JP5736317B2 - コーティング設備のための洗浄方法 - Google Patents
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- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims description 64
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 46
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims description 38
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title description 13
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 17
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims description 14
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 14
- 239000000725 suspension Substances 0.000 claims description 10
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 8
- 238000002203 pretreatment Methods 0.000 claims description 5
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 4
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 15
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 13
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 11
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 5
- 238000005488 sandblasting Methods 0.000 description 5
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 4
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LLQPHQFNMLZJMP-UHFFFAOYSA-N Fentrazamide Chemical group N1=NN(C=2C(=CC=CC=2)Cl)C(=O)N1C(=O)N(CC)C1CCCCC1 LLQPHQFNMLZJMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003044 adaptive effect Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 239000000443 aerosol Substances 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 239000012752 auxiliary agent Substances 0.000 description 1
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 1
- 238000007781 pre-processing Methods 0.000 description 1
- 238000000527 sonication Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000013077 target material Substances 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
- B05D1/32—Processes for applying liquids or other fluent materials using means for protecting parts of a surface not to be coated, e.g. using stencils, resists
- B05D1/322—Removable films used as masks
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/564—Means for minimising impurities in the coating chamber such as dust, moisture, residual gases
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
- B05D1/60—Deposition of organic layers from vapour phase
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D5/00—Processes for applying liquids or other fluent materials to surfaces to obtain special surface effects, finishes or structures
- B05D5/08—Processes for applying liquids or other fluent materials to surfaces to obtain special surface effects, finishes or structures to obtain an anti-friction or anti-adhesive surface
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
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- Materials Engineering (AREA)
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Description
本発明は、コーティング設備と関連する、特に真空コーティング設備と関連する、洗浄方法に関する。コーティングにあたっては、コーティングチャンバの中で、コーティングすることが望ましくない表面も必然的にコーティングされるのが通常である。そのような面は、たとえばチャンバの一部、コーティングされるべき基板の一部、保持面、その他の副次面である可能性がある。1回または複数回のコーティングの後、労力を費やしてこのような面を洗浄しなければならないのが通常である。このことが特に必要なのは、コーティングにあたって望ましくないコーティングがなされた部分において、たとえば導電性のような表面特性が重要になる場合である。本発明の方法により、このような洗浄が大幅に簡素化される。本件特許出願の枠内において、望ましくないコーティングされた面のことを副次面と呼び、それに対して、望ましいコーティングがなされた面のことを目標面と呼ぶ。
従来技術では、たとえばサンドブラスト、研磨、ブラシング、あるいは機械式な後処理あるいは化学的なコーティング除去プロセスといった種々の方法によって、このような望ましくないコーティングを取り除くことが知られている。こうした方法はどれも業界で広く適用されている、普及した実用技術である。このような望ましくないコーティングの副次面への付着力はしばしば強力であるため、ほぼ全般的に、その除去は非常に時間コストがかかる。少なからぬケースにおいて、1回のコーティングプロセス(バッチ)が終わるたびに副次面を洗浄しなければならない。
しかも、あらゆる摩擦式の洗浄方法(サンドブラスト、研磨など)は、処理されたコンポーネントにとって追加の強力な材料摩耗を意味している。このことは、追加的に高い維持費用につながる(摩減したコンポーネントの交換)。
したがって、従来技術の欠点を少なくとも部分的に克服する方法を提供することが望まれる。具体的には、これに加えて大幅に少ない時間コストで実施することができ、洗浄されるべきコンポーネントの材料摩耗につながることがない、簡素化された副次面の洗浄方法を提供することが望ましい。
本発明の基本的思想は、コーティングプロセスの前に副次面に前処理を施しておき、これに続くコーティングプロセスのときに副次面へのコーティング材料の付着が、前処理しないときの付着に比べて大幅に減るようにすることにある。このようにして洗浄が大幅に簡素化される。
次に、実施例と図面を参照しながら本発明について詳しく説明する。
アーク蒸着との関連で、いわゆる閉じ込めリングがしばしば用いられる。これはコーティング材料を有している蒸発源のターゲットを取り囲み、アークがターゲット表面の領域に限定されるように作用する。閉じ込めリングはターゲット材料の近傍にあるため、PVDコーティングプロセスのときに強い材料塗布をうけ、その洗浄は従来、たとえばサンドブラストや切削による後加工といったきわめて攻撃性のある手法を必要としていた。本発明に基づくグラファイト粉末の塗布により、必要な導電性が維持される。PVDプロセス中に塗布されるコーティング材料は、グラファイト層の上に載る。この被膜を含めたグラファイト層は、簡単な仕方で閉じ込めリングから除去することができる。
前提となるのは堆積物や残留物のないアノードであり、すなわち、初回のコーティングプロセス前の、または洗浄処理後の「未使用状態の」アノードである。
点1:コーティング方法のための前処理方法において、コーティング設備の副次面をコーティングプロセスの前に前処理して、後続するコーティングプロセスのときに副次面へのコーティング材料の付着が前処理しないときの付着に比べて大幅に減るようにすることを特徴とする前処理方法。
2 圧縮空気供給部
3 懸濁液
4 スプレーノズル
5 副次面
6 マスキングステンシル
7 噴霧
8 掃除機ノズル
9 堆積物が付いている付着防止層
10 付着防止層
11 PVDプロセスに基づく堆積物
Claims (2)
- PVDコーティング方法のための前処理方法において、コーティング設備の副次面をコーティングプロセスの前に前処理して、後続するコーティングプロセスのときに副次面へのコーティング材料の付着が前処理しないときの付着に比べて大幅に減るようにし、
前処理の過程で付着防止層が副次面に塗布され、前記付着防止層はIPA溶液中に純粋な粉末を含む懸濁液を含み、
10グラムのグラファイト粉末が50−150cm3のIPA中に含まれ、
前記グラファイト粉末の最大粒子径は0.2μmから150μmであり、
前記付着防止層はスプレーガンの手段によってマスキングされたアノードに吹き付けられ、
吹き付けプロセスで駆動するための媒体は、脱油されており、粒子を含まない圧縮空気であることを特徴とする、前処理方法。 - 請求項1に記載の前処理と、これに後続するコーティング方法とを含んでいる方法において、1回または複数回のコーティングサイクルの後に付着防止層が除去されることを特徴とする方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US11646108P | 2008-11-20 | 2008-11-20 | |
US61/116,461 | 2008-11-20 | ||
PCT/CH2009/000355 WO2010057323A1 (de) | 2008-11-20 | 2009-11-11 | Reinigungsverfahren für beschichtungsanlagen |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012509164A JP2012509164A (ja) | 2012-04-19 |
JP2012509164A5 JP2012509164A5 (ja) | 2012-12-27 |
JP5736317B2 true JP5736317B2 (ja) | 2015-06-17 |
Family
ID=41567208
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011536719A Active JP5736317B2 (ja) | 2008-11-20 | 2009-11-11 | コーティング設備のための洗浄方法 |
Country Status (13)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8765214B2 (ja) |
EP (1) | EP2358483B1 (ja) |
JP (1) | JP5736317B2 (ja) |
KR (1) | KR101736508B1 (ja) |
CN (1) | CN102223956B (ja) |
BR (1) | BRPI0920910B1 (ja) |
CA (1) | CA2744032C (ja) |
ES (1) | ES2541586T3 (ja) |
HU (1) | HUE026933T2 (ja) |
MX (1) | MX2011005203A (ja) |
PL (1) | PL2358483T3 (ja) |
RU (1) | RU2510664C2 (ja) |
WO (1) | WO2010057323A1 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102010005762A1 (de) * | 2010-01-25 | 2011-07-28 | Oerlikon Trading Ag, Trübbach | Reinigungsverfahren für Beschichtungsanlagen |
DE102012000288A1 (de) * | 2011-11-18 | 2013-05-23 | Thomas Mayer | Bestandteil einer Oberflächenbeschichtungsanlage |
JP5743010B1 (ja) * | 2014-06-20 | 2015-07-01 | 富士ゼロックス株式会社 | 画像形成装置、塗布装置、塗布剤、及び搬送装置 |
US20180237906A1 (en) * | 2015-08-22 | 2018-08-23 | Novena Tec Inc. | Process chamber shielding system and method |
Family Cites Families (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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EP0648861A1 (en) * | 1993-10-15 | 1995-04-19 | Applied Materials, Inc. | Semiconductor processing apparatus |
JP3362552B2 (ja) * | 1995-03-10 | 2003-01-07 | 東京エレクトロン株式会社 | 成膜処理装置 |
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EP1772529A1 (de) * | 2005-10-07 | 2007-04-11 | Siemens Aktiengesellschaft | Trockene Zusammensetzung, Verwendung derer, Schichtsystem und Verfahren zur Beschichtung |
EP1954604A1 (en) | 2005-12-01 | 2008-08-13 | Cardinal CG Company | Transport rollers |
-
2009
- 2009-11-11 PL PL09756655T patent/PL2358483T3/pl unknown
- 2009-11-11 EP EP09756655.8A patent/EP2358483B1/de active Active
- 2009-11-11 KR KR1020117010669A patent/KR101736508B1/ko active IP Right Grant
- 2009-11-11 ES ES09756655.8T patent/ES2541586T3/es active Active
- 2009-11-11 US US13/130,091 patent/US8765214B2/en active Active
- 2009-11-11 MX MX2011005203A patent/MX2011005203A/es active IP Right Grant
- 2009-11-11 JP JP2011536719A patent/JP5736317B2/ja active Active
- 2009-11-11 CN CN200980147115.0A patent/CN102223956B/zh active Active
- 2009-11-11 WO PCT/CH2009/000355 patent/WO2010057323A1/de active Application Filing
- 2009-11-11 HU HUE09756655A patent/HUE026933T2/en unknown
- 2009-11-11 RU RU2011124886/04A patent/RU2510664C2/ru active
- 2009-11-11 CA CA2744032A patent/CA2744032C/en active Active
- 2009-11-11 BR BRPI0920910-7A patent/BRPI0920910B1/pt active IP Right Grant
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR101736508B1 (ko) | 2017-05-16 |
EP2358483B1 (de) | 2015-04-08 |
CA2744032C (en) | 2018-07-31 |
JP2012509164A (ja) | 2012-04-19 |
ES2541586T3 (es) | 2015-07-22 |
US20110281026A1 (en) | 2011-11-17 |
KR20110095259A (ko) | 2011-08-24 |
BRPI0920910A2 (pt) | 2017-07-11 |
CN102223956A (zh) | 2011-10-19 |
BRPI0920910B1 (pt) | 2019-09-17 |
CN102223956B (zh) | 2015-05-06 |
WO2010057323A1 (de) | 2010-05-27 |
US8765214B2 (en) | 2014-07-01 |
EP2358483A1 (de) | 2011-08-24 |
HUE026933T2 (en) | 2016-07-28 |
RU2510664C2 (ru) | 2014-04-10 |
PL2358483T3 (pl) | 2015-09-30 |
MX2011005203A (es) | 2011-06-01 |
RU2011124886A (ru) | 2012-12-27 |
CA2744032A1 (en) | 2010-05-27 |
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