KR101657323B1 - 주름 개선제 - Google Patents

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치히로 곤도
다까시 야마사끼
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포라 가세이 고교 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명은, 화장료 등의 피부 외용제의 성분으로서 바람직한 신규 모핵을 갖는 주름 개선제를 제공하는 것을 과제로 한다. 구체적으로는, 하기 화학식 1로 표시되는 화합물, 그의 입체 이성체, 또는 이들의 약리학적으로 허용되는 염을 함유하는 주름 개선제에 의해 과제를 해결한다. 상기 주름 개선제는, 가령(加齡)에 따른 피부 노화로 알려진 자외선 폭로에 의한 광 노화의 결과 발생하는 주름, 처짐 등의 개선 효과가 우수하다.
<화학식 1>
Figure 112011045940301-pct00042

[식 중, R1은 수소 원자, 또는 탄소수 1 내지 8의 직쇄 또는 분지의 알킬기를 나타내고, R2는 -SH, -SO3H, -S-S-X1, -S-X2, -SO-X3, -SO2-X4, -SO2-NY1-X5 또는 -SO2-NY2-Y3을 나타내고, 상기 X1 내지 X5는 독립적으로 수소 원자 또는 탄소 원자가 복소 원자로 치환되어 있을 수도 있는 탄소수 1 내지 8의 지방족 탄화수소기 또는 탄소수 5 내지 12의 방향족부이고, 상기 Y1 내지 Y3은 독립적으로 수소 원자, 또는 탄소수 1 내지 8의 직쇄 또는 분지의 알킬기를 나타내고, R3은 수소 원자, 또는 탄소수 1 내지 8의 직쇄 또는 분지의 알킬쇄를 갖는 아실기를 나타내고, R4는 비치환 또는 치환기를 갖고 있을 수도 있는 탄소수 5 내지 12의 방향족기 또는 다환 축합 방향족기를 나타내고, m은 0 내지 3의 정수를 나타내고, n은 1 또는 2의 정수를 나타냄]

Description

주름 개선제{ANTI-WRINKLE AGENTS}
본 발명은 주름 개선제에 관한 것이며, 나아가서는 해당 주름 개선제를 포함하는 피부 외용제, 상세하게는 화장료 등에 관한 것이다. 또한, 나아가서는 주름 개선 효과를 갖는 신규 화합물에 관한 것이다.
가령(加齡), 스트레스, 자외선 폭로 등의 요인에 의해 야기되는 주름, 기미, 칙칙함, 처짐 등의 피부 증상의 악화는, 노화의 징후로서 외관적으로도 매우 알기 쉽다. 그 때문에, 피부의 노화 현상에 대한 사람들의 관심은 매우 높고, 피부의 미관을 아름답게 유지하기 위해 다양한 수단이 개발되었다.
피부 노화 현상 중 하나인 주름은, 주름이 형성되는 메커니즘이 복잡할 뿐만 아니라 실험적으로 재현하는 것이 매우 곤란하기 때문에, 현재에도 그의 메커니즘은 완전히 해명되지 않았다. 주름 형성의 메커니즘으로서는, 자외선 등에 의한 세포의 손상과 그에 의해 항진되는 세포의 아포토시스, 매트릭스 메탈로프로테아제(MMP) 등의 프로테아제 발현의 항진에 의한 콜라겐 등의 섬유 성분의 가수분해, 및 사이토카인의 항진에 의한 섬유 다발의 붕괴 등을 예시할 수 있다. 특히, MMP는 콜라겐, 프로테오글리칸 및 엘라스틴 등으로 이루어지는 세포 외 매트릭스, 및 세포 표면에 발현하는 단백질의 분해 등의 다양한 기능을 갖고 있으며, 수많은 서브 타입이 존재한다. MMP1은, 피부 진피 매트릭스의 주요한 성분인 타입 I 및 타입 III 콜라겐을 분해한다. MMP2 및 MMP9는, 기저 막 성분인 타입 IV 콜라겐, 라미닌, 및 진피 매트릭스 성분인 엘라스틴 등을 분해한다. MMP3 및 MMP10은 프로테오글리칸, 타입 IV 콜라겐 및 라미닌 등을 분해한다. 이들 분해 작용에 의해 세포 외 매트릭스의 감소ㆍ변성을 야기하며, 피부에서의 주름ㆍ처짐 등을 형성하는 중요한 요인 중 하나로서 알려져 있다(특허문헌 1 참조). 또한, TNF-α, IL-1 및 IL-6 등의 염증성 사이토카인은, MMP의 생산을 유도함으로써 주름ㆍ처짐의 형성에 관여한다는 것이 알려져 있다(특허문헌 2 참조). 이와 같이, 주름ㆍ처짐 등의 피부 노화 현상에 깊이 관여하는 이들 인자는 독립 인자라고 하기는 어렵고, 서로 영향을 준다고 알려져 있으며, 이와 같은 상황이 주름 형성 메커니즘을 복잡하게 한다고 할 수 있다.
피부 노화 중 하나인 자외선의 조사에 의한 광 노화의 결과 발생하는 주름에 대해서는, 레티노산이 개선 효과를 나타낸다는 것이 폭넓게 알려져 있다(비특허문헌 1 참조). 레티노산은, 미국에서는 주름ㆍ여드름의 치료 의약품으로서 인가되어 있으며, 피부의 회복약으로서 매우 많은 환자에게 사용되고 있지만, 일본에서는 피부에 대한 자극과 같은 안전성면에 문제가 존재하기 때문에 인가되어 있지 않다. 또한, 콜라겐, 히알루론산을 배합함에 따른 주름 개선의 시도(특허문헌 3, 4 참조)가 이루어져 있을 뿐만 아니라, 아스코르브산(특허문헌 5 참조), 토코페롤(특허문헌 6 참조) 등이 주름 개선제로서 알려져 있다. 그러나, 상기 주름 개선제에는 주름 개선 효과가 충분하지 않다는 것, 주름 개선 효과를 발현하는 농도에서는 바람직하지 않은 약효가 발현한다는 안전성 또는 안정성에 문제를 갖는 경우가 있다는 것 등의 이유에 의해, 충분히 만족할 수 있는 주름 개선 소재는 발견되지 않았으며, 새로운 주름 개선제의 등장이 강하게 요망되고 있다.
아미노산에는, 천연 및 비천연형의 아미노산을 포함하여 수많은 아미노산이 존재한다. 이들 아미노산은, 생체 구조의 유지나 생체 반응을 담당하는 기능성 고분자가 될 뿐만 아니라, 다양한 생리 활성을 나타낸다는 것이 알려져 있다. 천연형의 아미노산 또는 그의 유도체는, 생리 활성 뿐만 아니라 높은 안전성이 기대되며, 식품, 화장품, 의약품 등의 분야에서 폭넓게 활용되고 있다. 특히, 화장품 분야에서는 알라닌이 미백 작용(특허문헌 7 참조)을, α-아미노산 유도체가 부전각화 억제 작용, 모공 축소 작용 또는 피부 거칠음 방지ㆍ개선 작용(특허문헌 8을 참조)을, 시스테인산 또는 호모시스테인산이 피부의 박리 촉진 또는 표피 항진 자극 작용(특허문헌 9 참조)을, N-아실아미노산이 육모 촉진 작용, 보습 작용(특허문헌 10 참조)을, 글루타민 등의 필수 아미노산이 세포 부활 작용(특허문헌 11 참조)을 나타내는 것이 알려져 있다. 또한, 알라닌은, 주름 개선 작용(특허문헌 12 참조)을 갖는다는 것이 알려져 있다.
일본 특허 공개 제2001-192317호 공보 일본 특허 공개 제2005-089304호 공보 일본 특허 공개 (소)33-500호 공보 일본 특허 공개 제2007-191396호 공보 일본 특허 공개 제2003-267856호 공보 일본 특허 공개 (소)62-19511호 공보 일본 특허 공개 (평)11-049629호 공보 일본 특허 공개 제2006-327971호 공보 일본 특허 공개 (평)9-110627호 공보 일본 특허 공개 (평)11-080105호 공보 일본 특허 공개 (소)61-289016호 공보 일본 특허 공개 (평)11-49628호 공보
노화 방지ㆍ미백ㆍ보습 화장료의 개발 기술, CMC 출판, 스즈끼 마사토 감수
본 발명은 상기한 바와 같은 상황을 감안하여 이루어진 것이며, 피부 외용제의 성분으로서 바람직한 신규 모핵을 갖는 주름 개선제를 제공하는 것을 과제로 한다.
본 발명자들은 주름 개선 작용을 갖는 신규 모핵을 구하기 위해 예의 연구를 거듭한 결과, 하기 화학식 1로 표시되는 화합물, 그의 입체 이성체 및 이들의 약리학적으로 허용되는 염이 자외선 폭로 등에 의해 형성되는 주름에 대하여 우수한 주름 개선 효과를 갖는다는 것을 발견하여, 본 발명을 완성시키기에 이르렀다.
즉, 본 발명은 다음에 나타낸 바와 같다.
<1> 하기 화학식 1로 표시되는 화합물, 그의 입체 이성체 또는 이들의 약리학적으로 허용되는 염을 함유하는 주름 개선제.
Figure 112011045940301-pct00001
[식 중, R1은 수소 원자, 또는 탄소수 1 내지 8의 직쇄 또는 분지의 알킬기를 나타내고, R2는 -SH, -SO3H, -S-S-X1, -S-X2, -SO-X3, -SO2-X4, -SO2-NY1-X5 또는 -SO2-NY2-Y3을 나타내고, 상기 X1 내지 X5는 독립적으로 수소 원자 또는 탄소 원자가 복소 원자로 치환되어 있을 수도 있는 탄소수 1 내지 8의 지방족 탄화수소기 또는 탄소수 5 내지 12의 방향족부이고, 상기 Y1 내지 Y3은 독립적으로 수소 원자, 또는 탄소수 1 내지 8의 직쇄 또는 분지의 알킬기를 나타내고, R3은 수소 원자, 또는 탄소수 1 내지 8의 직쇄 또는 분지의 알킬쇄를 갖는 아실기를 나타내고, R4는 비치환 또는 치환기를 갖고 있을 수도 있는 탄소수 5 내지 12의 방향족기 또는 다환 축합 방향족기를 나타내고, m은 0 내지 3의 정수를 나타내고, n은 1 또는 2의 정수를 나타냄]
<2> 상기 <1>에 있어서, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물이 하기 화학식 2로 표시되는 화합물인 주름 개선제.
Figure 112011045940301-pct00002
[식 중, R5는 수소 원자, 또는 탄소수 1 내지 8의 직쇄 또는 분지의 알킬기를 나타내고, R6은 -S-X2를 나타내고, 상기 X2는 수소 원자 또는 탄소 원자가 복소 원자로 치환되어 있을 수도 있는 탄소수 1 내지 8의 지방족 탄화수소기 또는 탄소수 5 내지 12의 방향족부를 나타내고, R7은 수소 원자, 또는 탄소수 1 내지 8의 직쇄 또는 분지의 알킬쇄를 갖는 아실기를 나타내고, R8은 비치환 또는 치환기를 갖고 있을 수도 있는 탄소수 5 내지 12의 방향족기 또는 다환 축합 방향족기를 나타내고, m은 0 내지 3의 정수를 나타내고, n은 1 또는 2의 정수를 나타냄]
<3> 상기 <1>에 있어서, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물이 하기 화학식 3으로 표시되는 화합물인 주름 개선제.
Figure 112011045940301-pct00003
[식 중, R9는 수소 원자, 또는 탄소수 1 내지 8의 직쇄 또는 분지의 알킬기를 나타내고, R10은 -S-X2를 나타내고, 상기 X2는 수소 원자 또는 탄소 원자가 복소 원자로 치환되어 있을 수도 있는 탄소수 1 내지 8의 지방족 탄화수소기 또는 탄소수 5 내지 12의 방향족부를 나타내고, R11은 비치환 또는 치환기를 갖고 있을 수도 있는 탄소수 5 내지 12의 방향족기 또는 다환 축합 방향족기를 나타내고, m은 0 내지 3의 정수를 나타내고, n은 1 또는 2의 정수를 나타냄]
<4> 상기 <1>에 있어서, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물이 하기 화학식 4로 표시되는 화합물인 주름 개선제.
Figure 112011045940301-pct00004
[식 중, R12는 수소 원자, 또는 탄소수 1 내지 8의 직쇄 또는 분지의 알킬기를 나타내고, R13은 수소 원자 또는 탄소 원자가 복소 원자로 치환되어 있을 수도 있는 탄소수 1 내지 8의 지방족 탄화수소기 또는 탄소수 5 내지 12의 방향족부를 나타내고, R14는 비치환 또는 치환기를 갖고 있을 수도 있는 탄소수 5 내지 12의 방향족기 또는 다환 축합 방향족기를 나타내고, m은 0 내지 3의 정수를 나타냄]
<5> 상기 <1>에 있어서, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물이 하기 화학식 5로 표시되는 화합물인 주름 개선제.
Figure 112011045940301-pct00005
[식 중, R15는 수소 원자, 또는 탄소수 1 내지 8의 직쇄 또는 분지의 알킬기를 나타내고, R16은 -SO3H, -SO-X3, -SO2-X4, -SO2-NY1-X5 또는 -SO2-NY2-Y3를 나타내고, 상기 X3 내지 X5는 수소 원자 또는 탄소 원자가 복소 원자로 치환되어 있을 수도 있는 탄소수 1 내지 8의 지방족 탄화수소기 또는 탄소수 5 내지 12의 방향족부를 나타내고, 상기 Y1 내지 Y3는 독립적으로 수소 원자, 또는 탄소수 1 내지 8의 직쇄 또는 분지의 알킬기를 나타내고, R17은 수소 원자, 또는 탄소수 1 내지 8의 직쇄 또는 분지의 알킬쇄를 갖는 아실기를 나타내고, R18은 비치환 또는 치환기를 갖고 있을 수도 있는 탄소수 5 내지 12의 방향족기 또는 다환 축합 방향족기를 나타내고, m은 0 내지 3의 정수를 나타내고, n은 1 또는 2의 정수를 나타냄]
<6> 상기 <1>에 있어서, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물이 하기 화학식 6으로 표시되는 화합물인 주름 개선제.
Figure 112011045940301-pct00006
[식 중, R19는 수소 원자, 또는 탄소수 1 내지 8의 직쇄 또는 분지의 알킬기를 나타내고, R20은 비치환 또는 치환기를 갖고 있을 수도 있는 탄소수 5 내지 12의 방향족기 또는 다환 축합 방향족기를 나타내고, m은 0 내지 3의 정수를 나타내고, n은 1 또는 2의 정수를 나타냄]
<7> 하기 화학식 5로 표시되는 화합물, 그의 입체 이성체 또는 이들의 약리학적으로 허용되는 염.
<화학식 5>
Figure 112011045940301-pct00007
[식 중, R15는 수소 원자, 또는 탄소수 1 내지 8의 직쇄 또는 분지의 알킬기를 나타내고, R16은 -SO3H 또는 -SO2-X4를 나타내고, 상기 X4는 수소 원자 또는 탄소 원자가 복소 원자로 치환되어 있을 수도 있는 탄소수 1 내지 8의 지방족 탄화수소기 또는 탄소수 5 내지 12의 방향족부를 나타내고, R17은 수소 원자, 또는 탄소수 1 내지 8의 직쇄 또는 분지의 알킬쇄를 갖는 아실기를 나타내고, R18은 비치환 또는 치환기를 갖고 있을 수도 있는 탄소수 5 내지 12의 방향족기 또는 다환 축합 방향족기를 나타내고, m은 0 내지 3의 정수를 나타내고, n은 1 또는 2의 정수를 나타냄]
<8> 하기 화학식 6으로 표시되는 화합물, 그의 입체 이성체 또는 이들의 약리학적으로 허용되는 염.
<화학식 6>
Figure 112011045940301-pct00008
[식 중, R19는 수소 원자, 또는 탄소수 1 내지 8의 직쇄 또는 분지의 알킬기를 나타내고, R20은 비치환 또는 치환기를 갖고 있을 수도 있는 탄소수 5 내지 12의 방향족기 또는 다환 축합 방향족기를 나타내고, m은 0 내지 3의 정수를 나타내고, n은 1 또는 2의 정수를 나타냄]
<9> 상기 <1> 내지 <6> 중 어느 하나에 기재된 주름 개선제를 0.001 내지 20 질량％ 함유하는 피부 외용제.
<10> 상기 <9>에 있어서, 화장료인 것을 특징으로 하는 피부 외용제.
<11> 주름 개선 방법으로서, 하기 화학식 1로 표시되는 화합물, 그의 입체 이성체 또는 이들의 약리학적으로 허용되는 염을 주름 개선이 필요한 부위에 투여하는 것을 특징으로 하는 방법.
<화학식 1>
Figure 112011045940301-pct00009
[식 중, R1은 수소 원자, 또는 탄소수 1 내지 8의 직쇄 또는 분지의 알킬기를 나타내고, R2는 -SH, -SO3H, -S-S-X1, -S-X2, -SO-X3, -SO2-X4, -SO2-NY1-X5 또는 -SO2-NY2-Y3을 나타내고, 상기 X1 내지 X5는 독립적으로 수소 원자 또는 탄소 원자가 복소 원자로 치환되어 있을 수도 있는 탄소수 1 내지 8의 지방족 탄화수소기 또는 탄소수 5 내지 12의 방향족부이고, 상기 Y1 내지 Y3은 독립적으로 수소 원자, 또는 탄소수 1 내지 8의 직쇄 또는 분지의 알킬기를 나타내고, R3은 수소 원자, 또는 탄소수 1 내지 8의 직쇄 또는 분지의 알킬쇄를 갖는 아실기를 나타내고, R4는 비치환 또는 치환기를 갖고 있을 수도 있는 탄소수 5 내지 12의 방향족기 또는 다환 축합 방향족기를 나타내고, m은 0 내지 3의 정수를 나타내고, n은 1 또는 2의 정수를 나타냄]
본 발명에 따르면, 새로운 주름 개선제를 제공할 수 있다. 또한, 새로운 주름 개선제를 포함하는 피부 외용제, 화장료를 제공할 수 있다. 또한, 주름 개선 작용을 갖는 신규 화합물을 제공할 수 있다.
[도 1] 본 발명에서의 화합물 1의 광 노화 모델을 이용한 주름 개선 작용을 나타낸 도면이다.
[도 2] 본 발명에서의 화합물 2의 광 노화 모델을 이용한 주름 개선 작용을 나타낸 도면이다.
[도 3] 본 발명에서의 화합물 3의 광 노화 모델을 이용한 주름 개선 작용을 나타낸 도면이다.
[도 4] 본 발명의 화합물 1 및 2의 프로콜라겐 생산 작용을 나타낸 도면이다.
[도 5] 본 발명의 화합물 3 및 4의 프로콜라겐 생산 작용을 나타낸 도면이다.
[도 6] 본 발명의 화합물 5 및 6의 프로콜라겐 생산 작용을 나타낸 도면이다.
[도 7] 본 발명의 화합물 7 및 8의 프로콜라겐 생산 작용을 나타낸 도면이다.
(1) 본 발명의 주름 개선제에 포함되는 화학식 1로 표시되는 화합물
본 발명의 주름 개선제의 유효 성분은, 하기 화학식 1로 표시되는 화합물, 그의 입체 이성체, 또는 이들의 약리학적으로 허용되는 염이다.
<화학식 1>
Figure 112011045940301-pct00010
화학식 1에서, R1은 수소 원자, 또는 탄소수 1 내지 8의 직쇄 또는 분지의 알킬기를 나타내고, R2는 -SH, -SO3H, -S-S-X1, -S-X2, -SO-X3, -SO2-X4, -SO2-NY1-X5 또는 -SO2-NY2-Y3을 나타내고, 상기 X1 내지 X5는 독립적으로 수소 원자 또는 탄소 원자가 복소 원자로 치환되어 있을 수도 있는 탄소수 1 내지 8의 지방족 탄화수소기 또는 탄소수 5 내지 12의 방향족부이고, 상기 Y1 내지 Y3은 독립적으로 수소 원자, 또는 탄소수 1 내지 8의 직쇄 또는 분지의 알킬기를 나타내고, R3은 수소 원자, 또는 탄소수 1 내지 8의 직쇄 또는 분지의 알킬쇄를 갖는 아실기를 나타내고, R4는 비치환 또는 치환기를 갖고 있을 수도 있는 탄소수 5 내지 12의 방향족기 또는 다환 축합 방향족기를 나타내고, m은 0 내지 3의 정수를 나타내고, n은 1 또는 2의 정수를 나타낸다. 여기서, 상기 방향족부란, 페닐기, 피리딜기, 나프틸기, 비페닐기 등의 방향족기뿐만 아니라 톨루일기, 크실릴기, 벤질기, 나프틸메틸기 등의 방향족 탄화수소기도 포함하는 것으로 한다.
이러한 화학식 1로 표시되는 화합물로서는, 후술하는 화학식 2로 표시되는 화합물 및 후술하는 화학식 5로 표시되는 화합물을 바람직한 것으로서 예시할 수 있다. 화학식 2로 표시되는 화합물 중 보다 바람직하게는 화학식 3으로 표시되는 화합물이며, 더욱 바람직하게는 화학식 4로 표시되는 화합물이다. 또한, 화학식 5로 표시되는 화합물 중 보다 바람직하게는 화학식 6으로 표시되는 화합물이다. 화학식 1로 표시되는 화합물 중 R2가 티올기인 화합물은, 티올 부분이 디술피드 결합함으로써 이량체를 형성하지만, 이러한 이량체도 본 발명의 화학식 1에 포함된다. 물론 화학식 1에 포함되는 화합물이며, 화학식 2로 표시되는 화합물, 및 화학식 5로 표시되는 화합물 중 어떠한 것에도 포함되지 않는 화합물을 함유하는 주름 개선제도 본 발명의 주름 개선제이다.
상기 R1 및 R2에서의 Y1 내지 Y3은, 구체예를 들면 수소 원자, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기 등을 예시할 수 있다. 탄소수 1 내지 4의 직쇄 또는 분지의 알킬기가 바람직하고, 더욱 바람직한 것으로서는 수소 원자, 메틸기, 에틸기이다.
상기 R2에서의 X1 내지 X6의 구체예는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기, 페닐기, 톨루일기, 벤질기, 페네틸기, 페닐프로필기, 피리딜기, 퀴놀릴기, 나프틸기, 비페닐기, 2-히드록시에틸기, 2-히드록시프로필기, 3-히드록시프로필기, 2,3-디히드록시프로필기 등을 들 수 있다.
R2 중 바람직한 것으로서는 -SO3H, -S-X2, -SO2-X4이다.
상기 R3은, 구체예를 들면 수소 원자, 아세틸기, 프로피오닐기, 부티릴기, 이소부티릴기, 발레릴기, 이소발레릴기, 피발로일기, 헥사노일기, 옥타노일기 등을 예시할 수 있다. 이들 중에서 바람직한 것은, 수소 원자, 아세틸기, 프로피오닐기이다.
상기 R4는, 구체예를 들면 페닐기, 톨루일기, 에틸페닐기, 프로필페닐기, 부틸페닐기, 펜틸페닐기, 헥실페닐기, 메톡시페닐기, 에톡시페닐기, 프로필옥시페닐기, 부틸옥시페닐기, 펜틸옥시페닐기, 헥실옥시페닐기, 히드록시페닐기, 아미노페닐기, 플루오로페닐기, 트리플루오로메틸페닐기, 클로로페닐기, 디클로로페닐기, 니트로페닐기, 시아노페닐기, (N-메틸아미노)페닐기, (N-에틸아미노)페닐기, (N-프로필아미노)페닐기, (N-부틸아미노)페닐기, N,N-(디메틸아미노)페닐기, N,N-(디에틸아미노)페닐기, N,N-(디프로필아미노)페닐기, N,N-(디부틸아미노)페닐기, 아세틸페닐기, 프로피오닐페닐기, 부티릴페닐기, 카르복실페닐기, 메톡시카르보닐페닐기, 에톡시카르보닐페닐기, 프로필옥시카르보닐페닐기, 나프틸기, 메틸나프틸기, 메톡시나프틸기, 히드록시나프틸기, 아미노나프틸기, 플루오로나프틸기, 트리플루오로메틸나프틸기, 아세틸나프틸기, 카르복시나프틸기, 메톡시카르보닐나프틸기, 에톡시카르보닐나프틸기, 비페닐기, 피리딜기, 퀴놀릴기 등을 예시할 수 있다. 이들 중에서 바람직한 것은, 페닐기, 톨루일기, 에틸페닐기, 프로필페닐기, 메톡시페닐기, 에톡시페닐기, 플루오로페닐기, 트리플루오로페닐기, 나프틸기, 비페닐기 등이다.
화학식 1로 표시되는 화합물은, 후술하는 방법에 의해 제조할 수 있다. 이러한 화합물은, 화합물의 주름 개선 효과에 대한 역가, 및/또는 화합물의 피부 저류성 등이 우수하고, 그 결과 자외선 폭로 등에 의해 형성되는 주름에 대하여 우수한 주름 개선 효과를 갖는다는 이점이 있다. 또한, 피부 자극성 및 감작성이 낮다는 등, 피부에 대한 안전성이 매우 높다. 또한, 비극성 용매뿐만 아니라 극성 용매에 대해서도 용해성이 높기 때문에, 화합물 자체의 배합량을 제한할 가능성이 없거나, 또는 그 가능성이 매우 낮다. 이들 화합물은 프로콜라겐 생산 촉진 작용을 갖고, 주름 개선 효과를 발현한다. 또한, 상기 MMP류, 또는 IL-1 또는 IL-6의 저해 작용을 통해 주름 개선 효과를 발현하고 있다고도 생각된다.
화학식 1로 표시되는 화합물 중, 하기 화학식 2, 3, 4로 표시되는 화합물에 대하여 설명한다.
<화학식 2>
Figure 112011045940301-pct00011
화학식 2에서, R5는 수소 원자, 또는 탄소수 1 내지 8의 직쇄 또는 분지의 알킬기를 나타내고, R6은 -S-X2를 나타내고, 상기 X2는 수소 원자 또는 탄소 원자가 복소 원자로 치환되어 있을 수도 있는 탄소수 1 내지 8의 지방족 탄화수소기 또는 탄소수 5 내지 12의 방향족부를 나타내고, R7은 수소 원자, 또는 탄소수 1 내지 8의 직쇄 또는 분지의 알킬쇄를 갖는 아실기를 나타내고, R8은 비치환 또는 치환기를 갖고 있을 수도 있는 탄소수 5 내지 12의 방향족기 또는 다환 축합 방향족기를 나타내고, m은 0 내지 3의 정수를 나타내고, n은 1 또는 2의 정수를 나타낸다.
<화학식 3>
Figure 112011045940301-pct00012
화학식 3에서, R9는 수소 원자, 또는 탄소수 1 내지 8의 직쇄 또는 분지의 알킬기를 나타내고, R10은 -S-X2를 나타내고, 상기 X2는 수소 원자 또는 탄소 원자가 복소 원자로 치환되어 있을 수도 있는 탄소수 1 내지 8의 지방족 탄화수소기 또는 탄소수 5 내지 12의 방향족부를 나타내고, R11은 비치환 또는 치환기를 갖고 있을 수도 있는 탄소수 5 내지 12의 방향족기 또는 다환 축합 방향족기를 나타내고, m은 0 내지 3의 정수를 나타내고, n은 1 또는 2의 정수를 나타낸다.
<화학식 4>
Figure 112011045940301-pct00013
화학식 4에서, R12는 수소 원자, 또는 탄소수 1 내지 8의 직쇄 또는 분지의 알킬기를 나타내고, R13은 수소 원자 또는 탄소 원자가 복소 원자로 치환되어 있을 수도 있는 탄소수 1 내지 8의 지방족 탄화수소기 또는 탄소수 5 내지 12의 방향족부를 나타내고, R14는 비치환 또는 치환기를 갖고 있을 수도 있는 탄소수 5 내지 12의 방향족기 또는 다환 축합 방향족기를 나타내고, m은 0 내지 3의 정수를 나타낸다.
상기한 바와 같이 화학식 2는 화학식 1의 바람직한 형태이며, 화학식 3이 보다 바람직한 형태이고, 화학식 4가 더욱 바람직한 형태이다.
화학식 4로 표시되는 화합물을 구체적으로 예시하면, (N-벤조일)시스테인, (N-톨루일)시스테인, (N-메톡시벤조일)시스테인, (N-비페닐카르보닐)시스테인, (N-벤질카르보닐)시스테인, (N-벤조일-S-메틸)시스테인, (S-메틸-N-톨루일)시스테인, [N-(에틸벤조일)-S-메틸]시스테인, [S-메틸-N-(프로필벤조일)]시스테인, [N-(부틸벤조일)-S-메틸]시스테인, [N-(메톡시벤조일)-S-메틸]시스테인, [N-(에톡시벤조일)-S-메틸]시스테인, [N-(프로필옥시벤조일)-S-메틸]시스테인, [N-(부틸옥시벤조일)-S-메틸]시스테인, [N-(히드록시벤조일)-S-메틸]시스테인, [N-(아미노벤조일)-S-메틸]시스테인, [N-(N'-메틸아미노벤조일)-S-메틸]시스테인, [N-(N'-에틸아미노벤조일)-S-메틸]시스테인, [N-(N',N'-디메틸아미노벤조일)-S-메틸]시스테인, [N-(N',N'-디에틸아미노벤조일)-S-메틸]시스테인, [N-(플루오로벤조일)-S-메틸]시스테인, [N-(트리플루오로메틸벤조일)-S-메틸]시스테인, [N-(클로로벤조일)-S-메틸]시스테인, [N-(디클로로벤조일)-S-메틸]시스테인, [N-(니트로벤조일)-S-메틸]시스테인, [(N-시아노벤조일)-S-메틸]시스테인, [N-(카르복시벤조일)-S-메틸]시스테인, [N-(메톡시카르보닐벤조일)-S-메틸]시스테인, [N-(에톡시카르보닐벤조일)-S-메틸]시스테인, [N-(아세틸벤조일)-S-메틸]시스테인, [S-메틸-N-(프로피오닐벤조일)]시스테인, [N-(부티릴벤조일)-S-메틸]시스테인, [N-(나프토일)-S-메틸]시스테인, [N-(메틸나프토일)-S-메틸]시스테인, [N-(메톡시나프토일)-S-메틸]시스테인, [N-(히드록시나프토일)-S-메틸]시스테인, [N-(아미노나프토일)-S-메틸]시스테인, [N-(아세틸나프토일)-S-메틸]시스테인, [N-(플루오로나프토일)-S-메틸]시스테인, [N-(메톡시카르보닐나프토일)-S-메틸]시스테인, [N-(비페닐카르보닐)-S-메틸]시스테인, [N-(메톡시비페닐카르보닐)-S-메틸]시스테인, [N-(벤질카르보닐)-S-메틸]시스테인, [N-(페닐에틸카르보닐)-S-메틸]시스테인, [N-(페닐프로필카르보닐)-S-메틸]시스테인, [N-(톨루일)메틸카르보닐]시스테인, [N-(톨루일에틸카르보닐)-S-메틸]시스테인, [N-(톨루일프로필카르보닐]-S-메틸]시스테인, [S-메틸-N-(피리딜카르보닐)]시스테인, [S-메틸-N-(퀴놀릴카르보닐)]시스테인, [(N-벤조일-S-메틸)시스테인]메틸에스테르, [(N-벤조일-S-메틸)시스테인]에틸에스테르, [(N-벤조일-S-메틸)시스테인]프로필에스테르, [(S-메틸-N-톨루일)시스테인]메틸에스테르, [(S-메틸-N-톨루일)시스테인]에틸에스테르, [(S-메틸-N-톨루일)시스테인]프로필에스테르, [S-메틸-N-(메톡시벤조일)시스테인]메틸에스테르, [S-메틸-N-(메톡시벤조일)시스테인]에틸에스테르, [S-메틸-N-(메톡시벤조일)시스테인]프로필에스테르, [N-(비페닐카르보닐)-S-메틸시스테인]메틸에스테르, [N-(비페닐카르보닐)-S-메틸시스테인]에틸에스테르, [[N-(비페닐카르보닐)-S-메틸]시스테인]프로필에스테르, [[N-(벤질카르보닐)-S-메틸]시스테인]메틸에스테르, [[N-(벤질카르보닐)-S-메틸]시스테인]에틸에스테르, [[N-(벤질카르보닐)-S-메틸]시스테인]프로필에스테르, (N-벤조일-S-에틸)시스테인, (N-벤조일-S-프로필)시스테인, (N-벤조일-S-부틸)시스테인, (N-벤조일-S-페닐)시스테인, (N-벤조일-S-벤질)시스테인, (N-벤조일-S-페닐에틸)시스테인, (N-벤조일-S-피리딜)시스테인, (N-벤조일-S-퀴놀릴)시스테인, (N-벤조일-S-나프틸)시스테인, (N-벤질-S-비페닐)시스테인, (S-에틸-N-톨루일)시스테인, (S-프로필-N-톨루일)시스테인, (S-부틸-N-톨루일)시스테인, (S-페닐-N-톨루일)시스테인, (S-벤질-N-톨루일)시스테인, (S-페닐에틸-N-톨루일)시스테인, (S-피리딜-N-톨루일)시스테인, (S-퀴놀릴-N-톨루일)시스테인, (S-나프틸-N-톨루일)시스테인, (N-톨루일-S-비페닐)시스테인, (S-에틸-N-메톡시벤조일)시스테인, (N-메톡시벤조일-S-프로필)시스테인, (S-부틸-N-메톡시벤조일)시스테인, (N-메톡시벤조일-S-페닐)시스테인, (S-벤질-N-메톡시벤조일)시스테인, (N-메톡시벤조일-S-페닐에틸)시스테인, (N-메톡시벤조일-S-피리딜)시스테인, (N-메톡시벤조일-S-퀴놀릴)시스테인, (N-메톡시벤조일-S-나프틸)시스테인, (S-비페닐-N-메톡시벤질)시스테인, (N-비페닐카르보닐-S-에틸)시스테인, (N-비페닐카르보닐-S-프로필)시스테인, (N-비페닐카르보닐-S-부틸)시스테인, (N-비페닐카르보닐-S-페닐)시스테인, (N-비페닐카르보닐-S-벤질)시스테인, (N-비페닐카르보닐-S-페닐에틸)시스테인, (N-비페닐카르보닐-S-피리딜)시스테인, (N-비페닐카르보닐-S-퀴놀릴)시스테인, (N-비페닐카르보닐-S-나프틸)시스테인, (N-비페닐카르보닐-S-비페닐)시스테인, (N-벤질카르보닐-S-에틸)시스테인, (N-벤질카르보닐-S-프로필)시스테인, (N-벤질카르보닐-S-부틸)시스테인, (N-벤질카르보닐-S-페닐)시스테인, (N-벤질카르보닐-S-벤질)시스테인, (N-벤질카르보닐-S-페닐에틸)시스테인, (N-벤질카르보닐-S-피리딜)시스테인, (N-벤질카르보닐-S-퀴놀릴)시스테인, (N-벤질카르보닐-S-나프틸)시스테인, (N-벤질카르보닐-S-비페닐)시스테인, [(S-에틸-N-톨루일)시스테인]메틸에스테르, [(S-프로필-N-톨루일)시스테인]메틸에스테르, [(S-부틸-N-톨루일)시스테인]메틸에스테르, [(S-페닐-N-톨루일)시스테인]메틸에스테르, [(S-벤질-N-톨루일)시스테인]메틸에스테르, [(S-페닐에틸-N-톨루일)시스테인]메틸에스테르, [(S-피리딜-N-톨루일)시스테인]메틸에스테르, [(S-퀴놀릴-N-톨루일)시스테인]메틸에스테르, [(S-나프틸-N-톨루일)시스테인]메틸에스테르, [(N-톨루일-S-비페닐)시스테인]메틸에스테르, [(S-에틸-N-메톡시벤조일)시스테인]메틸에스테르, [(N-메톡시벤조일-S-프로필)시스테인]메틸에스테르, [(S-부틸-N-메톡시벤조일)시스테인]메틸에스테르, [(N-메톡시벤조일-S-페닐)시스테인]메틸에스테르, [(S-벤질-N-메톡시벤조일)시스테인]메틸에스테르, [(N-메톡시벤조일-S-페닐에틸)시스테인]메틸에스테르, [(N-메톡시벤조일-S-피리딜)시스테인]메틸에스테르, [(N-메톡시벤조일-S-퀴놀릴)시스테인]메틸에스테르, [(N-메톡시벤조일-S-나프틸)시스테인]메틸에스테르, [(S-비페닐-N-메톡시벤질)시스테인]메틸에스테르, [(N-비페닐카르보닐-S-에틸)시스테인]메틸에스테르, [(N-비페닐카르보닐-S-프로필)시스테인]메틸에스테르, [(N-비페닐카르보닐-S-부틸)시스테인]메틸에스테르, [(N-비페닐카르보닐-S-페닐)시스테인]메틸에스테르, [(N-비페닐카르보닐-S-벤질)시스테인]메틸에스테르, [(N-비페닐카르보닐-S-페닐에틸)시스테인]메틸에스테르, [(N-비페닐카르보닐-S-피리딜)시스테인]메틸에스테르, [(N-비페닐카르보닐-S-퀴놀릴)시스테인]메틸에스테르, [(N-비페닐카르보닐-S-나프틸)시스테인]메틸에스테르, [(N-비페닐카르보닐-S-비페닐)시스테인]메틸에스테르, [(N-벤질카르보닐-S-에틸)시스테인]메틸에스테르, [(N-벤질카르보닐-S-프로필)시스테인]메틸에스테르, [(N-벤질카르보닐-S-부틸)시스테인]메틸에스테르, [(N-벤질카르보닐-S-페닐)시스테인]메틸에스테르, [(N-벤질카르보닐-S-벤질)시스테인]메틸에스테르, [(N-벤질카르보닐-S-페닐에틸)시스테인]메틸에스테르, [(N-벤질카르보닐-S-피리딜)시스테인]메틸에스테르, [(N-벤질카르보닐-S-퀴놀릴)시스테인]메틸에스테르, [(N-벤질카르보닐-S-나프틸)시스테인]메틸에스테르, [(N-벤질카르보닐-S-비페닐)시스테인]메틸에스테르, (N-벤조일)호모시스테인, (N-톨루일)호모시스테인, (N-메톡시벤조일)호모시스테인, (N-비페닐카르보닐)호모시스테인, (N-벤질카르보닐)호모시스테인, (N-벤조일)메티오닌, [N-(톨루일)]메티오닌, [N-(에틸벤조일)]메티오닌, [N-(프로필벤조일)]메티오닌, [N-(부틸벤조일)]메티오닌, [N-(메톡시벤조일)]메티오닌, [N-(에톡시벤조일)]메티오닌, [N-(프로필옥시벤조일)]메티오닌, [N-(부틸옥시벤조일)]메티오닌, [N-(히드록시벤조일)]메티오닌, [N-(아미노벤조일)]메티오닌, [N-(N'-메틸아미노벤조일)]메티오닌, [N-(N'-에틸아미노벤조일)]메티오닌, [N-(N',N'-디메틸아미노벤조일)]메티오닌, [N-(N',N'-디에틸아미노벤조일)]메티오닌, [N-(플루오로벤조일)]메티오닌, [N-(트리플루오로메틸벤조일)]메티오닌, [N-(클로로벤조일)]메티오닌, [N-(디클로로벤조일)]메티오닌, [N-(니트로벤조일)]메티오닌, [(N-시아노벤조일)]메티오닌, [N-(카르복시벤조일)]메티오닌, [N-(메톡시카르보닐벤조일)]메티오닌, [N-(에톡시카르보닐벤조일)]메티오닌, [N-(아세틸벤조일)]메티오닌, [N-(프로피오닐벤조일)]메티오닌, [N-(부티릴벤조일)]메티오닌, [N-(나프토일)]메티오닌, [N-(메틸나프토일)]메티오닌, [N-(메톡시나프토일)]메티오닌, [N-(히드록시나프토일)]메티오닌, [N-(아미노나프토일)]메티오닌, [N-(아세틸나프토일)]메티오닌, [N-(플루오로나프토일)]메티오닌, [N-(카르복시나프토일)]메티오닌, [N-(메톡시카르보닐나프톡시)]메티오닌, [N-(비페닐카르보닐)]메티오닌, [N-(메톡시비페닐카르보닐)]메티오닌, N-(벤질카르보닐)메티오닌, N-(페닐에틸카르보닐)메티오닌, N-(페닐프로필카르보닐)메티오닌, [N-(톨루일메틸)카르보닐]메티오닌, [N-(톨루일에틸)카르보닐]메티오닌, [N-(톨루일프로필)카르보닐]메티오닌, N-(피리딜카르보닐)메티오닌, N-(퀴놀릴카르보닐)메티오닌, [(N-벤조일)메티오닌]메틸에스테르, [(N-벤조일)메티오닌]에틸에스테르, [(N-벤조일)메티오닌]프로필에스테르, [(N-톨루일)메티오닌]메틸에스테르, [(N-톨루일)메티오닌]에틸에스테르, [(N-톨루일)메티오닌]프로필에스테르, [N-(메톡시벤조일)메티오닌]메틸에스테르, [N-(메톡시벤조일)메티오닌]에틸에스테르, [N-(메톡시벤조일)메티오닌]프로필에스테르, [N-(비페닐카르보닐)메티오닌]메틸에스테르, [N-(비페닐카르보닐)메티오닌]에틸에스테르, [N-(비페닐카르보닐)메티오닌]프로필에스테르, [N-(벤질카르보닐)메티오닌]메틸에스테르, [N-(벤질카르보닐)메티오닌]에틸에스테르, [N-(벤질카르보닐)메티오닌]프로필에스테르, 상술한 화합물의 입체 이성체 또는 이들의 약리학적으로 허용되는 염 등이다. 이들 중에서 더욱 바람직한 것으로서는, N-(벤조일)시스테인, N-(톨루일)시스테인, N-(메톡시벤조일)시스테인, N-(비페닐카르보닐)시스테인, N-(벤질카르보닐)시스테인, [N-(벤조일)-S-메틸]시스테인, [N-(톨루일)-S-메틸)시스테인, [N-(메톡시벤조일)-S-메틸]시스테인, [N-(비페닐카르보닐)-S-메틸]시스테인, [N-(벤질카르보닐)-S-메틸]시스테인, [N-(벤조일)시스테인]메틸에스테르, [N-(톨루일)시스테인]메틸에스테르, [N-(메톡시벤조일)시스테인]메틸에스테르, [N-(비페닐카르보닐)시스테인]메틸에스테르, [N-(벤질카르보닐)시스테인]메틸에스테르, (N-벤조일)메티오닌, [N-(톨루일)]메티오닌, 이들 화합물의 입체 이성체 또는 이들의 약리학적으로 허용되는 염이다.
화학식 3으로 표시되는 화합물 중 화학식 4에 포함되지 않는 화합물을 구체적으로 예시하면, (N-벤조일-S-에틸)호모시스테인, (N-벤조일-S-프로필)호모시스테인, (N-벤조일-S-부틸)호모시스테인, (N-벤조일-S-페닐)호모시스테인, (N-벤조일-S-벤질)호모시스테인, (N-벤조일-S-페닐에틸)호모시스테인, (N-벤조일-S-피리딜)호모시스테인, (N-벤조일-S-퀴놀릴)호모시스테인, (N-벤조일-S-나프틸)호모시스테인, (N-벤질-S-비페닐)호모시스테인, (S-에틸-N-톨루일)호모시스테인, (S-프로필-N-톨루일)호모시스테인, (S-부틸-N-톨루일)호모시스테인, (S-페닐-N-톨루일)호모시스테인, (S-벤질-N-톨루일)호모시스테인, (S-페닐에틸-N-톨루일)호모시스테인, (S-피리딜-N-톨루일)호모시스테인, (S-퀴놀릴-N-톨루일)호모시스테인, (S-나프틸-N-톨루일)호모시스테인, (N-톨루일-S-비페닐)호모시스테인, (S-에틸-N-메톡시벤조일)호모시스테인, (N-메톡시벤조일-S-프로필)호모시스테인, (S-부틸-N-메톡시벤조일)호모시스테인, (N-메톡시벤조일-S-페닐)호모시스테인, (S-벤질-N-메톡시벤조일)호모시스테인, (N-메톡시벤조일-S-페닐에틸)호모시스테인, (N-메톡시벤조일-S-피리딜)호모시스테인, (N-메톡시벤조일-S-퀴놀릴)호모시스테인, (N-메톡시벤조일-S-나프틸)호모시스테인, (S-비페닐-N-메톡시벤질)호모시스테인, (N-비페닐카르보닐-S-에틸)호모시스테인, (N-비페닐카르보닐-S-프로필)호모시스테인, (N-비페닐카르보닐-S-부틸)호모시스테인, (N-비페닐카르보닐-S-페닐)호모시스테인, (N-비페닐카르보닐-S-벤질)호모시스테인, (N-비페닐카르보닐-S-페닐에틸)호모시스테인, (N-비페닐카르보닐-S-피리딜)호모시스테인, (N-비페닐카르보닐-S-퀴놀릴)호모시스테인, (N-비페닐카르보닐-S-나프틸)호모시스테인, (N-비페닐카르보닐-S-비페닐)호모시스테인, (N-벤질카르보닐-S-에틸)호모시스테인, (N-벤질카르보닐-S-프로필)호모시스테인, (N-벤질카르보닐-S-부틸)호모시스테인, (N-벤질카르보닐-S-페닐)호모시스테인, (N-벤질카르보닐-S-벤질)호모시스테인, (N-벤질카르보닐-S-페닐에틸)호모시스테인, (N-벤질카르보닐-S-피리딜)호모시스테인, (N-벤질카르보닐-S-퀴놀릴)호모시스테인, (N-벤질카르보닐-S-나프틸)호모시스테인, (N-벤질카르보닐-S-비페닐)호모시스테인, [(S-에틸-N-톨루일)호모시스테인]메틸에스테르, [(S-프로필-N-톨루일)호모시스테인]메틸에스테르, [(S-부틸-N-톨루일)호모시스테인]메틸에스테르, [(S-페닐-N-톨루일)호모시스테인]메틸에스테르, [(S-벤질-N-톨루일)호모시스테인]메틸에스테르, [(S-페닐에틸-N-톨루일)호모시스테인]메틸에스테르, [(S-피리딜-N-톨루일)호모시스테인]메틸에스테르, [(S-퀴놀릴-N-톨루일)호모시스테인]메틸에스테르, [(S-나프틸-N-톨루일)호모시스테인]메틸에스테르, [(N-톨루일-S-비페닐)호모시스테인]메틸에스테르, [(S-에틸-N-메톡시벤조일)호모시스테인]메틸에스테르, [(N-메톡시벤조일-S-프로필)호모시스테인]메틸에스테르, [(S-부틸-N-메톡시벤조일)호모시스테인]메틸에스테르, [(N-메톡시벤조일-S-페닐)호모시스테인]메틸에스테르, [(S-벤질-N-메톡시벤조일)호모시스테인]메틸에스테르, [(N-메톡시벤조일-S-페닐에틸)호모시스테인]메틸에스테르, [(N-메톡시벤조일-S-피리딜)호모시스테인]메틸에스테르, [(N-메톡시벤조일-S-퀴놀릴)호모시스테인]메틸에스테르, [(N-메톡시벤조일-S-나프틸)호모시스테인]메틸에스테르, [(S-비페닐-N-메톡시벤질)호모시스테인]메틸에스테르, [(N-비페닐카르보닐-S-에틸)호모시스테인]메틸에스테르, [(N-비페닐카르보닐-S-프로필)호모시스테인]메틸에스테르, [(N-비페닐카르보닐-S-부틸)호모시스테인]메틸에스테르, [(N-비페닐카르보닐-S-페닐)호모시스테인]메틸에스테르, [(N-비페닐카르보닐-S-벤질)호모시스테인]메틸에스테르, [(N-비페닐카르보닐-S-페닐에틸)호모시스테인]메틸에스테르, [(N-비페닐카르보닐-S-피리딜)호모시스테인]메틸에스테르, [(N-비페닐카르보닐-S-퀴놀릴)호모시스테인]메틸에스테르, [(N-비페닐카르보닐-S-나프틸)호모시스테인]메틸에스테르, [(N-비페닐카르보닐-S-비페닐)호모시스테인]메틸에스테르, [(N-벤질카르보닐-S-에틸)호모시스테인]메틸에스테르, [(N-벤질카르보닐-S-프로필)호모시스테인]메틸에스테르, [(N-벤질카르보닐-S-부틸)호모시스테인]메틸에스테르, [(N-벤질카르보닐-S-페닐)호모시스테인]메틸에스테르, [(N-벤질카르보닐-S-벤질)호모시스테인]메틸에스테르, [(N-벤질카르보닐-S-페닐에틸)호모시스테인]메틸에스테르, [(N-벤질카르보닐-S-피리딜)호모시스테인]메틸에스테르, [(N-벤질카르보닐-S-퀴놀릴)호모시스테인]메틸에스테르, [(N-벤질카르보닐-S-나프틸)호모시스테인]메틸에스테르, [(N-벤질카르보닐-S-비페닐)호모시스테인]메틸에스테르, 이들 화합물의 입체 이성체 또는 이들의 약리학적으로 허용되는 염 등이다.
화학식 2로 표시되는 화합물 중 화학식 3 및 4에 포함되지 않는 화합물을 구체적으로 예시하면, (N-아세틸-N-벤조일-S-메틸)시스테인, (N-벤조일-N-프로피오닐-S-메틸)시스테인, (N-벤조일-N-부티릴-S-메틸)시스테인, (N-아세틸-N-톨루일-S-메틸)시스테인, (S-메틸-N-프로피오닐-N-톨루일)시스테인, (N-부티릴-S-메틸-N-톨루일)시스테인, (N-아세틸-S-메틸-N-메톡시벤조일)시스테인, (N-메톡시벤조일-S-메틸-N-프로피오닐)시스테인, (N-부티릴-N-메톡시벤조일-S-메틸)시스테인, (N-아세틸-N-비페닐카르보닐-S-메틸)시스테인, (N-비페닐카르보닐-S-메틸-N-프로피오닐)시스테인, (N-부티릴-N-비페닐카르보닐-S-메틸)시스테인, (N-아세틸-N-벤질카르보닐-S-메틸)시스테인, (N-프로피오닐-N-벤질카르보닐-S-메틸)시스테인, (N-부티릴-N-벤질카르보닐-S-메틸)시스테인, (N-아세틸-N-벤조일)메티오닌, (N-벤조일-N-프로피오닐)메티오닌, (N-벤조일-N-부티릴)메티오닌, (N-아세틸-N-톨루일)메티오닌, (N-프로피오닐-N-톨루일)메티오닌, (N-부티릴-N-톨루일)메티오닌, (N-아세틸-N-메톡시벤조일)메티오닌, (N-메톡시벤조일-N-프로피오닐)메티오닌, (N-부티릴-N-메톡시벤조일)메티오닌, (N-아세틸-N-비페닐카르보닐)메티오닌, (N-비페닐카르보닐-N-프로피오닐)메티오닌, (N-부티릴-N-비페닐카르보닐)메티오닌, (N-아세틸-N-벤질카르보닐)메티오닌, (N-프로피오닐-N-벤질카르보닐)메티오닌, (N-부티릴-N-벤질카르보닐)메티오닌, 이들 화합물의 입체 이성체 또는 이들의 약리학적으로 허용되는 염 등이다.
화학식 1로 표시되는 화합물 중 화학식 5 및 6에 표시되는 화합물에 대하여 설명한다. 화학식 5 및 6으로 표시되는 화합물은 모두 신규 화합물이다.
<화학식 5>
Figure 112011045940301-pct00014
화학식 5에서, R15는 수소 원자, 또는 탄소수 1 내지 8의 직쇄 또는 분지의 알킬기를 나타내고, R16은 -SO3H, -SO-X3, -SO2-X4, -SO2-NY1-X5 또는 -SO2-NY2-Y3를 나타내고, 상기 X3 내지 X5는 수소 원자 또는 탄소 원자가 복소 원자로 치환되어 있을 수도 있는 탄소수 1 내지 8의 지방족 탄화수소기 또는 탄소수 5 내지 12의 방향족부를 나타내고, 상기 Y1 내지 Y3는 독립적으로 수소 원자, 또는 탄소수 1 내지 8의 직쇄 또는 분지의 알킬기를 나타내고, R17은 수소 원자, 또는 탄소수 1 내지 8의 직쇄 또는 분지의 알킬쇄를 갖는 아실기를 나타내고, R18은 비치환 또는 치환기를 갖고 있을 수도 있는 탄소수 5 내지 12의 방향족기 또는 다환 축합 방향족기를 나타내고, m은 0 내지 3의 정수를 나타내고, n은 1 또는 2의 정수를 나타낸다.
<화학식 6>
Figure 112011045940301-pct00015
화학식 6에서, R19는 수소 원자, 또는 탄소수 1 내지 8의 직쇄 또는 분지의 알킬기를 나타내고, R20은 비치환 또는 치환기를 갖고 있을 수도 있는 탄소수 5 내지 12의 방향족기 또는 다환 축합 방향족기를 나타내고, m은 0 내지 3의 정수를 나타내고, n은 1 또는 2의 정수를 나타낸다.
상기한 바와 같이 화학식 5는 화학식 1의 바람직한 형태이며, 화학식 6이 보다 바람직한 형태이다. 화학식 6으로 표시되는 화합물을 구체적으로 예시하면, N-(벤조일)시스테인산, N-(톨루일)시스테인산, N-(에틸벤조일)시스테인산, N-(프로필벤조일)시스테인산, N-(부틸벤조일)시스테인산, N-(펜틸벤조일)시스테인산, N-(헥실벤조일)시스테인산, N-(헵틸벤조일)시스테인산, N-(옥틸벤조일)시스테인산, N-(메톡시벤조일)시스테인산, N-(에톡시벤조일)시스테인산, N-(프로필옥시벤조일)시스테인산, N-(부틸옥시벤조일)시스테인산, N-(히드록시벤조일)시스테인산, N-(아미노벤조일)시스테인산, N-(N'-메틸아미노벤조일)시스테인산, N-(N'-에틸아미노벤조일)시스테인산, N-(N',N'-디메틸아미노벤조일)시스테인산, N-(N',N'-디에틸아미노벤조일)시스테인산, N-(플루오로벤조일)시스테인산, N-(트리플루오로메틸벤조일)시스테인산, N-(클로로벤조일)시스테인산, N-(디클로로벤조일)시스테인산, N-(니트로벤조일)시스테인산, (N-시아노벤조일)시스테인산, N-(카르복시벤조일)시스테인산, N-(메톡시카르보닐벤조일)시스테인산, N-(에톡시카르보닐벤조일)시스테인산, N-(아세틸벤조일)시스테인산, N-(프로피오닐벤조일)시스테인산, N-(부티릴벤조일)시스테인산, N-(나프토일)시스테인산, N-(메틸나프토일)시스테인산, N-(메톡시나프토일)시스테인산, N-(히드록시나프토일)시스테인산, N-(아미노나프토일)시스테인산, N-(아세틸나프토일)시스테인산, N-(플루오로나프토일)시스테인산, N-(메톡시카르보닐나프토일)시스테인산, (N-비페닐카르보닐)시스테인산, (N-메톡시비페닐카르보닐)시스테인산, N-(벤질카르보닐)시스테인산, N-(페닐에틸카르보닐)시스테인산, N-(페닐프로필카르보닐)시스테인산, N-(페닐부틸카르보닐)시스테인산, N-(톨루일메틸카르보닐)시스테인산, N-(톨루일에틸카르보닐)시스테인산, N-(톨루일프로필카르보닐)시스테인산, N-(톨루일부틸카르보닐)시스테인산, N-(피리딘카르보닐)시스테인산, N-(퀴놀린카르보닐)시스테인산, (N-벤조일시스테인산)메틸에스테르, (N-벤조일시스테인산)에틸에스테르, (N-벤조일시스테인산)프로필에스테르, (N-벤조일시스테인산)부틸에스테르, (N-톨루일시스테인산)메틸에스테르, (N-톨루일시스테인산)에틸에스테르, (N-톨루일시스테인산)프로필에스테르, (N-톨루일시스테인산)부틸에스테르, [(N-톨루일)시스테인산]메틸에스테르, [(N-톨루일)시스테인산]에틸에스테르, [(N-톨루일)시스테인산]프로필에스테르, [(N-메톡시벤조일)시스테인산]메틸에스테르, [(N-메톡시벤조일)시스테인산]에틸에스테르, [(N-메톡시벤조일)시스테인산]프로필에스테르, [(N-비페닐카르보닐)시스테인산]메틸에스테르, [(N-비페닐카르보닐)시스테인산]에틸에스테르, [(N-비페닐카르보닐)시스테인산]프로필에스테르, [(N-벤질카르보닐)시스테인산]메틸에스테르, [(N-벤질카르보닐)시스테인산]에틸에스테르, [(N-벤질카르보닐)시스테인산]프로필에스테르, N-(벤조일)호모시스테인산, N-(톨루일)호모시스테인산, N-(에틸벤조일)호모시스테인산, N-(프로필벤조일)호모시스테인산, N-(부틸벤조일)호모시스테인산, N-(펜틸벤조일)호모시스테인산, N-(헥실벤조일)호모시스테인산, N-(헵틸벤조일)호모시스테인산, N-(옥틸벤조일)호모시스테인산, N-(메톡시벤조일)호모시스테인산, N-(에톡시벤조일)호모시스테인산, N-(프로필옥시벤조일)호모시스테인산, N-(부틸옥시벤조일)호모시스테인산, N-(히드록시벤조일)호모시스테인산, N-(아미노벤조일)호모시스테인산, N-(N'-메틸아미노벤조일)호모시스테인산, N-(N'-에틸아미노벤조일)호모시스테인산, N-(N',N'-디메틸아미노벤조일)호모시스테인산, N-(N',N'-디에틸아미노벤조일)호모시스테인산, N-(플루오로벤조일)호모시스테인산, N-(트리플루오로메틸벤조일)호모시스테인산, N-(클로로벤조일)호모시스테인산, N-(디클로로벤조일)호모시스테인산, N-(니트로벤조일)호모시스테인산, (N-시아노벤조일)호모시스테인산, N-(카르복시벤조일)호모시스테인산, N-(메톡시카르보닐벤조일)호모시스테인산, N-(에톡시카르보닐벤조일)호모시스테인산, N-(아세틸벤조일)호모시스테인산, N-(프로피오닐벤조일)호모시스테인산, N-(부티릴벤조일)호모시스테인산, N-(나프토일)호모시스테인산, N-(메틸나프토일)호모시스테인산, N-(메톡시나프토일)호모시스테인산, N-(히드록시나프토일)호모시스테인산, N-(아미노나프토일)호모시스테인산, N-(아세틸나프토일)호모시스테인산, N-(플루오로나프토일)호모시스테인산, N-(메톡시카르보닐나프토일)호모시스테인산, N-(비페닐카르보닐)호모시스테인산, N-(메톡시비페닐카르보닐)호모시스테인산, N-(벤질카르보닐)호모시스테인산, N-(페닐에틸카르보닐)호모시스테인산, N-(페닐프로필카르보닐)호모시스테인산, N-(페닐부틸카르보닐)호모시스테인산, N-(페닐펜틸카르보닐)호모시스테인산, N-(나프틸메틸카르보닐)호모시스테인산, N-(나프틸에틸카르보닐)호모시스테인산, N-(피리딘카르보닐)호모시스테인산, N-(퀴놀린카르보닐)호모시스테인산, [N-(벤조일)호모시스테인산]메틸에스테르, [N-(벤조일)호모시스테인산]에틸에스테르, [N-(벤조일)호모시스테인산]프로필에스테르, [N-(벤조일)호모시스테인산]부틸에스테르, [N-(톨루일)호모시스테인산]메틸에스테르, [N-(톨루일)호모시스테인산]에틸에스테르, [N-(톨루일)호모시스테인산]프로필에스테르, [N-(톨루일)호모시스테인산]부틸에스테르, [N-(메톡시벤조일)호모시스테인산]메틸에스테르, [N-(메톡시벤조일)호모시스테인산]에틸에스테르, [N-(메톡시벤조일)호모시스테인산]프로필에스테르, [N-(메톡시벤조일)호모시스테인산]부틸에스테르, [N-(비페닐카르보닐)호모시스테인산]메틸에스테르, [N-(비페닐카르보닐)호모시스테인산]에틸에스테르, [N-(비페닐카르보닐)호모시스테인산]프로필에스테르, [N-(비페닐카르보닐)호모시스테인산]부틸에스테르, [N-(벤질카르보닐)호모시스테인산]메틸에스테르, [N-(벤질카르보닐)호모시스테인산]에틸에스테르, [N-(벤질카르보닐)호모시스테인산]프로필에스테르, [N-(벤질카르보닐)호모시스테인산]부틸에스테르, 상술한 화합물의 입체 이성체 및/또는 이들의 약리학적으로 허용되는 염 등이다. 이들 중에서 더욱 바람직한 것으로서는, N-(벤조일)시스테인산, N-(톨루일)시스테인산, N-(메톡시벤조일)시스테인산, N-(비페닐카르보닐)시스테인산, N-(벤질카르보닐)시스테인산, N-(벤조일)호모시스테인산, N-(톨루일)호모시스테인산, N-(메톡시벤조일)호모시스테인산, N-(비페닐카르보닐)호모시스테인산, N-(벤질카르보닐)호모시스테인산, 그의 입체 이성체, 및 이들의 약리학적으로 허용되는 염 등이다.
화학식 5로 표시되는 화합물 중 화학식 6에 포함되지 않는 화합물을 구체적으로 예시하면, (N-아세틸-N-벤조일)시스테인산, (N-벤조일-N-프로피오닐)시스테인산, (N-벤조일-N-부티릴)시스테인산, (N-벤조일-N-이소부티릴)시스테인산, (N-벤조일-N-발레릴)시스테인산, (N-벤조일-N-이소발레릴)시스테인산, (N-벤조일-N-피발로일)시스테인산, (N-벤조일-N-헥사노일)시스테인산, (N-벤조일-N-옥타노일)시스테인산, (N-아세틸-N-톨루일)시스테인산, (N-프로피오닐-N-톨루일)시스테인산, (N-부티릴-N-톨루일)시스테인산, (N-이소부티릴-N-톨루일)시스테인산, (N-톨루일-N-발레릴)시스테인산, (N-이소발레릴-N-톨루일)시스테인산, (N-피발로일-N-톨루일)시스테인산, (N-헥사노일-N-톨루일)시스테인산, (N-옥타노일-N-톨루일)시스테인산, (N-아세틸-N-메톡시벤조일)시스테인산, (N-메톡시벤조일-N-프로피오닐)시스테인산, (N-부티릴-N-메톡시벤조일)시스테인산, (N-이소부티릴-N-메톡시벤조일)시스테인산, (N-메톡시벤조일-N-발레릴)시스테인산, (N-이소발레릴-N-메톡시벤조일)시스테인산, (N-메톡시벤조일 N-피발로일)시스테인산, (N-헥사노일-N-메톡시벤조일)시스테인산, (N-메톡시벤조일 N-옥타노일)시스테인산, (N-아세틸-N-비페닐카르보닐)시스테인산, (N-비페닐카르보닐-N-프로피오닐)시스테인산, (N-비페닐카르보닐-N-부티릴)시스테인산, (N-비페닐카르보닐-N-이소부티릴)시스테인산, (N-비페닐카르보닐-N-발레릴)시스테인산, (N-비페닐카르보닐-N-이소발레릴)시스테인산, (N-비페닐카르보닐-N-피발로일)시스테인산, (N-비페닐카르보닐-N-헥사노일)시스테인산, (N-비페닐카르보닐-N-옥타노일)시스테인산, (N-아세틸-N-벤질카르보닐)시스테인산, (N-벤질카르보닐-N-프로피오닐)시스테인산, (N-벤질카르보닐-N-부티릴)시스테인산, (N-벤질카르보닐-N-이소부티릴)시스테인산, (N-벤질카르보닐-N-발레릴)시스테인산, (N-벤질카르보닐-N-이소발레릴)시스테인산, (N-벤질카르보닐-N-피발로일)시스테인산, (N-벤질카르보닐-N-헥사노일)시스테인산, (N-벤질카르보닐-N-옥타노일)시스테인산, (N-아세틸-N-벤조일)호모시스테인산, (N-벤조일-N-프로피오닐)호모시스테인산, (N-벤조일-N-부티릴)호모시스테인산, (N-벤조일-N-발레릴)호모시스테인산, (N-벤조일-N-피발로일)호모시스테인산, (N-벤조일-N-헥사노일)호모시스테인산, (N-벤조일-N-옥타노일)호모시스테인산, (N-아세틸-N-톨루일)호모시스테인산, (N-프로피오닐-N-톨루일)호모시스테인산, (N-부티릴-N-톨루일)호모시스테인산, (N-아세틸-N-메톡시벤조일)호모시스테인산, (N-프로피오닐-N-메톡시벤조일)호모시스테인산, (N-부티릴-N-메톡시벤조일)호모시스테인산, (N-아세틸-N-비페닐카르보닐)호모시스테인산, (N-비페닐카르보닐-N-프로피오닐)호모시스테인산, (N-비페닐카르보닐-N-톨루일)호모시스테인산, (N-아세틸-N-벤질카르보닐)호모시스테인산, (N-벤질카르보닐-N-프로피오닐)호모시스테인산, (N-벤질카르보닐-N-부티릴)호모시스테인산, 상술한 화합물의 입체 이성체, 또는 이들의 약리학적으로 허용되는 염 등이다.
상기 화학식 1 내지 6으로 표시되는 화합물이 갖는 자외선 폭로 등에 의해 형성된 주름에 대한 우수한 주름 개선 효과는, 프로콜라겐 생산 촉진 작용에 의해 주름 개선 효과를 발현하고 있다. 또한, MMP1, MMP9, MMP13 등의 매트릭스 메탈로프로테아제 저해 작용 또는 IL-1, IL-6 등의 사이토카인 생산 억제 작용을 통해 주름 개선 효과를 발현한다고도 생각된다.
화학식 1 내지 6으로 표시되는 화합물은 시판되어 있는 시약을 원료로서 사용하고, 후술하는 제조예에 나타낸 방법에 따라 제조할 수 있다. 이러한 화합물은 그대로 본 발명의 주름 개선제로서 이용할 수 있지만, 약리학적으로 허용할 수 있는 산 또는 염기와 함께 처리하여 염의 형태로 변환하여 염으로서 사용하는 것도 가능하다. 예를 들면 염산염, 황산염, 질산염, 인산염, 탄산염 등의 무기산염, 말레산염, 푸마르산염, 옥살산염, 시트르산염, 락트산염, 타르타르산염, 메탄술폰산염, 파라톨루엔술폰산염, 벤젠술폰산염 등의 유기산염, 나트륨염, 칼륨염 등의 알칼리 금속, 칼슘염, 마그네슘염 등의 알칼리 토류 금속, 트리에틸아민염, 트리에탄올아민염, 암모늄염, 모노에탄올아민염, 피페리딘염 등의 유기 아민염, 리신염, 알긴산염 등의 염기성 아미노산염 등을 바람직하게 예시할 수 있다.
이하, 본 발명의 주름 개선제의 제조예를 나타낸다.
<제조예 1> 화합물 1의 합성
Figure 112011045940301-pct00016
L-메티오닌 5 g(33.5 mmol)(와코 쥰야꾸), 1,4-디옥산 20 mL(와코 쥰야꾸) 및 물 10 mL를 100 mL 가지형 플라스크에 넣은 후, 빙욕으로 냉각하였다. 충분히 냉각한 후, 8 N 수산화나트륨 수용액 9.21 mL, p-톨루일클로라이드 4.21 mL(알드리치)를 액체 온도가 상승하지 않도록 순차적으로 적하하였다. 적하 종료 후, 빙욕을 제거하여 실온에서 교반하였다. 박층 크로마토그래피로 반응의 진행을 확인한 후, 1,4-디옥산을 감압 증류 제거하였다. 얻어진 잔사를 아세트산에틸로 세정한 후, 염산으로 pH를 2 이하로 조정하였다. 석출된 결정을 아세트산에틸로 용해, 추출한 후, 포화식염수로 세정하고, 무수 황산나트륨으로 탈수하였다. 얻어진 아세트산에틸 용액을 농축하고, 결정화하였다. 얻어진 결정을 디이소프로필에테르로 세정한 후, 여과 및 건조하여 상기 구조를 갖는 화합물 1 6.99 g(26.1 mmol)을 얻었다. 시성치(示性値)는 이하와 같다.
Figure 112011045940301-pct00017
<제조예 2> 화합물 2의 합성
Figure 112011045940301-pct00018
S-메틸-L-시스테인 5 g(37.0 mmol)(도쿄 가세이), 1,4-디옥산 20 mL(와코 쥰야꾸) 및 물 10 mL를 100 mL 가지형 플라스크에 넣은 후, 빙욕으로 냉각하였다. 충분히 냉각한 후, 8 N 수산화나트륨 수용액 10.2 mL, p-톨루일클로라이드 4.9 mL(알드리치)를 액체 온도가 상승하지 않도록 순차적으로 적하하였다. 적하 종료 후, 빙욕을 제거하여 실온에서 교반하였다. 박층 크로마토그래피로 반응의 진행을 확인한 후, 1,4-디옥산을 감압 증류 제거하였다. 얻어진 잔사를 아세트산에틸로 세정한 후, 염산으로 pH를 2 이하로 조정하였다. 석출된 결정을 아세트산에틸로 용해, 추출한 후, 포화식염수로 세정하고, 무수 황산나트륨으로 탈수하였다. 얻어진 아세트산에틸 용액을 농축하고, 결정화하였다. 얻어진 결정을 디이소프로필에테르로 세정한 후, 여과 및 건조하여 조결정을 얻었다. 얻어진 조결정을 아세트산에틸에 현탁시켜 60 ℃까지 승온시켰다. 완전히 용해된 것을 확인한 후, 디이소프로필에테르 40 mL를 적하하고, 결정을 석출하였다. 이 현탁액을 실온까지 방냉한 후, 여과 및 건조하여 상기 구조를 갖는 화합물 2 2.87 g(11.3 mmol)을 얻었다. 시성치는 이하와 같다.
Figure 112011045940301-pct00019
<제조예 3> 화합물 3의 합성
Figure 112011045940301-pct00020
L-시스테인산 1수화물 5 g(26.7 mmol)(알드리치), 1,4-디옥산 20 mL(와코 쥰야꾸) 및 물 10 mL를 100 mL 가지형 플라스크에 넣은 후, 빙욕으로 냉각하였다. 충분히 냉각한 후 8 N 수산화나트륨 수용액 10.7 mL, p-톨루일클로라이드 3.36 mL(알드리치)를 액체 온도가 상승하지 않도록 순차적으로 적하하였다. 적하 종료 후, 빙욕을 제거하여 실온에서 교반하였다. 박층 크로마토그래피로 반응의 진행을 확인한 후, 1,4-디옥산을 감압 증류 제거하였다. 얻어진 잔사를 아세트산에틸로 세정한 후, 염산으로 pH를 2 이하로 조정하였다. 얻어진 수용액을 동결 건조하고, 메탄올로 목적물을 추출하였다. 메탄올을 감압 증류 제거한 후, 결정화하고, 여과하였다. 여과 취출한 결정을 건조하여, 상기 구조를 갖는 화합물 3 5.79 g(20.2 mmol)을 얻었다. 시성치는 이하와 같다.
Figure 112011045940301-pct00021
<제조예 4> 화합물 4의 합성
Figure 112011045940301-pct00022
L-시스테인산 2 g(11.8 mmol)(도쿄 가세이), 테트라히드로푸란 12 mL(와코 쥰야꾸) 및 물 12 mL를 100 mL 가지형 플라스크에 넣은 후, 빙욕으로 냉각하였다. 충분히 냉각한 후, 탄산칼륨 2.94 g(21.3 mmol)(와코 쥰야꾸), 4-페닐벤조일클로라이드 2.05 g(도쿄 가세이)을 액체 온도가 상승하지 않도록 순차적으로 첨가하였다. 빙욕하에 1.5 시간 동안 반응시킨 후, 4-페닐벤조일클로라이드 1.02 g(도쿄 가세이)을 재차 첨가하였다. 첨가 후, 빙욕을 제거하여 실온에서 교반하였다. 박층 크로마토그래피로 반응의 진행을 확인한 후, 테트라히드로푸란을 감압 증류 제거하였다. 얻어진 잔사를 아세트산에틸로 세정한 후, 염산으로 pH를 2 이하로 조정하였다. 석출된 결정을 여과하고, 물로 세정하였다. 얻어진 결정을 아세톤으로 현세(懸洗)한 후, 여과하였다. 여과 취출한 결정을 60 ℃에서 건조하여, 상기 구조를 갖는 화합물 4 2.37 g(6.78 mmol)을 얻었다. 시성치는 이하와 같다.
Figure 112011045940301-pct00023
<제조예 5> 화합물 5의 합성
Figure 112011045940301-pct00024
L-시스테인산 2 g(11.8 mmol)(도쿄 가세이), 테트라히드로푸란 12 mL(와코 쥰야꾸) 및 물 12 mL를 100 mL 가지형 플라스크에 넣은 후, 빙욕으로 냉각하였다. 충분히 냉각한 후, 탄산칼륨 2.94 g(21.3 mmol)(와코 쥰야꾸), 4-메톡시벤조일클로라이드 1.61 g(도쿄 가세이)을 액체 온도가 상승하지 않도록 순차적으로 첨가하였다. 빙욕하에 1 시간 동안 반응시킨 후, 4-메톡시벤조일클로라이드 0.81 g(도쿄 가세이)을 재차 첨가하였다. 첨가 후, 빙욕을 제거하여 실온에서 교반하였다. 박층 크로마토그래피로 반응의 진행을 확인한 후, 테트라히드로푸란을 감압 증류 제거하였다. 얻어진 잔사를 아세트산에틸로 세정한 후, 염산으로 pH를 2 이하로 조정하였다. 석출된 결정을 여과하고, 물로 세정하였다. 여과액을 농축하고, 재차 석출된 결정을 여과하였다. 얻어진 결정을 합한 후, 아세톤으로 현세하였다. 결정을 여과한 후, 여과 취출한 결정을 60 ℃에서 건조하여 상기 구조를 갖는 화합물 5 2.47 g(8.14 mmol)을 얻었다. 시성치는 이하와 같다.
Figure 112011045940301-pct00025
<제조예 6> 화합물 6의 합성
Figure 112011045940301-pct00026
DL-호모시스테인산 2 g(10.9 mmol)(알드리치), 테트라히드로푸란 12 mL(와코 쥰야꾸) 및 물 12 mL를 100 mL 가지형 플라스크에 넣은 후, 빙욕으로 냉각하였다. 충분히 냉각한 후, 탄산칼륨 2.71 g(19.6 mmol)(와코 쥰야꾸)을 첨가하였다. p-톨루일클로라이드 1.49 g(알드리치)을 액체 온도가 상승하지 않도록 순차적으로 첨가하였다. 빙욕하에 1 시간 동안 반응시킨 후, p-톨루일클로라이드 0.76 g(알드리치)을 재차 첨가하였다. 첨가 후, 빙욕을 제거하여 실온에서 교반하였다. 박층 크로마토그래피로 반응의 진행을 확인한 후, 테트라히드로푸란을 감압 증류 제거하였다. 얻어진 잔사를 아세트산에틸로 세정한 후, 염산으로 pH를 2 이하로 조정하였다. 용액을 여과한 후, 여과액을 농축하여 메탄올을 첨가하였다. 석출된 결정을 여과 분별한 후, 물로 현세하였다. 결정을 여과하고, 여과 취출한 결정을 60 ℃에서 건조하여 상기 구조를 갖는 화합물 6 1.95 g(6.47 mmol)을 얻었다. 시성치는 이하와 같다.
Figure 112011045940301-pct00027
<제조예 7> 화합물 7의 합성
Figure 112011045940301-pct00028
L-시스테인산 3 g(17.7 mmol)(도쿄 가세이), 테트라히드로푸란 18 mL(와코 쥰야꾸) 및 물 18 mL를 100 mL 가지형 플라스크에 넣은 후, 빙욕으로 냉각하였다. 충분히 냉각한 후, 탄산칼륨 4.40 g(31.6 mmol)(와코 쥰야꾸), m-톨루일클로라이드 2.19 g(도쿄 가세이)을 액체 온도가 상승하지 않도록 순차적으로 첨가하였다. 빙욕하에 1 시간 동안 반응시킨 후, m-톨루일클로라이드 1.09 g(도쿄 가세이)을 재차 첨가하였다. 첨가 후, 빙욕을 제거하여 실온에서 교반하였다. 박층 크로마토그래피로 반응의 진행을 확인한 후, 테트라히드로푸란을 감압 증류 제거하였다. 얻어진 잔사를 아세트산에틸로 세정한 후, 염산으로 pH를 2 이하로 조정하였다. 여과액을 농축하고, 물(18 ml)을 첨가하였다. 석출된 결정을 여과 분별하였다. 얻어진 결정을 아세톤으로 현세하고, 여과 취출하였다. 여과 취출한 결정을 60 ℃에서 건조하여, 상기 구조를 갖는 화합물 7 1.65 g(5.74 mmol)을 얻었다. 시성치는 이하와 같다.
Figure 112011045940301-pct00029
<제조예 8> 화합물 8의 합성
Figure 112011045940301-pct00030
L-시스테인산 3 g(17.7 mmol)(도쿄 가세이), 테트라히드로푸란 18 mL(와코 쥰야꾸), 물 18 mL를 100 mL 가지형 플라스크에 넣은 후, 빙욕으로 냉각하였다. 충분히 냉각한 후, 탄산칼륨 4.40 g(31.6 mmol)(와코 쥰야꾸)을 첨가하였다. o-톨루일클로라이드 3.28 g(도쿄 가세이)을 액체 온도가 상승하지 않도록 순차적으로 첨가하였다. 첨가 후, 빙욕을 제거하여 실온에서 교반하였다. 박층 크로마토그래피로 반응의 진행을 확인한 후, 테트라히드로푸란을 감압 증류 제거하였다. 얻어진 잔사를 아세트산에틸로 세정한 후, 염산으로 pH를 2 이하로 조정하였다. 여과액을 농축하고, 물(20 ml)을 첨가하였다. 석출된 결정을 여과 취출하고, 결정을 아세톤으로 현세하였다. 여과 취출한 결정을 60 ℃에서 건조하여, 상기 구조를 갖는 화합물 8 0.78 g(2.72 mmol)을 얻었다. 시성치는 이하와 같다.
Figure 112011045940301-pct00031
상기 제조예는 화학식 1로 표시되는 화합물의 제조 방법의 일례이며, 원료나 반응 조건을 적절하게 변경함으로써 상기 화합물 1 내지 8 이외의 화합물을 합성할 수 있다. 본 발명의 주름 개선제는, 자외선 폭로 등에 의해 형성된 주름에 대하여 우수한 주름 개선 작용을 발휘하기 때문에 피부 외용제로서 유용하다. 피부 외용제가 이러한 작용을 발휘하기 위해서는 본원 발명의 주름 개선제, 즉 화학식 1 내지 6으로 표시되는 화합물을 피부 외용제 전량에 대하여 총량으로 0.001 질량％ 내지 20 질량％, 보다 바람직하게는 0.01 질량％ 내지 10 질량％, 더욱 바람직하게는 0.1 질량％ 내지 5 질량％ 함유하는 것이 바람직하다. 피부 외용제 전량에 대한 함유량이 0.001 질량％보다 적으면, 주름 개선 작용에 기초한 효과가 저하되는 경우가 있으며, 20 질량％를 초과하는 양을 사용하여도 효과에 한계가 있고, 공연히 처방 자유도를 손상시키는 경우가 있다.
화학식 1로 표시되는 화합물에는, 자외선 폭로 등으로 형성되는 주름에 대한 우수한 주름 개선 작용 이외의 작용을 발휘하는 것도 존재한다. 이러한 작용의 발현을 목적으로서 본 발명의 주름 개선제를 함유하는 피부 외용제여도, 주름 개선 효과가 발휘되어 있는 경우에는 본 발명의 효과를 이용하는 것이기 때문에 본 발명의 기술적 범위에 속한다. 주름 개선 이외의 작용으로서는, 보습 작용, 광선성 각화증 또는 비광선성 각화증 개선 작용, 피부의 박리, 표피 갱신의 자극 및 노화 개선 작용 등을 들 수 있다.
본 발명의 피부 외용제는, 본 발명의 주름 개선제 이외에 통상적인 피부 외용제에서 사용되는 임의의 성분을 함유할 수 있다. 이와 같은 임의의 성분으로서는, 예를 들면 마카다미아 너트유, 아보카도유, 옥수수유, 올리브유, 유채씨유, 호마유, 피마자유, 홍화유, 면실유, 호호바유, 야자유, 팜유, 액상 라놀린, 경화야자유, 경화유, 목랍, 경화 피마자유, 밀랍, 칸데릴라 왁스, 카르나우바 왁스, 백랍, 라놀린, 환원 라놀린, 경질 라놀린, 호호바 왁스 등의 오일, 왁스류; 유동 파라핀, 스쿠알란, 프리스탄, 오조케라이트, 파라핀, 세레신, 바셀린, 미소 결정질 왁스 등의 탄화수소류; 올레산, 이소스테아르산, 라우르산, 미리스트산, 팔미트산, 스테아르산, 베헨산, 운데실렌산 등의 고급 지방산류; 세틸 알코올, 스테아릴 알코올, 이소스테아릴 알코올, 베헤닐 알코올, 옥틸도데카놀, 미리스틸알코올, 세토스테아릴 알코올 등의 고급 알코올 등; 이소옥탄산세틸, 미리스트산이소프로필, 이소스테아르산헥실데실, 아디프산디이소프로필, 세박산디-2-에틸헥실, 락트산세틸, 말산디이소스테아릴, 디-2-에틸헥산산에틸렌글리콜, 디카프르산네오펜틸글리콜, 디-2-헵틸운데칸산글리세린, 트리-2-에틸헥산산글리세린, 트리-2-에틸헥산산트리메틸올프로판, 트리이소스테아르산트리메틸올프로판, 테트라-2-에틸헥산산펜탄에리트리트 등의 합성 에스테르유류; 디메틸폴리실록산, 메틸페닐폴리실록산, 디페닐폴리실록산 등의 쇄상 폴리실록산; 옥타메틸시클로테트라실록산, 데카메틸시클로펜타실록산, 도데카메틸시클로헥산실록산 등의 환상 폴리실록산; 아미노 변성 폴리실록산, 폴리에테르 변성 폴리실록산, 알킬 변성 폴리실록산, 불소 변성 폴리실록산 등의 변성 폴리실록산 등의 실리콘유 등의 오일제류; 지방산 비누(라우르산나트륨, 팔미트산나트륨 등), 라우릴황산칼륨, 알킬황산트리에탄올아민에테르 등의 음이온 계면활성제류; 염화스테아릴트리메틸암모늄, 염화벤즈알코늄, 라우릴아민옥시드 등의 양이온 계면활성제류; 이미다졸린계 양쪽성 계면활성제(2-코코일-2-이미다졸리늄히드록시드-1-카르복시에틸옥시 2나트륨염 등), 베타인계 계면활성제(알킬베타인, 아미드베타인, 술포베타인 등), 아실메틸타우린 등의 양쪽성 계면활성제류; 소르비탄 지방산 에스테르류(소르비탄 모노스테아레이트, 세스퀴올레산 소르비탄 등), 글리세린 지방산류(모노스테아르산글리세린 등), 프로필렌글리콜 지방산 에스테르류(모노스테아르산프로필렌글리콜 등), 경화 피마자유 유도체, 글리세린알킬에테르, POE 소르비탄 지방산 에스테르류(POE 소르비탄모노올레에이트, 모노스테아르산폴리옥시에틸렌소르비탄 등), POE 소르비트 지방산 에스테르류(POE-소르비트 모노라우레이트 등), POE 글리세린 지방산 에스테르류(POE-글리세린모노이소스테아레이트 등), POE 지방산 에스테르류(폴리에틸렌글리콜모노올레에이트, POE 디스테아레이트 등), POE 알킬에테르류(POE 2-옥틸도데실에테르 등), POE 알킬페닐에테르류(POE 노닐페닐에테르 등), 플루로닉형류, POEㆍPOP 알킬에테르류(POEㆍPOP 2-데실테트라데실에테르 등), 테트로닉류, POE 피마자유ㆍ경화 피마자유 유도체(POE 피마자유, POE 경화피마자유 등), 자당 지방산 에스테르, 알킬글루코시드 등의 비이온 계면활성제류; 폴리에틸렌글리콜, 글리세린, 1,3-부틸렌글리콜, 에리트리톨, 소르비톨, 크실리톨, 말티톨, 프로필렌글리콜, 디프로필렌글리콜, 디글리세린, 이소프렌글리콜, 1,2-펜탄디올, 2,4-헥산디올, 1,2-헥산디올, 1,2-옥탄디올 등의 다가 알코올류; 피롤리돈카르복실산나트륨, 락트산, 락트산나트륨 등의 보습 성분류; 표면이 처리되어 있을 수도 있는 마이커, 탈크, 카올린, 합성 운모, 탄산칼슘, 탄산마그네슘, 무수 규산(실리카), 산화알루미늄, 황산바륨 등의 분체류; 표면이 처리되어 있을 수도 있는 적산화철, 황산화철, 흑산화철, 산화코발트, 군청, 감청, 산화티탄, 산화아연의 무기 안료류; 표면이 처리되어 있을 수도 있는 운모 티탄, 어린박, 옥시염화비스무트 등의 펄제류; 레이크화되어 있을 수도 있는 적색 202호, 적색 228호, 적색 226호, 황색 4호, 청색 404호, 황색 5호, 적색 505호, 적색 230호, 적색 223호, 주황색 201호, 적색 213호, 황색 204호, 황색 203호, 청색 1호, 녹색 201호, 보라색 201호, 적색 204호 등의 유기 색소류; 폴리에틸렌 분말, 폴리메타크릴산메틸, 나일론 분말, 오르가노폴리실록산 엘라스토머 등의 유기 분체류; 파라아미노벤조산계 자외선 흡수제; 안트라닐산계 자외선 흡수제; 살리실산계 자외선 흡수제; 신남산계 자외선 흡수제; 벤조페논계 자외선 흡수제; 당계 자외선 흡수제; 2-(2'-히드록시-5'-t-옥틸페닐)벤조트리아졸, 4-메톡시-4'-t-부틸디벤조일메탄 등의 자외선 흡수제류; 에탄올, 이소프로판올 등의 저급 알코올류; 비타민 A 또는 그의 유도체, 비타민 B6 염산염, 비타민 B6 트리팔미테이트, 비타민 B6 디옥타노에이트, 비타민 B2 또는 그의 유도체, 비타민 B12, 비타민 B15 또는 그의 유도체 등의 비타민 B류; α-토코페롤, β-토코페롤, γ-토코페롤, 비타민 E 아세테이트 등의 비타민 E류, 비타민 D류, 비타민 H, 판토텐산, 판테틴, 피롤로퀴놀린퀴논 등의 비타민류 등; 페녹시에탄올 등의 항균제 등을 들 수 있다.
본 발명의 주름 개선제 및 상기 임의 성분을 통상법에 따라 처리함으로써, 로션, 유액, 에센스, 크림, 팩 화장료, 세정료 등의 본 발명의 피부 외용제를 제조할 수 있다. 본 발명의 피부 외용제로서는, 피부에 외용으로 적용되는 것이면 특별한 한정없이 적용할 수 있으며, 의약 부외품을 포함하는 화장료, 피부 외용 의약, 피부 외용 잡화 등에 적용할 수 있다. 특히 바람직하게는 의약 부외품을 포함하는 화장료이다. 본 발명의 주름 개선제의 안전성이 높기 때문에, 연속적으로 사용하는 것이 가능하다.
이하, 본 발명에 대하여 실시예를 예를 들어 더욱 상세히 설명하지만, 본 발명이 이러한 실시예만으로 한정되지 않는다.
실시예 1
<제제예 1: 화합물 1의 주름 개선제>
화합물 1에 대하여 상술한 방법에 의해 합성하였다. 이하에 나타내는 처방에 따라 본 발명의 주름 개선제를 포함하는 화장료 1(로션)을 제조하였다.
Figure 112011045940301-pct00032
<광 노화 모델을 이용한 화합물 1의 주름 개선 효과의 평가>
상기 화장료 1에 대하여, 광 노화 모델을 이용한 시험에서의 주름 개선 효과를 평가하였다.
시험 개시시 6주령의 헤어리스 마우스 1군 5마리, 대조군(에탄올 용매 투여군)과 검체 투여군의 2군으로 합계 10마리 이용하고, 헤어리스 마우스 등에 UVB를 1일 1회, 주 3회의 빈도로 10주일간 연속 조사함으로써 광 노화를 유발시켰다. UVB 조사량은, 최초 1주일간을 50 mJ/cm2, 2주일째 이후를 100 mJ/cm2로 하였다.
검체 투여군에는, 상기 화장료 1을 헤어리스 마우스 등에 투여하였다. 10주일간의 UVB 조사 종료 후, 익일부터 헤어리스 마우스 등에 화장료 1의 투여를 개시하여 1일 1회 100 μL를 8주일간 투여하였다. 대조군에는, 표 1의 화장료 1(로션 1) 대신에 에탄올을 투여하고, 이후의 처치는 검체 투여군과 동일하게 행하였다. 투여 종료 1일 후에 레플리카를 채취하고, 30도의 사광 조명하에 투영된 사방이 2 cm인 레플리카상을 이용하여 측정자에 의한 주름 스코어 기준(표 2)에 따른 스코어화 작업을 행함으로써 주름 개선 효과를 평가하였다. 스코어화 작업은 3명의 측정자가 개별적으로 행하며, 육안에 의해 스코어 1 내지 6까지 0.5씩 평가한 결과에 대하여 평균값을 산출하였다.
Figure 112011045940301-pct00033
화합물 1의 주름 개선 효과를 도 1에 나타낸다. 이 도면으로부터, 본 발명의 화합물 1은 우수한 주름 개선 효과를 갖는다는 것을 알 수 있다.
실시예 2
<제제예 2 및 3: 화합물 2 및 화합물 3의 주름 개선제>
화합물 2 및 3에 대하여 상술한 방법에 의해 합성하였다. 화합물 1을 화합물 2 및 3으로 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 동일한 방법으로 화장료 2 및 화장료 3을 제조하였다. 화장료 1의 경우와 마찬가지로 주름 개선 작용을 평가한 결과를 도 2 및 도 3에 나타낸다. 이들 도면으로부터, 본 발명의 화합물 2 및 화합물 3은 우수한 주름 개선 효과를 갖는다는 것을 알 수 있다.
실시예 3
<화합물 1 내지 8의 프로콜라겐 생산 촉진 작용의 평가>
본 발명의 화합물 1 내지 8을 상술한 방법에 의해 합성하여, 프로콜라겐(procollagen) 생산 촉진 작용을 평가하였다.
케라틴 세포 증식용 배지(휴미디어(Humedia)-KG2, 구라보 보세끼 가부시끼가이샤 제조)를 사용하여 4.5×104 세포의 인간 유래 정상 케라틴 세포 배양 세포를 24웰 플레이트에 파종하고, 37 ℃ㆍ이산화탄소 농도 5 ％ 중에서 4일간 배양하였다. 동시에 10 ％ FBS를 첨가한 DMEM 배지(시그마 제조)를 사용하여 2.5×104 세포의 인간 유래 정상 피부 섬유아세포 배양 세포를 24웰 플레이트에 파종하고, 37 ℃ㆍ이산화탄소 농도 5 ％ 중에서 배양하였다.
이어서, 2 ％ FBS를 첨가한 DMEM 배지(시그마 제조)에 최종 농도 10 μM가 되도록 화합물 1 내지 8을 각각 첨가한 배지를 제작하였다. 또한, 비교 대조(Control)에는, 화합물 1 내지 8 대신에 최종 농도 0.01×10-3(v/v％)이 되도록 디메틸술폭시드(시그마 알드리치사 제조) 및 50 ％ 에탄올(시그마 알드리치사 제조)을 첨가한 배지를 제작하였다.
배양한 케라틴 세포를 PBS(와코 준야꾸 고교 가부시끼가이샤 제조)로 세정한 후, 상기 각각의 화합물을 포함하는 배지, 및 디메틸술폭시드 및 50 ％ 에탄올을 포함하는 배지로 치환하여 37 ℃ㆍ이산화탄소 농도 5 ％ 중에서 24 시간 동안 배양하였다. 24 시간 후, 이 배양 상청을 회수하였다.
배양한 섬유아세포를 PBS로 세정한 후, 회수한 배양 상청으로 치환하여 37 ℃ㆍ이산화탄소 농도 5 ％ 중에서 48 시간 동안 배양하였다. 48 시간 후, 섬유아세포를 PBS로 세정한 후, DMEM(시그마 제조)으로 치환하여 37 ℃ㆍ이산화탄소 농도 5 ％ 중에서 2 시간 동안 배양한 후, 배양 상청을 회수하였다. 이 배양 상청 중의 프로콜라겐량을 ELISA법을 이용하여 측정하였다.
디메틸술폭시드 및 50 ％ 에탄올 첨가 배지에서 배양한 섬유아세포를 비교 대조(Control)로 하여, 비교 대조에 대한 화합물 1 내지 8 각각의 프로콜라겐 생산량의 비율을 도 4 내지 7에 나타내었다.
도 4 내지 7의 결과에 따르면, 본 발명의 화합물은 우수한 프로콜라겐 생산 촉진 효과를 갖는다는 것을 알 수 있다.
본 발명의 주름 개선제는, 화장료 등의 피부 외용제에 적용할 수 있다. 또한, 안전성이 높고, 주름 개선 작용이 우수하기 때문에, 화장료 원료로서 매우 유용하다.

Claims (10)

  1. 하기 화학식 1로 표시되는 화합물, 그의 입체 이성체 또는 이들의 약리학적으로 허용되는 염을 함유하는 화장용 주름 개선제.
    <화학식 1>
    Figure 112016031002715-pct00034

    [식 중, R1은 수소 원자, 또는 탄소수 1 내지 8의 직쇄 또는 분지의 알킬기를 나타내고, R2는 -SH, -SO3H, -S-S-X1, -S-X2, -SO-X3, -SO2-X4, -SO2-NY1-X5 또는 -SO2-NY2-Y3을 나타내고, 상기 X1 내지 X5는 독립적으로 수소 원자 또는 탄소 원자가 복소 원자로 치환되어 있을 수도 있는 탄소수 1 내지 8의 지방족 탄화수소기 또는 탄소수 5 내지 12의 방향족부이고, 상기 Y1 내지 Y3은 독립적으로 수소 원자, 또는 탄소수 1 내지 8의 직쇄 또는 분지의 알킬기를 나타내고, R3은 수소 원자, 또는 탄소수 1 내지 8의 직쇄 또는 분지의 알킬쇄를 갖는 아실기를 나타내고, R4는 페닐기, 톨루일기, 에틸페닐기, 프로필페닐기, 부틸페닐기, 펜틸페닐기, 헥실페닐기, 메톡시페닐기, 에톡시페닐기, 프로필옥시페닐기, 부틸옥시페닐기, 펜틸옥시페닐기, 헥실옥시페닐기, 히드록시페닐기, 나프틸기, 메틸나프틸기, 메톡시나프틸기, 비페닐기, 피리딜기 또는 퀴놀릴기를 나타내고, m은 0 내지 3의 정수를 나타내고, n은 1 또는 2의 정수를 나타냄]
  2. 제1항에 있어서, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물이 하기 화학식 2로 표시되는 화합물인 화장용 주름 개선제.
    <화학식 2>
    Figure 112016031002715-pct00035

    [식 중, R5는 수소 원자, 또는 탄소수 1 내지 8의 직쇄 또는 분지의 알킬기를 나타내고, R6은 -S-X2를 나타내고, 상기 X2는 수소 원자 또는 탄소 원자가 복소 원자로 치환되어 있을 수도 있는 탄소수 1 내지 8의 지방족 탄화수소기 또는 탄소수 5 내지 12의 방향족부를 나타내고, R7은 수소 원자, 또는 탄소수 1 내지 8의 직쇄 또는 분지의 알킬쇄를 갖는 아실기를 나타내고, R8은 페닐기, 톨루일기, 에틸페닐기, 프로필페닐기, 부틸페닐기, 펜틸페닐기, 헥실페닐기, 메톡시페닐기, 에톡시페닐기, 프로필옥시페닐기, 부틸옥시페닐기, 펜틸옥시페닐기, 헥실옥시페닐기, 히드록시페닐기, 나프틸기, 메틸나프틸기, 메톡시나프틸기, 비페닐기, 피리딜기 또는 퀴놀릴기를 나타내고, m은 0 내지 3의 정수를 나타내고, n은 1 또는 2의 정수를 나타냄]
  3. 제1항에 있어서, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물이 하기 화학식 3으로 표시되는 화합물인 화장용 주름 개선제.
    <화학식 3>
    Figure 112016031002715-pct00036

    [식 중, R9는 수소 원자, 또는 탄소수 1 내지 8의 직쇄 또는 분지의 알킬기를 나타내고, R10은 -S-X2를 나타내고, 상기 X2는 수소 원자 또는 탄소 원자가 복소 원자로 치환되어 있을 수도 있는 탄소수 1 내지 8의 지방족 탄화수소기 또는 탄소수 5 내지 12의 방향족부를 나타내고, R11은 페닐기, 톨루일기, 에틸페닐기, 프로필페닐기, 부틸페닐기, 펜틸페닐기, 헥실페닐기, 메톡시페닐기, 에톡시페닐기, 프로필옥시페닐기, 부틸옥시페닐기, 펜틸옥시페닐기, 헥실옥시페닐기, 히드록시페닐기, 나프틸기, 메틸나프틸기, 메톡시나프틸기, 비페닐기, 피리딜기 또는 퀴놀릴기를 나타내고, m은 0 내지 3의 정수를 나타내고, n은 1 또는 2의 정수를 나타냄]
  4. 제1항에 있어서, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물이 하기 화학식 4로 표시되는 화합물인 화장용 주름 개선제.
    <화학식 4>
    Figure 112016031002715-pct00037

    [식 중, R12는 수소 원자, 또는 탄소수 1 내지 8의 직쇄 또는 분지의 알킬기를 나타내고, R13은 수소 원자 또는 탄소 원자가 복소 원자로 치환되어 있을 수도 있는 탄소수 1 내지 8의 지방족 탄화수소기 또는 탄소수 5 내지 12의 방향족부를 나타내고, R14는 페닐기, 톨루일기, 에틸페닐기, 프로필페닐기, 부틸페닐기, 펜틸페닐기, 헥실페닐기, 메톡시페닐기, 에톡시페닐기, 프로필옥시페닐기, 부틸옥시페닐기, 펜틸옥시페닐기, 헥실옥시페닐기, 히드록시페닐기, 나프틸기, 메틸나프틸기, 메톡시나프틸기, 비페닐기, 피리딜기 또는 퀴놀릴기를 나타내고, m은 0 내지 3의 정수를 나타냄]
  5. 제1항에 있어서, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물이 하기 화학식 5로 표시되는 화합물인 화장용 주름 개선제.
    <화학식 5>
    Figure 112016031002715-pct00038

    [식 중, R15는 수소 원자, 또는 탄소수 1 내지 8의 직쇄 또는 분지의 알킬기를 나타내고, R16은 -SO3H, -SO-X3, -SO2-X4, -SO2-NY1-X5 또는 -SO2-NY2-Y3를 나타내고, 상기 X3 내지 X5는 수소 원자 또는 탄소 원자가 복소 원자로 치환되어 있을 수도 있는 탄소수 1 내지 8의 지방족 탄화수소기 또는 탄소수 5 내지 12의 방향족부를 나타내고, 상기 Y1 내지 Y3는 독립적으로 수소 원자, 또는 탄소수 1 내지 8의 직쇄 또는 분지의 알킬기를 나타내고, R17은 수소 원자, 또는 탄소수 1 내지 8의 직쇄 또는 분지의 알킬쇄를 갖는 아실기를 나타내고, R18은 페닐기, 톨루일기, 에틸페닐기, 프로필페닐기, 부틸페닐기, 펜틸페닐기, 헥실페닐기, 메톡시페닐기, 에톡시페닐기, 프로필옥시페닐기, 부틸옥시페닐기, 펜틸옥시페닐기, 헥실옥시페닐기, 히드록시페닐기, 나프틸기, 메틸나프틸기, 메톡시나프틸기, 비페닐기, 피리딜기 또는 퀴놀릴기를 나타내고, m은 0 내지 3의 정수를 나타내고, n은 1 또는 2의 정수를 나타냄]
  6. 제1항에 있어서, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물이 하기 화학식 6으로 표시되는 화합물인 화장용 주름 개선제.
    <화학식 6>
    Figure 112016031002715-pct00039

    [식 중, R19는 수소 원자, 또는 탄소수 1 내지 8의 직쇄 또는 분지의 알킬기를 나타내고, R20은 페닐기, 톨루일기, 에틸페닐기, 프로필페닐기, 부틸페닐기, 펜틸페닐기, 헥실페닐기, 메톡시페닐기, 에톡시페닐기, 프로필옥시페닐기, 부틸옥시페닐기, 펜틸옥시페닐기, 헥실옥시페닐기, 히드록시페닐기, 나프틸기, 메틸나프틸기, 메톡시나프틸기, 비페닐기, 피리딜기 또는 퀴놀릴기를 나타내고, m은 0 내지 3의 정수를 나타내고, n은 1 또는 2의 정수를 나타냄]
  7. 하기 화학식 5로 표시되는 화합물, 그의 입체 이성체 또는 이들의 약리학적으로 허용되는 염.
    <화학식 5>
    Figure 112016031002715-pct00040

    [식 중, R15는 수소 원자, 또는 탄소수 1 내지 8의 직쇄 또는 분지의 알킬기를 나타내고, R16은 -SO3H 또는 -SO2-X4를 나타내고, 상기 X4는 수소 원자 또는 탄소 원자가 복소 원자로 치환되어 있을 수도 있는 탄소수 1 내지 8의 지방족 탄화수소기 또는 탄소수 5 내지 12의 방향족부를 나타내고, R17은 수소 원자, 또는 탄소수 1 내지 8의 직쇄 또는 분지의 알킬쇄를 갖는 아실기를 나타내고, R18은 페닐기, 톨루일기, 에틸페닐기, 프로필페닐기, 부틸페닐기, 펜틸페닐기, 헥실페닐기, 메톡시페닐기, 에톡시페닐기, 프로필옥시페닐기, 부틸옥시페닐기, 펜틸옥시페닐기, 헥실옥시페닐기, 히드록시페닐기, 나프틸기, 메틸나프틸기, 메톡시나프틸기, 비페닐기, 피리딜기 또는 퀴놀릴기를 나타내고, m은 0 내지 3의 정수를 나타내고, n은 1 또는 2의 정수를 나타냄]
  8. 하기 화학식 6으로 표시되는 화합물, 그의 입체 이성체 또는 이들의 약리학적으로 허용되는 염.
    <화학식 6>
    Figure 112016031002715-pct00041

    [식 중, R19는 수소 원자, 또는 탄소수 1 내지 8의 직쇄 또는 분지의 알킬기를 나타내고, R20은 페닐기, 톨루일기, 에틸페닐기, 프로필페닐기, 부틸페닐기, 펜틸페닐기, 헥실페닐기, 메톡시페닐기, 에톡시페닐기, 프로필옥시페닐기, 부틸옥시페닐기, 펜틸옥시페닐기, 헥실옥시페닐기, 히드록시페닐기, 나프틸기, 메틸나프틸기, 메톡시나프틸기, 비페닐기, 피리딜기 또는 퀴놀릴기를 나타내고, m은 0 내지 3의 정수를 나타내고, n은 1 또는 2의 정수를 나타냄]
  9. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 기재된 주름 개선제를 0.001 내지 20 질량％ 함유하는 화장용 피부 외용제.
  10. 삭제
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