JP4732765B2 - 薄膜製造装置部材の表面処理方法及び薄膜製造装置部材 - Google Patents
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基材としてSUS304(130mm×130mm×3mm)を用い、基材の130mm×130mmの面をアルミナを用いてブラスト処理を行った。基材のブラスト表面にアーク溶射法でアルミニウム(純度99.9%以上)を200μm堆積させた。このアルミニウム溶射皮膜上にリン酸アルミニウムを含む封孔処理剤を含浸させ、封孔処理剤を自然乾燥させた後に200℃のオーブン内で乾燥、焼結させた。この封孔処理を施したアルミニウム溶射皮膜を200μm堆積させたSUS304をテストピースとして使用した。このテストピースを超純水中で超音波洗浄を行った。洗浄後にテストピースを105℃で乾燥させた。洗浄後に乾燥させたテストピースの封孔処理した溶射皮膜上を気中パーティクルカウンター(リオン株式会社製 KM−20)を用いて測定した。表1のようにφ0.2μm以上のパーティクルの数は8個/cm2であった。
洗浄した実施例1のテストピースにスパッタリング装置を用いて0.5μmの窒化チタンのスパッタ膜を作製した。スパッタリングでのプラズマに影響を受ける場合、テストピースからのパーティクルの増加が激しくなるが、この窒化チタンスパッタ膜上を気中パーティクルカウンターを用いて測定したところ、表1のようにφ0.2μm以上のパーティクルの数は20個/cm2であった。
基材としてSUS304(600mm×600mm×3mm)を用い、基材の600mm×600mmの両面をアルミナを用いてブラスト処理を行った。基材のブラスト表面にアーク溶射法でアルミニウム(純度99.9%以上)を200μm堆積させた。このアルミニウム溶射皮膜上にリン酸アルミニウムを含む封孔処理剤を含浸させ、封孔処理剤を自然乾燥させた後に200℃のオーブン内で乾燥、焼結させた。この封孔処理を施したアルミニウム溶射皮膜を200μm堆積させたSUS304をテストピースとして使用した。このテストピースをスパッタリング装置のチャンバー内に入れ、ポンプを用いて排気した。1×10−4Paに到達するまでの時間を測定したところ、表2のように7時間要した。
基材としてSUS304(130mm×130mm×3mm)を用い、基材の130mm×130mmの面をアルミナを用いてブラスト処理を行った。基材のブラスト表面にアーク溶射法でアルミニウム(純度99.9%以上)を200μm堆積させた。このアルミニウム溶射皮膜を200μm堆積させたSUS304をテストピースとして使用した。このテストピースを超純水中で超音波洗浄を行った。洗浄後にテストピースを105℃で乾燥させた。洗浄後に乾燥させたテストピースの溶射皮膜上を気中パーティクルカウンター(リオン株式会社製 KM−20)を用いて測定した。表1のようにφ0.2μm以上のパーティクルの数は227個/cm2であり、実施例1と比較して28倍以上であった。
基材としてSUS304(130mm×130mm×3mm)を用い、基材の130mm×130mmの面をアルミナを用いてブラスト処理を行った。基材のブラスト表面にアーク溶射法でアルミニウム(純度99.9%以上)を200μm堆積させた。このアルミニウム溶射皮膜上にアルミナを含む封孔処理剤を含浸させ、封孔処理剤を自然乾燥させた後に200℃のオーブン内で乾燥、焼結させた。この封孔処理を施したアルミニウム溶射皮膜を200μm堆積させたSUS304をテストピースとして使用した。このテストピースを超純水中で超音波洗浄を行った。洗浄後にテストピースを105℃で乾燥させた。洗浄後に乾燥させたテストピースの封孔処理した溶射皮膜上を気中パーティクルカウンター(実施例と同じ)を用いて測定した。表1のようにφ0.2μm以上のパーティクルの数は23個/cm2であった。
洗浄した比較例1のテストピースにスパッタリング装置を用いて0.5μmの窒化チタンのスパッタ膜を作製した。スパッタリングでのプラズマに影響を受ける場合、テストピースからのパーティクルの増加が激しくなるが、この窒化チタンスパッタ膜上を気中パーティクルカウンターを用いて測定したところ、表1のようにφ0.2μm以上のパーティクルの数は35個/cm2であり、実施例2と比較して1.7倍以上であった。
洗浄した比較例2のテストピースにスパッタリング装置を用いて0.5μmの窒化チタンのスパッタ膜を作製した。この窒化チタンスパッタ膜上を気中パーティクルカウンターを用いて測定したところ、表1のようにφ0.2μm以上のパーティクルの数は45個/cm2であった。
基材としてSUS304(600mm×600mm×3mm)を用い、基材の600mm×600mmの両面をアルミナを用いてブラスト処理を行った。基材のブラスト表面にアーク溶射法でアルミニウム(純度99.9%以上)を200μm堆積させた。このテストピースを超純水中で超音波洗浄を行った。洗浄後にテストピースを105℃で乾燥させた。このテストピースをスパッタリング装置のチャンバー内に入れ、ポンプを用いて排気した。1×10−4Paに到達するまでの時間を測定したところ、表1のように11時間要した。
基材としてSUS304(600mm×600mm×3mm)を用い、基材の600mm×600mmの両面をアルミナを用いてブラスト処理を行った。基材のブラスト表面にアーク溶射法でアルミニウム(純度99.9%以上)を200μm堆積させた。このアルミニウム溶射皮膜上にアルミナを含む封孔処理剤を含浸させ、封孔処理剤を自然乾燥させた後に200℃のオーブン内で乾燥、焼結させた。この封孔処理を施したアルミニウム溶射皮膜を200μm堆積させたSUS304をテストピースとして使用した。このテストピースを超純水中で超音波洗浄を行った。洗浄後にテストピースを105℃で乾燥させた。このテストピースをスパッタリング装置のチャンバー内に入れ、ポンプを用いて排気した。1×10−4Paに到達するまでの時間を測定したところ、表1のように9時間要した。
Claims (2)
- 基材表面に溶射皮膜を形成し、得られた溶射皮膜の気孔にリン酸アルミニウムを含浸させた後150〜500℃で焼結して、溶射皮膜の封孔処理を行うことを特徴とするパーティクルによる汚染の防止に優れた薄膜製造装置部材の表面処理方法。
- 請求項1に記載の方法により得られた薄膜製造装置部材。
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