WO2009081596A1 - 反射防止フィルム - Google Patents

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WO2009081596A1
WO2009081596A1 PCT/JP2008/050082 JP2008050082W WO2009081596A1 WO 2009081596 A1 WO2009081596 A1 WO 2009081596A1 JP 2008050082 W JP2008050082 W JP 2008050082W WO 2009081596 A1 WO2009081596 A1 WO 2009081596A1
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WO
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refractive index
layer
low refractive
antireflection film
film
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PCT/JP2008/050082
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French (fr)
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Eiichi Higashikawa
Toshiaki Yoshihara
Koichi Ohata
Original Assignee
Toppan Printing Co., Ltd.
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Publication date
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    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
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    • G02F2202/00—Materials and properties
    • G02F2202/22—Antistatic materials or arrangements

Definitions

  • the present invention relates to an antireflection film provided for the purpose of preventing external light from being reflected on the surface of a window or display.
  • the present invention relates to an antireflection film provided on the surface of a display such as a liquid crystal display (LCD), a CRT display, an organic electroluminescence display (ELD), a plasma display (PDP), a surface electric field display (SED), or a field emission display (FED).
  • a display such as a liquid crystal display (LCD), a CRT display, an organic electroluminescence display (ELD), a plasma display (PDP), a surface electric field display (SED), or a field emission display (FED).
  • LCD liquid crystal display
  • CTR display organic electroluminescence display
  • PDP plasma display
  • SED surface electric field display
  • FED field emission display
  • it relates to an antireflection film provided on the surface of a liquid crystal display (LCD).
  • the display is used in an environment where external light or the like enters regardless of whether it is used indoors or outdoors. Incident light such as external light is specularly reflected on the display surface and the like, and the reflected image thereby mixes with the display image, thereby degrading the screen display quality. For this reason, it is essential to provide an antireflection function on the display surface or the like, and there is a demand for higher performance of the antireflection function and a combination of functions other than the antireflection function.
  • the antireflection function can be obtained by forming a multi-layered antireflection layer having a repeating structure of a high refractive index layer and a low refractive index layer made of a transparent material such as a metal oxide on a transparent substrate.
  • These antireflection layers having a multilayer structure can be formed by a dry film forming method such as a chemical vapor deposition (CVD) method or a physical vapor deposition (PVD) method.
  • CVD chemical vapor deposition
  • PVD physical vapor deposition
  • these antireflection layers are provided on a film transparent substrate, the surface thereof is relatively flexible, so in order to impart surface hardness, a polymer of an acrylic polyfunctional compound is generally used.
  • a method of providing a hard coat layer to be formed and forming an antireflection layer thereon is used.
  • This hard coat layer has high surface hardness, gloss, transparency, and scratch resistance due to the characteristics of acrylic resin, but it is easily charged due to its high insulation properties, and dust on the product surface provided with the hard coat layer. There are problems such as contamination due to adhesion and troubles caused by charging in the display manufacturing process.
  • the method of adding a conductive substance to the hard coat layer it is necessary to add a large amount of a conductive substance in order to develop good conductivity. As a result, the material cost is improved and the strength of the hard coat layer is reduced. Such a problem may occur.
  • a generally high antistatic layer has to be laminated between the layers, resulting in occurrence of color and color unevenness.
  • the antireflection film reflects the variation in the thickness of the antistatic layer and the low refractive index layer to be formed. Color unevenness is confirmed.
  • an antireflection film comprising a hard coat layer, an antistatic layer, and a low refractive index layer in this order on a transparent substrate, has an excellent antistatic function, antireflection function, and reflected light. It is an object of the present invention to provide an antireflection film that reduces the color tone and suppresses color unevenness.
  • the invention according to claim 1 includes, on at least one surface of a transparent base material, in order from the transparent base material side, a hard coat layer, a binder matrix and an antistatic layer comprising conductive particles, a binder An antireflection film comprising a low refractive index layer comprising a matrix and low refractive particles, wherein a visual average reflectance on the surface of the antireflective film on the low refractive index layer side is 0.5% to 1.5% And the spectral reflectance curve in the wavelength range of 400 nm to 700 nm on the surface of the antireflective film on the low refractive index layer side does not have a maximum value but one minimum value, and the low The difference between the maximum value and the minimum value of the spectral reflectance in the wavelength range of 400 nm to 700 nm on the surface of the antireflection film on the refractive index layer side is in the range of 0.2% to 0.9%. That was the anti-reflection film.
  • the difference between the refractive index of the hard coat layer and the refractive index of the transparent substrate is within a range of 0.05 or less of the refractive index of the transparent substrate, and
  • the refractive index difference between the refractive index of the antistatic layer and the refractive index of the hard coat layer is in the range of 0.01 to 0.05, and the optical film thickness of the antistatic layer is 230 nm to 270 nm.
  • the optical film thickness of the low refractive index layer is 115 nm or more and 135 nm or less.
  • the reflection hue in the L * a * b * chromaticity system on the surface of the antireflection film on the low refractive index layer side is 0.00 ⁇ a * ⁇ 3.00 and ⁇ 3
  • the invention according to claim 4 is characterized in that the conductive particles used in the antistatic layer are electron conductive type conductive particles. A film was obtained.
  • the invention according to claim 5 is characterized in that the binder matrix in the antistatic layer and the binder matrix in the low refractive index layer are silica matrices. It was a prevention film.
  • a polarizing layer As invention which concerns on Claim 6, as for the surface of the transparent base film opposite to the side in which the low refractive index layer of the antireflection film in any one of Claims 1 thru
  • a polarizing layer on the surface of the transparent base film opposite to the side where the low refractive index layer of the antireflection film according to any one of claims 1 to 5 is provided A transmissive liquid crystal display comprising a polarizing plate, a liquid crystal cell, a polarizing plate, and a backlight unit provided with a transparent substrate film in this order was obtained.
  • the antireflection film having the above-described configuration it was possible to obtain an antireflection film having an excellent antistatic function and antireflection function, reducing the color of reflected light, and suppressing occurrence of color unevenness. .
  • the antireflection film of the present invention will be described below.
  • FIG. 1 shows a schematic cross-sectional view of the antireflection film of the present invention.
  • the antireflection film (1) of the present invention shown in FIG. 1 comprises a hard coat layer (12), an antistatic layer (13), and a low refractive index layer (14) in this order on a transparent substrate (11).
  • the antistatic layer (13) includes conductive particles (13A) and a binder matrix (13B), and the low refractive index layer (14) includes low refractive index particles (14A) and a binder matrix (14B).
  • the antireflection film of the present invention exhibits an antireflection function due to optical interference between the low refractive index layer (14) and the antistatic layer (13). That is, the antistatic layer (13) functions as a high refractive index layer.
  • a coating liquid containing conductive particles and a binder matrix forming material is used, and the coating liquid is applied onto the hard coat layer by a wet film forming method. It is formed by doing.
  • a coating liquid containing low refractive index particles and a binder matrix forming material is used, and the coating liquid is applied on the antistatic layer by a wet film forming method. It is formed.
  • the visual average reflectance on the surface of the antireflection film on the low refractive index layer side is in the range of 0.5% to 1.5%, and the low The spectral reflectance curve in the wavelength range of 400 nm to 700 nm on the surface of the antireflective film on the refractive index layer side has one minimum value instead of having a maximum value, and the surface of the antireflective film on the low refractive index layer side
  • the difference between the maximum value and the minimum value of the spectral reflectance in the wavelength range of 400 nm to 700 nm is in the range of 0.2% to 0.9%.
  • FIG. 2 shows an explanatory view of the spectral reflectance curve (model) of the antireflection film of the present invention.
  • the spectral reflectance curve on the surface of the antireflective film on the low refractive index layer side in the present invention is obtained by applying a matte black paint on the surface of the transparent substrate on which the hard coat layer, antistatic layer, and low refractive index layer are not provided. In addition, it is measured by a spectrophotometer.
  • the spectral reflectance curve of the antireflection film of the present invention is obtained under the condition of a 2-degree visual field using a C light source as a light source, with the incident angle set to 5 degrees from the direction perpendicular to the antireflection film surface.
  • the luminous average reflectance is a reflectance value obtained by calibrating the reflectance of each wavelength of visible light with the relative luminous sensitivity and averaging it. At this time, the photopic standard relative visual sensitivity is used as the specific visual sensitivity.
  • the antireflection film of the present invention is characterized in that the average visual reflectance of the antireflection film on the low refractive index layer side is from 0.5% to 1.3%. In the case where the luminous average reflectance exceeds 1.3%, an antireflection film having an antireflection function sufficient to be provided on the display surface cannot be obtained. On the other hand, when the luminous average reflectance is less than 0.5%, the difference between the maximum value and the minimum value of the spectral reflectance in the wavelength range of 400 nm to 700 nm may be 0.9% or less. It becomes difficult.
  • the spectral reflectance curve in the wavelength range of 400 nm to 700 nm on the antireflective film surface on the low refractive index layer side does not have a maximum value but one minimum value. It is characterized by having. Further, the antireflection film of the present invention has a difference (AB) between the maximum value (A) and the minimum value (B) of the spectral reflectance in the wavelength range of 400 nm to 700 nm on the antireflection film surface on the low refractive index layer side. ) Is in the range of 0.2% to 0.9%.
  • the spectral reflectance curve of the antireflection film of the present invention is a U-shaped spectral reflectance curve between 400 nm and 700 nm, which gradually decreases as the wavelength increases and gradually increases with the minimum value as a boundary. .
  • the spectral reflectance curve in the wavelength range of 400 nm to 700 nm of the antireflection film of the present invention is U-shaped and is a very flat curve that gradually changes between the wavelength range of 400 nm and 700 nm. To do.
  • the spectral reflectance curve a U-shaped curve that changes very gently, not only the reflected hue is nearly colorless, but also an antireflection film having no color unevenness can be obtained.
  • the antistatic layer and the antireflection layer are formed by a wet film forming method using a coating liquid.
  • the thickness of the antistatic layer and antireflection layer to be formed tends to fluctuate in a small amount in the plane. Since the antireflection film exhibits an antireflection function due to optical interference between the low refractive index layer and the antistatic layer, when the film thickness of the antistatic layer or the antireflection layer varies slightly in the plane, the antireflection film It is confirmed as uneven color in the surface.
  • the antireflective film has a U-shaped spectral reflectance curve that changes very slowly, so that the formed antireflective layer and the antistatic layer have a small variation in film thickness. Color unevenness due to can be suppressed. That is, the antireflection film of the present invention includes an antistatic layer formed by a wet film formation method, an antireflection film that is less likely to be recognized as color unevenness even if minute film thickness unevenness occurs in the surface of the antireflection layer, and can do. When the amount of change in reflectance with respect to the wavelength of the spectral reflectance curve is large, the color tends to change when the spectral reflectance curve changes due to variations in the film thickness of the antistatic layer and the low refractive index layer. It becomes easy to be recognized as color unevenness.
  • the difference (AB) between the maximum value (A) and the minimum value (B) of the spectral reflectance in the wavelength range of 400 nm to 700 nm on the surface of the antireflection film on the low refractive index layer side exceeds 0.9% In that case, the spectral reflectance curve is accompanied by a steep change. Therefore, not only the reflection hue becomes large, but also color unevenness due to film thickness variation of the antistatic layer and antireflection layer is confirmed.
  • the difference (AB) between the maximum value (A) and the minimum value (B) of the spectral reflectance in the wavelength range of 400 nm to 700 nm on the antireflective film surface on the low refractive index layer side is preferably smaller.
  • An antireflection film with a difference (AB) of less than 0.5% between the maximum (A) and minimum (B) spectral reflectance is realized by optical interference between the low refractive index layer and the antistatic layer. It is difficult to do.
  • the spectral reflectance curve has one minimum value between 400 nm and 700 nm, and the maximum spectral reflectance in the wavelength range of 400 nm to 700 nm on the antireflective film surface on the low refractive index layer side.
  • the spectral reflectance curve is almost flat in the vicinity of a wavelength of 550 nm where the relative luminous efficiency is high, so that not only the reflection hue is nearly colorless but also an antireflection film having no color unevenness. can do.
  • a spectral reflectance curve near a wavelength of 550 nm with high specific visibility is as flat as possible.
  • the amount of change between the falling portion on the low wavelength side (near 400 nm to 450 nm) and the rising portion on the high wavelength side (near 600 to 700 nm) of the spectral reflectance curve is reduced.
  • the reflection hue is not nearly colorless, and an antireflection film having no color unevenness can be obtained.
  • the amount of change in the falling portion on the low wavelength side can be reduced, and not only the reflection hue is nearly colorless, but also an antireflection film having no blue color unevenness. it can.
  • the lower the luminous reflectance the higher the antireflection film can be.
  • the luminous reflectance is 0.5% to 1.3%, and the difference between the maximum value and the minimum value of the spectral reflectance is in the range of 0.2% to 0.9%. As a result, the color of the reflected light was reduced, and furthermore, the occurrence of color unevenness was successfully suppressed.
  • the difference between the refractive index of the hard coat layer and the refractive index of the transparent substrate is in the range of 0.05 or less of the refractive index of the transparent substrate, and
  • the refractive index difference between the refractive index of the antistatic layer and the refractive index of the hard coat layer is in the range of 0.01 to 0.05, and the optical film thickness of the antistatic layer is 230 nm to 270 nm.
  • the optical film thickness of the low refractive index layer is preferably 115 nm or more and 135 nm or less.
  • the refractive index difference between the transparent substrate and the hard coat layer, and the refractive index difference between the hard coat layer and the antistatic layer are within the above ranges, and the optical film thickness of the antistatic layer and the low refractive index layer
  • the spectral reflectance curve can be easily made into a U-shaped and very gentle curve, the reflection hue is almost colorless, and an antireflection film without color unevenness can be obtained.
  • the refractive indexes of the hard coat layer and the antistatic layer can be obtained by a direct measurement method such as a Becke line method or an optical thin film simulation method using a spectrophotometer or a spectroscopic ellipsometer.
  • the difference in refractive index between the transparent substrate and the hard coat layer is preferably within 0.05.
  • the refractive index difference between the refractive index of the hard coat layer and the refractive index of the transparent substrate exceeds 0.05, interference fringes are generated due to interference of light between layers.
  • the difference in refractive index between the hard coat layer and the antistatic layer is preferably 0.01 or more and 0.05 or less.
  • the difference between the maximum value and the minimum value of the spectral reflectance is 0.2% or more due to interference caused by light interference between layers. It becomes difficult to make it within the range of .9% or less.
  • the difference in refractive index between the hard coat layer and the antistatic layer is less than 0.01, the refractive index of the hard coat layer and the antistatic layer is almost the same. As a result, it becomes difficult to make the light reflectance curve a U-shaped and very gentle curve.
  • the optical film thickness of the antistatic layer is preferably 230 nm or more and 270 nm or less, and the optical film thickness of the low refractive index layer is preferably 115 nm or more and 135 nm or less.
  • the resulting spectral reflectance curve has one minimum value without transferring the maximum value, and the wavelength is It is a U-shaped curve that gradually decreases as it increases and gradually increases with the minimum value as a boundary, and can be a very flat curve.
  • the spectral reflectance curve of the antireflection film of the present invention shows that the rising curve in the short wavelength direction shows a steep tendency compared to the rising curve in the long wavelength direction with reference to the minimum value.
  • the steep rising curve in the short wavelength direction when the minimum value of the spectral reflectance curve is used as a reference causes the occurrence of color unevenness when the film thickness unevenness of the antistatic layer or antireflection layer occurs.
  • the minimum value of the spectral reflectance curve by setting the minimum value of the spectral reflectance curve to around 500 nm, the reflected hue is small, and the difference (AB) between the maximum value (A) and the minimum value (B) of the spectral reflectance is small. Of 0.9% or less, and the occurrence of color unevenness due to a steep rising curve in the short wavelength direction could be suppressed.
  • the film thickness of the low refractive index layer is ⁇ / 4 and the film thickness of the antistatic layer is ⁇ / 2 with reference to light having a wavelength ( ⁇ ) of 550 nm with high specific visibility
  • the short wavelength direction Ascending curve increases, and the reflectance at a wavelength of 400 nm increases. Therefore, it is difficult to make the difference between the maximum and minimum spectral reflectances within 0.9%, and blue color unevenness occurs due to minute film thickness variations of the low refractive index layer and antistatic layer. It becomes easy.
  • the reflection hue in the L * a * b * chromaticity system on the surface of the antireflection film on the low refractive index layer side is 0 ⁇ a * ⁇ 3 and ⁇ 3 ⁇ b * ⁇ 3. It is preferable that By making the reflection hue in the L * a * b * chromaticity system on the antireflective film surface on the low refractive index layer side within the above range, it is possible to make an antireflective film having no color, It can be used suitably.
  • the reflection hue is closer to colorless as a * and b * are closer to 0.
  • ⁇ 3 ⁇ a * ⁇ 0 is a green region with high specific visibility, and the color tends to be easily recognized by the observer. Therefore, in the antireflection film of the present invention, it is preferable that 0 ⁇ a * ⁇ 3 and ⁇ 3 ⁇ b * ⁇ 3.
  • the reflection hue of the antireflection film of the present invention is obtained by applying a matte black paint on the surface of the transparent substrate on which the hard coat layer, the antistatic layer, and the low refractive index layer are not provided. Measured by The incident angle is set to 5 degrees from the direction perpendicular to the antireflection film, and is obtained under the condition of a 2-degree visual field using a C light source as a light source.
  • the conductive particles used in the antistatic layer are electron conductive type conductive particles.
  • the conductive particles used for the antistatic layer are classified into proton conductive type conductive particles and electron conductive type conductive particles.
  • proton conductive type conductive particles are used, the desired antistatic performance may not be obtained when the antireflection film is used under low humidity.
  • electronic conductive type conductive particles good antistatic performance can be stably exhibited even under low humidity.
  • the surface resistance value of the antireflective film surface on the low refractive index layer side is preferably 1.0 ⁇ 10 10 ( ⁇ / cm 2 ) or less.
  • the surface resistance value of the antireflective film surface on the low refractive index layer side is preferably 1.0 ⁇ 10 10 ( ⁇ / cm 2 ) or less.
  • the surface resistance value of the surface of the antireflective film on the low refractive index layer side is 1.0 ⁇ 10 6 ( ⁇ / cm 2 ) or more.
  • the surface resistance value of the antireflective film surface on the low refractive index layer side is less than 1.0 ⁇ 10 6 ( ⁇ / cm 2 )
  • it is necessary to add a large amount of conductive particles in the binder matrix which is uneconomical. In other words, the strength and optical characteristics cannot be adjusted within the present invention.
  • the binder matrix in the antistatic layer and the binder matrix in the low refractive index layer are preferably a silica matrix.
  • silicon alkoxide is used as a binder matrix forming material, and a hydrolyzate of the silicon alkoxide is applied and dried.
  • a silica matrix as the binder matrix, an antireflection film having high transparency and less tint can be obtained.
  • the adhesion between the antistatic layer and the low refractive index layer can be improved.
  • FIG. 3 shows a schematic cross-sectional view of a polarizing plate using the antireflection film of the present invention.
  • the polarizing plate (2) has a structure in which a polarizing layer is sandwiched between two transparent substrates.
  • the polarizing layer (23) is provided on the opposite surface of the transparent base material (11) of the antireflection film (1) where the low refractive index layer (14) is provided.
  • the transparent base material (22) is provided in order. That is, the transparent base material (11) of the antireflection film (1) has a structure also serving as a transparent base material for sandwiching the polarizing layer.
  • FIG. 4 shows a transmissive liquid crystal display provided with the antireflection film of the present invention.
  • the transmissive liquid crystal display of FIG. 4 includes a backlight unit (5), a polarizing plate (4), a liquid crystal cell (3), and a polarizing plate (2) including an antireflection film (1) in this order.
  • the antireflection film side becomes the observation side, that is, the display surface.
  • the backlight unit includes a light source and a light diffusing plate.
  • the liquid crystal cell has a structure in which an electrode is provided on one transparent substrate, an electrode and a color filter are provided on the other transparent substrate, and liquid crystal is sealed between both electrodes.
  • the two polarizing plates are provided so as to sandwich the liquid crystal cell.
  • the transmissive liquid crystal display of the present invention may include other functional members.
  • Other functional members include, for example, a diffusion film, a prism sheet, a brightness enhancement film for effectively using light emitted from a backlight, and a phase difference film for compensating for a phase difference between a liquid crystal cell and a polarizing plate.
  • the transmissive liquid crystal display of the present invention is not limited to these.
  • films or sheets made of various organic polymers can be used as the transparent substrate in the antireflection film of the present invention.
  • a base material usually used for an optical member such as a display can be cited, considering optical properties such as transparency and refractive index of light, and further various physical properties such as impact resistance, heat resistance and durability, Polyolefins such as polyethylene and polypropylene, polyesters such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, celluloses such as triacetyl cellulose, diacetyl cellulose and cellophane, polyamides such as 6-nylon and 6,6-nylon, polymethyl methacrylate, etc.
  • ком ⁇ онентs made of an organic polymer such as acrylic, polystyrene, polyvinyl chloride, polyimide, polyvinyl alcohol, polycarbonate, and ethylene vinyl alcohol are used.
  • polyethylene terephthalate, triacetyl cellulose, polycarbonate, and polymethyl methacrylate are preferable.
  • triacetyl cellulose can be suitably used for a liquid crystal display because it has a small birefringence and good transparency.
  • the thickness of the transparent substrate is preferably in the range of 25 ⁇ m to 200 ⁇ m, and more preferably in the range of 40 ⁇ m to 80 ⁇ m.
  • the transparent substrate may be composed of one or a mixture of two or more selected from the above organic polymers, or a polymer, or may be a laminate of a plurality of layers.
  • the hard coat layer is formed by applying a coating liquid containing an electron radiation curable material on a transparent substrate, forming a coating on the transparent substrate, and drying the coating as necessary.
  • a hard coat layer can be formed by carrying out a curing reaction of the ionizing radiation curable material by irradiating with ionizing radiation such as ultraviolet rays and electron beams.
  • a coating method a coating method using a roll coater, a reverse roll coater, a gravure coater, a micro gravure coater, a knife coater, a bar coater, a wire bar coater, a die coater, or a dip coater can be used.
  • Examples of the ionizing radiation curable material for forming the hard coat layer include three or more (preferably 4 to 4) (meth) acryloyl groups such as acrylic esters, acrylamides, methacrylic esters, and methacrylamides.
  • Examples include 20 polyfunctional acrylates.
  • the polyfunctional acrylate may be a monomer or an oligomer.
  • Examples of the polyfunctional acrylate include trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, and the like.
  • a polyfunctional urethane acrylate can be suitably used because the desired molecular weight and molecular structure can be designed and the physical properties of the formed hard coat layer can be easily balanced.
  • the urethane acrylate is obtained by reacting a polyhydric alcohol, a polyvalent isocyanate, and a hydroxyl group-containing acrylate.
  • polyether resins having an acrylate functional group polyester resins, epoxy resins, alkyd resins, spiroacetal resins, polybutadiene resins, polythiol polyene resins, and the like can be used. .
  • a photopolymerization initiator is added to the hard coat layer forming coating solution.
  • Any photopolymerization initiator may be used as long as it generates radicals when irradiated with ultraviolet rays.
  • acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphine oxides, ketals, anthraquinones, thioxanthones are used. Can do.
  • the addition amount of the photopolymerization initiator is 0.1 to 10 parts by weight, preferably 1 to 7 parts by weight, more preferably 1 to 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the ionizing radiation curable material. Parts by weight.
  • Solvents include aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, cyclohexane and cyclohexylbenzene, hydrocarbons such as n-hexane, dibutyl ether, dimethoxymethane, dimethoxyethane, diethoxyethane, propylene oxide, dioxane, dioxolane, and trioxane.
  • aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, cyclohexane and cyclohexylbenzene
  • hydrocarbons such as n-hexane, dibutyl ether, dimethoxymethane, dimethoxyethane, diethoxyethane, propylene oxide, dioxane, dioxolane, and trioxane.
  • Ethers such as tetrahydrofuran, anisole and phenetole, and ketones such as methyl isobutyl ketone, methyl butyl ketone, acetone, methyl ethyl ketone, diethyl ketone, dipropyl ketone, diisobutyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, methylcyclohexanone, and methylcyclohexanone , Ethyl formate, propyl formate, n-pentyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate Esters such as acetic acid n- pentyl, and ⁇ - butyrolactone, furthermore, methyl cellosolve, cellosolve, butyl cellosolve, is suitably selected from such cellosolves such as cellosolve acetate in consideration of the coating proper and the
  • the solvent for the hard coat forming coating liquid preferably contains a solvent that dissolves the transparent substrate. Adhesion between the hard coat layer formed by including the solvent for dissolving the transparent substrate and the transparent substrate can be improved.
  • the particles added to the hard coat layer preferably have translucency.
  • the particles include acrylic particles, PMMA particles, acrylic styrene particles, PMMA styrene particles, polystyrene particles, polycarbonate particles, melamine particles, epoxy particles, polyurethane particles, nylon particles, polyethylene particles, polypropylene particles, silicone particles, Polytetrafluoroethylene particles, polyvinylidene fluoride particles, polyvinyl chloride particles, polyvinylidene chloride particles, glass particles, silica particles, and the like can be used. A plurality of kinds of particles can be used.
  • particles having an average particle size of 100 nm or less may be added to the hard coat layer forming coating solution.
  • additives may be added to the hard coat layer forming coating solution.
  • examples of the additive include, but are not limited to, an antifoaming agent, a leveling agent, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, and a polymerization inhibitor.
  • thermoplastic resin may be added to the coating liquid for the purpose of preventing curling of the antireflection film provided with the hard coat layer after formation.
  • the hard coat layer is formed.
  • surface treatment such as acid treatment, alkali treatment, corona treatment method, atmospheric pressure glow discharge plasma method is performed before forming the antistatic layer. Also good. By performing these surface treatments, the adhesion between the hard coat layer and the lower refractive index layer lower layer or the high refractive index layer can be further improved.
  • a metal alkoxide such as silicon alkoxide is used as a binder matrix forming material on the hard coat layer and an antistatic layer is formed
  • the adhesion between the hard coat layer and the antistatic layer can be improved, and the scratch resistance of the antireflection film can be further improved.
  • the antistatic layer of the present invention can be formed by applying a coating liquid containing conductive highly refractive particles and a binder matrix forming material and forming a coating film on a transparent substrate.
  • a coating method a coating method using a roll coater, a reverse roll coater, a gravure coater, a micro gravure coater, a knife coater, a bar coater, a wire bar coater, a die coater, or a dip coater can be used.
  • conductive particles examples include indium oxide, tin oxide, indium oxide-tin oxide (ITO), zinc oxide, zinc oxide-aluminum oxide (AZO), zinc oxide-gallium oxide (GZO), indium oxide-cerium oxide, and antimony oxide. Further, conductive metal oxide particles such as antimony oxide-tin oxide (ATO) and tungsten oxide can be used.
  • electronic conductivity such as indium oxide, tin oxide, indium oxide-tin oxide (ITO), zinc oxide, zinc oxide-aluminum oxide (AZO), zinc oxide-gallium oxide (GZO), and indium oxide-cerium oxide. Particles can be suitably used.
  • the conductive particles used in the antistatic layer of the present invention preferably have a particle size of 1 nm to 100 nm.
  • the particle diameter exceeds 100 nm, light is remarkably reflected by Rayleigh scattering, and the conductive layer tends to be white and the transparency of the antireflection film tends to decrease.
  • the particle size is less than 1 nm, there may be problems such as a decrease in conductivity and non-uniformity of particles in the conductive layer due to particle aggregation.
  • a hydrolyzate of silicon alkoxide can be used as the binder matrix forming material.
  • a decomposition product can be used.
  • Examples of the silicon alkoxide represented by the general formula (1) include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetra-iso-propoxysilane, tetra-n-propoxysilane, tetra-n-butoxysilane, and tetra-sec-butoxy.
  • the hydrolyzate of silicon alkoxide may be obtained by using a metal alkoxid
  • R x Si (OR ′) 4-x (wherein R represents an alkyl group and x is an integer satisfying 0 ⁇ x ⁇ 3)
  • R ′′ y Si (OR ′) 4-y (where R ′′ represents a reactive functional group and y is an integer satisfying 1 ⁇ y ⁇ 3).
  • R ′′ represents a reactive functional group and y is an integer satisfying 1 ⁇ y ⁇ 3.
  • the indicated silicon alkoxide hydrolyzate can be added.
  • an epoxy group or a glycidoxy group can be preferably used as the reactive functional group used for R ′′.
  • the ratio of the silicon alkoxide represented by the general formula (2) is preferably 0.5 mol% or more and 30 mol% or less, and more preferably 4 mol% or more and 12 mol% or less with respect to the total silicon alkoxide. Weather resistance can be improved by using the silicon alkoxide represented by the general formula (2) containing a reactive functional group.
  • an ionizing radiation curable material can be used as the binder matrix forming material.
  • a polyfunctional acrylate such as a polyfunctional urethane acrylate can be used as the ionizing radiation curable material.
  • polyether resins having an acrylate functional group polyester resins, epoxy resins, alkyd resins, spiroacetal resins, polybutadiene resins, polythiol polyene resins, and the like can be used. .
  • a coating liquid containing a hydrolyzate of silicon alkoxide and conductive particles is applied to form a coating film on a transparent substrate, and the coating film
  • a dehydration condensation reaction of silicon alkoxide can be performed to form a binder matrix, and a high refractive index layer can be formed.
  • a coating liquid containing an ionizing radiation curable material and conductive particles is applied to form a coating film on a transparent substrate.
  • a binder matrix can be formed by carrying out a curing reaction of the ionizing radiation curable material by irradiating with ionizing radiation such as ultraviolet rays and electron beams. Can be formed.
  • Solvents include aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, cyclohexane and cyclohexylbenzene, hydrocarbons such as n-hexane, dibutyl ether, dimethoxymethane, dimethoxyethane, diethoxyethane, propylene oxide, dioxane, dioxolane, and trioxane.
  • aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, cyclohexane and cyclohexylbenzene
  • hydrocarbons such as n-hexane, dibutyl ether, dimethoxymethane, dimethoxyethane, diethoxyethane, propylene oxide, dioxane, dioxolane, and trioxane.
  • Ethers such as tetrahydrofuran, anisole and phenetole, and ketones such as methyl isobutyl ketone, methyl butyl ketone, acetone, methyl ethyl ketone, diethyl ketone, dipropyl ketone, diisobutyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, methylcyclohexanone, and methylcyclohexanone , Ethyl formate, propyl formate, n-pentyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate , Esters such as n-pentyl acetate and ⁇ -ptyrolactone, cellosolves such as methyl cellosolve, cellosolve, butyl cellosolve, cellosolve acetate, alcohols such as methanol, ethanol, isopropyl
  • a surface adjusting agent, an antistatic agent, an antifouling agent, a water repellent, a refractive index adjusting agent, an adhesion improver, a curing agent, and the like can be added to the coating liquid as additives.
  • the low refractive index layer of the present invention can be formed by a wet film forming method, and can be formed by applying a coating liquid containing low refractive index particles and a binder matrix forming material.
  • a coating method a coating method using a roll coater, a reverse roll coater, a gravure coater, a micro gravure coater, a knife coater, a bar coater, a wire bar coater, a die coater, or a dip coater can be used.
  • the low-refractive particles are made of a low-refractive material such as LiF, MgF, 3NaF.AlF or AlF (all having a refractive index of 1.4), or Na 3 AlF 6 (cryolite, having a refractive index of 1.33).
  • Low refractive index particles can be used.
  • grain can be used suitably.
  • the voids can be made to have a refractive index of air ( ⁇ 1), so that they can be low refractive index particles having a very low refractive index.
  • low refractive index silica particles having voids inside can be used.
  • the low refractive index particles used in the low refractive index layer of the present invention preferably have a particle size of 1 nm to 100 nm.
  • the particle diameter exceeds 100 nm, light is remarkably reflected by Rayleigh scattering, and the low refractive index layer tends to be whitened and the transparency of the antireflection film tends to be lowered.
  • the particle size is less than 1 nm, problems such as non-uniformity of particles in the low refractive index layer due to aggregation of particles occur.
  • a hydrolyzate of silicon alkoxide can be used. Furthermore, hydrolysis of a silicon alkoxide represented by the general formula (1) R x Si (OR) 4-x (wherein R represents an alkyl group and x is an integer satisfying 0 ⁇ x ⁇ 3) Can be used.
  • Examples of the silicon alkoxide represented by the general formula (1) include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetra-iso-propoxysilane, tetra-n-propoxysilane, tetra-n-butoxysilane, and tetra-sec-butoxy.
  • the hydrolyzate of silicon alkoxide may be obtained by using a metal alkoxide
  • the silicon alkoxide represented by the general formula (1) may be replaced with the general formula (2) R ′ z Si (OR) 4-z (where R ′ Is a non-reactive functional group having an alkyl group, a fluoroalkyl group or a fluoroalkylene oxide group, and z is an integer satisfying 1 ⁇ z ⁇ 3).
  • R ′ Is a non-reactive functional group having an alkyl group, a fluoroalkyl group or a fluoroalkylene oxide group, and z is an integer satisfying 1 ⁇ z ⁇ 3).
  • Antifouling property can be imparted to the surface of the low refractive index layer of the antireflection film, and the refractive index of the low refractive index layer can be further reduced.
  • Examples of the silicon alkoxide represented by the general formula (2) include octadecyltrimethoxysilane, 1H, 1H, 2H, 2H-perfluorooctyltrimethoxysilane, and the like.
  • An ionizing radiation curable material can also be used as the binder matrix forming material.
  • a polyfunctional acrylate such as a polyfunctional urethane acrylate can be used as the ionizing radiation curable material.
  • polyether resins having an acrylate functional group polyester resins, epoxy resins, alkyd resins, spiroacetal resins, polybutadiene resins, polythiol polyene resins, and the like can be used. .
  • a coating liquid containing a hydrolyzate of silicon alkoxide and low refractive index particles is applied to form a coating film on a transparent substrate, and the coating is performed.
  • the film can be dried and heated, and a dehydration condensation reaction of silicon alkoxide can be performed to form a binder matrix, thereby forming a low refractive index layer lower layer.
  • a coating liquid containing the ionizing radiation curable material and low refractive index particles is applied to form a coating film on the transparent substrate, and the coating is performed.
  • the film can be dried as necessary, and then irradiated with ionizing radiation such as ultraviolet rays and electron beams to form a binder matrix by curing the ionizing radiation curable material.
  • a lower layer can be formed.
  • Solvents include aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, cyclohexane and cyclohexylbenzene, hydrocarbons such as n-hexane, dibutyl ether, dimethoxymethane, dimethoxyethane, diethoxyethane, propylene oxide, dioxane, dioxolane, and trioxane.
  • aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, cyclohexane and cyclohexylbenzene
  • hydrocarbons such as n-hexane, dibutyl ether, dimethoxymethane, dimethoxyethane, diethoxyethane, propylene oxide, dioxane, dioxolane, and trioxane.
  • Ethers such as tetrahydrofuran, anisole and phenetole, and ketones such as methyl isobutyl ketone, methyl butyl ketone, acetone, methyl ethyl ketone, diethyl ketone, dipropyl ketone, diisobutyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, methylcyclohexanone, and methylcyclohexanone , Ethyl formate, propyl formate, n-pentyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate , Esters such as n-pentyl acetate and ⁇ -ptyrolactone, cellosolves such as methyl cellosolve, cellosolve, butyl cellosolve, cellosolve acetate, alcohols such as methanol, ethanol, isopropyl
  • a surface adjusting agent, a leveling agent, a refractive index adjusting agent, an adhesion improver, a photosensitizer, etc. can be added to the coating liquid as additives.
  • a photopolymerization initiator is added to the coating liquid.
  • the photopolymerization initiator include acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphine oxides, ketals, anthraquinones, thioxanthones, and the like.
  • the low refractive index layer is formed.
  • the antireflection film of the present invention is formed.
  • the antireflection film of this invention can be set as a polarizing plate by providing a polarizing layer and a transparent base material in the surface at the side of the transparent base material opposite the side in which the antireflection layer is formed.
  • a polarizing layer for example, stretched polyvinyl alcohol (PVA) to which iodine is added can be used.
  • PVA stretched polyvinyl alcohol
  • the transparent base material used for an antireflection film can be used, and the film which consists of a triacetyl cellulose can be used conveniently.
  • the antireflection film of the present invention is formed into a polarizing plate, and is further provided so that the antireflection layer is the outermost surface on the front side of the transmissive liquid crystal display, that is, the observation side.
  • Example 1 ⁇ Transparent substrate> As the transparent substrate, a triacetyl cellulose film (refractive index 1.49) having a thickness of 80 ⁇ m was used.
  • ⁇ Formation of hard coat layer 10 parts by weight of dipentaerythritol triacrylate, 10 parts by weight of pentaerythritol tetraacrylate, 30 parts by weight of urethane acrylate (UA-306T manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) as an ionizing radiation curable material, and Irgacure 184 (Ciba Japan Co., Ltd.) as a photopolymerization initiator
  • a hard coat layer forming coating solution prepared by mixing 2.5 parts by weight of a company (photopolymerization initiator), 50 parts by weight of methyl ethyl ketone and 50 parts by weight of butyl acetate as a solvent was obtained.
  • the triacetyl cellulose film coated with the coating solution for forming the hard coat layer was dried in an oven at 80 ° C. for 1 minute, and after drying, a metal hydride lamp was used. 1 from a distance of 20 cm in output Seconds UV irradiation to form a hard coat layer by performing. Thickness of the obtained hard coat layer is 5 [mu] m, the refractive index was 1.52.
  • Tetraethoxysilane was used as a raw material as an organosilicon compound, and isopropyl alcohol and 0.1N hydrochloric acid were added thereto and hydrolyzed to obtain a solution containing a tetraethoxysilane polymer composed of an oligomer.
  • Antimony-doped tin oxide (ATO) fine particles having a primary particle diameter of 8 nm are mixed with this solution, isopropyl alcohol is added, 2.5 parts by weight of a tetraethoxysilane polymer, and antimony-doped tin oxide fine particles in 100 parts by weight of the coating solution.
  • a coating solution for forming an antistatic layer containing 2.5 parts by weight was obtained.
  • the triacetylcellulose film with the hard coat layer formed thereon was immersed in a 1.5N-NaOH aqueous solution at 50 ° C. for 2 minutes for alkali treatment, washed with water, and then added to a 0.5 wt% H 2 SO 4 aqueous solution at room temperature. For 30 seconds, neutralized, washed with water and dried.
  • the obtained coating solution for forming an antistatic layer was applied to a wire bar coater on an alkali-treated hard coat layer, and heated and dried in an oven at 120 ° C. for 1 minute to form an antistatic layer.
  • the film thickness of the obtained antistatic layer was 163 nm, the refractive index was 1.53, and the optical film thickness was 250 nm.
  • ⁇ Formation of low refractive index layer> A mixture of tetraethoxysilane and 1H, 1H, 2H, 2H-perfluorooctyltrimethoxysilane in a molar ratio of 95: 5 is used as the organosilicon compound, and isopropyl alcohol and 0.1N hydrochloric acid are added thereto. By hydrolyzing, a solution containing a polymer of an organosilicon compound composed of an oligomer was obtained.
  • Low refractive index silica fine particles having voids are mixed in this solution, isopropyl alcohol is added, and a low refractive index layer is formed containing 2 parts by weight of an organosilicon compound and 2 parts by weight of low refractive index silica fine particles in 100 parts by weight of the coating liquid.
  • a coating solution was obtained.
  • the obtained coating solution for forming a low refractive index layer was applied on a wire bar coater on the antistatic layer, followed by heating and drying in an oven at 120 ° C. for 1 minute to form a low refractive index layer.
  • the film thickness of the obtained low refractive index layer was 91 nm, the refractive index was 1.37, and the optical film thickness was 125 nm.
  • an antireflection film comprising a hard coat layer, an antistatic layer and a low refractive index layer on a transparent substrate was produced.
  • Example 2 ⁇ Formation of transparent substrate and hard coat layer>
  • a hard coat layer having a film thickness of 5 ⁇ m and a refractive index of 1.52 was formed on a triacetylcellulose film (refractive index of 1.49) having a thickness of 80 ⁇ m.
  • ⁇ Formation of low refractive index layer> A mixture of tetraethoxysilane and 1H, 1H, 2H, 2H-perfluorooctyltrimethoxysilane in a molar ratio of 95: 5 is used as the organosilicon compound, and isopropyl alcohol and 0.1N hydrochloric acid are added thereto. By hydrolyzing, a solution containing a polymer of an organosilicon compound composed of an oligomer was obtained.
  • Low refractive index silica fine particles having voids inside are mixed into this solution, isopropyl alcohol is added, and low weight containing 1.8 parts by weight of organosilicon compound and 2.2 parts by weight of low refractive index silica fine particles in 100 parts by weight of the coating liquid.
  • a coating liquid for forming a refractive index layer was obtained.
  • the obtained coating solution for forming a low refractive index layer was applied on a wire bar coater on the antistatic layer, followed by heating and drying in an oven at 120 ° C. for 1 minute to form a low refractive index layer.
  • the film thickness of the obtained low refractive index layer was 94 nm, the refractive index was 1.33, and the optical film thickness was 125 nm.
  • an antireflection film comprising a hard coat layer, an antistatic layer and a low refractive index layer on a transparent substrate was produced.
  • Example 2 ⁇ Formation of antistatic layer> Under the same conditions as in Example 1, the triacetyl cellulose film on which the hard coat layer was formed was subjected to alkali treatment. Using the same antistatic layer forming coating solution as in Example 1, the antistatic layer forming coating solution was applied to a wire bar coater on the alkali-treated hard coat layer to form an antistatic layer.
  • the film thickness of the obtained antistatic layer was 82 nm, the refractive index was 1.53, and the optical film thickness was 125 nm.
  • ⁇ Formation of low refractive index layer> In the same manner as in Example 1, a low refractive index layer having a film thickness of 91 nm, a refractive index of 1.37, and an optical film thickness of 125 nm was formed. As described above, an antireflection film comprising a hard coat layer, an antistatic layer and a low refractive index layer on a transparent substrate was produced.
  • Example 2 ⁇ Formation of transparent substrate and hard coat layer>
  • a hard coat layer having a film thickness of 5 ⁇ m and a refractive index of 1.52 was formed on a triacetylcellulose film (refractive index of 1.49) having a thickness of 80 ⁇ m.
  • ⁇ Formation of antistatic layer > 5 parts by weight of dipentaerythritol triacrylate as an ionizing radiation curable material, 5 parts by weight of antimony-doped tin oxide fine particles, Irgacure 184 (manufactured by Ciba Japan Co., Ltd. (photopolymerization initiator) as a photopolymerization initiator), solvent
  • the coating solution for forming an antistatic layer mixed with 90 parts by weight of MIBK was applied as follows: The obtained coating solution for forming an antistatic layer was applied onto a hard coat layer on a wire bar coater and dried in an oven at 80 ° C. for 1 minute.
  • the film was cured by a conveyor type UV curing device at an exposure amount of 500 mJ / cm 2 to form an antistatic layer, and the obtained antistatic layer had a thickness of 78 nm and a refractive index of 1.60.
  • the optical film thickness was 125 nm.
  • ⁇ Formation of low refractive index layer> The triacetyl cellulose film on which the antistatic layer and the hard coat layer are formed is immersed in a 1.5N-NaOH aqueous solution at 50 ° C. for 2 minutes for alkali treatment, washed with water, and then a 0.5 wt% H 2 SO 4 aqueous solution. For 30 seconds at room temperature, neutralized, washed with water and dried.
  • a low refractive index layer having a film thickness of 91 nm, a refractive index of 1.37, and an optical film thickness of 125 nm was formed on the alkali-treated antistatic layer.
  • an antireflection film comprising a hard coat layer, an antistatic layer and a low refractive index layer on a transparent substrate was produced.
  • Antimony pentoxide fine particles having a primary particle diameter of 20 nm are mixed with this solution, isopropyl alcohol is added, and 2.5 parts by weight of tetraethoxysilane and 2.5 parts by weight of antimony pentoxide fine particles are contained in 100 parts by weight of the coating solution.
  • a layer forming coating solution was obtained.
  • the obtained antistatic layer-forming coating solution was applied to a wire bar coater on an alkali-treated hard coat layer to form an antistatic layer.
  • the film thickness of the obtained antistatic layer was 180 nm, the refractive index was 1.55, and the optical film thickness was 279 nm.
  • ⁇ Formation of low refractive index layer> In the same manner as in Example 1, a low refractive index layer having a film thickness of 91 nm, a refractive index of 1.37, and an optical film thickness of 125 nm was formed. As described above, an antireflection film comprising a hard coat layer, an antistatic layer and a low refractive index layer on a transparent substrate was produced.
  • Antimony pentoxide fine particles having a primary particle size of 20 nm are mixed with this solution, isopropyl alcohol is added, and antistatic charge containing 2.4 parts by weight of tetraethoxysilane and 2.6 parts by weight of antimony pentoxide fine particles in 100 parts by weight of the coating solution.
  • a layer forming coating solution was obtained.
  • the obtained antistatic layer-forming coating solution was applied to a wire bar coater on an alkali-treated hard coat layer to form an antistatic layer.
  • the film thickness and refractive index of the obtained antistatic layer were measured by an optical simulation method and TEM cross-sectional observation, it was 180 nm, the refractive index was 1.58, and the optical film thickness was 284 nm.
  • ⁇ Formation of low refractive index layer> In the same manner as in Example 1, a low refractive index layer having a film thickness of 91 nm, a refractive index of 1.37, and an optical film thickness of 125 nm was formed. As described above, an antireflection film comprising a hard coat layer, an antistatic layer and a low refractive index layer on a transparent substrate was produced.
  • Example 2 Under the same conditions as in Example 1, the triacetyl cellulose film on which the hard coat layer was formed was subjected to alkali treatment. In the same manner as in Example 1, tetraethoxysilane was used as a raw material, and isopropyl alcohol and 0.1N hydrochloric acid were added thereto, and a solution containing a tetraethoxysilane polymer obtained by hydrolysis was obtained.
  • Antimony-doped tin oxide (ATO) fine particles having a primary particle diameter of 8 nm are mixed with this solution, isopropyl alcohol is added, and 2.8 parts by weight of tetraethoxysilane and antimony-doped tin oxide (ATO) fine particles in 100 parts by weight of the coating solution.
  • a coating solution for forming an antistatic layer containing 2.2 parts by weight was obtained.
  • the obtained antistatic layer-forming coating solution was applied to a wire bar coater on an alkali-treated hard coat layer to form an antistatic layer.
  • the film thickness of the obtained antistatic layer was 164 nm, the refractive index was 1.52, and the optical film thickness was 250 nm.
  • ⁇ Formation of low refractive index layer> In the same manner as in Example 2, a low refractive index layer having a thickness of 94 nm, a refractive index of 1.33, and an optical thickness of 125 nm was formed. As described above, an antireflection film comprising a hard coat layer, an antistatic layer and a low refractive index layer on a transparent substrate was produced.
  • the film thickness of the hard coat layer was determined by a stylus type film thickness meter.
  • the film thicknesses of the antistatic layer and the low refractive index layer were measured by performing cross-sectional observation with a transmission electron microscope (TEM). Further, the refractive index and optical film thickness of the hard coat layer, antistatic layer, and low refractive index layer were determined by performing optical simulation on the obtained spectral reflectance.
  • TEM transmission electron microscope
  • FIG. 5 to (FIG. 11) show the spectral reflectances of the antireflection films obtained in (Example 1), (Example 2) and (Comparative Example 1) to (Comparative Example 5).
  • Table 1 shows the evaluation results of the antireflection films obtained in (Example 1), (Example 2), (Comparative Example 1) to (Comparative Example 5).
  • the luminous average reflectance is 1.5% or less and has sufficient antireflection performance
  • the surface resistance value is 1.0 ⁇ 10 10 ( ⁇ / cm 2 ) or less
  • an antireflection film having sufficient antistatic performance could be obtained.
  • the reflection hue was in the range of ⁇ 3 ⁇ a * ⁇ 3 and 0 ⁇ b ⁇ 3, so that the color tone was small, and an antireflection film in which in-plane color unevenness was difficult to be confirmed could be obtained.
  • the antireflection film of (Comparative Example 1) has a low average luminous reflectance compared to (Example 1) and can be made an antireflection film excellent in antireflection performance. Is out of the range of ⁇ 3 ⁇ a * ⁇ 3 and 0 ⁇ b ⁇ 3, and the color is large, and the difference between the maximum value and the minimum value of the spectral reflectance is larger than 0.9%. It became an antireflection film in which uneven color was confirmed.
  • the antireflection film of (Comparative Example 3) has sufficient antireflection performance, the difference between the maximum value and the minimum value of the spectral reflectance exceeds 0.9%, and color unevenness in the surface is observed. It became the antireflection film which has. In particular, the amount of change in reflectance on the low wavelength side of the spectral reflectance curve was large, and an antireflection film in which blue color unevenness was confirmed in the surface was obtained. Further, the antireflection film of (Comparative Example 3) exhibited a higher surface resistance value than the surface resistance value of the antireflection film of (Example 1).
  • the antireflection film of (Comparative Example 4) could be an antireflection film having sufficient antireflection performance and antistatic performance.
  • the spectral reflectance curve in the wavelength range of 400 nm to 700 nm has one maximum value, two minimum values, and is W-shaped. Then, when the reflectance changes in the vicinity of 550 nm where the relative visibility is high, green color unevenness was clearly confirmed. In addition, it was confirmed that the reflected hue was also greenish.
  • the antistatic layer In the antireflection film of (Comparative Example 5), since the refractive index difference between the antistatic layer and the hard coat layer is 0, the antistatic layer cannot function as a high refractive index layer. Therefore, although it has sufficient antireflection performance, the difference between the maximum value and the minimum value of the spectral reflectance cannot be 0.9% or less, and an antireflection film in which color unevenness is confirmed in the surface is obtained. . In the antireflection film of (Comparative Example 5), blue color unevenness was confirmed.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of the antireflection film of the present invention shown in FIG.
  • FIG. 2 is an explanatory diagram of a spectral reflectance curve (model) of the antireflection film of the present invention.
  • FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of a polarizing plate using the antireflection film of the present invention.
  • FIG. 4 shows a transmissive liquid crystal display provided with the antireflection film of the present invention.
  • FIG. 5 is a spectral reflectance curve of the antireflection film obtained in (Example 1).
  • FIG. 6 is a spectral reflectance curve of the antireflection film obtained in (Example 2).
  • FIG. 5 is a spectral reflectance curve of the antireflection film obtained in (Example 2).
  • FIG. 7 is a spectral reflectance curve of the antireflection film obtained in (Comparative Example 1).
  • FIG. 8 is a spectral reflectance curve of the antireflection film obtained in (Comparative Example 2).
  • FIG. 9 is a spectral reflectance curve of the antireflection film obtained in (Comparative Example 3).
  • FIG. 10 is a spectral reflectance curve of the antireflection film obtained in (Comparative Example 4).
  • FIG. 11 is a spectral reflectance curve of the antireflection film obtained in (Comparative Example 5).

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Abstract

【課題】　優れた帯電防止機能、反射防止機能を有し、かつ反射光の色味を低減し、色ムラの発生を抑えた反射防止フィルムを提供することを課題とする。 【解決手段】　透明基材の少なくとも片面に、該透明基材側から順に、ハードコート層と、バインダマトリックスと導電性粒子を備える帯電防止層、バインダマトリックスと低屈折粒子を備える低屈折率層を備える反射防止フィルムであって、前記低屈折率層側の反射防止フィルム表面での視感平均反射率が０．５％以上１．５％以下の範囲内であり、且つ、前記低屈折率層側の反射防止フィルム表面での波長４００ｎｍから７００ｎｍの範囲における分光反射率曲線が極大値を有さず極小値を１つ有し、且つ、前記低屈折率層側の反射防止フィルム表面での波長４００ｎｍから７００ｎｍの範囲における分光反射率の最大値と最小値の差が０．２％以上０．９％以下の範囲内であることを特徴とする反射防止フィルムとした。

Description

反射防止フィルム
　本発明は、窓やディスプレイなどの表面に外光が反射することを防止することを目的として設けられる反射防止フィルムに関する。特に、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、ＣＲＴディスプレイ、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、表面電界ディスプレイ（ＳＥＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）などのディスプレイの表面に設けられる反射防止フィルムに関する。特に、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）表面に設けられる反射防止フィルムに関する。
　一般にディスプレイは、室内外での使用を問わず、外光などが入射する環境下で使用される。この外光等の入射光は、ディスプレイ表面等において正反射され、それによる反射像が表示画像と混合することにより、画面表示品質を低下させてしまう。そのため、ディスプレイ表面等に反射防止機能を付与することは必須であり、反射防止機能の高性能化、反射防止機能以外の機能の複合化が求められている。
　一般に反射防止機能は、透明基材上に金属酸化物等の透明材料からなる高屈折率層と低屈折率層の繰り返し構造による多層構造の反射防止層を形成することで得られる。これらの多層構造からなる反射防止層は、化学蒸着（ＣＶＤ）法や、物理蒸着（ＰＶＤ）法といった乾式成膜法により形成することができる。乾式成膜法を用いて反射防止層を形成する場合にあっては、低屈折率層、高屈折率層の膜厚を精密に制御できるという利点がある一方、成膜を真空中でおこなうため、生産性が低く、大量生産に適していないという問題を抱えている。一方、反射防止層の形成方法として、大面積化、連続生産、低コスト化が可能である塗液を用いた湿式成膜法による反射防止膜の生産が注目されている。
　また、これらの反射防止層がフィルム透明基材上に設けられている場合には、その表面が比較的柔軟であることから、表面硬度を付与するために、一般にアクリル多官能化合物の重合体からなるハードコート層を設け、その上に反射防止層を形成するという手法が用いられている。このハードコート層はアクリル樹脂の特性により、高い表面硬度、光沢性、透明性、耐擦傷性を有するが、絶縁性が高いために帯電しやすく、ハードコート層を設けた製品表面への埃等の付着による汚れや、ディスプレイ製造工程において、帯電することにより障害が発生するといった問題を抱えている。
　そこで、帯電防止機能を付与するため、ハードコート層に導電剤を添加する方法や、基材とハードコート層の間、もしくは、ハードコート層と反射防止層の間に帯電防止層を設ける方法がなされている。
特開２００５－２０２３８９号公報 特開２００５－１９９７０７号公報 特開２００６－１６４４７号公報
　ハードコート層に導電性物質を添加する方法では、良好な導電性を発現させるためには、多量の導電性物質を添加する必要があり、その結果、材料コストの向上、ハードコート層の強度低下といった問題が発生することがあった。一方、帯電防止層を新たに設ける方法では、一般高い帯電防止層を層間に積層しなければならず、それによる色味の発生や、色ムラが発生することがあった。特に、帯電防止層、低屈折率層を湿式成膜法で形成する
際には、形成される帯電防止層、低屈折率層の面内での膜厚のバラツキを反映して、反射防止フィルムの色ムラが確認される。本発明にあっては、透明基材上に、ハードコート層と、帯電防止層、低屈折率層を順に備える反射防止フィルムにおいて、優れた帯電防止機能、反射防止機能を有し、かつ反射光の色味を低減し、色ムラの発生を抑えた反射防止フィルムを提供することを課題とする。
　上記課題を解決するために請求項１に係る発明としては、透明基材の少なくとも片面に、該透明基材側から順に、ハードコート層と、バインダマトリックスと導電性粒子を備える帯電防止層、バインダマトリックスと低屈折粒子を備える低屈折率層を備える反射防止フィルムであって、前記低屈折率層側の反射防止フィルム表面での視感平均反射率が０．５％以上１．５％以下の範囲内であり、且つ、前記低屈折率層側の反射防止フィルム表面での波長４００ｎｍから７００ｎｍの範囲における分光反射率曲線が極大値を有さず極小値を１つ有し、且つ、前記低屈折率層側の反射防止フィルム表面での波長４００ｎｍから７００ｎｍの範囲における分光反射率の最大値と最小値の差が０．２％以上０．９％以下の範囲内であることを特徴とする反射防止フィルムとした。
　また、請求項２に係る発明としては、前記ハードコート層の屈折率と前記透明基材の屈折率の差が、前記透明基材の屈折率の０．０５以下の範囲内にあり、且つ、前記帯電防止層の屈折率と前記ハードコート層の屈折率の屈折率差が、０．０１以上０．０５以下の範囲内にあり、且つ、前記帯電防止層の光学膜厚が２３０ｎｍ以上２７０ｎｍ以下であり、且つ、前記低屈折率層の光学膜厚が１１５ｎｍ以上１３５ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１記載の反射防止フィルムとした。
　また、請求項３に係る発明としては、前記低屈折率層側の反射防止フィルム表面でのＬ＊ａ＊ｂ＊色度系における反射色相が０．００≦ａ＊≦３．００且つ－３．００≦ｂ＊≦３．００であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の反射防止フィルムとした。
　また、請求項４に係る発明としては、前記帯電防止層に用いられる導電性粒子が、電子電導型の導電性粒子であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の反射防止フィルムとした。
　また、請求項５に係る発明としては、前記帯電防止層におけるバインダマトリックス及び前記低屈折率層におけるバインダマトリックスは、シリカマトリックスであることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の反射防止フィルムとした。
　また、請求項６に係る発明としては、請求項１乃至５のいずれかに記載の反射防止フィルムの低屈折率層が設けられている側の反対側の透明基材フィルムの面に偏光層、透明基材フィルムを備える偏光板とした。
　また、請求項７に係る発明としては、請求項１乃至５のいずれかに記載の反射防止フィルムの低屈折率層が設けられている側の反対側の透明基材フィルムの面に偏光層、透明基材フィルムを備える偏光板、液晶セル、偏光板、バックライトユニットをこの順に備えることを特徴とする透過型液晶ディスプレイとした。
　上記構成の反射防止フィルムとすることにより、優れた帯電防止機能、反射防止機能を有し、かつ反射光の色味を低減し、色ムラの発生を抑えた反射防止フィルムとすることができた。
　以下に本発明の反射防止フィルムについて説明する。
　図１に本発明の反射防止フィルムの断面模式図を示した。図１に示した本発明の反射防止フィルム（１）は、透明基材（１１）上に、ハードコート層（１２）、帯電防止層（１３）、低屈折率層（１４）を順に備える。そして、帯電防止層（１３）は導電性粒子（１３Ａ）とバインダマトリックス（１３Ｂ）を備え、低屈折率層（１４）は低屈折率粒子（１４Ａ）とバインダマトリックス（１４Ｂ）を備える。
　本発明の反射防止フィルムは、低屈折率層（１４）と帯電防止層（１３）の光学干渉により反射防止機能が発現する。すなわち、帯電防止層（１３）は高屈折率層として機能する。
　本発明の反射防止フィルムにおいて帯電防止層（１３）を形成するにあっては、導電性粒子とバインダマトリックス形成材料を含む塗液を用い、湿式成膜法によりハードコート層上に塗液を塗布することにより形成される。同様に、低屈折率層（１４）を形成するにあっては低屈折率粒子とバインダマトリックス形成材料を含む塗液を用い、湿式成膜法により帯電防止層上に塗液を塗布することにより形成される。
　本発明の反射防止フィルムにあっては、前記低屈折率層側の反射防止フィルム表面での視感平均反射率が０．５％以上１．５％以下の範囲内であり、且つ、前記低屈折率層側の反射防止フィルム表面での波長４００ｎｍから７００ｎｍの範囲における分光反射率曲線が極大値を有さず１つの極小値を有し、且つ、前記低屈折率層側の反射防止フィルム表面での波長４００ｎｍから７００ｎｍの範囲における分光反射率の最大値と最小値の差が０．２％以上０．９％以下の範囲内であることを特徴とする。
　図２に本発明の反射防止フィルムの分光反射率曲線（モデル）の説明図を示した。
　本発明における低屈折率層側の反射防止フィルム表面の分光反射率曲線は、ハードコート層、帯電防止層、低屈折率層が設けられていない側の透明基材表面に艶消し黒色塗料を塗布したうえで、分光光度計により測定される。本発明の反射防止フィルムの分光反射率曲線は、反射防止フィルム表面に対しての垂直方向から入射角度は５度に設定され、光源としてＣ光源を用い、２度視野の条件下で求められる。視感平均反射率は、可視光の各波長の反射率を比視感度により校正し、平均した反射率の値である。このとき、比視感度は明所視標準比視感度が用いられる。
　本発明の反射防止フィルムは、低屈折率層側の反射防止フィルムにおける視感平均反射率が０．５％以上１．３％以下であることを特徴とする。視感平均反射率が１．３％を超えるような場合にあっては、ディスプレイ表面に設けるのに十分な反射防止機能を有する反射防止フィルムとすることができない。一方、視感平均反射率が０．５％を下回るような場合にあっては、波長４００ｎｍから７００ｎｍの範囲における分光反射率の最大値と最小値の差を０．９％以下とすることが困難になる。
　本発明の反射防止フィルムは、図２に示したように低屈折率層側の反射防止フィルム表面での波長４００ｎｍから７００ｎｍの範囲における分光反射率曲線が極大値を有さず１つの極小値を有することを特徴とする。また、本発明の反射防止フィルムは、低屈折率層側の反射防止フィルム表面での波長４００ｎｍから７００ｎｍの範囲における分光反射率の最大値（Ａ）と最小値（Ｂ）の差（Ａ－Ｂ）が０．２％以上０．９％以下の範囲内であることを特徴とする。本発明の反射防止フィルムの分光反射率曲線は、波長４００ｎｍから７００ｎｍの間で、波長が大きくなるにつれ緩やかに減少し、極小値を境に緩やかに増
加するＵ字型の分光反射率曲線となる。
　本発明の反射防止フィルムの波長４００ｎｍから７００ｎｍの範囲における分光反射率曲線は、Ｕ字型であり、波長４００ｎｍから７００ｎｍの範囲の間で緩やかに変化し非常に平坦な曲線であることを特徴とする。分光反射率曲線をＵ字型で非常に緩やかに変化する曲線とすることにより、反射色相が無色に近いだけでなく、色ムラのない反射防止フィルムとすることができる。
　塗液を用い湿式成膜法により帯電防止層、低屈折率層を形成する場合にあっては、真空装置が必要となる乾式成膜により帯電防止層、低屈折率層を形成する場合と比較して、大幅に製造コストを下げることが可能となる。湿式成膜法により帯電防止層、低屈折率層を形成する場合にあっては、低コストで反射防止フィルムを提供することが可能となる。
　しかしながら、蒸着法やスパッタリング法といった乾式成膜法で帯電防止層、低屈折率層を形成する場合と比較して、塗液を用いた湿式成膜法により帯電防止層、反射防止層を形成する場合にあっては、形成される帯電防止層、反射防止層の膜厚が面内で微量変動する傾向にある。反射防止フィルムは、低屈折率層と帯電防止層の光学干渉により反射防止機能が発現するため、帯電防止層、反射防止層の膜厚が面内で微量変動した場合には、反射防止フィルムは面内で色ムラとして確認される。
　本発明にあっては、反射防止フィルムの分光反射率曲線をＵ字型であり非常に緩やかに変化する曲線とすることにより、形成される反射防止層、帯電防止層の微小な膜厚の変動による色ムラを抑制することができる。すなわち、本発明の反射防止フィルムは、湿式成膜法により形成される帯電防止層、反射防止層が面内で微小の膜厚ムラが発生しても、色ムラとして認識されにくい反射防止フィルムとすることができる。分光反射率曲線の波長に対する反射率の変化量が大きい場合には、帯電防止層及び低屈折率層の膜厚の変動により分光反射率曲線が変化した際に、色味が変化しやすいため、色ムラとして認識されやすくなる。
　低屈折率層側の反射防止フィルム表面での波長４００ｎｍから７００ｎｍの範囲における分光反射率の最大値（Ａ）と最小値（Ｂ）の差（Ａ－Ｂ）が０．９％を超える場合にあっては、その分光反射率曲線は急峻な変化を伴うこととなる。したがって、反射色相が大きくなるだけでなく、帯電防止層、反射防止層の膜厚変動による色ムラが確認されることとなる。
　また、低屈折率層側の反射防止フィルム表面での波長４００ｎｍから７００ｎｍの範囲における分光反射率の最大値（Ａ）と最小値（Ｂ）の差（Ａ－Ｂ）は小さい方が好ましいが、分光反射率の最大値（Ａ）と最小値（Ｂ）の差（Ａ－Ｂ）が０．５％を下回る反射防止フィルムを、低屈折率層と帯電防止層の２層の光学干渉から実現することは困難である。
　本発明にあっては、分光反射率曲線が４００ｎｍから７００ｎｍの間で極小値を１つ有し、低屈折率層側の反射防止フィルム表面での波長４００ｎｍから７００ｎｍの範囲における分光反射率の最大値（Ａ）と最小値（Ｂ）の差（Ａ－Ｂ）を０．９％以下とすることにより、波長４００ｎｍから７００ｎｍの範囲の間で緩やかに変化し非常に平坦な曲線でとすることができる。
　本発明の反射防止フィルムにあっては、その分光反射率曲線が比視感度の高い波長５５０ｎｍ付近においてほぼ平坦であるため、反射色相が無色に近いだけでなく、色ムラのない反射防止フィルムとすることができる。反射色相が無色であり、且つ、色ムラのない反
射防止フィルムとするには、比視感度が高い波長５５０ｎｍ付近の分光反射率曲線は極力平坦であることが要求される。
　また、本発明の反射防止フィルムにあっては、分光反射率曲線の低波長側（４００ｎｍ～４５０ｎｍ付近）の立ち下がり部分と高波長側（６００～７００ｎｍ付近）の立ち上がり部分の変化量を小さくすることができ、反射色相が無色に近いだけでなく、色ムラのない反射防止フィルムとすることができる。特に、低波長側（４００ｎｍ～４５０ｎｍ付近の波長側の立ち下がり部分の変化量を小さくすることができ、反射色相が無色に近いだけでなく、青色の色ムラのない反射防止フィルムとすることができる。
　反射防止フィルムにあっては、視感反射率が低いほど高い反射防止性能を有する反射防止フィルムとすることができる。しかしながら、高い反射防止性能を得ようとした場合には、反射光の色味を低減すること、色ムラの発生を抑えることは困難となる。すなわち、本発明にあっては視感反射率を０．５％以上１．３％以下とし、分光反射率の最大値と最小値の差が０．２％以上０．９％以下の範囲内とすることにより反射光の色味を低減し、さらには色ムラの発生を抑制することに成功した。言い換えると、低屈折率層側の波長４００ｎｍから７００ｎｍの範囲における分光反射率曲線を緩やかに変化し平坦なＵ字型の曲線とすることにより、反射光の色味を低減し、さらには湿式成膜法によって形成される低屈折率層及び帯電防止層の微小な膜厚変動によって発生する色ムラが確認されにくい反射防止フィルムとすることができた。
　また、本発明の反射防止フィルムにあっては、ハードコート層の屈折率と前記透明基材の屈折率の差が前記透明基材の屈折率の０．０５以下の範囲内にあり、且つ、前記帯電防止層の屈折率と前記ハードコート層の屈折率の屈折率差が０．０１以上０．０５以下の範囲内にあり、且つ、前記帯電防止層の光学膜厚が２３０ｎｍ以上２７０ｎｍ以下であり、且つ、前記低屈折率層の光学膜厚が１１５ｎｍ以上１３５ｎｍ以下であることが好ましい。
　本発明にあっては、透明基材とハードコート層の屈折率差、及び、ハードコート層と帯電防止層の屈折率差を上記範囲内とし、帯電防止層の光学膜厚と低屈折率層の光学膜厚を上記範囲内とすることにより、容易に分光反射率曲線をＵ字型で非常に緩やかな曲線とし、反射色相が無色に近く、色ムラのない反射防止フィルムとすることができる。
　なお、本発明において、ハードコート層及び帯電防止層の屈折率は、ベッケ線法などによる直接測定法あるいは分光光度計や分光エリプソメーターによる光学薄膜シミュレーション法により求めることができる。
　本発明の反射防止フィルムにあっては、透明基材とハードコート層の屈折率差は０．０５以内であることが好ましい。ハードコート層の屈折率と前記透明基材の屈折率の屈折率差が、０．０５を超える場合にあっては、層間の光の干渉による干渉縞が発生してしまう。
　また、本発明の反射防止フィルムにあっては、ハードコート層と帯電防止層の屈折率差は０．０１以上０．０５以下であることが好ましい。ハードコート層と帯電防止層の屈折率差が０．０５を超える場合にあっては、層間の光の干渉による干渉によって、分光反射率の最大値と最小値の差を０．２％以上０．９％以下の範囲内とすることが困難となる。一方、ハードコート層と帯電防止層の屈折率差が０．０１未満となる場合にあっては、ハードコート層と帯電防止層の屈折率がほとんど同じことから、帯電防止層が高屈折率層として機能しなくなってしまい、光反射率曲線をＵ字型で非常に緩やかな曲線とすることが困難となる。
　また、本発明の反射防止フィルムにあっては、前記帯電防止層の光学膜厚が２３０ｎｍ以上２７０ｎｍ以下であり、且つ、前記低屈折率層の光学膜厚が１１５ｎｍ以上１３５ｎｍ以下であることが好ましい。
　本発明の反射防止フィルムにあっては、λ＝５００ｎｍとしたときに帯電防止層の光学膜厚がλ／２付近、低屈折率層がλ／４付近となるように設計される。λ＝５００ｎｍとして帯電防止層をλ／２付近、低屈折率層をλ／４付近とすることにより、得られる分光反射率曲線を極大値を輸さず極小値を１つ有し、波長が大きくなるにつれ緩やかに減少し、極小値を境に緩やかに増加するＵ字型であり、非常に平坦な曲線とすることができる。
　本発明の反射防止フィルムの分光反射率曲線は図２に示したように、極小値を基準として短波長方向への上昇カーブが長波長方向への上昇カーブと比較して急峻な傾向を示す。このとき、分光反射率曲線の極小値を基準としたときの短波長方向への急峻な上昇カーブは、帯電防止層、反射防止層の膜厚ムラが発生したときの色ムラの発生原因となる。本発明にあっては、分光反射率曲線の極小値を５００ｎｍ近傍とすることにより、反射色相が小さく、分光反射率の最大値（Ａ）と最小値（Ｂ）の差（Ａ－Ｂ）がを０．９％以下とすることができ、短波長方向への急峻な上昇カーブによる色ムラの発生を抑制することができた。
　例えば、比視感度が高い波長（λ）５５０ｎｍの光を基準として低屈折率層の膜厚をλ／４、帯電防止層の膜厚をλ／２とした場合にあっては、短波長方向への上昇カーブが大きくなり、波長４００ｎｍにおける反射率が高くなる。したがって、分光反射率の最大値と最小値の差を０．９％以内とすることは困難となり、また、低屈折率層、帯電防止層の微小な膜厚変動によって青色の色ムラが発生しやすくなる。
　また、本発明の反射防止フィルムは、前記低屈折率層側の反射防止フィルム表面でのＬ＊ａ＊ｂ＊色度系における反射色相が０≦ａ＊≦３且つ－３≦ｂ＊≦３であることが好ましい。低屈折率層側の反射防止フィルム表面でのＬ＊ａ＊ｂ＊色度系における反射色相を上記範囲内とすることにより、色味のない反射防止フィルムとすることができ、ディスプレイ表面にさらに好適に用いることができる。
　反射色相は、ａ＊、ｂ＊が０に近いほど無色に近い。しかしながら、－３≦ａ＊＜０は比視感度の高い緑色の領域であり、観察者にとって色味が認識されやすい傾向にある。したがって、本発明の反射防止フィルムにあっては、０≦ａ＊≦３且つ－３≦ｂ＊≦３とすることが好ましい。
　なお、本発明の反射防止フィルムの反射色相は、ハードコート層、帯電防止層、低屈折率層が設けられていない側の透明基材表面に艶消し黒色塗料を塗布したうえで、分光光度計により測定される。入射角度は反射防止フィルムに対しての垂直方向から５度に設定され、光源としてＣ光源を用い、２度視野の条件下で求められる。
　また、本発明の反射防止フィルムにあっては、帯電防止層に用いられる導電性粒子が、電子電導型の導電性粒子であることが好ましい。帯電防止層に用いられる導電性粒子にあっては、プロトン電導型の導電性粒子と電子電導型の導電性粒子に分けられる。このとき、プロトン電導型の導電性粒子を用いる場合にあっては、反射防止フィルムを低湿度下で使用した場合に所望の帯電防止性能が得られないことがある。一方、電子電導型の導電性粒子を用いる場合にあっては、低湿度下でも良好な帯電防止性能を安定的に発揮することができる。
　なお、本発明の反射防止フィルムにあっては、低屈折率層側の反射防止フィルム表面の表面抵抗値が１．０×１０１０（Ω／ｃｍ２）以下であることが好ましい。低屈折率層側の反射防止フィルム表面の表面抵抗値を１．０×１０１０（Ω／ｃｍ２）以下とすることにより、帯電防止性に優れた反射防止フィルムとすることができる。反射防止フィルム表面の表面抵抗値が１．０×１０１０（Ω／ｃｍ２）を超える場合にあっては十分な帯電防止性を有さないために、ディスプレイ表面に反射防止フィルムを設けた際に埃等の付着を防ぐことができなくなってしまう。
　また、低屈折率層側の反射防止フィルム表面の表面抵抗値が１．０×１０６（Ω／ｃｍ２）以上であることが好ましい。低屈折率層側の反射防止フィルム表面の表面抵抗値が１．０×１０６（Ω／ｃｍ２）を下回る場合、導電性粒子をバインダマトリックス中に多量添加する必要があり、不経済であり、強度や光学特性などが本発明内で調整不可能なものとなってしまう。
　また、本発明の反射防止フィルムにあっては、帯電防止層におけるバインダマトリックス及び前記低屈折率層におけるバインダマトリックスはシリカマトリックスであることが好ましい。バインダマトリックスをシリカマトリックスとするには、バインダマトリックス形成材料としてケイ素アルコキシドを用い、該ケイ素アルコキシドの加水分解物を塗布、乾燥することにより、形成することができる。バインダマトリックスをシリカマトリックスとすることにより、高い透明性を有し、且つ色味の少ない反射防止フィルムとすることができる。また、帯電防止層におけるバインダマトリックス及び低屈折率層におけるバインダマトリックスをともにシリカマトリックスとすることにより、帯電防止層と低屈折率層の密着性を向上させることができる。
　次に、本発明の反射防止フィルムを用いた偏光板について示す。図３に本発明の反射防止フィルムを用いた偏光板の断面模式図を示した。偏光板（２）は２つの透明基材間に偏光層が狭持された構造をとる。本発明の偏光板（２）にあっては、反射防止フィルム（１）の透明基材（１１）の低屈折率層（１４）が設けられている反対側の面に、偏光層（２３）、透明基材（２２）を順に備える。すなわち、反射防止フィルム（１）の透明基材（１１）が、偏光層を狭持するための透明基材を兼ねる構造となっている。
　次に、本発明の反射防止フィルムを用いた透過型液晶ディスプレイについて示す。
　図４に本発明の反射防止フィルムを備える透過型液晶ディスプレイを示した。図４の透過型液晶ディスプレイにおいては、バックライトユニット（５）、偏光板（４）、液晶セル（３）、反射防止フィルム（１）を含む偏光板（２）をこの順に備えている。このとき、反射防止フィルム側が観察側すなわちディスプレイ表面となる。
　バックライトユニットは、光源と光拡散板を備える。液晶セルは、一方の透明基材に電極が設けられ、もう一方の透明基材に電極及びカラーフィルターを備えており、両電極間に液晶が封入された構造となっている。２つの偏光板は液晶セルを挟むように設けられる。
　また、本発明の透過型液晶ディスプレイにあっては、他の機能性部材を備えても良い。他の機能性部材としては、例えば、バックライトから発せられる光を有効に使うための、拡散フィルム、プリズムシート、輝度向上フィルムや、液晶セルや偏光板の位相差を補償するための位相差フィルムが挙げられるが、本発明の透過型液晶ディスプレイはこれらに限定されるものではない。
　以下に、本発明の反射防止フィルムの製造方法について述べる。本発明の反射防止フィルムにおける透明基材としては、種々の有機高分子からなるフィルムまたはシートを用い
ることができる。例えば、ディスプレイ等の光学部材に通常使用される基材が挙げられ、透明性や光の屈折率等の光学特性、さらには耐衝撃性、耐熱性、耐久性などの諸物性を考慮して、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セロファン等のセルロース系、６－ナイロン、６，６－ナイロン等のポリアミド系、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、エチレンビニルアルコール等の有機高分子からなるものが用いられる。特に、ポリエチレンテレフタレート、トリアセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレートが好ましい。中でも、トリアセチルセルロースにあっては、複屈折率が小さく、透明性が良好であることから液晶ディスプレイに対し好適に用いることができる。
　なお、透明基材の厚みは２５μｍ以上２００μｍ以下の範囲内にあることが好ましく、さらには、４０μｍ以上８０μｍ以下の範囲内にあることが好ましい
　さらに、これらの有機高分子に公知の添加剤、例えば帯電防止剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤等を添加することにより機能を付加させたものも使用できる。また、透明基材は上記の有機高分子から選ばれる１種または２種以上の混合物、または重合体からなるものでもよく、複数の層を積層させたものであってもよい。
　次に、ハードコート層の形成方法について述べる。ハードコート層は、電子放射線硬化型材料を含む塗液を透明基材上に塗布し、透明基材上に塗膜を形成し、該塗膜に対し、必要に応じて乾燥をおこない、その後、紫外線、電子線といった電離放射線を照射することにより電離放射線硬化型材料の硬化反応をおこなうことにより、ハードコート層とすることができる。塗布方法としては、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、ディップコーターを用いた塗布方法を用いることができる。
　ハードコート層を形成するための電離放射線硬化型材料としては、例えばアクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリル酸エステル類、メタクリル酸アミド類などの（メタ）アクリロイル基を３個以上、好ましくは４～２０個有する多官能アクリレートが挙げられる。なお、多官能アクリレートはモノマーであってもオリゴマーであっても構わない。多官能アクリレートとしては、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートなどが挙げられる。
　多官能アクリレートの中でも、所望する分子量、分子構造を設計でき、形成されるハードコート層の物性のバランスを容易にとることが可能であるといった理由から、多官能ウレタンアクリレートを好適に用いることができる。ウレタンアクリレートは、多価アルコール、多価イソシアネート及び水酸基含有アクリレートを反応させることによって得られる。具体的には、共栄社化学社製、ＵＡ－３０６Ｈ、ＵＡ－３０６Ｔ、ＵＡ－３０６ｌ等、日本合成化学社製、ＵＶ－１７００Ｂ、ＵＶ－６３００Ｂ、ＵＶ－７６００Ｂ、ＵＶ－７６０５Ｂ、ＵＶ－７６４０Ｂ、ＵＶ－７６５０Ｂ等、新中村化学社製、Ｕ－４ＨＡ、Ｕ－６ＨＡ、ＵＡ－１００Ｈ、Ｕ－６ＬＰＡ、Ｕ－１５ＨＡ、ＵＡ－３２Ｐ、Ｕ－３２４Ａ等、ダイセルユーシービー社製、Ｅｂｅｃｒｙｌ－１２９０、Ｅｂｅｃｒｙｌ－１２９０Ｋ、Ｅｂｅｃｒｙｌ－５１２９等、根上工業社製、ＵＮ－３２２０ＨＡ、ＵＮ－３２２０ＨＢ、ＵＮ－３２２０ＨＣ、ＵＮ－３２２０ＨＳ等を挙げることができるがこの限りではない。
　またこれらの他にも、電離放射線型材料として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等を使用することができる。
　また、ハードコート層形成用塗液を紫外線により硬化させる場合にあっては、ハードコート層形成用塗液に光重合開始剤を添加する。光重合開始剤としては、紫外線が照射された際にラジカルを発生するものであれば良く、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類を用いることができる。また、光重合開始剤の添加量は、電離放射線硬化型材料１００重量部に対して０．１重量部～１０重量部、好ましくは１重量部～７重量部、更に好ましくは１重量部～５重量部である。
　さらに、ハードコート層形成用塗液には、必要に応じて、溶媒や各種添加剤を加えることができる。溶媒としては、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼンなどの芳香族炭化水素類、ｎ－ヘキサンなどの炭化水素類、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジオキソラン、トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、また、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ－ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酢酸ｎ－ペンチル、およびγ－プチロラクトン等のエステル類、さらには、メチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類等の中から塗工適正等を考慮して適宜選択される。また、塗液には添加剤として、表面調整剤、屈折率調整剤、密着性向上剤、硬化剤等を加えることもできる。
　中でも、ハードコート形成用塗液の溶媒にあっては、透明基材を溶解するような溶媒を含むことが好ましい。ハードコート層形成用塗液が透明基材を溶解する溶媒を含むことにより形成されるハードコート層と透明基材との密着性を向上させることができる。
　また、ハードコート層形成用塗液に、平均粒径が０．５μｍ以上１０μｍ以下の粒子を含ませることにより、ハードコート層表面に凹凸を形成し、得られる反射防止層に防眩性を付与することができる。このとき、ハードコート層に添加される粒子としては透光性を有することが好ましい。粒子としては、具体的には、アクリル粒子、ＰＭＭＡ粒子、アクリルスチレン粒子、ＰＭＭＡスチレン粒子、ポリスチレン粒子、ポリカーボネート粒子、メラミン粒子、エポキシ粒子、ポリウレタン粒子、ナイロン粒子、ポリエチレン粒子、ポリプロピレン粒子、シリコーン粒子、ポリテトラフルオロエチレン粒子、ポリフッ化ビニリデン粒子、ポリ塩化ビニル粒子、ポリ塩化ビニリデン粒子、ガラス粒子、シリカ粒子等を用いることができる。なお、粒子は複数種用いることも可能である。
　また、形成されるハードコート層の表面硬度の向上を目的として、ハードコート層形成用塗液に平均粒径１００ｎｍ以下の粒子を添加しても良い。
　また、ハードコート層形成用塗液にはその他添加剤を加えても良い。添加剤としては、例えば泡消剤、レベリング剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、重合禁止剤などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
　また、塗液には、形成後のハードコート層を備える反射防止フィルムのカールを防止することを目的として、熱可塑性樹脂を添加してもよい。以上により、ハードコート層は形
成される。
　なお、ハードコート層上に帯電防止層を形成する前にあっては、帯電防止層を形成する前に酸処理、アルカリ処理、コロナ処理法、大気圧グロー放電プラズマ法等の表面処理をおこなっても良い。これら表面処理をおこなうことにより、ハードコート層と低屈折率層下層もしくは高屈折率層との密着性をさらに向上させることができる。
　ハードコート層上にケイ素アルコキシド等の金属アルコキシドをバインダマトリックス形成材料として用い、帯電防止層を形成するにあっては帯電防止層を形成する前にアルカリ処理をおこなうことが好ましい。アルカリ処理を行うことにより、ハードコート層と帯電防止層との密着性を向上させることができ、反射防止フィルムの耐擦傷性をさらに向上させることができる。
　本発明の帯電防止層にあっては、導電性高屈折粒子とバインダマトリックス形成材料を含む塗液を塗布し、透明基材上に塗膜を形成することにより形成することができる。このとき塗布方法としては、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、ディップコーターを用いた塗布方法を用いることができる。
　導電性粒子としては、酸化インジウム、酸化スズ、酸化インジウム－酸化スズ（ＩＴＯ）、酸化亜鉛、酸化亜鉛－酸化アルミニウム（ＡＺＯ）、酸化亜鉛－酸化ガリウム（ＧＺＯ）、酸化インジウム－酸化セリウム、酸化アンチモン、酸化アンチモン－酸化スズ（ＡＴＯ）、酸化タングステン等の導電性を有する金属酸化物粒子を用いることができる。
　中でも、酸化インジウム、酸化スズ、酸化インジウム－酸化スズ（ＩＴＯ）、酸化亜鉛、酸化亜鉛－酸化アルミニウム（ＡＺＯ）、酸化亜鉛－酸化ガリウム（ＧＺＯ）、酸化インジウム－酸化セリウムといった電子電導型の導電性粒子を好適に用いることができる。
　本発明の帯電防止層に用いられる導電性粒子としては、粒径が１ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが好ましい。粒径が１００ｎｍを超える場合、レイリー散乱によって光が著しく反射され、導電層が白くなって反射防止フィルムの透明性の低下する傾向にある。一方、粒径が１ｎｍ未満の場合、導電性が低下することや、粒子の凝集による導電層の粒子の不均一性等の問題が生じることがある。
　バインダマトリックス形成材料としては、ケイ素アルコキシドの加水分解物を用いることができる。さらには、一般式（１）ＲｘＳｉ（ＯＲ´）４－ｘ（ただし、式中Ｒはアルキル基を示し、ｘは０≦ｘ≦３を満たす整数である）で示されるケイ素アルコキシドの加水分解物を用いることができる。
　一般式（１）で表されるケイ素アルコキシドとしては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ－ｉｓｏ－プロポキシシラン、テトラ－ｎ－プロポキシシラン、テトラ－ｎ－ブトキシシラン、テトラ－ｓｅｃ－ブトキシシラン、テトラ－ｔｅｒｔ－ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシラン、テトラペンタ－ｉｓｏ－プロポキシシラン、テトラペンタ－ｎ－プロキシシラン、テトラペンタ－ｎ－ブトキシシラン、テトラペンタ－ｓｅｃ－ブトキシシラン、テトラペンタ－ｔｅｒｔ－ブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等を用いることができる。ケイ素アルコキシドの加水分解物は、一般式（Ｉ）で示
される金属アルコキシドを原料として得られるものであればよく、例えば塩酸にて加水分解することで得られるものである。
　ケイ素アルコキシドの加水分解物としては、一般式（１）ＲｘＳｉ（ＯＲ´）４－ｘ（但し、式中Ｒはアルキル基を示し、ｘは０≦ｘ≦３を満たす整数である）に、さらに、一般式（２）Ｒ´´ｙＳｉ（ＯＲ´）４－ｙ（ただし、式中Ｒ´´は反応性官能基を示し、ｙは１≦ｙ≦３を満たす整数である）で示されるケイ素アルコキシドの加水分解物を加えることができる。このとき、Ｒ´´に用いられる反応性官能基としてはエポキシ基またはグリシドキシ基を好適に用いることができる。一般式（２）で表されるケイ素アルコキシドの割合は、全ケイ素アルコキシドに対して０．５ｍｏｌ％以上３０ｍｏｌ％以下含まれることが好ましく、更には、４ｍｏｌ％以上１２ｍｏｌ％以下であることが好ましい。反応性官能基を含む一般式（２）で表されるケイ素アルコキシドを用いることにより、耐候性を向上させることができる。
　また、バインダマトリックス形成材料として、電離放射線硬化型材料を用いることもできる。電離放射線硬化型材料としては、多官能ウレタンアクリレート等の多官能アクリレートを使用することができる。またこれらの他にも、電離放射線型材料として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等を使用することができる。
　バインダマトリックス形成材料としてケイ素アルコキシドの加水分解物を用いた場合には、ケイ素アルコキシドの加水分解物と導電性粒子とを含む塗液を塗布し透明基材上に塗膜を形成し、該塗膜に対し乾燥・加熱し、ケイ素アルコキシドの脱水縮合反応をおこなうことによりバインダマトリックスとすることができ、高屈折率層を形成することができる。また、バインダマトリックス形成材料として電離放射線硬化型材料を用いた場合には、電離放射線硬化型材料と導電性粒子とを含む塗液を塗布し透明基材上に塗膜を形成し、該塗膜に対し、必要に応じて乾燥をおこない、その後、紫外線、電子線といった電離放射線を照射することにより電離放射線硬化型材料の硬化反応をおこなうことによりバインダマトリックスとすることができ、高屈折率層を形成することができる。
なお、塗液には、必要に応じて、溶媒や各種添加剤を加えることができる。溶媒としては、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼンなどの芳香族炭化水素類、ｎ－ヘキサンなどの炭化水素類、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジオキソラン、トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、また、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ－ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酢酸ｎ－ペンチル、およびγ－プチロラクトン等のエステル類、さらには、メチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類、水等の中から塗工適正等を考慮して適宜選択される。また、塗液には添加剤として、表面調整剤、帯電防止剤、防汚剤、撥水剤、屈折率調整剤、密着性向上剤、硬化剤等を加えることもできる。
　本発明の低屈折率層の形成方法について示す。本発明の低屈折率層にあっては、湿式成膜法により形成でき、低屈折率粒子とバインダマトリックス形成材料を含む塗液を塗布することにより形成することができる。このとき塗布方法としては、ロールコーター、リバ
ースロールコーター、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、ディップコーターを用いた塗布方法を用いることができる。
　低屈折粒子としては、ＬｉＦ、ＭｇＦ、３ＮａＦ・ＡｌＦまたはＡｌＦ（いずれも、屈折率１．４）、または、Ｎａ３ＡｌＦ６（氷晶石、屈折率１．３３）等の低屈折材料からなる低屈折率粒子を用いることができる。また、粒子内部に空隙を有する粒子を好適に用いることができる。粒子内部に空隙を有する粒子にあっては、空隙の部分を空気の屈折率（≒１）とすることができるため、非常に低い屈折率を備える低屈折率粒子とすることができる。具体的には、内部に空隙を有する低屈折率シリカ粒子を用いることができる。
　本発明の低屈折率層に用いられる低屈折率粒子としては、粒径が１ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが好ましい。粒径が１００ｎｍを超える場合、レイリー散乱によって光が著しく反射され、低屈折率層が白化して反射防止フィルムの透明性が低下する傾向にある。一方、粒径が１ｎｍ未満の場合、粒子の凝集による低屈折率層における粒子の不均一性等の問題が生じる。
　バインダマトリックス形成材料としては、ケイ素アルコキシドの加水分解物を用いることができる。さらには、一般式（１）ＲｘＳｉ（ＯＲ）４－ｘ（但し、式中Ｒはアルキル基を示し、ｘは０≦ｘ≦３を満たす整数である）で示されるケイ素アルコキシドの加水分解物を用いることができる。
　一般式（１）で表されるケイ素アルコキシドとしては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ－ｉｓｏ－プロポキシシラン、テトラ－ｎ－プロポキシシラン、テトラ－ｎ－ブトキシシラン、テトラ－ｓｅｃ－ブトキシシラン、テトラ－ｔｅｒｔ－ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシラン、テトラペンタ－ｉｓｏ－プロポキシシラン、テトラペンタ－ｎ－プロキシシラン、テトラペンタ－ｎ－ブトキシシラン、テトラペンタ－ｓｅｃ－ブトキシシラン、テトラペンタ－ｔｅｒｔ－ブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等を用いることができる。ケイ素アルコキシドの加水分解物は、一般式（Ｉ）で示される金属アルコキシドを原料として得られるものであればよく、例えば塩酸にて加水分解することで得られるものである。
　さらには、低屈折率層のバインダマトリックス形成材料としては、一般式（１）で表されるケイ素アルコキシドに、一般式（２）Ｒ´ｚＳｉ（ＯＲ）４－ｚ（但し、式中Ｒ´はアルキル基、フルオロアルキル基又はフルオロアルキレンオキサイド基を有する非反応性官能基を示し、ｚは１≦ｚ≦３を満たす整数である）で示されるケイ素アルコキシドの加水分解物をさらに含有することにより反射防止フィルムの低屈折率層表面に防汚性を付与することができ、さらに、低屈折率層の屈折率をさらに低下することができる。
　一般式（２）で示されるケイ素アルコキシドとしては、例えば、オクタデシルトリメトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ－パーフルオロオクチルトリメトキシシラン等が挙げられる。
　また、バインダマトリックス形成材料として、電離放射線硬化型材料を用いることもできる。電離放射線硬化型材料としては、多官能ウレタンアクリレート等の多官能アクリレートを使用することができる。またこれらの他にも、電離放射線型材料として、アクリレ
ート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等を使用することができる。
　バインダマトリックス形成材料としてケイ素アルコキシドの加水分解物を用いた場合には、ケイ素アルコキシドの加水分解物と低屈折率粒子とを含む塗液を塗布し透明基材上に塗膜を形成し、該塗膜に対し乾燥・加熱し、ケイ素アルコキシドの脱水縮合反応をおこなうことによりバインダマトリックスとすることができ、低屈折率層下層を形成することができる。また、バインダマトリックス形成材料として電離放射線硬化型材料を用いた場合には、電離放射線硬化型材料と低屈折率粒子とを含む塗液を塗布し透明基材上に塗膜を形成し、該塗膜に対し、必要に応じて乾燥をおこない、その後、紫外線、電子線といった電離放射線を照射することにより電離放射線硬化型材料の硬化反応をおこなうことによりバインダマトリックスとすることができ、低屈折率層下層を形成することができる。
なお、塗液には、必要に応じて、溶媒や各種添加剤を加えることができる。溶媒としては、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼンなどの芳香族炭化水素類、ｎ－ヘキサンなどの炭化水素類、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジオキソラン、トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、また、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ－ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酢酸ｎ－ペンチル、およびγ－プチロラクトン等のエステル類、さらには、メチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類、水等の中から塗工適正等を考慮して適宜選択される。また、塗液には添加剤として、表面調整剤、レベリング剤、屈折率調整剤、密着性向上剤、光増感剤等を加えることもできる。
　なお、バインダマトリックスとして電離放射線硬化型材料を用い、紫外線を照射することにより低屈折率層を形成する場合には、塗液に光重合開始剤が加えられる。光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類等が挙げられる。以上により、低屈折率層は形成される。
　以上により、本発明の反射防止フィルムは形成される。本発明の反射防止フィルムにあっては、反射防止層が形成されている側の反対側の透明基材側の面に偏光層、透明基材を設けることにより、偏光板とすることができる。偏光層としては、例えば、ヨウ素を加えた延伸ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）を用いることができる。また、もう一方の透明基材としては、反射防止フィルムに用いる透明基材を用いることができ、トリアセチルセルロースからなるフィルムを好適に用いることができる。
　また、本発明の反射防止フィルムは、偏光板化され、更に、透過型液晶ディスプレイの前面、すなわち、観察側に反射防止層が最表面となるように設けられる。本発明の反射防止フィルムを透過型液晶ディスプレイ表面に設けることにより、優れた帯電防止機能、反射防止機能を有し、さらには、反射光の色味を低減した透過型液晶ディスプレイとすることができる。
（実施例１）
＜透明基材＞
　透明基材として、厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（屈折率１．４９）を用いた。
＜ハードコート層の形成＞
　電離放射線硬化型材料としてジペンタエリスリトールトリアクリレート１０重量部、ペンタエリスリトールテトラアクリレート１０重量部、ウレタンアクリレート（共栄社化学株式会社製ＵＡ－３０６Ｔ）３０重量部、光重合開始剤としてイルガキュア１８４（チバジャパン株式会社製（光重合開始剤）２．５重量部、溶媒としてメチルエチルケトン５０重量部、酢酸ブチル５０重量部を混合したハードコート層形成用塗液を用いた。得られたハードコート層形成用塗液をトリアセチルセルロースフィルム上にワイヤーバーコーターにより塗布した。ハードコート層形成用塗液を塗布したトリアセチルセルロースフィルムをオーブンで８０℃１分乾燥をおこない、乾燥後、メタルハイドランプを用い、１２０Ｗの出力で２０ｃｍの距離から１０秒間紫外線照射をおこなうことによりハードコート層を形成した。得られたハードコート層の膜厚は５μｍであり、屈折率は１．５２であった。
＜帯電防止層の形成＞
　有機ケイ素化合物としてテトラエトキシシランを原料とし、これにイソプロピルアルコール、０．１Ｎ塩酸を加え、加水分解させることより、オリゴマーからなるテトラエトキシシランの重合体を含む溶液を得た。この溶液に一次粒子径が８ｎｍのアンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）微粒子を混合し、イソプロピルアルコールを加え、塗液１００重量部中にテトラエトキシシランの重合体２．５重量部、アンチモンドープ酸化スズ微粒子２．５重量部含む帯電防止層形成用塗液を得た。一方、ハードコート層が形成されたトリアセチルセルロースフィルムを、５０℃１．５Ｎ－ＮａＯＨ水溶液に２分間浸漬してアルカリ処理をおこない、水洗後、０．５重量％のＨ２ＳＯ４水溶液に室温で３０秒浸漬し、中和させ、水洗、乾燥処理をおこなった。得られた帯電防止層形成用塗液をアルカリ処理したハードコート層上にワイヤーバーコーターに塗布し、オーブンで１２０℃１分間加熱乾燥をおこない、帯電防止層を形成した。得られた帯電防止層の膜厚は１６３ｎｍであり、屈折率は１．５３であり、光学膜厚は２５０ｎｍであった。
＜低屈折率層の形成＞
　有機ケイ素化合物としてテトラエトキシシランと１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ－パーフルオロオクチルトリメトキシシランをｍｏｌ比で９５：５となるように混合したものを用い、これにイソプロピルアルコール、０．１Ｎ塩酸を加え、加水分解させることより、オリゴマーからなる有機ケイ素化合物の重合体を含む溶液を得た。この溶液に内部に空隙を有する低屈折率シリカ微粒子を混合し、イソプロピルアルコールを加え、塗液１００重量部中に有機ケイ素化合物２重量部、低屈折率シリカ微粒子２重量部含む低屈折率層形成用塗液を得た。得られた低屈折率層形成用塗液を帯電防止層上にワイヤーバーコーターに塗布し、オーブンで１２０℃１分間加熱乾燥をおこない、低屈折率層を形成した。得られた低屈折率層の膜厚は９１ｎｍであり、屈折率は１．３７であり、光学膜厚は１２５ｎｍであった。以上により、透明基材上にハードコート層、帯電防止層、低屈折率層を備える反射防止フィルムを作製した。
（実施例２）
＜透明基材及びハードコート層の形成＞
　実施例１と同様にして、厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（屈折率１．４９）上に、膜厚５μｍ、屈折率１．５２のハードコート層を形成した。
＜帯電防止層の形成＞
　実施例１と同様にして、アルカリ処理したハードコート層上に膜厚が１６３ｎｍ、屈折
率が１．５３、光学膜厚が２５０ｎｍの帯電防止層を形成した。
＜低屈折率層の形成＞
　有機ケイ素化合物としてテトラエトキシシランと１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ－パーフルオロオクチルトリメトキシシランをｍｏｌ比で９５：５となるように混合したものを用い、これにイソプロピルアルコール、０．１Ｎ塩酸を加え、加水分解させることにより、オリゴマーからなる有機ケイ素化合物の重合体を含む溶液を得た。この溶液に内部に空隙を有する低屈折率シリカ微粒子を混合し、イソプロピルアルコールを加え、塗液１００重量部中に有機ケイ素化合物１．８重量部、低屈折率シリカ微粒子２．２重量部含む低屈折率層形成用塗液を得た。得られた低屈折率層形成用塗液を帯電防止層上にワイヤーバーコーターに塗布し、オーブンで１２０℃１分間加熱乾燥をおこない、低屈折率層を形成した。得られた低屈折率層の膜厚は９４ｎｍであり、屈折率は１．３３であり、光学膜厚は１２５ｎｍであった。以上により、透明基材上にハードコート層、帯電防止層、低屈折率層を備える反射防止フィルムを作製した。
（比較例１）
＜透明基材及びハードコート層の形成＞
　実施例１と同様にして、厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（屈折率１．４９）上に、膜厚５μｍ、屈折率１．５２のハードコート層を形成した。
＜帯電防止層の形成＞
　実施例１と同一の条件によって、ハードコート層が形成されたトリアセチルセルロースフィルムについてアルカリ処理をおこなった。実施例１と同一の帯電防止層形成用塗液を用い、帯電防止層形成用塗液をアルカリ処理したハードコート層上にワイヤーバーコーターに塗布し帯電防止層を形成した。得られた帯電防止層の膜厚は８２ｎｍであり、屈折率は１．５３であり、光学膜厚は１２５ｎｍであった。
＜低屈折率層の形成＞
　実施例１と同様にして、膜厚９１ｎｍ、屈折率１．３７、光学膜厚１２５ｎｍの低屈折率層を形成した。以上により、透明基材上にハードコート層、帯電防止層、低屈折率層を備える反射防止フィルムを作製した。
（比較例２）
＜透明基材及びハードコート層の形成＞
　実施例１と同様にして、厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（屈折率１．４９）上に、膜厚５μｍ、屈折率１．５２のハードコート層を形成した。
＜帯電防止層の形成＞
　電離放射線硬化型材料としてジペンタエリスリトールトリアクリレート５重量部、アンチモンドープ酸化スズ微粒子５重量部、光重合開始剤としてイルガキュア１８４（チバジャパン株式会社製（光重合開始剤）０．２５重量部、溶媒としてＭＩＢＫ　９０重量部を混合した帯電防止層形成用塗液を用いた。得られた帯電防止層形成用塗液をハードコート層上にワイヤーバーコーターに塗布し、オーブンで８０℃１分乾燥をおこない、乾燥後、コンベア式ＵＶ硬化装置により露光量５００ｍＪ／ｃｍ２で硬化し帯電防止層を形成した。得られた帯電防止層の膜厚は７８ｎｍであり、屈折率は１．６０であり、光学膜厚は１２５ｎｍであった。
＜低屈折率層の形成＞
　帯電防止層、ハードコート層が形成されたトリアセチルセルロースフィルムを、５０℃１．５Ｎ－ＮａＯＨ水溶液に２分間浸漬してアルカリ処理をおこない、水洗後、０．５重
量％のＨ２ＳＯ４水溶液に室温で３０秒浸漬し、中和させ、水洗、乾燥処理をおこなった。実施例１と同様にして、アルカリ処理した帯電防止層に対し、膜厚９１ｎｍ、屈折率１．３７、光学膜厚１２５ｎｍの低屈折率層を形成した。以上により、透明基材上にハードコート層、帯電防止層、低屈折率層を備える反射防止フィルムを作製した。
（比較例３）
＜透明基材及びハードコート層の形成＞
　実施例１と同様にして、厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（屈折率１．４９）上に、膜厚５μｍ、屈折率１．５２のハードコート層を形成した。
＜帯電防止層の形成＞
　実施例１と同一の条件によって、ハードコート層が形成されたトリアセチルセルロースフィルムについてアルカリ処理をおこなった。有機ケイ素化合物としてテトラエトキシシランを原料とし、これにイソプロピルアルコール、０．１Ｎ塩酸を加え、加水分解させることにより、オリゴマーからなるテトラエトキシシランの重合体を含む溶液を得た。この溶液に一次粒子径が２０ｎｍの５酸化アンチモン微粒子を混合し、イソプロピルアルコールを加え、塗液１００重量部中にテトラエトキシシラン２．５重量部、５酸化アンチモン微粒子２．５重量部含む帯電防止層形成用塗液を得た。得られた帯電防止層形成用塗液をアルカリ処理したハードコート層上にワイヤーバーコーターに塗布し、帯電防止層を形成した。得られた帯電防止層の膜厚は１８０ｎｍであり、屈折率は１．５５であり、光学膜厚は２７９ｎｍであった。
＜低屈折率層の形成＞
　実施例１と同様にして、膜厚９１ｎｍ、屈折率１．３７、光学膜厚１２５ｎｍの低屈折率層を形成した。以上により、透明基材上にハードコート層、帯電防止層、低屈折率層を備える反射防止フィルムを作製した。
（比較例４）
＜透明基材及びハードコート層の形成＞
　実施例１と同様にして、厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（屈折率１．４９）上に、膜厚５μｍ、屈折率１．５２のハードコート層を形成した。
＜帯電防止層の形成＞
　実施例１と同一の条件によって、ハードコート層が形成されたトリアセチルセルロースフィルムについてアルカリ処理をおこなった。有機ケイ素化合物としてテトラエトキシシランを原料とし、これにイソプロピルアルコール、０．１Ｎ塩酸を加え、加水分解して得られたオリゴマーからなるテトラエトキシシランの重合体を含む溶液を得た。この溶液に一次粒子径が２０ｎｍの５酸化アンチモン微粒子を混合し、イソプロピルアルコールを加え、塗液１００重量部中にテトラエトキシシラン２．４重量部、５酸化アンチモン微粒子２．６重量部含む帯電防止層形成用塗液を得た。得られた帯電防止層形成用塗液をアルカリ処理したハードコート層上にワイヤーバーコーターに塗布し、帯電防止層を形成した。得られた帯電防止層の膜厚、屈折率を光学シミュレーション法とＴＥＭ断面観察により測定したところ１８０ｎｍであり、屈折率は１．５８であり、光学膜厚は２８４ｎｍであった。
＜低屈折率層の形成＞
　実施例１と同様にして、膜厚９１ｎｍ、屈折率１．３７、光学膜厚１２５ｎｍの低屈折率層を形成した。以上により、透明基材上にハードコート層、帯電防止層、低屈折率層を備える反射防止フィルムを作製した。
（比較例５）
＜透明基材及びハードコート層の形成＞
　実施例１と同様にして、厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（屈折率１．４９）上に、膜厚５μｍ、屈折率１．５２のハードコート層を形成した。
＜帯電防止層の形成＞
　実施例１と同一の条件によって、ハードコート層が形成されたトリアセチルセルロースフィルムについてアルカリ処理をおこなった。実施例１と同様にテトラエトキシシランを原料とし、これにイソプロピルアルコール、０．１Ｎ塩酸を加え、加水分解して得られたオリゴマーからなるテトラエトキシシランの重合体を含む溶液を得た。この溶液に一次粒子径が８ｎｍのアンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）微粒子を混合し、イソプロピルアルコールを加え、塗液１００重量部中にテトラエトキシシラン２．８重量部、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）微粒子２．２重量部含む帯電防止層形成用塗液を得た。得られた帯電防止層形成用塗液をアルカリ処理したハードコート層上にワイヤーバーコーターに塗布し、帯電防止層を形成した。得られた帯電防止層の膜厚は１６４ｎｍであり、屈折率は１．５２で、光学膜厚は２５０ｎｍであった。
＜低屈折率層の形成＞
　実施例２と同様にして、膜厚９４ｎｍ、屈折率１．３３、光学膜厚１２５ｎｍの低屈折率層を形成した。以上により、透明基材上にハードコート層、帯電防止層、低屈折率層を備える反射防止フィルムを作製した。
　（（実施例１）、（実施例２）、（比較例１）～（比較例５）で得られた反射防止フィルムについて以下の評価をおこなった。
・分光反射率の測定
　得られた反射防止フィルムの低屈折率層形成面と反対側の面を黒色艶消しスプレーにより黒色に塗布した。スプレー塗布後、自動分光光度計（日立製作所製、Ｕ－４０００）を用い、Ｃ光源、２度視野の条件下で、低屈折率層形成面について入射角５°における分光反射率を測定した。
・平均視感反射率、反射色相の測定
　得られた反射防止フィルムの低屈折率層形成面と反対側の面を黒色艶消しスプレーにより黒色に塗布した。塗布後、自動分光光度計（日立製作所製、Ｕ－４０００）を用い測定した低屈折率層形成面についてＣ光源、２度視野の条件下での入射角５°における分光反射率から平均視感反射率（Ｙ％）、色相（ａ＊、ｂ＊）を算出した。
・色ムラの評価
　得られた反射防止フィルムの低屈折率層形成面と反対側の面を黒色艶消しスプレーにより黒色に塗布した。塗布後、反射防止フィルムを目視で観察し、色ムラの発生を観察した。評価基準を以下に示す。
　二重丸印：暗い環境下でも色ムラは確認されず、明るい環境下でも色ムラが見えにくい
　丸印　　：暗い環境下でも色ムラは確認されず、明るい環境下で色ムラが確認できるが
　　　　　　許容範囲内
　三角印　：暗い環境下でも色ムラが確認される
　バツ印　：暗い環境下でも色ムラがはっきりと確認される。
・表面抵抗値の測定
　ＪＩＳ　Ｋ６９１１に準拠して高抵抗抵抗率計（株式会社ダイアインスツルメンツ製ハイレスターＭＣＰ－ＨＴ２６０）にて測定をおこなった。
　なお、（実施例１）、（実施例２）、（比較例１）～（比較例５）において、ハードコート層の膜厚は触針式の膜厚計により求めた。また、帯電防止層と低屈折率層の膜厚につ
いては、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）による断面観察をおこなうことにより測定した。また、ハードコート層、帯電防止層、低屈折率層の屈折率、光学膜厚については、得られた分光反射率について光学シミュレーションをおこなうことにより求めた。
　（図５）～（図１１）に（実施例１）、（実施例２）、（比較例１）～（比較例５）で得られた反射防止フィルムの分光反射率を示した。
　（表１）に（実施例１）、（実施例２）、（比較例１）～（比較例５）で得られた反射防止フィルムの評価結果について示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
　（実施例１）、（実施例２）の反射防止フィルムでは、視感平均反射率が１．５％以下であり十分な反射防止性能を有し、表面抵抗値が１．０×１０１０（Ω／ｃｍ２）以下であり十分な帯電防止性能を有する反射防止フィルムとすることができた。また、反射色相が－３≦ａ＊≦３、０≦ｂ≦３の範囲内であり色味が少なく、また、面内での色ムラが確
認されにくい反射防止フィルムとすることができた。
　一方、（比較例１）の反射防止フィルムは、（実施例１）と比較して、視感平均反射率は低く、反射防止性能には優れる反射防止フィルムとすることができたが、反射色相が－３≦ａ＊≦３、０≦ｂ≦３の範囲外であることから色味が大きく、また、分光反射率の最大値と最小値の差が０．９％より大きいことから面内で色ムラが確認される反射防止フィルムとなった。
　また、（比較例２）の反射防止フィルムは、ハードコート層と帯電防止層の屈折率差が大きいために、分光反射率の最大値と最小値の差が０．９％を超えており、面内で色ムラがはっきりと確認される反射防止フィルムとなった。また、反射色相もゼロ点（ａ＊＝０、ｂ＊＝０）から離れた箇所にあり、色味のある反射防止フィルムとなった。また、低屈折率層表面の表面抵抗値も不十分なものであった。
　また、（比較例３）の反射防止フィルムは、十分な反射防止性能を有するものの、分光反射率の最大値と最小値の差が０．９％を超えており、面内での色ムラを有する反射防止フィルムとなった。特に、分光反射率曲線の低波長側での反射率の変化量が大きく、面内で青色の色ムラが確認される反射防止フィルムとなった。また、（比較例３）の反射防止フィルムは、（実施例１）の反射防止フィルムの表面抵抗値と比較して高い表面抵抗値を示した。
　また、（比較例４）の反射防止フィルムは、十分な反射防止性能、帯電防止性能を有する反射防止フィルムとすることができた。しかしながら、波長４００ｎｍから７００ｎｍの範囲における分光反射率曲線が１つの極大値を有し、２つの極小値を有しＷ型となる。そして、反射率が比視感度が高い５５０ｎｍ近傍において変化することにより、緑色の色ムラがはっきりと確認された。また、反射色相も緑色を帯びている様子が確認された。
　また、（比較例５）の反射防止フィルムは、帯電防止層とハードコート層の屈折率差が０であることから、帯電防止層が高屈折率層として機能させることができない。したがって、十分な反射防止性能を有するものの、分光反射率の最大値と最小値の差が０．９％以下とすることができず、面内で色ムラが確認される反射防止フィルムとなった。（比較例５）の反射防止フィルムにあっては、青色の色ムラが確認された。
図１は図１に本発明の反射防止フィルムの断面模式図である。 図２は本発明の反射防止フィルムの分光反射率曲線（モデル）の説明図である。 図３は本発明の反射防止フィルムを用いた偏光板の断面模式図である。 図４は本発明の反射防止フィルムを備える透過型液晶ディスプレイである。 図５は（実施例１）で得られた反射防止フィルムの分光反射率曲線である。 図６は（実施例２）で得られた反射防止フィルムの分光反射率曲線である。 図７は（比較例１）で得られた反射防止フィルムの分光反射率曲線である。 図８は（比較例２）で得られた反射防止フィルムの分光反射率曲線である。 図９は（比較例３）で得られた反射防止フィルムの分光反射率曲線である。 図１０は（比較例４）で得られた反射防止フィルムの分光反射率曲線である。 図１１は（比較例５）で得られた反射防止フィルムの分光反射率曲線である。
符号の説明
１　　　　反射防止フィルム
１１　　　透明基材
１２　　　ハードコート層
１３　　　帯電防止層
１３Ａ　　導電性粒子
１３Ｂ　　バインダマトリックス
１４　　　低屈折率層
１４Ａ　　低屈折率粒子
１４Ｂ　　バインダマトリックス
２　　　　偏光板
２３　　　偏光層
２２　　　透明基材
３　　　　液晶セル
４　　　　偏光板
５　　　　バックライトユニット

Claims (7)

  1. 　透明基材の少なくとも片面に、該透明基材側から順に、ハードコート層と、バインダマトリックスと導電性粒子を備える帯電防止層、バインダマトリックスと低屈折粒子を備える低屈折率層を備える反射防止フィルムであって、
    　前記低屈折率層側の反射防止フィルム表面での視感平均反射率が０．５％以上１．５％以下の範囲内であり、且つ、
    　前記低屈折率層側の反射防止フィルム表面での波長４００ｎｍから７００ｎｍの範囲における分光反射率曲線が極大値を有さず極小値を１つ有し、且つ、
    　前記低屈折率層側の反射防止フィルム表面での波長４００ｎｍから７００ｎｍの範囲における分光反射率の最大値と最小値の差が０．２％以上０．９％以下の範囲内である
    　ことを特徴とする反射防止フィルム。
  2. 　前記ハードコート層の屈折率と前記透明基材の屈折率の差が、前記透明基材の屈折率の０．０５以下の範囲内にあり、且つ、
    　前記帯電防止層の屈折率と前記ハードコート層の屈折率の屈折率差が、０．０１以上０．０５以下の範囲内にあり、且つ、
    　前記帯電防止層の光学膜厚が２３０ｎｍ以上２７０ｎｍ以下であり、且つ、
    　前記低屈折率層の光学膜厚が１１５ｎｍ以上１３５ｎｍ以下である
    　ことを特徴とする請求項１記載の反射防止フィルム。
  3. 　前記低屈折率層側の反射防止フィルム表面でのＬ＊ａ＊ｂ＊色度系における反射色相が０．００≦ａ＊≦３．００且つ－３．００≦ｂ＊≦３．００であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の反射防止フィルム。
  4. 　前記帯電防止層に用いられる導電性粒子が、電子電導型の導電性粒子であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の反射防止フィルム。
  5. 　前記帯電防止層におけるバインダマトリックス及び前記低屈折率層におけるバインダマトリックスは、シリカマトリックスであることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の反射防止フィルム。
  6. 　請求項１乃至５のいずれかに記載の反射防止フィルムの低屈折率層が設けられている側の反対側の透明基材フィルムの面に偏光層、透明基材フィルムを備える偏光板。
  7. 　請求項１乃至５のいずれかに記載の反射防止フィルムの低屈折率層が設けられている側
    の反対側の透明基材フィルムの面に偏光層、透明基材フィルムを備える偏光板、液晶セル、偏光板、バックライトユニットをこの順に備えることを特徴とする透過型液晶ディスプレイ。
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