JP5746864B2 - シワ改善剤 - Google Patents

シワ改善剤 Download PDF

Info

Publication number
JP5746864B2
JP5746864B2 JP2010539212A JP2010539212A JP5746864B2 JP 5746864 B2 JP5746864 B2 JP 5746864B2 JP 2010539212 A JP2010539212 A JP 2010539212A JP 2010539212 A JP2010539212 A JP 2010539212A JP 5746864 B2 JP5746864 B2 JP 5746864B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
cysteine
carbon atoms
acid
toluyl
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2010539212A
Other languages
English (en)
Other versions
JPWO2010058730A1 (ja
Inventor
末延 則子
則子 末延
千尋 近藤
千尋 近藤
山崎 貴史
貴史 山崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Pola Chemical Industries Inc
Original Assignee
Pola Chemical Industries Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Pola Chemical Industries Inc filed Critical Pola Chemical Industries Inc
Priority to JP2010539212A priority Critical patent/JP5746864B2/ja
Publication of JPWO2010058730A1 publication Critical patent/JPWO2010058730A1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5746864B2 publication Critical patent/JP5746864B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61KPREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
    • A61K31/00Medicinal preparations containing organic active ingredients
    • A61K31/185Acids; Anhydrides, halides or salts thereof, e.g. sulfur acids, imidic, hydrazonic or hydroximic acids
    • A61K31/19Carboxylic acids, e.g. valproic acid
    • A61K31/195Carboxylic acids, e.g. valproic acid having an amino group
    • A61K31/197Carboxylic acids, e.g. valproic acid having an amino group the amino and the carboxyl groups being attached to the same acyclic carbon chain, e.g. gamma-aminobutyric acid [GABA], beta-alanine, epsilon-aminocaproic acid, pantothenic acid
    • A61K31/198Alpha-aminoacids, e.g. alanine, edetic acids [EDTA]
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61KPREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
    • A61K8/00Cosmetics or similar toiletry preparations
    • A61K8/18Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
    • A61K8/30Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds
    • A61K8/46Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing sulfur
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61KPREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
    • A61K8/00Cosmetics or similar toiletry preparations
    • A61K8/18Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
    • A61K8/30Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds
    • A61K8/40Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing nitrogen
    • A61K8/42Amides
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61KPREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
    • A61K8/00Cosmetics or similar toiletry preparations
    • A61K8/18Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
    • A61K8/30Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds
    • A61K8/46Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing sulfur
    • A61K8/463Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing sulfur containing sulfuric acid derivatives, e.g. sodium lauryl sulfate
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61KPREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
    • A61K8/00Cosmetics or similar toiletry preparations
    • A61K8/18Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
    • A61K8/30Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds
    • A61K8/46Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing sulfur
    • A61K8/466Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing sulfur containing sulfonic acid derivatives; Salts
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61PSPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P17/00Drugs for dermatological disorders
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61PSPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P17/00Drugs for dermatological disorders
    • A61P17/16Emollients or protectives, e.g. against radiation
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61QSPECIFIC USE OF COSMETICS OR SIMILAR TOILETRY PREPARATIONS
    • A61Q19/00Preparations for care of the skin
    • A61Q19/08Anti-ageing preparations
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C201/00Preparation of esters of nitric or nitrous acid or of compounds containing nitro or nitroso groups bound to a carbon skeleton
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C309/00Sulfonic acids; Halides, esters, or anhydrides thereof
    • C07C309/01Sulfonic acids
    • C07C309/02Sulfonic acids having sulfo groups bound to acyclic carbon atoms
    • C07C309/03Sulfonic acids having sulfo groups bound to acyclic carbon atoms of an acyclic saturated carbon skeleton
    • C07C309/17Sulfonic acids having sulfo groups bound to acyclic carbon atoms of an acyclic saturated carbon skeleton containing carboxyl groups bound to the carbon skeleton
    • C07C309/18Sulfonic acids having sulfo groups bound to acyclic carbon atoms of an acyclic saturated carbon skeleton containing carboxyl groups bound to the carbon skeleton containing amino groups bound to the same carbon skeleton
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C323/00Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups
    • C07C323/50Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton
    • C07C323/51Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton having the sulfur atoms of the thio groups bound to acyclic carbon atoms of the carbon skeleton
    • C07C323/52Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton having the sulfur atoms of the thio groups bound to acyclic carbon atoms of the carbon skeleton the carbon skeleton being acyclic and saturated

Description

本発明はシワ改善剤に関し、さらには当該シワ改善剤を含む皮膚外用剤、詳しくは化粧料等に関する。また更には、シワ改善効果を有する新規の化合物に関する。
加齢、ストレス、紫外線暴露などの要因により引き起こされるシワ、シミ、くすみ、たるみ等の皮膚症状の悪化は、老化の兆候として見た目にも非常に分かり易い。このため、皮膚の老化現象に対する人々の関心は非常に高く、肌の美観を美しく保つために様々な手段が開発されている。
皮膚老化現象のひとつであるシワは、シワが形成されるメカニズムが複雑であるのに加え、実験的に再現することが非常に困難であるため、現在においてもそのメカニズムは、完全に解明されるに至っていない。シワ形成のメカニズムとしては、紫外線などによる細胞の損傷とそれによって亢進される細胞のアポトシス、マトリックスメタロプロテアゼ(MMP)等のプロテアゼの発現の亢進によるコラゲンなどの線維成分の加水分解、及びサイトカインの亢進による線維束の崩壊、などが例示できる。特に、MMPは、コラゲン、プロテオグリカン及びエラスチンなどからなる細胞外マトリックス、並びに細胞表面に発現する蛋白質の分解などの多様な機能を有しており、数多くのサブタイプが存在する。MMP1は、皮膚真皮マトリックスの主要な成分であるタイプI及びタイプIIIコラゲンを分解する。MMP2及びMMP9は、基底膜成分であるタイプIVコラゲン、ラミニン、及び真皮マトリックス成分であるエラスチン等を分解する。MMP3及びMMP10は、プロテオグリカン、タイプIVコラゲン及びラミニンなどを分解する。これらの分解作用により、細胞外マトリックスの減少・変性を引き起こし、皮膚におけるシワ・たるみなどを形成する重要な要因のひとつとされている(特許文献1参照)。また、TNF−α、IL−1及びIL−6などの炎症性サイトカインは、MMPの産生を誘導することにより、シワ・たるみの形成に関与することが知られている(特許文献2参照)。この様に、シワ・たるみなどの皮膚老化現象に深く関与するこれらの因子は、独立因子とは言い難く、互いに影響し合っているとも言われていており、この様な状況がシワ形成メカニズムを複雑にしているとも言える。

皮膚老化のひとつである紫外線の照射による光老化の結果生じるシワに対しては、レチノイン酸が改善効果を示すことが広く知られている(非特許文献1参照)。レチノイン酸は、米国においては、シワ・にきびの治療医薬品として認可され、皮膚の若返り薬として非常に多くの患者に使用されているが、日本においては、皮膚への刺激といった安全性面に問題が存在し、認可されていない。また、コラゲン、ヒアルロン酸を配合することによるシワ改善の試み(特許文献3、4参照)がなされているほか、アスコルビン酸(特許文献5参照)、トコフェロル(特許文献6参照)などがシワ改善剤として知られている。しかしながら、前記のシワ改善剤には、シワ改善効果が十分でないこと、シワ改善効果を発現する濃度では望まない薬効が発現するという、安全性又は安定性に問題を有する場合があること、等の理由により、充分に満足のいくシワ改善素材は見出されておらず、新たなシワ改善剤の登場が強く望まれていた。

アミノ酸には、天然及び非天然型のアミノ酸を含め数多くのアミノ酸が存在する。これらのアミノ酸は、生体構造の維持や生体反応を司る機能性高分子となるほか、様々な生理活性を示すことが知られている。天然型のアミノ酸又はその誘導体は、生理活性のみならず、高い安全性が期待され、食品、化粧品、医薬品などの分野において広く活用されている。特に、化粧品分野においては、アラニンが美白作用(特許文献7参照)を、α−アミノ酸誘導体が不全角化抑制作用、毛穴縮小作用又は肌荒れ防止・改善作用(特許文献8を参照)を、システイン酸又はホモシステイン酸が皮膚の剥離促進もしくは表皮亢進刺激作用(特許文献9参照)を、N−アシルアミノ酸が育毛促進作用、保湿作用(特許文献10参照)を、グルタミンなどの必須アミノ酸が細胞賦活作用(特許文献11参照)を示すことが知られている。また、アラニンは、シワ改善作用(特許文献12参照)を有することが知られている。
特開2001−192317号公報 特開2005−089304号公報 特開昭33−500号公報 特開2007−191396号公報 特開2003−267856号公報 特開昭62−19511号公報 特開平11−049629号公報 特開2006−327971号公報 特開平9−110627号公報 特開平11−080105号公報 特開昭61−289016号公報 特開平11−49628号公報
老化防止・美白・保湿化粧料の開発技術、シーエムシー出版、鈴木正人 監修
本発明は、上記の様な状況を鑑みてなされたものであり、皮膚外用剤の成分として好適な、新規母核を有するシワ改善剤を提供することを課題とする。
本発明者等は、シワ改善作用を有する新規母核を求めて、鋭意研究を重ねた結果、下記の一般式(1)で表される化合物、その立体異性体、及びそれらの薬理学的に許容される塩が、紫外線暴露などにより形成されるシワに対し優れたシワ改善効果を有することを見出し、発明を完成させるに至った。
すなわち、本発明は、次に示す通りである。
<1> 下記一般式(1)で表される化合物、その立体異性体、又はそれらの薬理学的に許容される塩を含有する、シワ改善剤。
Figure 0005746864
[式中、R1は、水素原子、又は炭素数1〜8の直鎖若しくは分岐のアルキル基を表し、
2は、−SO3 H、−SO2 4 −SH、又は−S−X2を表し、前記X 及びX
、独立して、水素原子若しくは炭素原子が複素原子で置換されていてもよい、炭素数1〜8の脂肪族炭化水素基又は炭素数5〜12の芳香族部であり、R 3は、水素原子、又は炭
素数1〜8の直鎖若しくは分岐のアルキル鎖を有するアシル基を表し、R4、トルイル
基、エチルフェニル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル基、ペンチルフェニル基、ヘキシルフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、プロピルオキシフェニル基、ブチルオキシフェニル基、ペンチルオキシフェニル基、ヘキシルオキシフェニル基、又はビフェニル基を表し、mは、0を表し、nは、1又は2の整数を表す。]
<2> 前記一般式(1)で表される化合物が、下記一般式(5)で表される化合物である、<1>に記載のシワ改善剤。
Figure 0005746864
[式中、R15は、水素原子、又は炭素数1〜8の直鎖若しくは分岐のアルキル基を表し、R16は、−SO3H、又は−SO2−X4を表し、前記X4は、水素原子若しくは炭素原子が複素原子で置換されていてもよい、炭素数1〜8の脂肪族炭化水素基若しくは炭素数5〜12の芳香族部を表し、R17は、水素原子、又は炭素数1〜8の直鎖若しくは分岐のアルキル鎖を有するアシル基を表し、R18、トルイル基、エチルフェニル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル基、ペンチルフェニル基、ヘキシルフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、プロピルオキシフェニル基、ブチルオキシフェニル基、ペンチルオキシフェニル基、ヘキシルオキシフェニル基、又はビフェニル基を表し、mは、0を表し、nは、1又は2の整数を表す。]
<3> 前記一般式(1)で表される化合物が、下記一般式(6)で表される化合物である、<1>に記載のシワ改善剤。
Figure 0005746864
[式中、R19は、水素原子、又は炭素数1〜8の直鎖若しくは分岐のアルキル基を表し、R20は、トルイル基、エチルフェニル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル基、ペンチルフェニル基、ヘキシルフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、プロピルオキシフェニル基、ブチルオキシフェニル基、ペンチルオキシフェニル基、ヘキシルオキシフェニル基、又はビフェニル基を表し、mは0を表し、nは、1又は2の整数を表す。]
<4> 前記一般式(1)で表される化合物が、下記一般式(2)で表される化合物である、<1>に記載のシワ改善剤。
Figure 0005746864
[式中、R5は、水素原子、又は炭素数1〜8の直鎖若しくは分岐のアルキル基を表し、
6は、−S−X2を表し、前記X2は、水素原子若しくは炭素原子が複素原子で置換され
ていてもよい、炭素数1〜8の脂肪族炭化水素基又は炭素数5〜12の芳香族部を表し、R7は、水素原子、又は炭素数1〜8の直鎖若しくは分岐のアルキル鎖を有するアシル基
を表し、R8、トルイル基、エチルフェニル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル
基、ペンチルフェニル基、ヘキシルフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、プロピルオキシフェニル基、ブチルオキシフェニル基、ペンチルオキシフェニル基、ヘキシルオキシフェニル基、又はビフェニル基を表し、mは、0を表し、nは、1又は2の整数を表す。]
<5> 前記一般式(1)で表される化合物が、下記一般式(3)で表される化合物である、<1>に記載のシワ改善剤。
Figure 0005746864
[式中、R9は、水素原子、又は炭素数1〜8の直鎖若しくは分岐のアルキル基を表し、
10は、−S−X2を表し、前記X2は、水素原子若しくは炭素原子が複素原子で置換されていてもよい、炭素数1〜8の脂肪族炭化水素基又は炭素数5〜12の芳香族部を表し、R11は、トルイル基、エチルフェニル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル基、ペンチルフェニル基、ヘキシルフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、プロピルオキシフェニル基、ブチルオキシフェニル基、ペンチルオキシフェニル基、ヘキシルオキシフェニル基、又はビフェニル基を表し、mは、0を表し、nは、1又は2の整数を表す。]
<6> 前記一般式(1)で表される化合物が、下記一般式(4)で表される化合物である、<1>に記載のシワ改善剤。
Figure 0005746864
[式中、R12は、水素原子、又は炭素数1〜8の直鎖若しくは分岐のアルキル基を表し、R13は、水素原子若しくは炭素原子が複素原子で置換されていてもよい、炭素数1〜8の脂肪族炭化水素基又は炭素数5〜12の芳香族部を表し、R14は、トルイル基、エチルフェニル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル基、ペンチルフェニル基、ヘキシルフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、プロピルオキシフェニル基、ブチルオキシフェニル基、ペンチルオキシフェニル基、ヘキシルオキシフェニル基、又はビフェニル基を表し、mは、0を表す。]
<7> 下記一般式(5)で表される化合物、その立体異性体、又はそれらの薬理学的に許容される塩。
Figure 0005746864
[式中、R15は、水素原子、又は炭素数1〜8の直鎖若しくは分岐のアルキル基を表し、R16は、−SO3H、又は−SO2−X4を表し、前記X4は、水素原子若しくは炭素原子が複素原子で置換されていてもよい、炭素数1〜8の脂肪族炭化水素基若しくは炭素数5〜12の芳香族部を表し、R17は、水素原子、又は炭素数1〜8の直鎖若しくは分岐のアルキル鎖を有するアシル基を表し、R18、フェニル基、トルイル基、エチルフェニル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル基、ペンチルフェニル基、ヘキシルフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、プロピルオキシフェニル基、ブチルオキシフェニル基、ペンチルオキシフェニル基、ヘキシルオキシフェニル基、ナフチル基、メチルナフチル基、メトキシナフチル基、又はビフェニル基を表し、mは、0を表し、nは、1又は2の整数を表す。]
<8> 下記一般式(6)で表される化合物、その立体異性体、又はそれらの薬理学的に許容される塩。
Figure 0005746864
[式中、R19は、水素原子、又は炭素数1〜8の直鎖若しくは分岐のアルキル基を表し、R20は、フェニル基、トルイル基、エチルフェニル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル基、ペンチルフェニル基、ヘキシルフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、プロピルオキシフェニル基、ブチルオキシフェニル基、ペンチルオキシフェニル基、ヘキシルオキシフェニル基、ナフチル基、メチルナフチル基、メトキシナフチル基、又はビフェニル基を表し、mは0を表し、nは、1又は2の整数を表す。]
<9> <2>、<3>、<6>のいずれかに記載のシワ改善剤を0.001〜20質量%含有する、皮膚外用剤。
<10> 化粧料であることを特徴とする、<9>に記載の皮膚外用剤。
<11> シワ改善方法であって、下記一般式(1)で表される化合物、その立体異性体、又はそれらの薬理学的に許容される塩を、シワ改善が必要な部位に投与することを特徴とする、方法。
Figure 0005746864
[式中、R1は、水素原子、又は炭素数1〜8の直鎖若しくは分岐のアルキル基を表し、
2は、−SO3 H、−SO2 4 −SH、又は−S−X2を表し、前記X 及びX
、独立して、水素原子若しくは炭素原子が複素原子で置換されていてもよい、炭素数1〜8の脂肪族炭化水素基又は炭素数5〜12の芳香族部であり、R 3は、水素原子、又は炭
素数1〜8の直鎖若しくは分岐のアルキル鎖を有するアシル基を表し、R4、トルイル
基、エチルフェニル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル基、ペンチルフェニル基、ヘキシルフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、プロピルオキシフェニル基、ブチルオキシフェニル基、ペンチルオキシフェニル基、ヘキシルオキシフェニル基、又はビフェニル基を表し、mは、0を表し、nは、1又は2の整数を表す。]
本発明によれば、新たなシワ改善剤を提供することができる。また、新たなシワ改善剤を含む皮膚外用剤、化粧料を提供することができる。また、シワ改善作用を有する新規化合物を提供することができる。
本発明における化合物1の光老化モデルを用いたシワ改善作用を示す図である。 本発明における化合物2の光老化モデルを用いたシワ改善作用を示す図である。 本発明における化合物3の光老化モデルを用いたシワ改善作用を示す図である。 本発明の化合物1および2のプロコラーゲン産生作用を示す図である。 本発明の化合物3および4のプロコラーゲン産生作用を示す図である。 本発明の化合物5および6のプロコラーゲン産生作用を示す図である。 本発明の化合物7および8のプロコラーゲン産生作用を示す図である。
(1)本発明のシワ改善剤に含まれる一般式(1)で表される化合物
本発明のシワ改善剤の有効成分は、下記一般式(1)で表される化合物、その立体異性体、又はそれらの薬理学的に許容される塩である。
Figure 0005746864
一般式(1)において、R1は、水素原子、又は炭素数1〜8の直鎖若しくは分岐のア
ルキル基を表し、R2は、−SH、−SO3H、−S−S−X1、−S−X2、−SO−X3
、−SO2−X4、−SO2−NY1−X5、又は−SO2−NY2−Y3を表し、前記X1〜X5は、独立して、水素原子若しくは炭素原子が複素原子で置換されていてもよい、炭素数1〜8の脂肪族炭化水素基又は炭素数5〜12の芳香族部であり、前記Y1〜Y3は、独立して、水素原子、又は炭素数1〜8の直鎖若しくは分岐のアルキル基を表し、R3は水素原
子、又は炭素数1〜8の直鎖若しくは分岐のアルキル鎖を有するアシル基を表し、R4
無置換若しくは置換基を有していてもよい炭素数5〜12の芳香族基又は多環縮合芳香族基を表し、mは、0〜3の整数を表し、nは、1又は2の整数を表す。ここで、上記芳香族部とは、フェニル基、ピリジル基、ナフチル基、ビフェニル基などの芳香族基に加えて、トルイル基、キシリル基、ベンジル基、ナフチルメチル基などの芳香族炭化水素基も含むものとする。

このような一般式(1)で表される化合物としては、後述する一般式(2)で表される化合物、及び後述する一般式(5)で表される化合物が、好適なものとして例示できる。一般式(2)で表される化合物のうち、より好ましくは、一般式(3)で表される化合物であり、さらに好ましくは、一般式(4)で表される化合物である。また、一般式(5)で表される化合物のうち、より好ましくは、一般式(6)で表される化合物である。一般式(1)で表される化合物のうち、R2がチオル基である化合物は、チオル部分がジ
スルフィド結合することにより二量体を形成するが、このような二量体も本発明の一般式(1)に含まれる。勿論、一般式(1)に含まれる化合物であって、一般式(2)で表される化合物、及び一般式(5)で表される化合物の何れにも含まれない化合物を含有するシワ改善剤も本発明のシワ改善剤である。

前記R1およびR2におけるY1〜Y3は、具体例を挙げれば、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基などが例示できる。炭素数1〜4の直鎖又は分岐のアルキル基が好ましく、さらに好ましいものとしては、水素原子、メチル基、エチル基である。
前記R2におけるX1〜X6の具体例は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、フェニル基、トルイル基、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基、ピリジル基、キノリル基、ナフチル基、ビフェニル基、2−ヒドロキシエチル基、2−ヒドロキシプロピル基、3−ヒドロキシプロピル基、2,3−ジヒドロキシプロピル基などが挙げられる。
2のうち好ましいものとしては、−SO3H、−S−X2、−SO2−X4である。
前記R3は、具体例を挙げれば、水素原子、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、ヘキサノイル基、オクタノイル基などが例示できる。これらのうち、好ましいものは、水素原子、アセチル基、プロピオニル基である。
前記R4は、具体例を挙げれば、フェニル基、トルイル基、エチルフェニル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル基、ペンチルフェニル基、ヘキシルフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、プロピルオキシフェニル基、ブチルオキシフェニル基、ペンチルオキシフェニル基、ヘキシルオキシフェニル基、ヒドロキシフェニル基、アミノフェニル基、フルオロフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、(N−メチルアミノ)フェニル基、(N−エチルアミノ)フェニル基、(N−プロピルアミノ)フェニル基、(N−ブチルアミノ)フェニル基、N,N−(ジメチルアミノ)フェニル基、N,N−(ジエチルアミノ)フェニル基、N,N−(ジプロピルアミノ)フェニル基、N,N−(ジブチルアミノ)フェニル基、アセチルフェニル基、プロピオニルフェニル基、ブチリルフェニル基、カルボキシルフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシカルボニルフェニル基、プロピルオキシカルボニルフェニル基、ナフチル基、メチルナフチル基、メトキシナフチル基、ヒドロキシナフチル基、アミノナフチル基、フルオルナフチル基、トリフルオロメチルナフチル基、アセチルナフチル基、カルボキシナフチル基、メトキシカルボニルナフチル基、エトキシカルボニルナフチル基、ビフェニル基、ピリジル基、キノリル基などが例示できる。これらのうち、好ましいものは、フェニル基、トルイル基、エチルフェニル基、プロピルフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、フルオロフェニル基、トリフルオロフェニル基、ナフチル基、ビフェニル基などである。
一般式(1)で表される化合物は、後述する方法によって製造することができる。かかる化合物は、化合物のシワ改善効果に対する力価、および/または化合物の皮膚貯留性などが優れ、その結果、紫外線暴露などにより形成されるシワに対し、優れたシワ改善効果を有する利点がある。また、皮膚刺激性、および感作性が低いなど、皮膚に対する安全性が極めて高い。さらに、非極性溶媒のみならず極性溶媒に対しても溶解性が高いため、化合物自体の配合量を制限する可能性がない、または、その可能性が極めて低い。これらの化合物は、プロコラーゲン産生促進作用を有し、シワ改善効果を発現している。加えて、上記MMP類、またはIL−1若しくはIL−6の阻害作用を介して、シワ改善効果を発現しているとも考えられる。
一般式(1)で表される化合物のうち、下記一般式(2)、(3)、(4)で表される化合物について述べる。
Figure 0005746864
一般式(2)においては、R5は、水素原子、又は炭素数1〜8の直鎖若しくは分岐の
アルキル基を表し、R6は、−S−X2を表し、前記X2は、水素原子若しくは炭素原子が
複素原子で置換されていてもよい、炭素数1〜8の脂肪族炭化水素基又は炭素数5〜12の芳香族部を表し、R7は、水素原子、又は炭素数1〜8の直鎖若しくは分岐のアルキル
鎖を有するアシル基を表し、R8は無置換若しくは置換基を有していてもよい、炭素数5
〜12の芳香族基又は多環縮合芳香族基を表し、mは、0〜3の整数を表し、nは、1又は2の整数を表す。

Figure 0005746864
一般式(3)においては、R9は、水素原子、又は炭素数1〜8の直鎖若しくは分岐の
アルキル基を表し、R10は、−S−X2を表し、前記X2は、水素原子若しくは炭素原子が複素原子で置換されていてもよい、炭素数1〜8の脂肪族炭化水素基又は炭素数5〜12の芳香族部を表し、R11は、無置換若しくは置換基を有していてもよい、炭素数5〜12の芳香族基又は多環縮合芳香族基を表し、mは、0〜3の整数を表し、nは、1又は2の整数を表す。

Figure 0005746864
一般式(4)においては、R12は、水素原子、又は炭素数1〜8の直鎖若しくは分岐のアルキル基を表し、R13は、水素原子若しくは炭素原子が複素原子で置換されていてもよい、炭素数1〜8の脂肪族炭化水素基又は炭素数5〜12の芳香族部を表し、R14は、無置換若しくは置換基を有していてもよい、炭素数5〜12の芳香族基又は多環縮合芳香族基を表し、mは、0〜3の整数を表す。

上記のとおり、一般式(2)は一般式(1)の好ましい形態であり、一般式(3)がより好ましい形態であり、一般式(4)が更に好ましい形態である。
一般式(4)で表される化合物を具体的に例示すれば、(N−ベンゾイル)システイン、(N−トルイル)システイン、(N−メトキシベンゾイル)システイン、(N−ビフェニルカルボニル)システイン、(N−ベンジルカルボニル)システイン、(N−ベンゾイル−S−メチル)システイン、(S−メチル−N−トルイル)システイン、[N−(エチルベンゾイル)−S−メチル]システイン、[S−メチル−N−(プロピルベンゾイル)]システイン、[N−(ブチルベンゾイル)−S−メチル]システイン、[N−(メトキシベンゾイル)−S−メチル]システイン、[N−(エトキシベンゾイル)−S−メチル]システイン、[N−(プロピルオキシベンゾイル)−S−メチル]システイン、[N−(ブチルオキシベンゾイル)−S−メチル]システイン、[N−(ヒドロキシベンゾイル)−S−メチル]システイン、[N−(アミノベンゾイル)−S−メチル]システイン、[N−(N’−メチルアミノベンゾイル)−S−メチル]システイン、[N−(N’−エチルアミノベンゾイル)−S−メチル]システイン、[N−(N’,N’−ジメチルアミノベンゾイル)−S−メチル]システイン、[N−(N’,N’−ジエチルアミノベンゾイル)−S−メチル]システイン、[N−(フルオロベンゾイル)−S−メチル]システイン、[N−(トリフルオロメチルベンゾイル)−S−メチル]システイン、[N−(クロロベンゾイル)−S−メチル]システイン、[N−(ジクロロベンゾイル)−S−メチル]システイン、[N−(ニトロベンゾイル)−S−メチル]システイン、[(N−シアノベンゾイル)−S−メチル]システイン、[N−(カルボキシベンゾイル)−S−メチル]システイン、[N−(メトキシカルボニルベンゾイル)−S−メチル]システイン、[N−(エトキシカルボニルベンゾイル)−S−メチル]システイン、[N−(アセチルベンゾイル)−S−メチル]システイン、[S−メチル−N−(プロピオニルベンゾイル)]システイン、[N−(ブチリルベンゾイル)−S−メチル]システイン、[N−(ナフトイル)−S−メチル]システイン、[N−(メチルナフトイル)−S−メチル]システイン、[N−(メトキシナフトイル)−S−メチル]システイン、[N−(ヒドロキシナフトイル)−S−メチル]システイン、[N−(アミノナフトイル)−S−メチル]システイン、[N−(アセチルナフトイル)−S−メチル]システイン、[N−(フルオロナフトイル)−S−メチル]システイン、[N−(メトキシカルボニルナフトイル)−S−メチル]システイン、[N−(ビフェニルカルボニル)−S−メチル]システイン、[N−(メトキシビフェニルカルボニル)−S−メチル]システイン、[N−(ベンジルカルボニル)−S−メチル]システイン、[N−(フェニルエチルカルボニル)−S−メチル]システイン、[N−(フェニルプロピルカルボニル)−S−メチル]システイン、[N−(トルイル)メチルカルボニル]システイン、[N−(トルイルエチルカルボニル)−S−メチル]システイン、[N−(トルイルプロピルカルボニル]−S−メチル]システイン、[S−メチル−N−(ピリジルカルボニル)]システイン、[S−メチル−N−(キノリルカルボニル)]システイン、[(N−ベンゾイル−S−メチル)システイン]メチルエステル、[(N−ベンゾイル−S−メチル)システイン]エチルエステル、[(N−ベンゾイル−S−メチル)システイン]プロピルエステル、[(S−メチル−N−トルイル)システイン]メチルエステル、[(S−メチル−N−トルイル)システイン]エチルエステル、[(S−メチル−N−トルイル)システイン]プロピルエステル、[S−メチル−N−(メトキシベンゾイル)システイン]メチルエステル、[S−メチル−N−(メトキシベンゾイル)システイン]エチルエステル、[S−メチル−N−(メトキシベンゾイル)システイン]プロピルエステル、[N−(ビフェニルカルボニル)−S−メチルシステイン]メチルエステル、[N−(ビフェニルカルボニル)−S−メチルシステイン]エチルエステル、[[N−(ビフェニルカルボニル)−S−メチル]システイン]プロピルエステル、[[N−(ベンジルカルボニル)−S−メチル]システイン]メチルエステル、[[N−(ベンジルカルボニル)−S−メチル]システイン]エチルエステル、[[N−(ベンジルカルボニル)−S−メチル]システイン]プロピルエステル、(N−ベンゾイル−S−エチル)システイン、(N−ベンゾイル−S−プロピル)システイン、(N−ベンゾイル−S−ブチル)システイン、(N−ベンゾイル−S−フェニル)システイン、(N−ベンゾイル−S−ベンジル)システイン、(N−ベンゾイル−S−フェニルエチル)システイン、(N−ベンゾイル−S−ピリジル)システイン、(N−ベンゾイル−S−キノリル)システイン、(N−ベンゾイル−S−ナフチル)システイン、(N−ベンジル−S−ビフェニル)システイン、(S−エチル−N−トルイル)システイン、(S−プロピル−N−トルイル)システイン、(S−ブチル−N−トルイル)システイン、(S−フェニル−N−トルイル)システイン、(S−ベンジル−N−トルイル)システイン、(S−フェニルエチル−N−トルイル)システイン、(S−ピリジル−N−トルイル)システイン、(S−キノリル−N−トルイル)システイン、(S−ナフチル−N−トルイル)システイン、(N−トルイル−S−ビフェニル)システイン、(S−エチル−N−メトキシベンゾイル)システイン、(N−メトキシベンゾイル−S−プロピル)システイン、(S−ブチル−N−メトキシベンゾイル)システイン、(N−メトキシベンゾイル−S−フェニル)システイン、(S−ベンジル−N−メトキシベンゾイル)システイン、(N−メトキシベンゾイル−S−フェニルエチル)システイン、(N−メトキシベンゾイル−S−ピリジル)システイン、(N−メトキシベンゾイル−S−キノリル)システイン、(N−メトキシベンゾイル−S−ナフチル)システイン、(S−ビフェニル−N−メトキシベンジル)システイン、(N−ビフェニルカルボニル−S−エチル)システイン、(N−ビフェニルカルボニル−S−プロピル)システイン、(N−ビフェニルカルボニル−S−ブチル)システイン、(N−ビフェニルカルボニル−S−フェニル)システイン、(N−ビフェニルカルボニル−S−ベンジル)システイン、(N−ビフェニルカルボニル−S−フェニルエチル)システイン、(N−ビフェニルカルボニル−S−ピリジル)システイン、(N−ビフェニルカルボニル−S−キノリル)システイン、(N−ビフェニルカルボニル−S−ナフチル)システイン、(N−ビフェニルカルボニル−S−ビフェニル)システイン、(N−ベンジルカルボニル−S−エチル)システイン、(N−ベンジルカルボニル−S−プロピル)システイン、(N−ベンジルカルボニル−S−ブチル)システイン、(N−ベンジルカルボニル−S−フェニル)システイン、(N−ベンジルカルボニル−S−ベンジル)システイン、(N−ベンジルカルボニル−S−フェニルエチル)システイン、(N−ベンジルカルボニル−S−ピリジル)システイン、(N−ベンジルカルボニル−S−キノリル)システイン、(N−ベンジルカルボニル−S−ナフチル)システイン、(N−ベンジルカルボニル−S−ビフェニル)システイン、[(S−エチル−N−トルイル)システイン]メチルエステル、[(S−プロピル−N−トルイル)システイン]メチルエステル、[(S−ブチル−N−トルイル)システイン]メチルエステル、[(S−フェニル−N−トルイル)システイン]メチルエステル、[(S−ベンジル−N−トルイル)システイン]メチルエステル、[(S−フェニルエチル−N−トルイル)システイン]メチルエステル、[(S−ピリジル−N−トルイル)システイン]メチルエステル、[(S−キノリル−N−トルイル)システイン]メチルエステル、[(S−ナフチル−N−トルイル)システイン]メチルエステル、[(N−トルイル−S−ビフェニル)システイン]メチルエステル、[(S−エチル−N−メトキシベンゾイル)システイン]メチルエステル、[(N−メトキシベンゾイル−S−プロピル)システイン]メチルエステル、[(S−ブチル−N−メトキシベンゾイル)システイン]メチルエステル、[(N−メトキシベンゾイル−S−フェニル)システイン]メチルエステル、[(S−ベンジル−N−メトキシベンゾイル)システイン]メチルエステル、[(N−メトキシベンゾイル−S−フェニルエチル)システイン]メチルエステル、[(N−メトキシベンゾイル−S−ピリジル)システイン]メチルエステル、[(N−メトキシベンゾイル−S−キノリル)システイン]メチルエステル、[(N−メトキシベンゾイル−S−ナフチル)システイン]メチルエステル、[(S−ビフェニル−N−メトキシベンジル)システイン]メチルエステル、[(N−ビフェニルカルボニル−S−エチル)システイン]メチルエステル、[(N−ビフェニルカルボニル−S−プロピル)システイン]メチルエステル、[(N−ビフェニルカルボニル−S−ブチル)システイン]メチルエステル、[(N−ビフェニルカルボニル−S−フェニル)システイン]メチルエステル、[(N−ビフェニルカルボニル−S−ベンジル)システイン]メチルエステル、[(N−ビフェニルカルボニル−S−フェニルエチル)システイン]メチルエステル、[(N−ビフェニルカルボニル−S−ピリジル)システイン]メチルエステル、[(N−ビフェニルカルボニル−S−キノリル)システイン]メチルエステル、[(N−ビフェニルカルボニル−S−ナフチル)システイン]メチルエステル、[(N−ビフェニルカルボニル−S−ビフェニル)システイン]メチルエステル、[(N−ベンジルカルボニル−S−エチル)システイン]メチルエステル、[(N−ベンジルカルボニル−S−プロピル)システイン]メチルエステル、[(N−ベンジルカルボニル−S−ブチル)システイン]メチルエステル、[(N−ベンジルカルボニル−S−フェニル)システイン]メチルエステル、[(N−ベンジルカルボニル−S−ベンジル)システイン]メチルエステル、[(N−ベンジルカルボニル−S−フェニルエチル)システイン]メチルエステル、[(N−ベンジルカルボニル−S−ピリジル)システイン]メチルエステル、[(N−ベンジルカルボニル−S−キノリル)システイン]メチルエステル、[(N−ベンジルカルボニル−S−ナフチル)システイン]メチルエステル、[(N−ベンジルカルボニル−S−ビフェニル)システイン]メチルエステル、(N−ベンゾイル)ホモシステイン、(N−トルイル)ホモシステイン、(N−メトキシベンゾイル)ホモシステイン、(N−ビフェニルカルボニル)ホモシステイン、(N−ベンジルカルボニル)ホモシステイン、(N−ベンゾイル)メチオニン、[N−(トルイル)]メチオニン、[N−(エチルベンゾイル)]メチオニン、[N−(プロピルベンゾイル)]メチオニン、[N−(ブチルベンゾイル)]メチオニン、[N−(メトキシベンゾイル)]メチオニン、[N−(エトキシベンゾイル)]メチオニン、[N−(プロピルオキシベンゾイル)]メチオニン、[N−(ブチルオキシベンゾイル)]メチオニン、[N−(ヒドロキシベンゾイル)]メチオニン、[N−(アミノベンゾイル)]メチオニン、[N−(N’−メチルアミノベンゾイル)]メチオニン、[N−(N’−エチルアミノベンゾイル)]メチオニン、[N−(N’,N’−ジメチルアミノベンゾイル)]メチオニン、[N−(N’,N’−ジエチルアミノベンゾイル)]メチオニン、[N−(フルオロベンゾイル)]メチオニン、[N−(トリフルオロメチルベンゾイル)]メチオニン、[N−(クロロベンゾイル)]メチオニン、[N−(ジクロロベンゾイル)]メチオニン、[N−(ニトロベンゾイル)]メチオニン、[(N−シアノベンゾイル)]メチオニン、[N−(カルボキシベンゾイル)]メチオニン、[N−(メトキシカルボニルベンゾイル)]メチオニン、[N−(エトキシカルボニルベンゾイル)]メチオニン、[N−(アセチルベンゾイル)]
メチオニン、[N−(プロピオニルベンゾイル)]メチオニン、[N−(ブチリルベンゾイル)]メチオニン、[N−(ナフトイル)]メチオニン、[N−(メチルナフトイル)]メチオニン、[N−(メトキシナフトイル)]メチオニン、[N−(ヒドロキシナフトイル)]メチオニン、[N−(アミノナフトイル)]メチオニン、[N−(アセチルナフトイル)]メチオニン、[N−(フルオロナフトイル)]メチオニン、[N−(カルボキシナフトイル)]メチオニン、[N−(メトキシカルボニルナフトキシ)]メチオニン、[N−(ビフェニルカルボニル)]メチオニン、[N−(メトキシビフェニルカルボニル)]メチオニン、N−(ベンジルカルボニル)メチオニン、N−(フェニルエチルカルボニル)メチオニン、N−(フェニルプロピルカルボニル)メチオニン、[N−(トルイルメチル)カルボニル]メチオニン、[N−(トルイルエチル)カルボニル]メチオニン、[N−(トルイルプロピル)カルボニル]メチオニン、N−(ピリジルカルボニル)メチオニン、N−(キノリルカルボニル)メチオニン、[(N−ベンゾイル)メチオニン]メチルエステル、[(N−ベンゾイル)メチオニン]エチルエステル、[(N−ベンゾイル)メチオニン]プロピルエステル、[(N−トルイル)メチオニン]メチルエステル、[(N−トルイル)メチオニン]エチルエステル、[(N−トルイル)メチオニン]プロピルエステル、[N−(メトキシベンゾイル)メチオニン]メチルエステル、[N−(メトキシベンゾイル)メチオニン]エチルエステル、[N−(メトキシベンゾイル)メチオニン]プロピルエステル、[N−(ビフェニルカルボニル)メチオニン]メチルエステル、[N−(ビフェニルカルボニル)メチオニン]エチルエステル、[N−(ビフェニルカルボニル)メチオニン]プロピルエステル、[N−(ベンジルカルボニル)メチオニン]メチルエステル、[N−(ベンジルカルボニル)メチオニン]エチルエステル、[N−(ベンジルカルボニル)メチオニン]プロピルエステル、前述した化合物の立体異性体、又はそれらの薬理学的に許容される塩などである。これらのうち、さらに好ましいものとしては、N−(ベンゾイル)システイン、N−(トルイル)システイン、N−(メトキシベンゾイル)システイン、N−(ビフェニルカルボニル)システイン、N−(ベンジルカルボニル)システイン、[N−(ベンゾイル)−S−メチル]システイン、[N−(トルイル)−S−メチル)システイン、[N−(メトキシベンゾイル)−S−メチル]システイン、[N−(ビフェニルカルボニル)−S−メチル]システイン、[N−(ベンジルカルボニル)−S−メチル]システイン、[N−(ベンゾイル)システイン]メチルエステル、[N−(トルイル)システイン]メチルエステル、[N−(メトキシベンゾイル)システイン]メチルエステル、[N−(ビフェニルカルボニル)システイン]メチルエステル、[N−(ベンジルカルボニル)システイン]メチルエステル、(N−ベンゾイル)メチオニン、[N−(トルイル)]メチオニン、これらの化合物の立体異性体、又はそれらの薬理学的に許容される塩である。
一般式(3)で表される化合物のうち、一般式(4)に含まれない化合物を具体的に例示すれば、(N−ベンゾイル−S−エチル)ホモシステイン、(N−ベンゾイル−S−プロピル)ホモシステイン、(N−ベンゾイル−S−ブチル)ホモシステイン、(N−ベンゾイル−S−フェニル)ホモシステイン、(N−ベンゾイル−S−ベンジル)ホモシステイン、(N−ベンゾイル−S−フェニルエチル)ホモシステイン、(N−ベンゾイル−S−ピリジル)ホモシステイン、(N−ベンゾイル−S−キノリル)ホモシステイン、(N−ベンゾイル−S−ナフチル)ホモシステイン、(N−ベンジル−S−ビフェニル)ホモシステイン、(S−エチル−N−トルイル)ホモシステイン、(S−プロピル−N−トルイル)ホモシステイン、(S−ブチル−N−トルイル)ホモシステイン、(S−フェニル−N−トルイル)ホモシステイン、(S−ベンジル−N−トルイル)ホモシステイン、(S−フェニルエチル−N−トルイル)ホモシステイン、(S−ピリジル−N−トルイル)ホモシステイン、(S−キノリル−N−トルイル)ホモシステイン、(S−ナフチル−N−トルイル)ホモシステイン、(N−トルイル−S−ビフェニル)ホモシステイン、(S−エチル−N−メトキシベンゾイル)ホモシステイン、(N−メトキシベンゾイル−S−プロピル)ホモシステイン、(S−ブチル−N−メトキシベンゾイル)ホモシステイン、(N−メトキシベンゾイル−S−フェニル)ホモシステイン、(S−ベンジル−N−メトキシベンゾイル)ホモシステイン、(N−メトキシベンゾイル−S−フェニルエチル)ホモシステイン、(N−メトキシベンゾイル−S−ピリジル)ホモシステイン、(N−メトキシベンゾイル−S−キノリル)ホモシステイン、(N−メトキシベンゾイル−S−ナフチル)ホモシステイン、(S−ビフェニル−N−メトキシベンジル)ホモシステイン、(N−ビフェニルカルボニル−S−エチル)ホモシステイン、(N−ビフェニルカルボニル−S−プロピル)ホモシステイン、(N−ビフェニルカルボニル−S−ブチル)ホモシステイン、(N−ビフェニルカルボニル−S−フェニル)ホモシステイン、(N−ビフェニルカルボニル−S−ベンジル)ホモシステイン、(N−ビフェニルカルボニル−S−フェニルエチル)ホモシステイン、(N−ビフェニルカルボニル−S−ピリジル)ホモシステイン、(N−ビフェニルカルボニル−S−キノリル)ホモシステイン、(N−ビフェニルカルボニル−S−ナフチル)ホモシステイン、(N−ビフェニルカルボニル−S−ビフェニル)ホモシステイン、(N−ベンジルカルボニル−S−エチル)ホモシステイン、(N−ベンジルカルボニル−S−プロピル)ホモシステイン、(N−ベンジルカルボニル−S−ブチル)ホモシステイン、(N−ベンジルカルボニル−S−フェニル)ホモシステイン、(N−ベンジルカルボニル−S−ベンジル)ホモシステイン、(N−ベンジルカルボニル−S−フェニルエチル)ホモシステイン、(N−ベンジルカルボニル−S−ピリジル)ホモシステイン、(N−ベンジルカルボニル−S−キノリル)ホモシステイン、(N−ベンジルカルボニル−S−ナフチル)ホモシステイン、(N−ベンジルカルボニル−S−ビフェニル)ホモシステイン、[(S−エチル−N−トルイル)ホモシステイン]メチルエステル、[(S−プロピル−N−トルイル)ホモシステイン]メチルエステル、[(S−ブチル−N−トルイル)ホモシステイン]メチルエステル、[(S−フェニル−N−トルイル)ホモシステイン]メチルエステル、[(S−ベンジル−N−トルイル)ホモシステイン]メチルエステル、[(S−フェニルエチル−N−トルイル)ホモシステイン]メチルエステル、[(S−ピリジル−N−トルイル)ホモシステイン]メチルエステル、[(S−キノリル−N−トルイル)ホモシステイン]メチルエステル、[(S−ナフチル−N−トルイル)ホモシステイン]メチルエステル、[(N−トルイル−S−ビフェニル)ホモシステイン]メチルエステル、[(S−エチル−N−メトキシベンゾイル)ホモシステイン]メチルエステル、[(N−メトキシベンゾイル−S−プロピル)ホモシステイン]メチルエステル、[(S−ブチル−N−メトキシベンゾイル)ホモシステイン]メチルエステル、[(N−メトキシベンゾイル−S−フェニル)ホモシステイン]メチルエステル、[(S−ベンジル−N−メトキシベンゾイル)ホモシステイン]メチルエステル、[(N−メトキシベンゾイル−S−フェニルエチル)ホモシステイン]メチルエステル、[(N−メトキシベンゾイル−S−ピリジル)ホモシステイン]メチルエステル、[(N−メトキシベンゾイル−S−キノリル)ホモシステイン]メチルエステル、[(N−メトキシベンゾイル−S−ナフチル)ホモシステイン]メチルエステル、[(S−ビフェニル−N−メトキシベンジル)ホモシステイン]メチルエステル、[(N−ビフェニルカルボニル−S−エチル)ホモシステイン]メチルエステル、[(N−ビフェニルカルボニル−S−プロピル)ホモシステイン]メチルエステル、[(N−ビフェニルカルボニル−S−ブチル)ホモシステイン]メチルエステル、[(N−ビフェニルカルボニル−S−フェニル)ホモシステイン]メチルエステル、[(N−ビフェニルカルボニル−S−ベンジル)ホモシステイン]メチルエステル、[(N−ビフェニルカルボニル−S−フェニルエチル)ホモシステイン]メチルエステル、[(N−ビフェニルカルボニル−S−ピリジル)ホモシステイン]メチルエステル、[(N−ビフェニルカルボニル−S−キノリル)ホモシステイン]メチルエステル、[(N−ビフェニルカルボニル−S−ナフチル)ホモシステイン]メチルエステル、[(N−ビフェニルカルボニル−S−ビフェニル)ホモシステイン]メチルエステル、[(N−ベンジルカルボニル−S−エチル)ホモシステイン]メチルエステル、[(N−ベンジルカルボニル−S−プロピル)ホモシステイン]メチルエステル、[(N−ベンジルカルボニル−S−ブチル)ホモシステイン]メチルエステル、[(N−ベンジルカルボニル−S−フェニル)ホモシステイン]メチルエステル、[(N−ベンジルカルボニル−S−ベンジル)ホモシステイン]メチルエステル、[(N−ベンジルカルボニル−S−フェニルエチル)ホモシステイン]メチルエステル、[(N−ベンジルカルボニル−S−ピリジル)ホモシステイン]メチルエステル、[(N−ベンジルカルボニル−S−キノリル)ホモシステイン]メチルエステル、[(N−ベンジルカルボニル−S−ナフチル)ホモシステイン]メチルエステル、[(N−ベンジルカルボニル−S−ビフェニル)ホモシステイン]メチルエステル、これらの化合物の立体異性体、又はそれらの薬理学的に許容される塩などである。
一般式(2)で表される化合物のうち、一般式(3)及び(4)に含まれない化合物を具体的に例示すれば、(N−アセチル−N−ベンゾイル−S−メチル)システイン、(N−ベンゾイル−N−プロピオニル−S−メチル)システイン、(N−ベンゾイル−N−ブチリル−S−メチル)システイン、(N−アセチル−N−トルイル−S−メチル)システイン、(S−メチル−N−プロピオニル−N−トルイル)システイン、(N−ブチリル−S−メチル−N−トルイル)システイン、(N−アセチル−S−メチル−N−メトキシベンゾイル)システイン、(N−メトキシベンゾイル−S−メチル−N−プロピオニル)システイン、(N−ブチリル−N−メトキシベンゾイル−S−メチル)システイン、(N−アセチル−N−ビフェニルカルボニル−S−メチル)システイン、(N−ビフェニルカルボニル−S−メチル−N−プロピオニル)システイン、(N−ブチリル−N−ビフェニルカルボニル−S−メチル)システイン、(N−アセチル−N−ベンジルカルボニル−S−メチル)システイン、(N−プロピオニル−N−ベンジルカルボニル−S−メチル)システイン、(N−ブチリル−N−ベンジルカルボニル−S−メチル)システイン、(N−アセチル−N−ベンゾイル)メチオニン、(N−ベンゾイル−N−プロピオニル)メチオニン、(N−ベンゾイル−N−ブチリル)メチオニン、(N−アセチル−N−トルイル)メチオニン、(N−プロピオニル−N−トルイル)メチオニン、(N−ブチリル−N−トルイル)メチオニン、(N−アセチル−N−メトキシベンゾイル)メチオニン、(N−メトキシベンゾイル−N−プロピオニル)メチオニン、(N−ブチリル−N−メトキシベンゾイル)メチオニン、(N−アセチル−N−ビフェニルカルボニル)メチオニン、(N−ビフェニルカルボニル−N−プロピオニル)メチオニン、(N−ブチリル−N−ビフェニルカルボニル)メチオニン、(N−アセチル−N−ベンジルカルボニル)メチオニン、(N−プロピオニル−N−ベンジルカルボニル)メチオニン、(N−ブチリル−N−ベンジルカルボニル)メチオニン、これらの化合物の立体異性体、又はそれらの薬理学的に許容される塩などである。
一般式(1)で表される化合物の内、一般式(5)および(6)に表される化合物に付いて述べる。一般式(5)および(6)で表される化合物は、何れも新規化合物である。
Figure 0005746864
一般式(5)においては、R15は、水素原子、又は炭素数1〜8の直鎖若しくは分岐のアルキル基を表し、R16は、−SO3H、又は−SO2−X4を表し、前記X4は、水素原子若しくは炭素原子が複素原子で置換されていてもよい、炭素数1〜8の脂肪族炭化水素基若しくは炭素数5〜12の芳香族部を表し、R17は、水素原子、又は炭素数1〜8の直鎖若しくは分岐のアルキル鎖を有するアシル基を表し、R18は無置換若しくは置換基を有していてもよい、炭素数5〜12の芳香族基又は多環縮合芳香族基を表し、mは、0〜3の整数を表し、nは、1又は2の整数を表す。

Figure 0005746864
一般式(6)においては、R19は、水素原子、又は炭素数1〜8の直鎖若しくは分岐のアルキル基を表し、R20は、無置換若しくは置換基を有していてもよい、炭素数5〜12の芳香族基又は多環縮合芳香族基を表し、mは0〜3の整数を表し、nは、1又は2の整数を表す。

上記のとおり、一般式(5)は一般式(1)の好ましい形態であり、一般式(6)がより好ましい形態である。一般式(6)で表される化合物を具体的に例示すれば、N−(ベンゾイル)システイン酸、N−(トルイル)システイン酸、N−(エチルベンゾイル)システイン酸、N−(プロピルベンゾイル)システイン酸、N−(ブチルベンゾイル)システイン酸、N−(ペンチルベンゾイル)システイン酸、N−(ヘキシルベンゾイル)システイン酸、N−(ヘプチルベンゾイル)システイン酸、N−(オクチルベンゾイル)システイン酸、N−(メトキシベンゾイル)システイン酸、N−(エトキシベンゾイル)システイン酸、N−(プロピルオキシベンゾイル)システイン酸、N−(ブチルオキシベンゾイル)システイン酸、N−(ヒドロキシベンゾイル)システイン酸、N−(アミノベンゾイル)システイン酸、N−(N’−メチルアミノベンゾイル)システイン酸、N−(N’−エチルアミノベンゾイル)システイン酸、N−(N’,N’−ジメチルアミノベンゾイル)システイン酸、N−(N’,N’−ジエチルアミノベンゾイル)システイン酸、N−(フルオロベンゾイル)システイン酸、N−(トリフルオロメチルベンゾイル)システイン酸、N−(クロロベンゾイル)システイン酸、N−(ジクロロベンゾイル)システイン酸、N−(ニトロベンゾイル)システイン酸、(N−シアノベンゾイル)システイン酸、N−(カルボキシベンゾイル)システイン酸、N−(メトキシカルボニルベンゾイル)システイン酸、N−(エトキシカルボニルベンゾイル)システイン酸、N−(アセチルベンゾイル)システイン酸、N−(プロピオニルベンゾイル)システイン酸、N−(ブチリルベンゾイル)システイン酸、N−(ナフトイル)システイン酸、N−(メチルナフトイル)システイン酸、N−(メトキシナフトイル)システイン酸、N−(ヒドロキシナフトイル)システイン酸、N−(アミノナフトイル)システイン酸、N−(アセチルナフトイル)システイン酸、N−(フルオロナフトイル)システイン酸、N−(メトキシカルボニルナフトイル)システイン酸、(N−ビフェニルカルボニル)システイン酸、(N−メトキシビフェニルカルボニル)システイン酸、N−(ベンジルカルボニル)システイン酸、N−(フェニルエチルカルボニル)システイン酸、N−(フェニルプロピルカルボニル)システイン酸、N−(フェニルブチルカルボニル)システイン酸、N−(トルイルメチルカルボニル)システイン酸、N−(トルイルエチルカルボニル)システイン酸、N−(トルイルプロピルカルボニル)システイン酸、N−(トルイルブチルカルボニル)システイン酸、N−(ピリジンカルボニル)システイン酸、N−(キノリンカルボニル)システイン酸、(N−ベンゾイルシステイン酸)メチルエステル、(N−ベンゾイルシステイン酸)エチルエステル、(N−ベンゾイルシステイン酸)プロピルエステル、(N−ベンゾイルシステイン酸)ブチルエステル、(N−トルイルシステイン酸)メチルエステル、(N−トルイルシステイン酸)エチルエステル、(N−トルイルシステイン酸)プロピルエステル、(N−トルイルシステイン酸)ブチルエステル、[(N−トルイル)システイン酸]メチルエステル、[(N−トルイル)システイン酸]エチルエステル、[(N−トルイル)システイン酸]プロピルエステル、[(N−メトキシベンゾイル)システイン酸]メチルエステル、[(N−メトキシベンゾイル)システイン酸]エチルエステル、[(N−メトキシベンゾイル)システイン酸]プロピルエステル、[(N−ビフェニルカルボニル)システイン酸]メチルエステル、[(N−ビフェニルカルボニル)システイン酸]エチルエステル、[(N−ビフェニルカルボニル)システイン酸]プロピルエステル、[(N−ベンジルカルボニル)システイン酸]メチルエステル、[(N−ベンジルカルボニル)システイン酸]エチルエステル、[(N−ベンジルカルボニル)システイン酸]プロピルエステル、N−(ベンゾイル)ホモシステイン酸、N−(トルイル)ホモシステイン酸、N−(エチルベンゾイル)ホモシステイン酸、N−(プロピルベンゾイル)ホモシステイン酸、N−(ブチルベンゾイル)ホモシステイン酸、N−(ペンチルベンゾイル)ホモシステイン酸、N−(ヘキシルベンゾイル)ホモシステイン酸、N−(ヘプチルベンゾイル)ホモシステイン酸、N−(オクチルベンゾイル)ホモシステイン酸、N−(メトキシベンゾイル)ホモシステイン酸、N−(エトキシベンゾイル)ホモシステイン酸、N−(プロピルオキシベンゾイル)ホモシステイン酸、N−(ブチルオキシベンゾイル)ホモシステイン酸、N−(ヒドロキシベンゾイル)ホモシステイン酸、N−(アミノベンゾイル)ホモシステイン酸、N−(N’−メチルアミノベンゾイル)ホモシステイン酸、N−(N’−エチルアミノベンゾイル)ホモシステイン酸、N−(N’,N’−ジメチルアミノベンゾイル)ホモシステイン酸、N−(N’,N’−ジエチルアミノベンゾイル)ホモシステイン酸、N−(フルオロベンゾイル)ホモシステイン酸、N−(トリフルオロメチルベンゾイル)ホモシステイン酸、N−(クロロベンゾイル)ホモシステイン酸、N−(ジクロロベンゾイル)ホモシステイン酸、N−(ニトロベンゾイル)ホモシステイン酸、(N−シアノベンゾイル)ホモシステイン酸、N−(カルボキシベンゾイル)ホモシステイン酸、N−(メトキシカルボニルベンゾイル)ホモシステイン酸、N−(エトキシカルボニルベンゾイル)ホモシステイン酸、N−(アセチルベンゾイル)ホモシステイン酸、N−(プロピオニルベンゾイル)ホモシステイン酸、N−(ブチリルベンゾイル)ホモシステイン酸、N−(ナフトイル)ホモシステイン酸、N−(メチルナフトイル)ホモシステイン酸、N−(メトキシナフトイル)ホモシステイン酸、N−(ヒドロキシナフトイル)ホモシステイン酸、N−(アミノナフトイル)ホモシステイン酸、N−(アセチルナフトイル)ホモシステイン酸、N−(フルオロナフトイル)ホモシステイン酸、N−(メトキシカルボニルナフトイル)ホモシステイン酸、N−(ビフェニルカルボニル)ホモシステイン酸、N−(メトキシビフェニルカルボニル)ホモシステイン酸、N−(ベンジルカルボニル)ホモシステイン酸、N−(フェニルエチルカルボニル)ホモシステイン酸、N−(フェニルプロピルカルボニル)ホモシステイン酸、N−(フェニルブチルカルボニル)ホモシステイン酸、N−(フェニルペンチルカルボニル)ホモシステイン酸、N−(ナフチルメチルカルボニル)ホモシステイン酸、N−(ナフチルエチルカルボニル)ホモシステイン酸、N−(ピリジンカルボニル)ホモシステイン酸、N−(キノリンカルボニル)ホモシステイン酸、[N−(ベンゾイル)ホモシステイン酸]メチルエステル、[N−(ベンゾイル)ホモシステイン酸]エチルエステル、[N−(ベンゾイル)ホモシステイン酸]プロピルエステル、[N−(ベンゾイル)ホモシステイン酸]ブチルエステル、[N−(トルイル)ホモシステイン酸]メチルエステル、[N−(トルイル)ホモシステイン酸]エチルエステル、[N−(トルイル)ホモシステイン酸]プロピルエステル、[N−(トルイル)ホモシステイン酸]ブチルエステル、[N−(メトキシベンゾイル)ホモシステイン酸]メチルエステル、[N−(メトキシベンゾイル)ホモシステイン酸]エチルエステル、[N−(メトキシベンゾイル)ホモシステイン酸]プロピルエステル、[N−(メトキシベンゾイル)ホモシステイン酸]ブチルエステル、[N−(ビフェニルカルボニル)ホモシステイン酸]メチルエステル、[N−(ビフェニルカルボニル)ホモシステイン酸]エチルエステル、[N−(ビフェニルカルボニル)ホモシステイン酸]プロピルエステル、[N−(ビフェニルカルボニル)ホモシステイン酸]ブチルエステル、[N−(ベンジルカルボニル)ホモシステイン酸]メチルエステル、[N−(ベンジルカルボニル)ホモシステイン酸]エチルエステル、[N−(ベンジルカルボニル)ホモシステイン酸]プロピルエステル、[N−(ベンジルカルボニル)ホモシステイン酸]ブチルエステル、前述した化合物の立体異性体及び/又はそれらの薬理学的に許容される塩などである。これらのうち、さらに好ましいものとしては、N−(ベンゾイル)システイン酸、N−(トルイル)システイン酸、N−(メトキシベンゾイル)システイン酸、N−(ビフェニルカルボニル)システイン酸、N−(ベンジルカルボニル)システイン酸、N−(ベンゾイル)ホモシステイン酸、N−(トルイル)ホモシステイン酸、N−(メトキシベンゾイル)ホモシステイン酸、N−(ビフェニルカルボニル)ホモシステイン酸、N−(ベンジルカルボニル)ホモシステイン酸、その立体異性体、及びそれらの薬理学的に許容される塩などである。
一般式(5)で表される化合物のうち、一般式(6)に含まれない化合物を具体的に例示すれば、(N−アセチル−N−ベンゾイル)システイン酸、(N−ベンゾイル−N−プロピオニル)システイン酸、(N−ベンゾイル−N−ブチリル)システイン酸、(N−ベンゾイル−N−イソブチリル)システイン酸、(N−ベンゾイル−N−バレリル)システイン酸、(N−ベンゾイル−N−イソバレリル)システイン酸、(N−ベンゾイル−N−ピバロイル)システイン酸、(N−ベンゾイル−N−ヘキサノイル)システイン酸、(N−ベンゾイル−N−オクタノイル)システイン酸、(N−アセチル−N−トルイル)システイン酸、(N−プロピオニル−N−トルイル)システイン酸、(N−ブチリル−N−トルイル)システイン酸、(N−イソブチリル−N−トルイル)システイン酸、(N−トルイル−N−バレリル)システイン酸、(N−イソバレリル−N−トルイル)システイン酸、(N−ピバロイル−N−トルイル)システイン酸、(N−ヘキサノイル−N−トルイル)システイン酸、(N−オクタノイル−N−トルイル)システイン酸、(N−アセチル−N−メトキシベンゾイル)システイン酸、(N−メトキシベンゾイル−N−プロピオニル)システイン酸、(N−ブチリル−N−メトキシベンゾイル)システイン酸、(N−イソブチリル−N−メトキシベンゾイル)システイン酸、(N−メトキシベンゾイル−N−バレリル)システイン酸、(N−イソバレリル−N−メトキシベンゾイル)システイン酸、(N−メトキシベンゾイルN−ピバロイル)システイン酸、(N−ヘキサノイル−N−メトキシベンゾイル)システイン酸、(N−メトキシベンゾイルN−オクタノイル)システイン酸、(N−アセチル−N−ビフェニルカルボニル)システイン酸、(N−ビフェニルカルボニル−N−プロピオニル)システイン酸、(N−ビフェニルカルボニル−N−ブチリル)システイン酸、(N−ビフェニルカルボニル−N−イソブチリル)システイン酸、(N−ビフェニルカルボニル−N−バレリル)システイン酸、(N−ビフェニルカルボニル−N−イソバレリル)システイン酸、(N−ビフェニルカルボニル−N−ピバロイル)システイン酸、(N−ビフェニルカルボニル−N−ヘキサノイル)システイン酸、(N−ビフェニルカルボニル−N−オクタノイル)システイン酸、(N−アセチル−N−ベンジルカルボニル)システイン酸、(N−ベンジルカルボニル−N−プロピオニル)システイン酸、(N−ベンジルカルボニル−N−ブチリル)システイン酸、(N−ベンジルカルボニル−N−イソブチリル)システイン酸、(N−ベンジルカルボニル−N−バレリル)システイン酸、(N−ベンジルカルボニル−N−イソバレリル)システイン酸、(N−ベンジルカルボニル−N−ピバロイル)システイン酸、(N−ベンジルカルボニル−N−ヘキサノイル)システイン酸、(N−ベンジルカルボニル−N−オクタノイル)システイン酸、(N−アセチル−N−ベンゾイル)ホモシステイン酸、(N−ベンゾイル−N−プロピオニル)ホモシステイン酸、(N−ベンゾイル−N−ブチリル)ホモシステイン酸、(N−ベンゾイル−N−バレリル)ホモシステイン酸、(N−ベンゾイル−N−ピバロイル)ホモシステイン酸、(N−ベンゾイル−N−ヘキサノイル)ホモシステイン酸、(N−ベンゾイル−N−オクタノイル)ホモシステイン酸、(N−アセチル−N−トルイル)ホモシステイン酸、(N−プロピオニル−N−トルイル)ホモシステイン酸、(N−ブチリル−N−トルイル)ホモシステイン酸、(N−アセチル−N−メトキシベンゾイル)ホモシステイン酸、(N−プロピオニル−N−メトキシベンゾイル)ホモシステイン酸、(N−ブチリル−N−メトキシベンゾイル)ホモシステイン酸、(N−アセチル−N−ビフェニルカルボニル)ホモシステイン酸、(N−ビフェニルカルボニル−N−プロピオニル)ホモシステイン酸、(N−ビフェニルカルボニル−N−トルイル)ホモシステイン酸、(N−アセチル−N−ベンジルカルボニル)ホモシステイン酸、(N−ベンジルカルボニル−N−プロピオニル)ホモシステイン酸、(N−ベンジルカルボニル−N−ブチリル)ホモシステイン酸、前述した化合物の立体異性体、又はそれらの薬理学的に許容される塩などである。
前記一般式(1)〜(6)で表される化合物が有する、紫外線暴露などにより形成されたシワに対する優れたシワ改善効果は、プロコラーゲン産生促進作用により、シワ改善効果を発現している。加えて、MMP1、MMP9、MMP13などのマトリックスメタロプロテアゼ阻害作用又はIL−1、IL−6などのサイトカイン産生抑制作用を介し、シワ改善効果を発現するとも考えられる。

一般式(1)〜(6)に表される化合物は、市販されている試薬を原料として用い、後記の製造例に示した方法に従い製造することが出来る。かかる化合物は、そのまま本発明のシワ改善剤として利用することが出来るが、薬理学的に許容できる酸又は塩基とともに処理して塩の形に変換し、塩として使用することも可能である。例えば、塩酸塩、硫酸塩、硝酸塩、リン酸塩、炭酸塩などの鉱酸塩、マレイン酸塩、フマル酸塩、シュウ酸塩、クエン酸塩、乳酸塩、酒石酸塩、メタンスルホン酸塩、パラトルエンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩などの有機酸塩、ナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属、カルシウム塩、マグネシウム塩等のアルカリ土類金属、トリエチルアミン塩、トリエタノルアミン塩、アンモニウム塩、モノエタノルアミン塩、ピペリジン塩等の有機アミン塩、リジン塩、アルギン酸塩等の塩基性アミノ酸塩などが好適に例示出来る。

以下、本発明のシワ改善剤の製造例を示す。
<製造例1>化合物1の合成
Figure 0005746864
L−メチオニン 5(g)(33.5 mmol)(和光純薬)、1,4−ジオキサン
20(mL)(和光純薬)、および、水 10(mL)を100(mL)ナス型フラスコに入れた後、氷浴にて冷却した。十分に冷却した後、8(N)水酸化ナトリウム水溶液
9.21(mL)、p−トルイルクロリド4.21(mL)(アルドリッチ)を液温が上昇しないように順次滴下した。滴下終了後、氷浴を外し室温にて攪拌した。薄層クロマトグラフィで反応の進行を確認した後、1,4−ジオキサンを減圧留去した。得られた残渣を酢酸エチルにて洗浄した後、塩酸にてpHを2以下に調整した。析出した結晶を酢酸エチルにて溶解、抽出した後、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムにて脱水した。得られた酢酸エチル溶液を濃縮し、結晶化した。得られた結晶をジイソプロピルエテルで洗浄した後、ろ過および乾燥し、上記構造を有する化合物1 6.99(g)(26.1mmol)を得た。示性値は以下のとおり。
1H−NMR(CDCl3):δ 2.13(3H,s)、2.18(1H,m)、2.35(1H,m)、2.40(3H,s)、2.66(2H,t)、4.91(1Hq)、7.13(1Hd)、7.24(2Hd)、7.71(2Hd).
FAB−MS(positive ion mode):M/z=268([M+H]+


<製造例2>化合物2の合成
Figure 0005746864
S−メチル−L−システイン 5(g)(37.0 mmol)(東京化成)、1,4−ジオキサン 20(mL)(和光純薬)、および、水 10(mL)を100(mL)ナス型フラスコに入れた後、氷浴にて冷却した。十分に冷却した後、8(N)水酸化ナトリウム水溶液10.2(mL)、p−トルイルクロリド4.9(mL)(アルドリッチ)を液温が上昇しないように順次滴下した。滴下終了後、氷浴を外し室温にて攪拌した。薄層クロマトグラフィで反応の進行を確認した後、1,4−ジオキサンを減圧留去した。得られた残渣を酢酸エチルにて洗浄した後、塩酸にてpHを2以下に調整した。析出した結晶を酢酸エチルにて溶解、抽出した後、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムにて脱水した。得られた酢酸エチル溶液を濃縮し、結晶化した。得られた結晶をジイソプロピルエテルで洗浄した後、ろ過および乾燥し粗結晶を得た。得られた粗結晶を酢酸エチルに懸濁させ、60℃まで昇温した。完溶を確認した後、ジイソプロピルエテル 40(mL)を滴下し、結晶を析出した。この懸濁液を室温まで放冷した後、ろ過および乾燥し、上記構造を有する化合物2 2.87(g)(11.3 mmol)を得た。示性値は以下のとおり。
1H−NMR(CDCl3):δ 2.16(3H,s)、2.40(3H,s)、3.15(2H,m)、4.98(1Hq)、7.09(1Hd)、7.25(2Hd)、7.72(2Hd).
FAB−MS(positive ion mode):M/z=254([M+H]+
)、276([M+Na]+

<製造例3>化合物3の合成
Figure 0005746864
L−システイン酸1水和物 5(g)(26.7 mmol)(アルドリッチ)、1,4−ジオキサン 20(mL)(和光純薬)、および、水10(mL)を100(mL)ナス型フラスコに入れた後、氷浴にて冷却した。十分に冷却した後8(N)水酸化ナトリウム水溶液10.7(mL)、p−トルイルクロリド3.36(mL)(アルドリッチ)を液温が上昇しないように順次滴下した。滴下終了後、氷浴を外し室温にて攪拌した。薄層クロマトグラフィで反応の進行を確認した後、1,4−ジオキサンを減圧留去した。得られた残渣を酢酸エチルにて洗浄した後、塩酸にてpHを2以下に調整した。得られた水溶液を凍結乾燥し、メタノルで目的物を抽出した。メタノルを減圧留去した後、結晶化し、ろ過した。濾取した結晶を乾燥し、上記構造を有する化合物3 5.79(g)(20.2 mmol)を得た。示性値は以下のとおり。
1H−NMR(D 2 0):δ 2.32(3H,s)、3.46(2H,m)、4.87(1Hm)、7.25(2Hd)、7.64(2Hd).
FAB−MS(negative ion mode):M/z=286([M−H]-
)、308([M+Na−H]-

<製造例4>化合物4の合成
Figure 0005746864
L−システイン酸 2(g)(11.8mmol)(東京化成)、テトラヒドロフラン
12(mL)(和光純薬)、および、水 12(mL)を100(mL)ナス型フラスコに入れた後、氷浴にて冷却した。十分に冷却した後、炭酸カリウム 2.94(g)(21.3mmol)(和光純薬)、4−フェニルベンゾイルクロリド2.05(g)(東京化成)を液温が上昇しないように順次添加した。氷浴下1.5時間反応させた後、4−フェニルベンゾイルクロリド1.02(g)(東京化成)を再度添加した。添加後、氷浴を外し室温にて攪拌した。薄層クロマトグラフィで反応の進行を確認した後、テトラヒドロフランを減圧留去した。得られた残渣を酢酸エチルにて洗浄した後、塩酸にてpHを2以下に調整した。析出した結晶をろ過し、水で洗浄した。得られた結晶をアセトンで懸洗した後、ろ過した。濾取した結晶を60℃にて乾燥し、上記構造を有する化合物4 2.37(g)(6.78 mmol)を得た。示性値は以下のとおり。
1H−NMR(DMSO−d 6 ):δ 2.96(2H,m)、4.54(1H,q)、7.42(1H,m)、7.51(2Hm)、7.74(2Hd)、7.80(2Hd)、7.90(2Hd)、8.94(1Hd).
FAB−MS(negative ion mode):M/z=348([M−H]-


<製造例5>化合物5の合成
Figure 0005746864
L−システイン酸 2(g)(11.8mmol)(東京化成)、テトラヒドロフラン
12(mL)(和光純薬)、および、水 12(mL)を100(mL)ナス型フラスコに入れた後、氷浴にて冷却した。十分に冷却した後、炭酸カリウム2.94(g)(21.3mmol)(和光純薬)、4−メトキシベンゾイルクロリド 1.61(g)(東京化成)を液温が上昇しないように順次添加した。氷浴下1時間反応させた後、4−メトキシベンゾイルクロリド0.81(g)(東京化成)を再度添加した。添加後、氷浴を外し室温にて攪拌した。薄層クロマトグラフィで反応の進行を確認した後、テトラヒドロフランを減圧留去した。得られた残渣を酢酸エチルにて洗浄した後、塩酸にてpH2を以下に調整した。析出した結晶をろ過し、水で洗浄した。濾液を濃縮し、再度析出した結晶をろ過した。得られた結晶をあわせた後、アセトンで懸洗した。結晶をろ過した後、濾取した結晶を60℃にて乾燥し、上記構造を有する化合物5 2.47(g)(8.14 mmol)を得た。示性値は以下のとおり。
1H−NMR(D2O):δ 3.45(2H,m)、3.81(3H,s)、4.85(1H,m)、7.00(2Hd)、7.72(2Hd).
FAB−MS(negative ion mode):M/z=302([M−H]-


<製造例6>化合物6の合成
Figure 0005746864
DL−ホモシステイン酸 2(g)(10.9mmol)(アルドリッチ)、テトラヒドロフラン 12(mL)(和光純薬)、および、水 12(mL)を100(mL)ナス型フラスコに入れた後、氷浴にて冷却した。十分に冷却した後、炭酸カリウム 2.71(g)(19.6mmol)(和光純薬)を添加した。p−トルイルクロリド1.49(g)(アルドリッチ)を液温が上昇しないように順次添加した。氷浴下1時間反応させた後、p−トルイルクロリド0.76(g)(アルドリッチ)を再度添加した。添加後、氷浴を外し室温にて攪拌した。薄層クロマトグラフィで反応の進行を確認した後、テトラヒドロフランを減圧留去した。得られた残渣を酢酸エチルにて洗浄した後、塩酸にてpH2を以下に調整した。溶液をろ過後、濾液を濃縮し、メタノールを添加した。析出した結晶を濾別後、水で懸洗した。結晶をろ過し、濾取した結晶を60℃にて乾燥し、上記構造を有する化合物6 1.95(g)(6.47 mmol)を得た。示性値は以下のとおり。
1H−NMR(DMSO−d 6 ):δ 2.12(2H,m)、2.35(3H,s)、2.57(2H,t)、4.37(1H,m)、7.26(2Hd)、7.79(2Hd)、9.02(1H,d).
FAB−MS(negative ion mode):M/z=300([M−H]-


<製造例7>化合物7の合成
Figure 0005746864
L−システイン酸 3(g)(17.7mmol)(東京化成)、テトラヒドロフラン
18(mL)(和光純薬)、および、水 18(mL)を100(mL)ナス型フラスコに入れた後、氷浴にて冷却した。十分に冷却した後、炭酸カリウム 4.40(g)(31.6mmol)(和光純薬)、m−トルイルクロリド 2.19(g)(東京化成)を液温が上昇しないように順次添加した。氷浴下1時間反応させた後、m−トルイルクロリド1.09(g)(東京化成)を再度添加した。添加後、氷浴を外し室温にて攪拌した。薄層クロマトグラフィで反応の進行を確認した後、テトラヒドロフランを減圧留去した。得られた残渣を酢酸エチルにて洗浄した後、塩酸にてpHを2以下に調整した。濾液を濃縮し、水(18ml)を添加した。析出した結晶を濾別した。得られた結晶をアセトンで懸洗し、濾取した。濾取した結晶を60℃にて乾燥し、上記構造を有する化合物7 1.65(g)(5.74 mmol)を得た。示性値は以下のとおり。
1H−NMR(DMSO−d 6 ):δ 2.36(3H,s)、2.94(2H,m)、4.41(1H,m)、7.36(2Hd)、7.58(2Ht)、8.84(1H,d)、12.5(1H,bs).
FAB−MS(negative ion mode):M/z=286([M−H]-


<製造例8>化合物8の合成
Figure 0005746864
L−システイン酸 3(g)(17.7mmol)(東京化成)、テトラヒドロフラン
18(mL)(和光純薬)、水 18(mL)を100(mL)ナス型フラスコに入れた後、氷浴にて冷却した。十分に冷却した後、炭酸カリウム4.40(g)(31.6mmol)(和光純薬)を添加した。o−トルイルクロリド 3.28(g)(東京化成)を液温が上昇しないように順次添加した。添加後、氷浴を外し室温にて攪拌した。薄層クロマトグラフィで反応の進行を確認した後、テトラヒドロフランを減圧留去した。得られた残渣を酢酸エチルにて洗浄した後、塩酸にてpHを2以下に調整した。濾液を濃縮し、水(20ml)を添加した。析出した結晶を濾取し、結晶をアセトンで懸洗した。濾取した結晶を60℃にて乾燥し、上記構造を有する化合物8 0.78(g)(2,72 m
mol)を得た。示性値は以下のとおり。
1H−NMR(D2O):δ 2.31(3H,s)、3.42(2H,m)、4.86(
1H,m)、7.24(2Hm)、7.35(2Hm).
FAB−MS(negative ion mode):M/z=286([M−H]-


上記製造例は、一般式(1)で表される化合物の製造方法の一例であり、原料や反応条件を適宜変更することで、上記化合物1〜8以外の化合物を合成することができる。本発明のシワ改善剤は、紫外線暴露などにより形成されたシワに対し優れたシワ改善作用を発揮するため、皮膚外用剤として有用である。皮膚外用剤がこのような作用を奏するには、本願発明のシワ改善剤、すなわち一般式(1)〜(6)で表される化合物を、皮膚外用剤全量に対して、総量で0.001質量%〜20質量%、より好ましくは、0.01質量%〜10質量%、さらに好ましくは、0.1質量%〜5質量%含有することが好ましい。皮膚外用剤全量に対する含有量が、0.001質量%より少ないと、シワ改善作用に基づく効果が低下する場合が存し、また、20質量%を超える量を用いても、効果が頭打ちになり、徒に処方自由度を損なう場合がある。
一般式(1)で表される化合物には、紫外線暴露などで形成されるシワに対する優れたシワ改善作用以外の作用を奏するものも存在する。その様な作用の発現を目的として本発明のシワ改善剤を含有する皮膚外用剤であっても、シワ改善効果が発揮されている場合には本発明の効果を利用するものであるので、本発明の技術的範囲に属する。シワ改善以外の作用としては、保湿作用、光線性角化症又は非光線性角化症改善作用、皮膚の剥離、表皮更新の刺激及び老化改善作用などが挙げられる。
本発明の皮膚外用剤は、本発明のシワ改善剤以外に通常の皮膚外用剤で使用される任意の成分を含有することが出来る。この様な任意の成分としては、例えば、マカデミアナッツ油、アボド油、トウモロコシ油、オリブ油、ナタネ油、ゴマ油、ヒマシ油、サフラワ油、綿実油、ホホバ油、ヤシ油、パム油、液状ラノリン、硬化ヤシ油、硬化油、モクロウ、硬化ヒマシ油、ミツロウ、キャンデリラロウ、カルナウバロウ、イボタロウ、ラノリン、還元ラノリン、硬質ラノリン、ホホバロウ等のオイル、ワックス類;流動パラフィン、スクワラン、プリスタン、オゾケライト、パラフィン、セレシン、ワセリン、マイクロクリスタリンワックス等の炭化水素類;オレイン酸、イソステアリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、ウンデシレン酸等の高級脂肪酸類;セチルアルコル、ステアリルアルコル、イソステアリルアルコル、ベヘニルアルコル、オクチルドデカノル、ミリスチルアルコル、セトステアリルアルコル等の高級アルコール等;イソオクタン酸セチル、ミリスチン酸イソプロピル、イソステアリン酸ヘキシルデシル、アジピン酸ジイソプロピル、セバチン酸ジ−2−エチルヘキシル、乳酸セチル、リンゴ酸ジイソステアリル、ジ−2−エチルヘキサン酸エチレングリコル、ジカプリン酸ネオペンチルグリコル、ジ−2−ヘプチルウンデカン酸グリセリン、トリ−2−エチルヘキサン酸グリセリン、トリ−2−エチルヘキサン酸トリメチロルプロパン、トリイソステアリン酸トリメチロルプロパン、テトラ−2−エチルヘキサン酸ペンタンエリトリット等の合成エステル油類;ジメチルポリシロキサン、メチルフェニルポリシロキサン、ジフェニルポリシロキサン等の鎖状ポリシロキサン;オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ドデカメチルシクロヘキサンシロキサン等の環状ポリシロキサン;アミノ変性ポリシロキサン、ポリエーテル変性ポリシロキサン、アルキル変性ポリシロキサン、フッ素変性ポリシロキサン等の変性ポリシロキサン等のシリコン油等の油剤類;脂肪酸セッケン(ラウリン酸ナトリウム、パルミチン酸ナトリウム等)、ラウリル硫酸カリウム、アルキル硫酸トリエタノルアミンエテル等のアニオン界面活性剤類;塩化ステアリルトリメチルアンモニウム、塩化ベンザルコニウム、ラウリルアミンオキサイド等のカチオン界面活性剤類;イミダゾリン系両性界面活性剤(2−ココイル−2−イミダゾリニウムヒドロキサイド−1−カルボキシエチロキシ2ナトリウム塩等)、ベタイン系界面活性剤(アルキルベタイン、アミドベタイン、スルホベタイン等)、アシルメチルタウリン等の両性界面活性剤類;ソルビタン脂肪酸エステル類(ソルビタンモノステアレト、セスキオレイン酸ソルビタン等)、グリセリン脂肪酸類(モノステアリン酸グリセリン等)、プロピレングリコル脂肪酸エステル類(モノステアリン酸プロピレングリコル等)、硬化ヒマシ油誘導体、グリセリンアルキルエテル、POEソルビタン脂肪酸エステル類(POEソルビタンモノオレエト、モノステアリン酸ポリオキエチレンソルビタン等)、POEソルビット脂肪酸エステル類(POE−ソルビットモノラウレト等)、POEグリセリン脂肪酸エステル類(POE−グリセリンモノイソステアレト等)、POE脂肪酸エステル類(ポリエチレングリコルモノオレト、POEジステアレト等)、POEアルキルエテル類(POE2−オクチルドデシルエテル等)、POEアルキルフェニルエテル類(POEノニルフェニルエテル等)、プルロニック型類、POE・POPアルキルエテル類(POE・POP2−デシルテトラデシルエテル等)、テトロニック類、POEヒマシ油・硬化ヒマシ油誘導体(POEヒマシ油、POE硬化ヒマシ油等)、ショ糖脂肪酸エステル、アルキルグルコシド等の非イオン界面活性剤類;ポリエチレングリコル、グリセリン、1,3−ブチレングリコル、エリスリトル、ソルビトル、キシリトル、マルチトル、プロピレングリコル、ジプロピレングリコル、ジグリセリン、イソプレングリコル、1,2−ペンタンジオル、2,4−ヘキサンジオル、1,2−ヘキサンジオル、1,2−オクタンジオル等の多価アルコル類;ピロリドンカルボン酸ナトリウム、乳酸、乳酸ナトリウム等の保湿成分類;表面を処理されていてもよい、マイカ、タルク、カオリン、合成雲母、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、無水ケイ酸(シリカ)、酸化アルミニウム、硫酸バリウム等の粉体類;表面を処理されていてもよい、ベンガラ、黄酸化鉄、黒酸化鉄、酸化コバルト、群青、紺青、酸化チタン、酸化亜鉛の無機顔料類;表面を処理されていてもよい、雲母チタン、魚燐箔、オキシ塩化ビスマス等のパル剤類;レキ化されていてもよい赤色202号、赤色228号、赤色226号、黄色4号、青色404号、黄色5号、赤色505号、赤色230号、赤色223号、橙色201号、赤色213号、黄色204号、黄色203号、青色1号、緑色201号、紫色201号、赤色204号等の有機色素類;ポリエチレン末、ポリメタクリル酸メチル、ナイロン粉末、オルガノポリシロキサンエラストマ等の有機粉体類;パラアミノ安息香酸系紫外線吸収剤;アントラニル酸系紫外線吸収剤;サリチル酸系紫外線吸収剤;桂皮酸系紫外線吸収剤;ベンゾフェノン系紫外線吸収剤;糖系紫外線吸収剤;2−(2'−ヒドロキシ−5'−t−オクチルフェニル)ベンゾトリアゾル、4−メトキシ−4'−t−ブチルジベンゾイルメタン等の紫外線吸収剤類;エタノール、イソプロパノル等の低級アルコル類;ビタミンA又はその誘導体、ビタミンB 6 塩酸塩、ビタミンB 6 トリパルミテト、ビタミンB 6 ジオクタノエト、ビタミンB 2 又はその誘導体、ビタミンB 12 、ビタミンB 15 又はその誘導体等のビタミンB類;α−トコフェロル、β−トコフェロル、γ−トコフェロル、ビタミンEアセテト等のビタミンE類、ビタミンD類、ビタミンH、パントテン酸、パンテチン、ピロロキノリンキノン等のビタミン類等;フェノキシエタノル等の抗菌剤などが挙げられる。

本発明のシワ改善剤、および、上記任意成分を常法に従って処理することで、ロション、乳液、エッセンス、クリム、パック化粧料、洗浄料などの、本発明の皮膚外用剤を
製造できる。本発明の皮膚外用剤としては、皮膚に外用で適用されるものであれば特段の限定なく適用でき、医薬部外品を含む化粧料、皮膚外用医薬、皮膚外用雑貨等に適用できる。特に好ましくは、医薬部外品を含む化粧料である。本発明のシワ改善剤の安全性が高いため、連続的に使用することが可能であるためである。

以下、本発明について、実施例を挙げて更に詳細に説明を加えるが、本発明がかかる実施例にのみ、限定されないことは言うまでもない。
<製剤例1:化合物1のシワ改善剤>
化合物1について、先に述べた方法により合成した。以下に示す処方に従って、本発明のシワ改善剤を含む化粧料1(ローション)を調製した。
Figure 0005746864
<光老化モデルを用いた化合物1のシワ改善効果の評価>
上記化粧料1について、光老化モデルを用いた試験におけるシワ改善効果を評価した。
試験開始時6週齢のへアレスマウス1群5匹、対照群(エタノル溶媒投与群)と検体投与群の2群で計10匹用い、ヘアレスマウス背部にUVBを、1日1回、週3回の頻度にて10週間連続で照射することにより光老化を誘発させた。UVB照射量は、最初の1週間を50mJ/cm2、2週目以降を100mJ/cm2とした。
検体投与群には、上記化粧料1をへアレスマウス背部に投与した。10週間のUVB照射終了後、翌日からヘアレスマウス背部に化粧料1の投与を開始し、1日1回100μLを8週間投与した。対照群には、表1の化粧料1(ロション1)に代えてエタノルを投与し、あとの処置は検体投与群と同様に行った。投与終了1日後にレプリカを採取し、30度の斜光照明下で投影された2cm四方のレプリカ像を用い、測定者によるシワスコア基準(表2)に従ったスコア化作業を行い、シワ改善効果を評価した。スコア化作業は、3名の測定者が個別に行い、目視によりスコア1〜6まで、0.5刻みで評価した結果に付いて平均値を算出した。

Figure 0005746864
化合物1のシワ改善効果を、図1に示す。この図より、本発明の化合物1は、優れたシワ改善効果を有することがわかる。
<製剤例2および3:化合物2および化合物3のシワ改善剤>
化合物2および3について、先に述べた方法により合成した。化合物1を化合物2および3に変更した以外は実施例1と同様の方法で、化粧料2および化粧料3を調製した。化粧料1の場合と同様にシワ改善作用を評価した結果を図2及び図3に示す。これらの図より、本発明の化合物2及び化合物3は、優れたシワ改善効果を有することがわかる。
<化合物1〜8のプロコラーゲン産生促進作用の評価>
本発明の化合物1〜8を、先に述べた方法により合成し、プロコラーゲン(procollagen)産生促進作用を評価した。
ケラチノサイト増殖用培地(Humedia−KG2、倉敷紡績株式会社製)を用い、4.5×104細胞のヒト由来正常ケラチノサイト培養細胞を24ウェルプレトに播種
し、37℃・二酸化炭素濃度5%中にて4日間培養した。同時に、10%FBSを添加したDMEM培地(SIGMA製)を用い、2.5×104細胞のヒト由来正常皮膚ファイ
ブロブラスト培養細胞を24ウェルプレトに播種し、37℃・二酸化炭素濃度5%中にて培養した。
次に、2%FBSを添加したDMEM培地(SIGMA製)に、最終濃度10μMになるように化合物1〜8をそれぞれ添加した培地を作製した。また、比較対照(Control)には、化合物1〜8に換わり最終濃度0.01×10-3(v/v%)になるように
ジメチルスルホキシド(シグマ・アルドリッチ社製)及び50%エタノール(シグマ・アルドリッチ社製)を添加した培地を作製した。
培養したケラチノサイトをPBS(和光純薬工業株式会社製)にて洗浄した後、前記のそれぞれの化合物を含む培地、ならびにジメチルスルホキシド及び50%エタノールを含
む培地に置換し、37℃・二酸化炭素濃度5%中にて24時間培養した。24時間後、この培養上清を回収した。
培養したファイブロブラストをPBSにて洗浄した後、回収した培養上清に置換し、37℃・二酸化炭素濃度5%中にて48時間培養した。48時間後、ファイブロブラストをPBSで洗浄した後、DMEM(SIGMA製)に置換し、37℃・二酸化炭素濃度5%中にて2時間培養後、培養上清を回収した。この培養上清中のプロコラーゲン量をELISA法を用いて測定した。
ジメチルスルホキシド及び50%エタノール添加培地で培養したファイブロブラストを比較対照(Control)とし、比較対照に対する化合物1〜8それぞれのプロコラーゲン産生量の比率を図4〜7に表した。
図4〜7の結果により、本発明の化合物は、優れたプロコラーゲン産生促進効果を有することが判る。
本発明のシワ改善剤は、化粧料などの皮膚外用剤に適用できる。安全性が高く、シワ改善作用に優れるため、化粧料原料として非常に有用である。

Claims (8)

  1. 下記一般式(1)で表される化合物、その立体異性体、又はそれらの薬理学的に許容される塩を含有する、シワ改善剤。
    Figure 0005746864
    [式中、R1は、水素原子、又は炭素数1〜8の直鎖若しくは分岐のアルキル基を表し、
    2は、−SO3H、−SO2−X4、−SH、又は−S−X2を表し、前記X及びX
    、独立して、水素原子若しくは炭素原子が複素原子で置換されていてもよい、炭素数1〜8の脂肪族炭化水素基又は炭素数5〜12の芳香族部であり、R3は、水素原子、又は炭
    素数1〜8の直鎖若しくは分岐のアルキル鎖を有するアシル基を表し、R4は、トルイル
    基、エチルフェニル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル基、ペンチルフェニル基、ヘキシルフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、プロピルオキシフェニル基、ブチルオキシフェニル基、ペンチルオキシフェニル基、ヘキシルオキシフェニル基、又はビフェニル基を表し、mは、0を表し、nは、1又は2の整数を表す。]
  2. 前記一般式(1)で表される化合物が、下記一般式(5)で表される化合物である、請求項1に記載のシワ改善剤。
    Figure 0005746864
    [式中、R15は、水素原子、又は炭素数1〜8の直鎖若しくは分岐のアルキル基を表し、R16は、−SO3H、又は−SO2−X4を表し、前記X4は、水素原子若しくは炭素原子が
    複素原子で置換されていてもよい、炭素数1〜8の脂肪族炭化水素基若しくは炭素数5〜12の芳香族部を表し、R17は、水素原子、又は炭素数1〜8の直鎖若しくは分岐のアルキル鎖を有するアシル基を表し、R18は、トルイル基、エチルフェニル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル基、ペンチルフェニル基、ヘキシルフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、プロピルオキシフェニル基、ブチルオキシフェニル基、ペンチルオキシフェニル基、ヘキシルオキシフェニル基、又はビフェニル基を表し、mは、0を表し、nは、1又は2の整数を表す。]
  3. 前記一般式(1)で表される化合物が、下記一般式(6)で表される化合物である、請求項1に記載のシワ改善剤。
    Figure 0005746864
    [式中、R19は、水素原子、又は炭素数1〜8の直鎖若しくは分岐のアルキル基を表し、R20は、トルイル基、エチルフェニル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル基、ペンチルフェニル基、ヘキシルフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、プロピルオキシフェニル基、ブチルオキシフェニル基、ペンチルオキシフェニル基、ヘキシルオキシフェニル基、又はビフェニル基を表し、mは0を表し、nは、1又は2の整数を表す。]
  4. 前記一般式(1)で表される化合物が、下記一般式(2)で表される化合物である、請求項1に記載のシワ改善剤。
    Figure 0005746864
    [式中、R5は、水素原子、又は炭素数1〜8の直鎖若しくは分岐のアルキル基を表し、
    6は、−S−X2を表し、前記X2は、水素原子若しくは炭素原子が複素原子で置換され
    ていてもよい、炭素数1〜8の脂肪族炭化水素基又は炭素数5〜12の芳香族部を表し、R7は、水素原子、又は炭素数1〜8の直鎖若しくは分岐のアルキル鎖を有するアシル基
    を表し、R8は、トルイル基、エチルフェニル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル
    基、ペンチルフェニル基、ヘキシルフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、プロピルオキシフェニル基、ブチルオキシフェニル基、ペンチルオキシフェニル基、ヘキシルオキシフェニル基、又はビフェニル基を表し、mは、0を表し、nは、1又は2の整数を表す。]
  5. 前記一般式(1)で表される化合物が、下記一般式(3)で表される化合物である、請求項1に記載のシワ改善剤。
    Figure 0005746864
    [式中、R9は、水素原子、又は炭素数1〜8の直鎖若しくは分岐のアルキル基を表し、
    10は、−S−X2を表し、前記X2は、水素原子若しくは炭素原子が複素原子で置換されていてもよい、炭素数1〜8の脂肪族炭化水素基又は炭素数5〜12の芳香族部を表し、R11は、トルイル基、エチルフェニル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル基、ペンチルフェニル基、ヘキシルフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、プロピルオキシフェニル基、ブチルオキシフェニル基、ペンチルオキシフェニル基、ヘキシルオキシフェニル基、又はビフェニル基を表し、mは、0を表し、nは、1又は2の整数を表す。]
  6. 前記一般式(1)で表される化合物が、下記一般式(4)で表される化合物である、請求項1に記載のシワ改善剤。
    Figure 0005746864
    [式中、R12は、水素原子、又は炭素数1〜8の直鎖若しくは分岐のアルキル基を表し、R13は、水素原子若しくは炭素原子が複素原子で置換されていてもよい、炭素数1〜8の脂肪族炭化水素基又は炭素数5〜12の芳香族部を表し、R14は、トルイル基、エチルフェニル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル基、ペンチルフェニル基、ヘキシルフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、プロピルオキシフェニル基、ブチルオキシフェニル基、ペンチルオキシフェニル基、ヘキシルオキシフェニル基、又はビフェニル基を表し、mは、0を表す。]
  7. 請求項2、3、6のいずれか1項に記載のシワ改善剤を0.001〜20質量%含有する、皮膚外用剤。
  8. 化粧料であることを特徴とする、請求項に記載の皮膚外用剤。
JP2010539212A 2008-11-19 2009-11-12 シワ改善剤 Active JP5746864B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010539212A JP5746864B2 (ja) 2008-11-19 2009-11-12 シワ改善剤

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008294995 2008-11-19
JP2008294995 2008-11-19
JP2010539212A JP5746864B2 (ja) 2008-11-19 2009-11-12 シワ改善剤
PCT/JP2009/069261 WO2010058730A1 (ja) 2008-11-19 2009-11-12 シワ改善剤

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015034836A Division JP6239543B2 (ja) 2008-11-19 2015-02-25 シワ改善剤

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2010058730A1 JPWO2010058730A1 (ja) 2012-04-19
JP5746864B2 true JP5746864B2 (ja) 2015-07-08

Family

ID=42198170

Family Applications (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010539212A Active JP5746864B2 (ja) 2008-11-19 2009-11-12 シワ改善剤
JP2015034836A Active JP6239543B2 (ja) 2008-11-19 2015-02-25 シワ改善剤
JP2016196215A Active JP6225228B2 (ja) 2008-11-19 2016-10-04 シワ改善効果を有する化合物

Family Applications After (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015034836A Active JP6239543B2 (ja) 2008-11-19 2015-02-25 シワ改善剤
JP2016196215A Active JP6225228B2 (ja) 2008-11-19 2016-10-04 シワ改善効果を有する化合物

Country Status (17)

Country Link
US (1) US8835498B2 (ja)
EP (2) EP3173063B1 (ja)
JP (3) JP5746864B2 (ja)
KR (1) KR101657323B1 (ja)
CN (1) CN102215812B (ja)
AU (1) AU2009318483B2 (ja)
BR (1) BRPI0921303B8 (ja)
CA (1) CA2742909C (ja)
ES (2) ES2650252T3 (ja)
HK (1) HK1160405A1 (ja)
IL (1) IL212909A (ja)
MX (1) MX2011004006A (ja)
MY (1) MY159355A (ja)
RU (1) RU2503443C2 (ja)
TW (1) TWI474837B (ja)
UA (1) UA107919C2 (ja)
WO (1) WO2010058730A1 (ja)

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102686213B (zh) * 2010-01-12 2014-11-12 宝丽化成工业有限公司 色素沉着预防或改善剂
JP5666158B2 (ja) * 2010-03-31 2015-02-12 ポーラ化成工業株式会社 肌荒れ予防又は改善剤
JP5669436B2 (ja) * 2010-05-18 2015-02-12 ポーラ化成工業株式会社 組成物
JP5669437B2 (ja) * 2010-05-18 2015-02-12 ポーラ化成工業株式会社 組成物
JP5911209B2 (ja) * 2011-06-14 2016-04-27 ポーラ化成工業株式会社 皮膚外用剤
JP2013018713A (ja) * 2011-07-07 2013-01-31 Pola Chemical Industries Inc 皮膚外用剤
JP6086706B2 (ja) * 2012-11-14 2017-03-01 ポーラ化成工業株式会社 高い紫外線吸収効果を有する皮膚外用組成物
CN112402285A (zh) 2014-04-03 2021-02-26 宝丽化成工业有限公司 美白化妆品及包含d-泛醇的组合物在美白化妆品的制造中的用途
FR3029412B1 (fr) * 2014-12-04 2018-01-26 Societe D'exploitation De Produits Pour Les Industries Chimiques Seppic Utilisation de derives n-acyles d'acide amines esterifies avec le 1,3-butanediol, comme agent antivieillissement de la peau humaine
FR3029410B1 (fr) * 2014-12-04 2016-12-30 Soc D'exploitation De Produits Pour Les Ind Chimiques Seppic Utilisation d'esters de 1,3-butanediol et de derives n-acyles d'acides amines comme agent de brunissage et/ou de bronzage de la peau humaine
MY194060A (en) * 2016-06-24 2022-11-10 Pola Chem Ind Inc External preparation for skin for wrinkle improvement
KR102042967B1 (ko) * 2017-03-07 2019-11-11 코스맥스 주식회사 푸코실락토오스를 포함하는 피부 노화 개선용 화장료 조성물

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1035855B (de) * 1957-06-29 1958-08-07 Hans Schwarzkopf Chem Fab Haut- und Haarpflegemittel
JPS61233636A (ja) * 1984-09-28 1986-10-17 ロレアル レチノイド形活性をもつ新規ナフタリン誘導体、その製法およびそれを含む医薬または化粧用組成物
JPS62135441A (ja) * 1985-10-11 1987-06-18 サントル・アンテルナシヨナル・ド・ルシエルシエ・デルマトロジツク・セ.イ.エ−ル.デ. 新規なナフタレン系二環式誘導体及びこれを含有する医薬及び化粧料組成物
US4757066A (en) * 1984-10-15 1988-07-12 Sankyo Company Limited Composition containing a penem or carbapenem antibiotic and the use of the same
JPS6471851A (en) * 1987-08-21 1989-03-16 Degussa Manufacture of n-acylated mercapto-alpha-amino acid
JP2004533998A (ja) * 2001-02-22 2004-11-11 ロレアル 少なくとも一の水酸化物化合物と少なくとも一の活性化剤を含有するヘアリラクサー組成物及びそれらの使用方法
JP2006052152A (ja) * 2004-08-10 2006-02-23 Toagosei Co Ltd 抗酸化性化合物
JP2008105976A (ja) * 2006-10-24 2008-05-08 Shinichiro Isobe 化粧用組成物
JP2008526774A (ja) * 2005-01-03 2008-07-24 リュイ ジェイ. ユー, アミノ炭水化物およびアミノ酸のo−アセチルサリチル誘導体を含む組成物

Family Cites Families (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS53149926A (en) * 1977-05-18 1978-12-27 Kowa Co Methylmethionine sulfonium derivative
JPS6119511A (ja) 1984-07-06 1986-01-28 Mitsubishi Electric Corp 放電加工方法とその装置
JPS61289016A (ja) 1985-06-17 1986-12-19 Pola Chem Ind Inc 皮膚外用剤
JPH0657652B2 (ja) 1985-07-19 1994-08-03 鐘紡株式会社 皮膚老化防止化粧料
JPH075461B2 (ja) * 1986-04-10 1995-01-25 三共株式会社 副作用の軽減されたペネム型またはカルバペネム型抗生物質製剤
JP2985181B2 (ja) 1989-05-31 1999-11-29 日本電気株式会社 多重変換装置
JP2999301B2 (ja) * 1991-07-25 2000-01-17 協和醗酵工業株式会社 化粧料
US5296500A (en) 1991-08-30 1994-03-22 The Procter & Gamble Company Use of N-acetyl-cysteine and derivatives for regulating skin wrinkles and/or skin atrophy
TW222591B (ja) * 1991-08-30 1994-04-21 Procter & Gamble
CA2128205C (en) 1992-01-27 2004-03-30 Hiroharu Matsuoka Methotrexate derivatives
FR2738484B1 (fr) 1995-09-07 1997-10-03 Oreal Utilisation de l'acide cysteique ou homocysteique pour favoriser la desquamation de la peau ou stimuler le renouvellement epidermique
WO1997017070A1 (en) * 1995-11-06 1997-05-15 University Of Pittsburgh Inhibitors of protein isoprenyl transferases
JP3569448B2 (ja) 1997-07-14 2004-09-22 鹿島石油株式会社 N−アシルアミノ酸及びこれを用いた化粧料
JPH1149628A (ja) 1997-07-31 1999-02-23 Shiseido Co Ltd しわ改善用化粧料
JPH1149629A (ja) 1997-07-31 1999-02-23 Shiseido Co Ltd 美白用化粧料
PL343555A1 (en) 1998-03-27 2001-08-27 Genentech Inc Antagonists for treatment of cd11/cd18 adhesion receptor mediated disorders
GB9828442D0 (en) 1998-12-24 1999-02-17 Karobio Ab Novel thyroid receptor ligands and method II
US20030229141A1 (en) 1999-01-08 2003-12-11 Yu Ruey J. N-acetyl cysteine and its topical use
JP2001192317A (ja) 2000-01-06 2001-07-17 Shiseido Co Ltd マトリックスメタロプロテアーゼ阻害剤
US6534038B2 (en) 2000-04-07 2003-03-18 Bristol-Myers Squibb Pharma Company Ternary ligand complexes useful as radiopharmaceuticals
US20020010128A1 (en) 2000-04-13 2002-01-24 Parks Thomas P. Treatment of hyperproliferative, inflammatory and related mucocutaneous disorders using inhibitors of mevalonate synthesis and metabolism
ITMI20011022A1 (it) 2001-05-17 2002-11-17 Indena Spa Composizioni farmaceutiche e cosmetiche contro l'invecchiamento cutaneo
JP2003137807A (ja) * 2001-11-01 2003-05-14 Miyagi Kagaku Kogyo Kk コラーゲン産生促進剤、それを含む化粧品、食品および医薬品ならびに皮膚疾患の予防または改善用外用剤
JP2003267856A (ja) 2002-03-18 2003-09-25 Showa Denko Kk しわ防止用化粧料
US7294642B2 (en) * 2002-09-06 2007-11-13 Elan Pharmaceuticals, Inc. 1,3-Diamino-2-hydroxypropane pro-drug derivatives
AU2003278814A1 (en) 2002-09-13 2004-04-30 Georgetown University Ligands for the peroxisome proliferator-activated receptor, and methods of use thereof
JP2005089304A (ja) 2003-09-12 2005-04-07 Nippon Menaade Keshohin Kk 炎症性サイトカインの産生抑制剤
CN101128117A (zh) * 2005-01-03 2008-02-20 吕伊·J·于 包含氨基糖类和氨基酸的o-乙酰水杨基衍生物的组合物
JP2007191396A (ja) 2005-01-07 2007-08-02 Rohto Pharmaceut Co Ltd 皮膚外用剤
JP4838537B2 (ja) 2005-05-25 2011-12-14 株式会社 資生堂 不全角化抑制剤、毛穴縮小剤又は肌荒れ防止・改善剤及び皮膚外用組成物
CA2634005C (en) * 2005-12-15 2012-01-03 Vicuron Pharmaceuticals Inc. N-hydroxyamide derivatives possessing antibacterial activity

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1035855B (de) * 1957-06-29 1958-08-07 Hans Schwarzkopf Chem Fab Haut- und Haarpflegemittel
JPS61233636A (ja) * 1984-09-28 1986-10-17 ロレアル レチノイド形活性をもつ新規ナフタリン誘導体、その製法およびそれを含む医薬または化粧用組成物
US4757066A (en) * 1984-10-15 1988-07-12 Sankyo Company Limited Composition containing a penem or carbapenem antibiotic and the use of the same
JPS62135441A (ja) * 1985-10-11 1987-06-18 サントル・アンテルナシヨナル・ド・ルシエルシエ・デルマトロジツク・セ.イ.エ−ル.デ. 新規なナフタレン系二環式誘導体及びこれを含有する医薬及び化粧料組成物
JPS6471851A (en) * 1987-08-21 1989-03-16 Degussa Manufacture of n-acylated mercapto-alpha-amino acid
JP2004533998A (ja) * 2001-02-22 2004-11-11 ロレアル 少なくとも一の水酸化物化合物と少なくとも一の活性化剤を含有するヘアリラクサー組成物及びそれらの使用方法
JP2006052152A (ja) * 2004-08-10 2006-02-23 Toagosei Co Ltd 抗酸化性化合物
JP2008526774A (ja) * 2005-01-03 2008-07-24 リュイ ジェイ. ユー, アミノ炭水化物およびアミノ酸のo−アセチルサリチル誘導体を含む組成物
JP2008105976A (ja) * 2006-10-24 2008-05-08 Shinichiro Isobe 化粧用組成物

Non-Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
JPN6010003623; Rosowsky, A., et al: J. Med. Chem. 35, 1992, 1578-1588 *
JPN6013043637; 新化粧品ハンドブック , 19961030, 518-524頁, 日光ケミカルズ株式会社 *
JPN6014010990; Andre Rosowsky: J. Med. Chem. 31, 1988, 1326-1331 *

Also Published As

Publication number Publication date
JP2017008101A (ja) 2017-01-12
UA107919C2 (en) 2015-03-10
CN102215812A (zh) 2011-10-12
BRPI0921303B1 (pt) 2022-04-12
BRPI0921303A2 (pt) 2015-12-29
CA2742909A1 (en) 2010-05-27
JP2015147768A (ja) 2015-08-20
CA2742909C (en) 2017-12-19
US20110245343A1 (en) 2011-10-06
ES2781401T3 (es) 2020-09-01
MY159355A (en) 2016-12-30
IL212909A (en) 2015-02-26
BRPI0921303B8 (pt) 2022-05-10
CN102215812B (zh) 2014-09-10
IL212909A0 (en) 2011-07-31
AU2009318483A1 (en) 2010-05-27
US8835498B2 (en) 2014-09-16
KR20110086743A (ko) 2011-07-29
TWI474837B (zh) 2015-03-01
HK1160405A1 (en) 2012-08-17
JPWO2010058730A1 (ja) 2012-04-19
RU2011124914A (ru) 2012-12-27
JP6239543B2 (ja) 2017-11-29
RU2503443C2 (ru) 2014-01-10
EP3173063B1 (en) 2019-12-25
WO2010058730A1 (ja) 2010-05-27
KR101657323B1 (ko) 2016-09-13
TW201023902A (en) 2010-07-01
EP2356979B1 (en) 2017-10-25
EP2356979A1 (en) 2011-08-17
EP3173063A1 (en) 2017-05-31
AU2009318483B2 (en) 2015-03-19
ES2650252T3 (es) 2018-01-17
MX2011004006A (es) 2011-05-19
EP2356979A4 (en) 2012-09-05
JP6225228B2 (ja) 2017-11-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5746864B2 (ja) シワ改善剤
CN110121329B (zh) 具有氨基酸和ppar活化脂肪酸的局部皮肤增亮添加剂和组合物
JP5685315B2 (ja) ニコチン酸アデニンディヌクレオチドリン酸又はその誘導体を含む薬学又は化粧料組成物
KR20120113262A (ko) 색소 침착 예방 또는 개선제
KR101624754B1 (ko) 부전각화 억제제, 모공 축소제 또는 피부 거칠음 방지·개선제 및 이를 배합한 피부 외용 조성물
JP5669437B2 (ja) 組成物
JP2011241164A (ja) 組成物
JP2011241164A5 (ja)
JP2011241166A5 (ja)
US20210386635A1 (en) Cosmetic compositions containing quinones and their topical use on skin and hair
JP5908678B2 (ja) 皮膚外用剤
JP4914029B2 (ja) Iv型およびvii型コラーゲン産生促進剤
JP2013001660A (ja) 皮膚外用剤
JP5911293B2 (ja) 皮膚外用剤
JP2007277134A (ja) インターロイキン−6産生抑制剤
JP2013032300A (ja) 皮膚外用剤
JP2013001657A (ja) 皮膚外用剤
JP2013001657A5 (ja)

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20121107

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20121107

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20140318

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20140519

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20141202

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20150225

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20150304

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20150428

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20150511

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5746864

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250