JP5763004B2 - 不揮発性半導体記憶装置 - Google Patents
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Description
図1は、実施形態に係る半導体記憶装置の構成図である。この半導体記憶装置は、メモリセルアレイ1と、このメモリセルアレイ1に対するデータ消去、データ書き込み及びデータ読み出しを制御するカラム制御回路2及びロウ制御回路3とを備える。メモリセルアレイ1は、複数積層されたメモリセルマットMM(メモリセル層)を有する。各メモリセルマットMMは、互いに交差する複数のビット線BL(第1配線)及び複数のワード線WL(第2配線)と、これらビット線BL及びワード線WLの各交差位置に接続されたメモリセルMCを有する。
メモリセルアレイ1は、クロスポイント型のメモリセルアレイである。メモリセルアレイ1のメモリセルマットMMは、平行に配設された複数のビット線BLと、これらビット線BLと交差する方向に平行に配設された複数のワード線WLを有する。ビット線BL及びワード線WLの各交差部には、両配線に挟まれるようにメモリセルMCが設けられている。メモリセルアレイ1は、前述の通り、このような複数のメモリセルマットMMを多層に積層することにより形成されている。上下に隣接するメモリセルマットMM同士は、ワード線WL或いはビット線BLを共有している。図2の場合、メモリセルアレイ1の最下層のメモリセルマットMM0と、このメモリセルマットMM0の上に隣接するメモリセルマットMM1は、ビット線BL00〜BL02を共有している。又、図2に示す構造においては、積層方向から見てビット線BL及びワード線WLの交点にピラー状のメモリセルMCの積層構造が形成されているが、ビット線層(ビット線BLが第2の方向に複数配列された層)とワード線層(ワード線WLが第1の方向に複数配列された層)との間の層全面にメモリセルMCの積層構造が形成される構造を採用することも可能である。
次に、本実施形態に係るメモリセルMCについて説明する。なお、ここでは、抵抗変化メモリ素子の代表としてCBRAM(Conduction Bridge RAM)を用いたメモリセルについて説明するが、低抵抗状態と高抵抗状態を印加する電圧とその極性によって変えてその状態をある程度保持できる素子であれば、その構成を問わない。また、ここでは、抵抗変化素子のみでは必ずしも印加電圧の極性に対する電流特性の非対称性を十分に示さないので、ダイオード特性を有する構成を積極的に導入した構成として検討するが、特にダイオード特性素子を構成に含まずとも、抵抗変化素子自体がダイオード特性を持っているのであれば、この特性部分を分離してダイオードとして考えればよい。
なお、図7の構成図では、アモルファスシリコン層12を用いたが、半導体に限るものではなく、酸化シリコン(SiOx)、酸窒化シリコン(SiOxNy)、窒化シリコン(SiNx)、金属酸化膜等の絶縁膜でもかまわない。また、アモルファスシリコン層12は、これらの絶縁膜の積層構造でもよく、例えばアモルファスシリコンと酸化シリコンとの積層構造とすることも可能である。また、図7の構成図のWLは、電極として機能すればよく、pタイプのドープトポリシリコンやnタイプのドープトポリシリコンでもよいし、金属でもかまわない。
次に、弱セット電圧Vwsetの設定方法について説明する。弱セット電圧Vwsetの大きさは、メモリセルMCのデータリテンション特性及びディスターブ特性を考慮して決定する。
メモリセルMCに対して弱セット電圧Vwsetを印加する動作を弱セット動作とした場合、弱セット動作の対象となるメモリセルMCの選択方法は適宜調整可能である。例えば、不揮発性半導体記憶装置の電源を切断する直前や、一定の時間毎、所定の動作時等に、メモリセルアレイ1に含まれるメモリセルMC全て又は一部に弱セット動作を行う事が可能である。電源を切断する直前に弱セット動作を行う例を考えてみると、まず電源切断指示があった後にデータの退避、バックアップ処理等の電源切断処理を行い(ステップS1)、その後、弱セット動作を行い(ステップS2)、弱セット動作終了後に電源を切断することが考えられる。この様な方法は、対象となるメモリセルMCが接続された全てのワード線及び全てのビット線に同一の電圧を印加することによって実現可能である。
又、図12に示す通り、動作対象であるメモリセルマットMMに対して読み出し動作を行う際に、その他複数のメモリセルマットMM(以下、非動作対象メモリセルマットMM)に対して弱セット動作を行う事も可能である。即ち、動作対象であるメモリセルマットMMにおいては、上述したカラム制御回路2及びロウ制御回路3によって読み出し対象のメモリセルMCを選択して読み出し電圧を印加し、読み出し対象のメモリセルMCに保持されたデータをセンスアンプ2bにラッチする。ここで、弱セット動作においては読み出し動作と異なりセンスアンプ2bを使用しない。従って、読出し動作対象メモリセルマットMMに対する読み出し動作中に、その他のメモリセルマットMMに対して弱セット動作を行う事が可能である。尚、図12においては、読み出し動作に必要なドライバ、デコーダ等を簡略化して一つのブロックとして表現している。同様に、弱セット動作に必要なドライバ等も簡略化して表現している。
尚、非動作対象メモリセルマットMMに対する弱セット動作は、動作対象であるメモリセルマットMMに対して読み出し動作を行う際だけでなく、セット動作やリセット動作を行う際に行っても良い。又、弱セット動作は、一部の非動作対象メモリセルマットMMに対してのみ行っても良く、ある非動作対象メモリセルマットMMに含まれる一部のメモリセルMCに対して行う事も可能である。
以上、本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これらの新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
Claims (7)
- 複数の第1の配線、この第1の配線と交差する複数の第2の配線、及び前記第1の配線と前記第2の配線の交差部で両配線に電気的に接続された複数の可変抵抗素子を有するアレイと、
アクセス動作に必要な電圧を前記第1の配線及び前記第2の配線に供給し、前記可変抵抗素子に第1の電圧を印加することにより前記可変抵抗素子を第1の抵抗状態に設定し、前記可変抵抗素子に第2の電圧を印加することにより前記可変抵抗素子を第2の抵抗状態に設定し、前記可変抵抗素子に第3の電圧を印加することにより前記可変抵抗素子からデータを読み出す制御回路と
を備えた不揮発性半導体記憶装置において、
前記制御回路は、前記不揮発性半導体記憶装置の電源切断に先立ち、前記複数の第1の配線に同一の電圧を印加し、前記複数の第2の配線に同一の電圧を印加することにより、前記複数の第1の配線及び前記複数の第2の配線に接続された前記複数の可変抵抗素子に対して同時に、読み出し動作に際して使用される2以上の読み出し電圧の最大値と最小値の範囲内に設定され、前記可変抵抗素子が前記第1の抵抗状態及び前記第2の抵抗状態を保持する弱書き込み電圧を印加する
ことを特徴とする不揮発性半導体記憶装置。 - 複数の第1の配線、この第1の配線と交差する複数の第2の配線、及び前記第1の配線と前記第2の配線の交差部で両配線に電気的に接続された複数の可変抵抗素子を有するアレイと、
アクセス動作に必要な電圧を前記第1の配線及び前記第2の配線に供給し、前記可変抵抗素子に第1の電圧を印加することにより前記可変抵抗素子を第1の抵抗状態に設定し、前記可変抵抗素子に第2の電圧を印加することにより前記可変抵抗素子を第2の抵抗状態に設定し、前記可変抵抗素子に第3の電圧を印加することにより前記可変抵抗素子からデータを読み出す制御回路と
を備えた不揮発性半導体記憶装置において、
前記制御回路は、所定のタイミングで、前記複数の第1の配線に同一の電圧を印加し、前記複数の第2の配線に同一の電圧を印加することにより、前記複数の第1の配線及び前記複数の第2の配線に接続された前記複数の可変抵抗素子に対して同時に、前記可変抵抗素子が前記第1の抵抗状態及び前記第2の抵抗状態を保持する弱書き込み電圧を印加する
ことを特徴とする不揮発性半導体記憶装置。 - 前記弱書き込み電圧は、読み出し動作に際して使用される2以上の読み出し電圧の最大値と最小値の範囲内に設定されることを特徴とする請求項2記載の不揮発性半導体記憶装置。
- 前記弱書き込み電圧は、前記不揮発性半導体記憶装置の電源切断に先立ち印加されることを特徴とする請求項2又は3記載の不揮発性半導体記憶装置。
- 前記弱書き込み電圧は、前記第1及び第2の配線を共有する複数の可変抵抗素子からなるマットに対する読み出し動作等の動作時に、動作していない他のマットに対して印加されることを特徴とする請求項2〜4記載の不揮発性半導体記憶装置。
- 前記制御回路は、前記読み出し動作時に読み出し対象の前記可変抵抗素子から読み出されたデータをラッチするセンスアンプを更に備え、
前記センスアンプは、前記弱書き込み電圧が印加される前記動作していない他のマットの前記可変抵抗素子からの読み出しデータをラッチしない
ことを特徴とする請求項5記載の不揮発性半導体記憶装置。 - 前記可変抵抗素子はダイオード特性を有し、
前記第2の電圧は、前記第1の電圧と極性が異なる
ことを特徴とする請求項2〜6記載の不揮発性半導体記憶装置。
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