造社：Ｅｘｆｌｕｏｒ）、ＯＰ−３８Ｚ（製造社：ＤＩＣ）などが挙げられる。

＜無機微粒子＞
一方、反射防止コーティング用組成物には無機微粒子が含まれ得る。

無機微粒子は、任意の基材に組成物が塗布される場合、前述した２種以上のバインダ形成用化合物と共にその一部が基材内に浸潤して分散した状態で含まれ得る。また、基材内に浸潤しない残りは低屈折率層として作用する第２層に分散した状態で含まれるものであって、耐擦傷性向上及び反射防止効果に寄与できる。

一実施形態で、無機微粒子は各種無機素材から導出される粒子であって、ナノメートルスケールの数平均粒径を有するものであり得る。

このような無機微粒子は数平均粒径が、例えば、約１００ｎｍ以下、あるいは約５乃至５０ｎｍ、あるいは約５乃至２０ｎｍであり得る。コーティング層の透明度、屈折率及び耐擦傷性などの調節のために、無機微粒子の粒径は前述した範囲になるように調節することができる。

また、前記基材上のコーティング層の向上した透明性などを確保するために、ケイ素化合物または有機ケイ素化合物から導出されるシリカ微粒子を無機微粒子として用いることができる。

無機微粒子は前述した低分子量（メタ）アクリレート系化合物１００重量部に対して、例えば、約５乃至３０重量部、あるいは約５乃至２５重量部、あるいは約５乃至２０重量部で反射防止コーティング用組成物に含まれ得る。無機微粒子による最小限度の効果を示すことができながらも、基材の種類によって浸潤可能な無機微粒子の含量と、過量添加時の反射率上昇による反射防止効果の低減などを考慮して、無機微粒子の含量は前記範囲で調節することができる。

一方、無機微粒子は所定の分散媒に分散した形態であって、固形分含量が約５乃至４０重量％であるゾル（ｓｏｌ）の形態に含まれ得る。ここで、分散媒に使用可能な有機溶媒としてはメタノール（ｍｅｔｈａｎｏｌ）、イソプロピルアルコール（ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ ａｌｃｏｈｏｌ、ＩＰＡ）、エチレングリコール（ｅｔｈｙｌｅｎｅ ｇｌｙｃｏｌ）、ブタノール（ｂｕｔａｎｏｌ）などのアルコール類；メチルエチルケトン（ｍｅｔｈｙｌ ｅｔｈｙｌ ｋｅｔｏｎｅ）、メチルイソブチルケトン（ｍｅｔｈｙｌ ｉｓｏ ｂｕｔｙｌ ｋｅｔｏｎｅ、ＭＩＢＫ）などのケトン類；トルエン（ｔｏｌｕｅｎｅ）、キシレン（ｘｙｌｅｎｅ）などの芳香族炭素水素類；ジメチルホルムアミド（ｄｉｍｅｔｈｙｌ ｆｏｒｍａｍｉｄｅ）、ジメチルアセトアミド（ｄｉｍｅｔｈｙｌ ａｃｅｔａｍｉｄｅ）、Ｎ−メチルピロリドン（ｍｅｔｈｙｌ ｐｙｒｒｏｌｉｄｏｎｅ）などのアミド類；酢酸エチル、酢酸ブチル、γ−ブチロラクトンなどのエステル（ｅｓｔｅｒ）類；テトラヒドロフラン（ｔｅｔｒａｈｙｄｒｏｆｕｒａｎ）、１，４−ジオキサンなどのエーテル（ｅｔｈｅｒ）類；またはこれらの混合物が例として挙げられる。

一実施形態によれば、無機粒子としては商用化されたシリカゾルを用いることができ、例えば、日産化学社のＭＥＫ−ＳＴ、ＭＩＢＫ−ＳＴ、ＭＩＢＫ−ＳＤ、ＭＩＢＫ−ＳＤ−Ｌ、ＭＥＫ−ＡＣ、ＤＭＡＣ−ＳＴ、ＥＧ−ＳＴ；あるいはＧａｅｍａｔｅｃｈ社のＰｕｒｉｓｏｌなどがある。

＜中空粒子＞
一方、反射防止コーティング用組成物には中空粒子がさらに含まれ得る。このような中空粒子は粒子の表面及び／または内部に空いた空間が存在する形態の粒子を意味するものであって、低い低屈折率及び反射防止効果を達成するための成分である。

このような中空粒子は組成物が基材に塗布された時、反射防止フィルムのハードコート層として作用する第１層に実質的に分布せず、このような浸潤層を覆っている基材上の層、即ち、低屈折率層として作用する第２層に分布して既に前述したような２乃至５層の中空粒子層を形成することができる。ここで、中空粒子が第１層に‘実質的に分布し（含ま）ない’というのは基材内の浸潤層である第１層内に存在する中空粒子の含量比が全体中空粒子を基準に約５重量％未満、あるいは約３重量％未満、あるいは約１重量％未満であることを意味し得る。

一方、一実施形態の組成物には、前述したバインダ形成用化合物などと共に所定の溶媒が含まれることによって、自発的な相分離が起こり反射防止フィルムを形成することができる。この時、中空粒子は他の構成成分との密度差や表面エネルギー差などによって相分離時に浸潤層である第１層に実質的に分布せず、低屈折率層として作用する第２層に稠密に分布し得る。その結果、より向上した膜強度、耐擦傷性及び反射防止特性を示す反射防止フィルムの形成を可能にする。

このような中空粒子は粒子の表面及び／または内部に空いた空間が存在する形態の粒子であればその素材が特に制限されないが、一実施形態では低屈折率層の透明性及び／または低い屈折率確保のためにケイ素化合物または有機ケイ素化合物から導出される中空シリカ粒子を用いることができる。

この時、中空粒子の粒径はフィルムの透明性が維持できながらも反射防止効果を示すことができる範囲で決定され得る。一例によれば、中空粒子は数平均粒径が、例えば、約５乃至８０ｎｍ、あるいは約１０乃至７５ｎｍ、あるいは約２０乃至７０ｎｍであり得る。

中空粒子は前述した低分子量（メタ）アクリレート系化合物１００重量部に対して、例えば、約１乃至３０重量部、あるいは約１乃至２５重量部、あるいは約５乃至２０重量部で反射防止コーティング用組成物に含まれ得る。中空粒子による最小限度の効果を示すことができながらも、相分離による好ましい分布が形成されるようにするために、中空粒子の含量は前述した範囲で調節することができる。

また、中空粒子は分散媒（水または有機溶媒）に分散された形態であって固形分含量が約５乃至４０重量％であるコロイド状で含まれ得る。ここで、分散媒に使用可能な有機溶媒としてはメタノール（ｍｅｔｈａｎｏｌ）、イソプロピルアルコール（ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ ａｌｃｏｈｏｌ、ＩＰＡ）、エチレングリコール（ｅｔｈｙｌｅｎｅ ｇｌｙｃｏｌ）、ブタノール（ｂｕｔａｎｏｌ）などのアルコール類；メチルエチルケトン（ｍｅｔｈｙｌ ｅｔｈｙｌ ｋｅｔｏｎｅ）、メチルイソブチルケトン（ｍｅｔｈｙｌ ｉｓｏ ｂｕｔｙｌ ｋｅｔｏｎｅ、ＭＩＢＫ）などのケトン類；トルエン（ｔｏｌｕｅｎｅ）、キシレン（ｘｙｌｅｎｅ）などの芳香族炭素水素類；ジメチルホルムアミド（ｄｉｍｅｔｈｙｌ ｆｏｒｍａｍｉｄｅ）、ジメチルアセトアミド（ｄｉｍｅｔｈｙｌ ａｃｅｔａｍｉｄｅ）、Ｎ−メチルピロリドン（ｍｅｔｈｙｌ ｐｙｒｒｏｌｉｄｏｎｅ）などのアミド類；酢酸エチル、酢酸ブチル、γ−ブチロラクトンなどのエステル（ｅｓｔｅｒ）類；テトラヒドロフラン（ｔｅｔｒａｈｙｄｒｏｆｕｒａｎ）、１，４−ジオキサンなどのエーテル（ｅｔｈｅｒ）類；またはこれらの混合物が例として挙げられる。

＜溶媒＞
前述した反射防止コーティング用組成物には溶媒がさらに含まれ得る。溶媒は組成物の粘度を適正範囲で調節すると同時に、バインダ形成用化合物の基材内浸潤と、中空粒子の円滑な相分離と分布傾向を調節する役割を果たす。

上記のような効果が十分に発現されるようにするために、溶媒は誘電率（ｄｉｅｌｅｃｔｒｉｃ ｃｏｎｓｔａｎｔ）（２５℃）が約２０乃至３０であり、双極子モーメントが約１．７乃至２．８であるものを用いることができる。このような物が充足できる溶媒の例としては、メチルエチルケトン、エチルアセテートまたはアセチルアセトンなどが挙げられ、その他にも上記物性を充足する任意の溶媒を使用することができる。また、一例によれば、前述した物性を充足する溶媒と共に、他の溶媒を共に混合して使用することもできる。このような混合して使用可能な溶媒の例としては、イソブチルケトン、メタノール、エタノール、ｎ−ブタノール、ｉ−ブタノールまたはｔ−ブタノールなどが挙げられる。但し、前記誘電率（ｄｉｅｌｅｃｔｒｉｃ ｃｏｎｓｔａｎｔ）及び双極子モーメント範囲を満足する溶媒が組成物に含まれる溶媒の全体重量を基準に約６０重量％以上含まれるようにするのが適切な相分離の発現側面から適切である。

そして、反射防止コーティング用組成物で、溶媒は前述した低分子量（メタ）アクリレート系化合物１００重量部に対して、例えば、約１００乃至５００重量部、あるいは約１００乃至４５０重量部、あるいは約１００乃至４００重量部で含むことができる。組成物のコーティング時、流動性が良くない場合にはコーティング層に縞模様が生ずるなど不良が発生することがあり、このように組成物に要求される最小限の流動性を付与するために、溶媒は一定含量以上に含まれ得る。また、溶媒を過量で添加する場合、固形分含量が過度に低くなって乾燥及び硬化時に不良が発生することがあり、中空粒子の分布傾向が好ましい範囲を逸脱することがある。

＜重合開始剤＞
一方、前述した反射防止コーティング用組成物には重合開始剤がさらに含まれ得る。重合開始剤は紫外線などのエネルギー線によって活性化されバインダ形成用化合物の重合反応を誘導することができる化合物であって、本技術分野での通常の化合物を用いることができる。

このような重合開始剤の例としては、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンジルジメチルケタール、ヒドロキシジメチルアセトフェノン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテルまたはベンゾインブチルエーテルなどが挙げられ、その他にも多様な光重合開始剤を用いることができる。

この時、重合開始剤の含量は低分子量（メタ）アクリレート系化合物１００重量部に対して、例えば、約５乃至２５重量部、あるいは約５乃至２０重量部、あるいは約５乃至１５重量部であり得る。バインダ形成用化合物の重合反応が十分に行われるようにするために、重合開始剤の含量は一定水準以上にすることができる。また、重合開始剤を過量で添加する場合には反射防止フィルムをなす各層の耐スクラッチ性または耐摩耗性などの機械的物性が低下することがあるため適切でない。

以下、前述した反射防止コーティング用組成物を用いた反射防止フィルムの製造方法について説明する。図３には前述した反射防止コーティング用組成物を用いて一実施形態の反射防止フィルムを製造する方法がフローチャートとして概略的に示されている。

図３を参照すれば、このような反射防止フィルムの製造方法は前述した反射防止コーティング用組成物を準備する段階；前記反射防止コーティング用組成物を基材の少なくとも一面に塗布する段階；塗布された組成物を乾燥させながらバインダ形成用化合物の一部及び無機微粒子を基材に浸潤させる段階；及び浸潤及び乾燥された組成物を硬化させて前記基材の浸潤領域に対応する第１層と、前記中空粒子を含み第１層を覆っている第２層を形成する段階を含む方法で製造することができる。

このような方法を経ると、組成物内の所定物性を有する溶媒が先に基材の一部を溶かすことができ、これにより、バインダ形成用化合物の一部（例えば、低分子量及び高分子量を有する（メタ）アクリレート系化合物の一部）と、無機微粒子の少なくとも一部が基材内に浸潤し得る。この時、浸潤しない一部のバインダ形成用化合物及び無機微粒子と、中空粒子は基材上のコーティング層（例えば、第２層）を形成することができる。特に、このようなコーティング層は前記成分が浸潤した基材の上に薄い厚さで残留し、コーティング層内には中空粒子が稠密に存在し２乃至５層の中空粒子層が形成できる。

その後、硬化を行うと、第１層及び第２層の第１及び第２（メタ）アクリレート系バインダが形成されながら、ハードコート層として作用する基材内浸潤層である第１層と、互いに隣接した２乃至５層の中空粒子層を含みながら第１層を覆っている第２層が形成できる。その結果、一実施形態の反射防止フィルムを形成することができる。

このように、一実施形態の反射防止フィルムは単一組成物を用いた単一コーティング及び硬化工程を適用しても、一部成分の基材内浸潤及び相分離によって単純化された工程で形成できる。特に、このような反射防止フィルムはハードコート層として作用する第１層が基材内に浸潤して第２層と接触するように形成されているので、優れた界面接着力及び機械的物性などを示すことができる。さらに、このような反射防止フィルムは第１層と第２層の間に別途の層が存在せず第２層内に中空粒子が稠密に存在して互いに隣接した２乃至５層の中空粒子層を形成することができるので、より低い屈折率及び優れた反射防止特性を示すことができる。これは前述した反射防止コーティング用組成物が少なくとも２種のバインダ形成用化合物及び所定物性の溶媒などを含むことによって、基材内浸潤及び相分離が最適化され得るためであると見られる。

前述した反射防止フィルムの製造方法で、前記基材の少なくとも一面に組成物を塗布する方法はワイヤーバーなど当業界の通常のコーティング装置及び方法を用いて遂行できる。

また、前記乾燥段階は組成物の相分離及び基材内への浸潤を促進するために、約５乃至１５０℃の温度で約０．１乃至６０分間、あるいは約２０乃至１２０℃の温度で約０．１乃至２０分間、あるいは約３０乃至１１０℃の温度で約１乃至１０分間遂行できる。

そして、前記硬化段階では、乾燥された組成物に光を照射する方法などでエネルギーを付加して重合反応を開始し、これによって浸潤及び乾燥された組成物を硬化することができる。このような硬化段階は十分な硬化反応を誘導するために紫外線照射量約０．１乃至２Ｊ／ｃｍ²で約１乃至６００秒間、あるいは紫外線照射量約０．１乃至１．５Ｊ／ｃｍ²で約２乃至２００秒間、あるいは紫外線照射量約０．２乃至１Ｊ／ｃｍ²で約３乃至１００秒間遂行できる。

以上のような方法を通じて、既に前述した一実施形態の反射防止フィルムが得られ、このような反射防止フィルムでは低屈折率層として作用する第２層の任意の断面面積に対する中空粒子の断面面積比率が約７０乃至９５％、あるいは約７５乃至９３％、あるいは約８０乃至９０％、あるいは約８５乃至９２％になるほどに、低屈折率層内に中空粒子が稠密に分布できる。

前述した反射防止フィルムの製造方法は前述した段階以外にも、各段階の以前または以後に当業界で通常遂行される段階をさらに含んで遂行できるのは勿論である。

以下、発明の理解のために好ましい実施例を提示する。しかし下記の実施例は発明を例示するためのものに過ぎず、発明をこれらのみに限定するのではない。

［実施例１］
（反射防止コーティング用組成物の製造）
ペンタエリスリトールヘキサアクリレート（分子量２９８．３）１００重量部及びウレタン官能基を有するアクリレート（製造社：共栄社化学株式会社、製品名：ＵＡ−３０６Ｔ、分子量１０００）１１．３３重量部を含む（メタ）アクリレート系化合物１００重量部に対して；
シリカ微粒子が分散したシリカゾル（分散媒：メチルイソブチルケトン及びメチルアルコール、固形分含量４０重量％、シリカ微粒子の数平均粒径：１０ｎｍ、製造社：Ｇａｅｍａｔｅｃｈ、製品名：Ｐｕｒｉｓｏｌ）約１５．８７重量部；
中空シリカが分散したコロイド溶液（分散媒：メチルイソブチルケトン、固形分含量２０重量％、中空シリカの数平均粒径：５０ｎｍ、製造社：触媒化成工業、製品名：ＭＩＢＫ−ｓｏｌ）約１１．３３重量部；
光重合開始剤約１０．８５重量部（具体的に、ダロキュア−１１７３約１．１１重量部、イルガキュア−１８４約６．４８重量部、イルガキュア−８１９約２．１５重量部及びイルガキュア−９０７約１．１１重量部）；及び
溶媒約２５１．８５重量部（具体的に、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）約１７９．６３重量部、エタノール約２４．０７重量部、ｎ−ブチルアルコール約２４．０７重量部及びアセチルアセトン約２４．０７重量部）を混合して反射防止コーティング用組成物を製造した。

（反射防止フィルムの製造）
前記反射防止コーティング用組成物をトリアセテートセルロースフィルム（厚さ８０μｍ）にワイヤーバー（９号）を用いてコーティングした。これを９０℃オーブンで１分間乾燥した後、ここに２００ｍＪ／ｃｍ²のＵＶエネルギーを５秒間照射して組成物を硬化させた。

これによって、基材内に浸潤して形成されたハードコート層を含み、前記ハードコート層を覆っている低屈折率層を含む反射防止フィルムを収得した。

そして、前記反射防止フィルムの断面写真を図４の（ａ）に、その一部分を拡大観察した写真を図４の（ｂ）に示した。図４から分かるように、実施例１による反射防止フィルムは、基材１に浸潤して硬化されたバインダと、前記バインダ内に無機微粒子が分散したハードコート層２（約３．９μｍ）；及び前記ハードコート層２上に硬化されたバインダと、前記バインダ内に中空粒子層４が形成された低屈折率層３（約０．１５μｍ）を含むと確認された。

また、前記ハードコート層２と低屈折率層３の間に別途の層は観察されず、低屈折率層３の任意の断面面積に対する中空粒子の断面面積比率が約９０％になり低屈折率層３内に中空粒子が非常に稠密に分布するのが確認された。そして、前記低屈折率層３内には互いに隣接した３乃至５層の中空粒子層４が形成されているのが確認され、このような中空粒子層と離隔している中空粒子の個数は全体中空粒子個数の約５％に過ぎないのが確認された。

そして、図１は実施例１のフィルムに対するＦＴ−ＩＲ分析グラフであって、１１００±５０ｃｍ^-1で観察されるピークの相対強度をフィルム表面から深さによって測定し（下記実験例参照）、そのデータを下記表１に示した。図１及び表１から分かるように、表面でのピーク相対強度（Ｉ₀＝約２．５５１）は、表面から４２０ｎｍの深さのピーク相対強度（Ｉ₄₂₀＝約０．３７４）に比べて約６．８倍強いと示され、上記式１の関係を充足することを確認した。また、表面でのピーク相対強度（Ｉ₀＝約２．５５１）は、表面から１４０ｎｍの深さのピーク相対強度（Ｉ₁₄₀＝約１．１４２）に比べて約２．２倍強いと示され、上記式２の関係も充足することを確認した。そして、前記ピーク相対強度は表面から４２０ｎｍの深さに至るまで漸進的に減少すると示された。

［実施例２］
（反射防止コーティング用組成物の製造）
ペンタエリスリトールヘキサアクリレート（分子量２９８．３）１００重量部、フッ素系アクリレート（製品名：オプツールＡＲ１１０、製造社：ダイキン工業株式会社、固形分含量１５重量％、メチルイソブチルケトン溶媒）１１．３３重量部、及びウレタン官能基を有するアクリレート（製造社：共栄社化学株式会社、製品名：ＵＡ−３０６Ｔ、分子量１０００）１１．３３重量部を含む（メタ）アクリレート系化合物１００重量部に対して；
シリカ微粒子が分散したシリカゾル（分散媒：メチルイソブチルケトン及びメチルアルコール、固形分含量４０重量％、シリカ微粒子の数平均粒径：１０ｎｍ、製造社：Ｇａｅｍａｔｅｃｈ、製品名：Ｐｕｒｉｓｏｌ）約１５．８７重量部；
中空シリカが分散したコロイド溶液（分散媒：メチルイソブチルケトン、固形分含量２０重量％、中空シリカの数平均粒径：５０ｎｍ、製造社：触媒化成工業、製品名：ＭＩＢＫ−ｓｏｌ）約１１．３３重量部；
光重合開始剤約１０．８５重量部（具体的に、ダロキュア−１１７３約１．１１重量部、イルガキュア−１８４約６．４８重量部、イルガキュア−８１９約２．１５重量部及びイルガキュア−９０７約１．１１重量部）；及び
溶媒約２５１．８５重量部（具体的に、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）約１７９．６３重量部、エタノール約２４．０７重量部、ｎ−ブチルアルコール約２４．０７重量部及びアセチルアセトン約２４．０７重量部）を混合して反射防止コーティング用組成物を製造した。

（反射防止フィルムの製造）
前記反射防止コーティング用組成物を使用したことを除いて、実施例１と同一な条件及び方法で反射防止フィルムを製造した。

前記反射防止フィルムの断面写真を図５の（ａ）に、その一部分を拡大観察した写真を図５の（ｂ）に示した。実施例２による反射防止フィルムは、基材１に浸潤して硬化されたバインダと、前記バインダ内に無機微粒子が分散したハードコート層２（約２．８μｍ）；及び前記ハードコート層２上に硬化されたバインダと、前記バインダ内に中空粒子層４が形成された低屈折率層３（約０．１４５μｍ）を含むと確認された。

また、前記ハードコート層２と低屈折率層３の間に別途の層は観察されず、低屈折率層３の任意の断面面積に対する中空粒子の断面面積比率が約９０％になり低屈折率層３内に中空粒子が非常に稠密に分布するのが確認された。そして、前記低屈折率層３内には互いに隣接した２乃至４層の中空粒子層４が形成されているのが確認され、このような中空粒子層と離隔している中空粒子の個数は全体中空粒子個数の約４％に過ぎないのが確認された。

特に、実施例２による反射防止フィルムは低屈折率層にフッ素系アクリレートが含まれることによって組成物の相分離がより円滑に起こり耐スクラッチ性も向上するのを確認した。

そして、実施例２のフィルムに対するＦＴ−ＩＲ分析グラフであって、１１００±５０ｃｍ^-1で観察されるピークの相対強度をフィルム表面から深さによって測定し（下記実験例参照）、そのデータを下記表１に示した。下記表１から分かるように、表面でのピーク相対強度（Ｉ₀＝約２．６４１）は、表面から４２０ｎｍの深さのピーク相対強度（Ｉ₄₂₀＝約０．３５４）に比べて約７．５倍強いと示され、上記式１の関係を充足することを確認した。また、表面でのピーク相対強度（Ｉ₀＝約２．６４１）は、表面から１４０ｎｍの深さのピーク相対強度（Ｉ₁₄₀＝約１．１７８）に比べて約２．２倍強いと示され、上記式２の関係も充足することを確認した。そして、前記ピーク相対強度は表面から４２０ｎｍの深さに至るまで漸進的に減少すると示された。

［実施例３］
（反射防止コーティング用組成物の製造）
ペンタエリスリトールヘキサアクリレート（分子量２９８．３）１００重量部及びウレタン官能基を有するアクリレート（製造社：共栄社化学株式会社、製品名：５１０Ｈ、分子量２０００）１１．３３重量部を含む（メタ）アクリレート系化合物１００重量部に対して；
シリカ微粒子が分散したシリカゾル（分散媒：メチルイソブチルケトン及びメチルアルコール、固形分含量４０重量％、シリカ微粒子の数平均粒径：１０ｎｍ、製造社：Ｇａｅｍａｔｅｃｈ、製品名：Ｐｕｒｉｓｏｌ）約１５．８７重量部；
中空シリカが分散したコロイド溶液（分散媒：メチルイソブチルケトン、固形分含量２０重量％、中空シリカの数平均粒径：５０ｎｍ、製造社：触媒化成工業、製品名：ＭＩＢＫ−ｓｏｌ）約１１．３３重量部；
光重合開始剤約１０．８５重量部（具体的に、ダロキュア−１１７３約１．１１重量部、イルガキュア−１８４約６．４８重量部、イルガキュア−８１９約２．１５重量部及びイルガキュア−９０７約１．１１重量部）；及び
溶媒約２５１．８５重量部（具体的に、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）約１７９．６３重量部、エタノール約２４．０７重量部、ｎ−ブチルアルコール約２４．０７重量部及びアセチルアセトン約２４．０７重量部）を混合して反射防止コーティング用組成物を製造した。

（反射防止フィルムの製造）
前記反射防止コーティング用組成物をトリアセテートセルロースフィルム（厚さ８０μｍ）にワイヤーバー（９号）を用いてコーティングした。これを９０℃オーブンで１分間乾燥した後、ここに２００ｍＪ／ｃｍ²のＵＶエネルギーを５秒間照射して組成物を硬化させた。

これによって、基材内に浸潤して形成されたハードコート層を含み、前記ハードコート層を覆っている低屈折率層を含む反射防止フィルムを収得した。

前記反射防止フィルムの断面写真をＳＥＭで確認した。確認結果、実施例３による反射防止フィルムは、基材に浸潤して硬化されたバインダと、前記バインダ内に無機微粒子が分散したハードコート層（約３．１μｍ）；及び前記ハードコート層上に硬化されたバインダと、前記バインダ内に中空粒子が分散した低屈折率層（約０．１６μｍ）を含むと確認された。

また、前記ハードコート層と低屈折率層の間に別途の層は観察されず、低屈折率層の任意の断面面積に対する中空粒子の断面面積比率が約９０％になり低屈折率層内に中空粒子が非常に稠密に分布するのが確認された。そして、前記低屈折率層３内には互いに隣接した３乃至５層の中空粒子層が形成されているのが確認され、このような中空粒子層と離隔している中空粒子の個数は全体中空粒子個数の約５％に過ぎないのが確認された。

そして、実施例３のフィルムに対するＦＴ−ＩＲ分析グラフであって、１１００±５０ｃｍ^-1で観察されるピークの相対強度をフィルム表面から深さによって測定し（下記実験例参照）、そのデータを下記表１に示した。下記表１から分かるように、表面でのピーク相対強度（Ｉ₀＝約２．５８７）は、表面から４２０ｎｍの深さのピーク相対強度（Ｉ₄₂₀＝約０．３７５）に比べて約６．９倍強いと示され、上記式１の関係を充足することを確認した。また、表面でのピーク相対強度（Ｉ₀＝約２．５８７）は、表面から１４０ｎｍの深さのピーク相対強度（Ｉ₁₄₀＝約１．１５６）に比べて約２．２倍強いと示され、上記式２の関係も充足することを確認した。そして、前記ピーク相対強度は表面から４２０ｎｍの深さに至るまで漸進的に減少すると示された。

［実施例４］
（反射防止コーティング用組成物の製造）
ペンタエリスリトールヘキサアクリレート（分子量２９８．３）１００重量部及びエステル官能基を有するアクリレート（製造社：ＳＫサイテック、製品名：ＤＰＨＡ、分子量５２４）１１．３３重量部を含む（メタ）アクリレート系化合物１００重量部に対して；
シリカ微粒子が分散したシリカゾル（分散媒：メチルイソブチルケトン及びメチルアルコール、固形分含量４０重量％、シリカ微粒子の数平均粒径：１０ｎｍ、製造社：Ｇａｅｍａｔｅｃｈ、製品名：Ｐｕｒｉｓｏｌ）約１５．８７重量部；
中空シリカが分散したコロイド溶液（分散媒：メチルイソブチルケトン、固形分含量２０重量％、中空シリカの数平均粒径：５０ｎｍ、製造社：触媒化成工業、製品名：ＭＩＢＫ−ｓｏｌ）約１１．３３重量部；
光重合開始剤約１０．８５重量部（具体的に、ダロキュア−１１７３約１．１１重量部、イルガキュア−１８４約６．４８重量部、イルガキュア−８１９約２．１５重量部及びイルガキュア−９０７約１．１１重量部）；及び
溶媒約２５１．８５重量部（具体的に、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）約１７９．６３重量部、エタノール約２４．０７重量部、ｎ−ブチルアルコール約２４．０７重量部及びアセチルアセトン約２４．０７重量部）を混合して反射防止コーティング用組成物を製造した。

（反射防止フィルムの製造）
前記反射防止コーティング用組成物をトリアセテートセルロースフィルム（厚さ８０μｍ）にワイヤーバー（９号）を用いてコーティングした。これを９０℃オーブンで１分間乾燥した後、ここに２００ｍＪ／ｃｍ²のＵＶエネルギーを５秒間照射して組成物を硬化させた。

これによって、基材内に浸潤して形成されたハードコート層を含み、前記ハードコート層を覆っている低屈折率層を含む反射防止フィルムを収得した。

そして、前記反射防止フィルムの断面写真を図６の（ａ）に、その一部分を拡大観察した写真を図６の（ｂ）に示した。図６から分かるように、実施例４による反射防止フィルムは、基材１に浸潤して硬化されたバインダと、前記バインダ内に無機微粒子が分散したハードコート層２（約２．７８μｍ）；及び前記ハードコート層２上に硬化されたバインダと、前記バインダ内に中空粒子層４が形成された低屈折率層３（約０．１８μｍ）を含むと確認された。

また、前記ハードコート層２と低屈折率層３の間に別途の層は観察されず、低屈折率層３の任意の断面面積に対する中空粒子の断面面積比率が約９０％になり低屈折率層３内に中空粒子が非常に稠密に分布するのが確認された。そして、前記低屈折率層３内には互いに隣接した３乃至５層の中空粒子層４が形成されているのが確認され、このような中空粒子層と離隔している中空粒子の個数は全体中空粒子個数の約３％に過ぎないのが確認された。

そして、実施例４のフィルムに対するＦＴ−ＩＲ分析グラフであって、１１００±５０ｃｍ^-1で観察されるピークの相対強度をフィルム表面から深さによって測定し（下記実験例参照）、そのデータを下記表１に示した。下記表１から分かるように、表面でのピーク相対強度（Ｉ₀＝約２．６３１）は、表面から４２０ｎｍの深さのピーク相対強度（Ｉ₄₂₀＝約０．３８７）に比べて約６．８倍強いと示され、上記式１の関係を充足することを確認した。また、表面でのピーク相対強度（Ｉ₀＝約２．６３１）は、表面から１４０ｎｍの深さのピーク相対強度（Ｉ₁₄₀＝約１．１６３）に比べて約２．３倍強いと示され、上記式２の関係も充足することを確認した。そして、前記ピーク相対強度は表面から４２０ｎｍの深さに至るまで漸進的に減少すると示された。

［比較例１］
（反射防止コーティング用組成物の製造）
ペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＰＥＴＡ）１００重量部に対して；
シリカ微粒子が分散したシリカゾル（分散媒：メチルイソブチルケトン及びメチルアルコール、固形分含量４０重量％、数平均粒径：１０ｎｍ、製造社：Ｇａｅｍａｔｅｃｈ、製品名：Ｐｕｒｉｓｏｌ）１５．８７重量部；
中空シリカが分散したコロイド溶液（分散媒：メチルイソブチルケトン、固形分含量２０重量％、中空シリカの数平均粒径：５０ｎｍ、製造社：触媒化成工業、製品名：ＭＩＢＫ−ｓｏｌ）約１１．３３重量部；
光重合開始剤約１０．８５重量部（具体的に、ダロキュア−１１７３約１．１１重量部、イルガキュア−１８４約６．４８重量部、イルガキュア−８１９約２．１５重量部及びイルガキュア−９０７約１．１１重量部）；及び
溶媒約２５１．８５重量部（具体的に、メチルイソブチルケトン約１２５．９１重量部、エタノール約４１．９８重量部、ｎ−ブチルアルコール約４１．９８重量部及びアセチルアセトン約４１．９８重量部）を混合して反射防止コーティング用組成物を製造した。

（反射防止フィルムの製造）
前記反射防止コーティング用組成物を使用したことを除いて、実施例１と同一な条件及び方法で反射防止フィルムを製造した。そして、前記反射防止フィルムの断面写真を図７の（ａ）に、その一部分を拡大観察した写真を図７の（ｂ）に示した。

図７から分かるように、比較例１による反射防止フィルムは組成物の相分離がろくに起こらず（図７（ａ）のサークルの部分参照）、特に低屈折率層内の中空粒子４が過度に拡散して含まれることによって（図７（ｂ）のサークルの部分参照）、フィルムの外形が不透明であり、耐擦傷性及び反射防止効果も落ちると確認された（実験例参照）。このような比較例１の反射防止フィルムで、中空粒子が分布する全体面積で任意の断面面積に対する中空粒子の断面面積比率は約３０〜６０％であると確認された。特に、比較例１の反射防止フィルムでは中空粒子４が拡散して中空粒子層をろくに形成していないのが確認され、一部の中空粒子列さえ互いに隣接して稠密に形成されず散開して形成されているのが確認された。

そして、比較例１のフィルムに対するＦＴ−ＩＲ分析グラフであって、１１００±５０ｃｍ^-1で観察されるピークの相対強度をフィルム表面から深さによって測定し（下記実験例参照）、そのデータを下記表１に示した。下記表１から分かるように、表面でのピーク相対強度（Ｉ₀＝約２．５２７）は、表面から４２０ｎｍの深さのピーク相対強度（Ｉ₄₂₀＝約２．３０７）に比べて約１．１倍に過ぎないと示され、上記式１の関係を充足しないことを確認した。

［実験例］
前記実施例及び比較例を通じて製造した反射防止フィルムに対して次のような項目を評価し、その結果を下記表２に示した。

１）反射率測定：反射防止フィルムの裏面を黒色処理した後、最小反射率値で低反射特性を評価した。この時、測定装備としては株式会社島津製作所のＳｏｌｉｄ Ｓｐｅｃ．３７００分光光度計を用いた。

２）透過率及びヘイズ（Ｈａｚｅ）測定：村上色彩技術研究所のＨＲ−１００を用いて透過率とヘイズを評価した。

３）耐スクラッチ性評価：反射防止フィルムに５００ｇ／ｃｍ²の荷重になる鋼綿（ｓｔｅｅｌ ｗｏｏｌ）を２４ｍ／ｍｉｎの速度で１０回往復した後、表面に長さ１ｃｍ以上の傷個数を調査した。この時、フィルム表面に傷がない場合、非常に優秀（◎）、長さ１ｃｍ以上の傷個数が１つ以上５つ未満であれば優秀（○）、５つ以上１５個未満であれば普通（△）、１５個以上であれば不良（Ｘ）と評価した。

４）フィルムの断面拡大観察：透過型電子顕微鏡（Ｔｒａｎｓｍｉｓｓｉｏｎ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ、モデル名：Ｈ−７６５０、製造社：日立）を用いてマイクロトーミングによる試片の薄片製作を通じて各フィルムの断面を拡大観察した。

５）付着力評価：ニチバンテープ（Ｎｉｃｈｉｂａｎ ｔａｐｅ）を用いたクロスカットテスト（ｃｒｏｓｓ ｃｕｔ ｔｅｓｔ、ＡＳＴＭＤ−３３５９）を通じて各フィルムに対する付着力を評価した。

６）ＦＴ−ＩＲ分析：傾斜切削機で前処理（Ａｎｇｌｅ ０．８ ｄｅｇｒｅｅ）した各フィルムに対して、ＦＴ−ＩＲスペクトロスコピーを用いて１１００±５０ｃｍ^-1で観察されるピークの相対強度をフィルム表面から深さによって測定し、そのデータを表１に示した（約０．８度以内に傾斜切削、深さは角度を考慮して計算、断面積は広く試片抽出、ＩＲ分析）。

上記表２から分かるように、実施例による反射防止フィルムは比較例のフィルムに比べて反射率はさらに低いながらも、透過率はさらに高く、耐スクラッチ性が優れていた。

１：基材
２：第１層（ハードコート層）
３：第２層（低屈折率層）
４：中空粒子層
５：中空粒子層と離隔している一つ以上の中空粒子

Claims (8)

1. 分子量６００未満の（メタ）アクリレート系化合物の架橋重合体である第１（メタ）アクリレート系バインダと、前記第１（メタ）アクリレート系バインダ内の５乃至２０ｎｍの数平均粒径を有するシリカ微粒子を含み、基材内に浸潤している第１層；及び
   分子量６００未満の（メタ）アクリレート系化合物及び分子量６００乃至１００，０００の（メタ）アクリレート系化合物の架橋共重合体を含む第２（メタ）アクリレート系バインダと、前記第２（メタ）アクリレート系バインダ内の２０乃至７０ｎｍの数平均粒径を有する中空シリカ粒子を含み、前記第１層を覆っている第２層を含み、
   前記第１層及び前記第２層内の官能基分布をＦＴ−ＩＲスペクトルで分析した時、１１００±５０ｃｍ^-1において観察されるピークの強度が下記式１の関係を充足することを特徴とする反射防止フィルム：
   上記式１中、Ｉ₀は前記第２層の表面において分析された１１００±５０ｃｍ^-1におけるピークの相対強度を示し、Ｉ₄₂₀は前記第２層の表面から４２０ｎｍの深さにおいて分析された１１００±５０ｃｍ^-1におけるピークの相対強度を示す。
2. 前記式１のＩ₀／Ｉ₄₂₀値は、５以上１０以下であることを特徴とする請求項１に記載の反射防止フィルム。
3. 前記１１００±５０ｃｍ^-1において観察されるピークの強度が、下記式２の関係を充足することを特徴とする請求項１または２に記載の反射防止フィルム：
   上記式２中、Ｉ₀は前記第２層の表面において分析された１１００±５０ｃｍ^-1におけるピークの相対強度を示し、Ｉ₁₄₀は前記第２層の表面から１４０ｎｍの深さにおいて分析された１１００±５０ｃｍ^-1におけるピークの相対強度を示す。
4. １１００±５０ｃｍ^-1において観察されるピークの強度が、前記第２層の表面から４２０ｎｍの深さに至るまで漸進的に減少することを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
5. 前記第２層は、１０乃至３００ｎｍの厚さを有することを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
6. 前記第２層は、連続的に連結された中空シリカ粒子を含む中空粒子層を含むことを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
7. 前記第２層は、前記中空粒子層を２乃至５層含み、各中空粒子層は互いに隣接していることを特徴とする請求項６に記載の反射防止フィルム。
8. 前記第２層は、無機微粒子をさらに含むことを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。