JP5735877B2

JP5735877B2 - フェライト粒子の製造方法

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Publication number: JP5735877B2
Application number: JP2011161421A
Authority: JP
Inventors: 智英飯田; 翔小川
Original assignee: Dowa IP Creation Co Ltd
Current assignee: Dowa IP Creation Co Ltd
Priority date: 2011-07-23
Filing date: 2011-07-23
Publication date: 2015-06-17
Anticipated expiration: 2031-07-23
Also published as: WO2013014969A1; JP2013025204A

Description

本発明はフェライト粒子の製造方法に関し、より詳細には表面が凹凸形状で所定の磁気特性を有するフェライト粒子の製造方法に関するものである。

例えば、電子写真方式を用いたファクシミリやプリンタ、複写機などの画像形成装置では、静電潜像担持体（以下、「感光体」と記すことがある）の表面に形成された静電潜像を現像剤で可視像化し、この可視像を用紙等に転写した後、加熱・加圧して定着させている。高画質化やカラー化の観点から、現像剤としては、キャリアとトナーとを含むいわゆる二成分現像剤が広く使用されている。

この二成分現像剤を用いた現像は、複数の磁極を内蔵し、現像剤を表面に担持する現像剤担持体（以下、「現像スリーブ」と記すことがある）と、感光体とを所定間隔を隔てて略平行に対向配置し、感光体と現像スリーブとが対向する領域（以下、「現像領域」と記すことがある）において、キャリアが集合して穂立ちした磁気ブラシを現像スリーブ上に形成させると共に、感光体と現像スリーブとの間に現像バイアス電圧を印加し、感光体表面の静電潜像にトナーを付着させることにより行われる。

また、高画質化を図るため、例えば特許文献１では、現像スリーブと感光体との間に交番電界を形成して、磁気ブラシに保持されたトナー及び現像スリーブ上に担持されたトナーにより静電潜像を現像することが提案されている。さらに、特許文献２では、小粒径で低磁化のキャリアを用いて静電潜像を現像することが提案されている。

特開昭62-63970号公報特開2010-66490号公報

ところで、近年、画像形成装置における画像形成速度の高速化という市場要求に対応するため、現像スリーブの回転速度を速めて、現像領域への現像剤の単位時間当たりの供給量を増加させる傾向にある。

しかし、５０μｍ以下の小粒径のキャリアを用いた場合、現像スリーブの回転速度を速めて現像領域への現像剤供給量を増加させても、十分な画像濃度が得られないことがある。これは、現像領域において磁気ブラシ先端部のキャリアのみが循環移動して、根元部のキャリアが循環移動せず、根元部のキャリアに保持されたトナーが現像に寄与していないことが原因の一つと考えられている。

現像領域において磁気ブラシ先端部のキャリアと根元部のキャリアとを大きく循環移動させるには、キャリアの表面を凹凸形状として、感光体表面との摩擦抵抗及びキャリア同士の摩擦抵抗を大きくすることが考えられる。

そこで、本発明は、表面が凹凸形状でしかも所定の磁気特性と抵抗特性とを有するフェライト粒子を安定して製造できる方法を提供することをその目的とするものである。

本発明によれば、Ｍｎ_ＸＦｅ_３−ＸＯ_４（但し、０＜Ｘ≦１）で表される組成のフェライト粒子が生成するように成分調整されたＦｅ成分原料及びＭｎ成分原料を媒体液中に投入してスラリーを得る工程と、前記スラリーを噴霧乾燥させて造粒物を得る工程と、前記造粒物を酸化雰囲気下で焼成して前駆体を得る第１焼成工程と、得られた前駆体を還元雰囲気下で焼成温度１０５０℃〜１３００℃の範囲でさらに焼成して焼成物を得る第２焼成工程とを有することを特徴とするフェライト粒子の製造方法が提供される。

ここで、フェライト粒子の表面形状の凹凸化をより促進させる観点からは、第１焼成工程における焼成温度は１１５０℃〜１３００℃の範囲が好ましい。また、焼成時間は１．５時間以上が好ましい。

また、フェライト粒子の表面凹凸形状を維持しながら、所望の磁気特性を付与する観点からは、第２焼成工程における焼成時間は０．５時間以上が好ましい。

そしてまた、第２焼成工程における酸素濃度は１％以下が好ましい。

本発明に係るフェライト粒子の製造方法によれば、表面を凹凸形状にすることができ、しかも所定の磁気特性と抵抗特性とを付与することができる。

第１焼成工程における焼成前、焼成中、焼成後の、粒子のＳＥＭ写真及びピークカウントマップ画像である。第１焼成工程における焼成前、焼成中、焼成後の、粒子のＸＤＲパターンを示す図である。第２焼成後の粒子のＳＥＭ写真及びピークカウントマップ画像である。第２焼成工程における焼成前と焼成後の、粒子のＸＤＲパターンを示す図である。第２焼成工程における焼成温度と、磁化σ_１ｋ（Ａｍ^２／ｋｇ）との関係を示すグラフである。実施例１のフェライト粒子のＳＥＭ写真である。実施例２のフェライト粒子のＳＥＭ写真である。実施例３のフェライト粒子のＳＥＭ写真である。実施例４のフェライト粒子のＳＥＭ写真である。実施例５のフェライト粒子のＳＥＭ写真である。実施例６のフェライト粒子のＳＥＭ写真である。比較例１のフェライト粒子のＳＥＭ写真である。

本発明者等は、表面が凹凸形状で且つ所定の磁気特性と抵抗特性とを有するフェライト粒子を製造すべく鋭意検討を重ねた結果、原料を含んだ造粒物を酸化雰囲気下で焼成すると、造粒物は一旦はフェライト化するものの、冷却工程において酸素と反応してＦｅ酸化物とＭｎ酸化物とに分解し、このとき結晶構造が変わって、粒子表面に角張った複数のグレインが形成され、焼成物の表面が凹凸形状となることを突き止めた。しかし、酸化雰囲気下での焼成では飽和磁化や保磁力など所望の磁気特性が得られない。そこで、本発明では、酸化雰囲気下で焼成した、表面が凹凸形状の前駆体を還元雰囲気下で再度焼結し、表面の凹凸形状を維持させながら磁気特性を付与するようにした。以下、本発明の製造方法について各工程ごとに順に説明する。

まず、Ｆｅ成分原料とＭｎ成分原料とを秤量して分散媒中に投入し混合してスラリーを作製する。Ｆｅ成分原料としてはＦｅ_２Ｏ_３等が好適に使用される。Ｍｎ成分原料としてはＭｎＣＯ_３、Ｍｎ_３Ｏ_４等が好適に使用できる。

本発明で使用する分散媒としては水が好適である。分散媒には、前記Ｆｅ成分原料、Ｍｎ成分原料の他、必要によりバインダー、分散剤等を配合してもよい。バインダーとしては、例えば、ポリビニルアルコールが好適に使用できる。バインダーの配合量としてはスラリー中の濃度が０．５〜２ｗｔ％程度とするのが好ましい。また、分散剤としては、例えば、ポリカルボン酸アンモニウム等が好適に使用できる。分散剤の配合量としてはスラリー中の濃度が０．５〜２ｗｔ％程度とするのが好ましい。その他、潤滑剤や焼結促進剤等を配合してもよい。

スラリーの固形分濃度は５０〜９０ｗｔ％の範囲が望ましい。なお、Ｆｅ成分原料、Ｍｎ成分原料を分散媒に投入する前に、必要により、粉砕混合の処理をしておいてもよい。

次に、以上のようにして作製されたスラリーを必要により湿式粉砕する。例えば、ボールミルや振動ミルを用いて所定時間湿式粉砕する。粉砕後の原材料の平均粒径は３μｍ以下が好ましく、より好ましくは１μｍ以下である。振動ミルやボールミルには、所定粒径のメディアを内在させるのがよい。メディアの材質としては、鉄系のクロム鋼や酸化物系のジルコニア、チタニア、アルミナなどが挙げられる。粉砕工程の形態としては連続式及び回分式のいずれであってもよい。粉砕物の粒径は、粉砕時間や回転速度、使用するメディアの材質・粒径などによって調整される。

そして、粉砕されたスラリーを噴霧乾燥させて造粒する。具体的には、スプレードライヤーなどの噴霧乾燥機にスラリーを導入し、雰囲気中へ噴霧することによって球状に造粒する。噴霧乾燥時の雰囲気温度は１００〜３００℃の範囲が好ましい。これにより、粒径１０〜２００μｍの球状の造粒物が得られる。なお、得られた造粒物は、振動ふるい等を用いて、粗大粒子や微粉を除去し粒度分布をシャープなものとするのが望ましい。

次いで、所定温度以上に加熱した炉に造粒物を投入して焼成し前駆体を作製する（第１焼成工程）。ここで重要なことは、酸化雰囲気下で造粒物を焼成することにある。具体的には大気雰囲気下で造粒物を焼成すればよい。所定温度以上の加熱炉に造粒物を投入することによって、造粒物はフェライト化してＭｎフェライト粒子になるが、冷却過程において酸素と反応して酸化鉄と酸化マンガンとに分解する。このとき、結晶構造がスピネル型から三方晶系に変化することに伴って、角張った複数のグレインが粒子表面に形成される。第１焼成工程における焼成温度としては、１１５０℃〜１３００℃の範囲が好ましく、焼成時間としては１．５時間以上が好ましい。

図１に、第１焼成工程における焼成前、焼成中、焼成後の粒子のＳＥＭ写真およびＥＤＳ分析によるピークカウントマップ画像をそれぞれ示す。合わせて、図２に、ＸＤＲパターンを示す図を示す。図１及び図２から理解されるように、造粒物を加熱することによって、粒子中に分散していたＦｅとＭｎとが反応しフェライト化が進むことがわかる。また、フェライト化が進むにしたがってグレインが形成されると同時に表面に露出し、粒子の表面に凹凸が形成される。次いで、大気雰囲気（酸化雰囲気）のままで粒子を冷却すると、形成されたフェライトが酸素と反応して酸化鉄（α−Ｆｅ_２Ｏ_３）と酸化マンガン（Ｍｎ_３Ｏ_４）とに分解する。この分解反応によって粒子の結晶構造が、Ｍｎフェライトのスピネル構造から酸化鉄（α−Ｆｅ_２Ｏ_３）の三方晶系に変わり、粒子表面のグレインの角張りが一層発達する。

このようにして得られた前駆体が焼結によって塊状になっている場合には、必要により解粒してもよい。前駆体の解粒は、例えば、ハンマーミル等によって行うことができる。解粒工程の形態としては連続式及び回分式のいずれであってもよい。ただし、前駆体の解粒は、粒子同士の固着を解消する程度で足り、粒子そのものは粉砕しないようにすることが重要である。

次に、この前駆体を温度１０５０℃〜１３００℃に加熱した炉に投入して再び焼成する（第２焼成工程）。ここで重要なことは、還元雰囲気下で造粒物を焼成することにある。これによって、表面の凹凸形状を維持させながら前駆体をフェライト化させて所定の磁気特性を付与できる。図３に、第２焼成工程後の粒子のＳＥＭ写真およびＥＤＳ分析によるピークカウントマップ画像をそれぞれ示す。また図４に、第２焼成工程において、窒素雰囲気下で温度１２００℃で焼成したときの、焼成前と焼成後の粒子のＸＤＲパターンを示す図を示す。これらの図から明らかなように、第２焼成工程後の焼成物は表面が凹凸形状のスピネル構造のＭｎフェライト粒子となっていた。還元雰囲気における酸素濃度としては１％以下が好ましい。

図５に、第２焼成工程における焼成温度と、１０００／（４π）ｋＡ／ｍ（１ｋエルステッド）の磁場における磁化σ_１ｋ（Ａｍ^２／ｋｇ）との関係を示す。なお、焼成時間は６時間で統一した。Ｍｎフェライト粒子を現像剤のキャリアとして用いる場合には、現像スリーブからのキャリアの飛散を防止する観点から、磁化σ_１ｋは５０Ａｍ^２／ｋｇよりも大きいのが望ましい。したがって、Ｍｎフェライト粒子を現像剤のキャリアとして用いる場合には、第２焼成工程の焼成温度は１０５０℃以上とするのが好ましい。一方、焼成温度を高くすると、所望の磁気特性は得られるが、表面の凹凸形状が消失するので、焼成温度の上限値としては１３００℃が好ましい。焼成時間は０．５時間以上が好ましい。

そして必要により、得られた焼成物を解粒する。例えば、ハンマーミル等によって焼成物を解粒する。解粒工程の形態としては連続式及び回分式のいずれであってもよい。さらに、必要により、粒径を所定範囲に揃えるため分級を行ってもよい。分級方法としては、風力分級や篩分級など従来公知の方法を用いることができる。また、風力分級機で１次分級した後、振動篩や超音波篩で粒径を所定範囲に揃えるようにしてもよい。

以上のようにして製造したＭｎフェライト粒子は各種用途に用いることができ、例えば、電子写真現像用キャリアや電磁波吸収材、電磁波シールド材用材料粉末、ゴム、プラスチック用充填材・補強材、ペンキ、絵具・接着剤用艶消材、充填材、補強材等として用いることができる。これらの中でも特に電子写真現像用キャリアとして好適に用いられる。

以上のようにして作製した本発明のＭｎフェライト粒子を、電子写真現像用キャリアとして用いる場合、フェライト粒子をそのまま電子写真現像用キャリアとして用いることもできるが、帯電性等の観点からは、フェライト粒子の表面を樹脂で被覆して用いるのが好ましい。

フェライト粒子の表面を被覆する樹脂としては、従来公知のものが使用でき、例えば、シリコーン樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ−４−メチルペンテン−１、ポリ塩化ビニリデン、ＡＢＳ（アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン）樹脂、ポリスチレン、（メタ）アクリル系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、並びにポリ塩化ビニル系やポリウレタン系、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリブタジエン系等の熱可塑性エストラマー、フッ素シリコーン系樹脂などが挙げられる。

フェライト粒子の表面を樹脂で被覆するには、樹脂の溶液又は分散液をフェライト粒子に施せばよい。塗布溶液用の溶媒としては、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒；テトラヒドロフラン、ジオキサン等の環状エーテル類溶媒；エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール系溶媒；エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等のセロソルブ系溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒などの１種又は２種以上を用いることができる。塗布溶液中の樹脂成分濃度は、一般に０．００１〜３０ｗｔ％、特に０．００１〜２ｗｔ％の範囲内にあるのがよい。

フェライト粒子への樹脂の被覆方法としては、例えばスプレードライ法や流動床法あるいは流動床を用いたスプレードライ法、浸漬法等を用いることができる。これらの中でも、少ない樹脂量で効率的に塗布できる点で流動床法が特に好ましい。樹脂被覆量は、例えば流動床法の場合には吹き付ける樹脂溶液量や吹き付け時間によって調整することができる。

キャリアの粒子径は、一般に体積平均粒子径で１０〜１１０μｍ、特に１０〜５０μｍのものが好ましい。また、キャリアの見掛け密度は、磁性材料を主体とする場合は磁性体の組成や表面構造等によっても相違するが、一般に１．０〜２．５ｇ／ｃｍ^３の範囲が好ましい。

電子写真用現像剤は、以上のようにして作製したキャリアとトナーとを混合してなる。キャリアとトナーとの混合比に特に限定はなく、使用する現像装置の現像条件などから適宜決定すればよい。一般に現像剤中のトナー濃度は１ｗｔ％〜１５ｗｔ％の範囲が好ましい。トナー濃度が１ｗｔ％未満の場合、画像濃度が薄くなりすぎ、他方トナー濃度が１５ｗｔ％を超える場合、現像装置内でトナー飛散が発生し機内汚れや転写紙などの背景部分にトナーが付着する不具合が生じるおそれがあるからである。より好ましいトナー濃度は３〜１０ｗｔ％の範囲である。

使用するトナーは、重合法、粉砕分級法、溶融造粒法、スプレー造粒法等のそれ自体公知の方法で製造し得るものであって、熱可塑性樹脂を主成分とする結着樹脂中に、着色剤、離型剤、帯電制御剤等を含有させたものである。

トナーの粒径は、一般にコールターカウンターによる体積平均粒子径が５〜１５μｍ、特に７〜１２μｍの範囲内にあるのがよい。

トナー粒子の表面には、必要により改質剤を添加することができる。改質剤としては、例えば、シリカ、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、ポリメチルメタクリレート等が挙げられる。これらの１種又は２種以上を組み合わせて使用することができる。

キャリアとトナーとの混合は、従来公知の混合装置を用いることができる。例えばヘンシェルミキサー、Ｖ型混合機、タンブラーミキサー、ハイブリタイザー等を用いることができる。

以下、本発明を実施例によりさらに詳しく説明するが本発明はこれらの例に何ら限定されるものではない。

実施例１
Ｍｎフェライト粒子を下記方法で作製した。出発原料として、Ｆｅ_２Ｏ_３（平均粒径：０．６μｍ）を１０．７５ｋｇ（６７．３ｍｏｌ）と、Ｍｎ_３Ｏ_４（平均粒径：２μｍ）を４．２５ｋｇ（１９．０ｍｏｌ）と、水５．０ｋｇ中に分散し、分散剤としてポリカルボン酸アンモニウム系分散剤を９０ｇ、還元剤としてカーボンブラックを４５ｇ、ＳｉＯ_２原料としてコロイダルシリカ（固形分濃度５０％）を３０ｇ（０．２５ｍｏｌ）添加して混合物とした。この混合物の固形分濃度は７５重量％であった。この混合物を湿式ボールミル（メディア径２ｍｍ）により粉砕処理し、混合スラリーを得た。

この混合スラリーをスプレードライヤーにて約１３０℃の熱風中に噴霧し（ディスク回転数１７５００ｒｐｍ）、粒径１０〜２００μｍの乾燥造粒物を得た。この造粒物から、網目５４μｍの篩網を用いて粗粒を分離し、網目３３μｍの篩網を用いて微粒を分離した。

この造粒粉を、大気雰囲気下の電気炉に投入し１１５０℃で３時間焼成した。得られた前駆体の磁気特性、抵抗特性、円形度を下記に示す方法でそれぞれ測定した。表１に測定結果をまとめて示す。

次いで、得られた前駆体をさらに窒素雰囲気下の電気炉に投入し１０５０℃で６時間焼成した。そして、得られた焼成物をハンマーミルで解粒した後に振動ふるいを用いて分級し、平均粒径３５μｍのフェライト粒子を得た。
得られたフェライト粒子の磁気特性、抵抗特性、見掛け密度、円形度を前記と同様にして測定した。表２に測定結果をまとめて示す。また、図６に、作製したフェライト粒子のＳＥＭ写真を示す。

（磁気特性）
室温専用振動試料型磁力計（ＶＳＭ）（東英工業社製「ＶＳＭ−Ｐ７」）を用いて、外部磁場０〜１００００／（４π）ｋＡ／ｍ（１００００エルステッド）の範囲で１サイクル連続的に印加して、飽和磁化σｓ（Ａ・ｍ^２／ｋｇ）、残留磁化σｒ（Ａ・ｍ^２／ｋｇ）、保磁力Ｈｃ（Ａ／ｍ×１０^３／（４π））、磁化σ_１ｋ（Ａｍ^２／ｋｇ）及び磁化σ_５００（Ａｍ^２／ｋｇ）を測定した。

（抵抗特性）
表面を電解研磨した厚さ２ｍｍの電極としての真鍮板２枚を、距離２ｍｍ離して対向するように配置した。電極間にフェライト粒子２００ｍｇを装入した後、それぞれの電極の背後に断面積２４０ｍｍ^２の磁石（表面磁束密度が１５００ガウスのフェライト磁石）を配置して、電極間にフェライト粒子のブリッジを形成させた。そして、直流電圧５０Ｖを電極間に印加し、フェライト粒子に流れる電流値を測定し、フェライト粒子の抵抗値を算出した。

（見掛け密度）
フェライト粒子の見掛け密度はJIS Z 2504に準拠して測定した。

（円形度）
クロスセクションポリッシャー（ＳＭ-０９０１９（ＪＥＯＬ）電圧：６ｋＶ、時間：４ｈ）を用いてキャリア粒子をカットし、その断面を走査型電子顕微鏡（ＪＳＭ-６５１０ＬＡ型加速電圧：５ｋＶ、スポットサイズ：４５、倍率：１０００倍）で撮影し、その画像を画像解析装置（ＬＥＸＴ-ＯＬＳ３０００ａｎａｌｙＳＩＳ（ＯＬＹＭＰＵＳ））で解析して、下記式からフェライト粒子の円形度を算出した。
円形度＝(粒子の投影面積と同じ面積を有する円の周長)^２／(粒子投影図の輪郭の長さ)^２

実施例２
第１焼成工程における焼成時間を１．５時間とし、第２焼成工程における焼成温度を１１００℃、焼成時間を３時間とした以外は実施例１と同様にして前駆体及びフェライト粒子を作製した。そして、得られた前駆体及びフェライト粒子の磁気特性、抵抗特性、見掛け密度、円形度を実施例１と同様にそれぞれ測定した。前駆体の測定結果を表１に示し、フェライト粒子の測定結果を表２に示す。また、図７に、作製したフェライト粒子のＳＥＭ写真を示す。

実施例３
第２焼成工程における焼成温度を１１２５℃、焼成時間を１時間とした以外は実施例１と同様にして前駆体及びフェライト粒子を作製した。そして、得られた前駆体及びフェライト粒子の磁気特性、抵抗特性、見掛け密度、円形度を実施例１と同様にそれぞれ測定した。前駆体の測定結果を表１に示し、フェライト粒子の測定結果を表２に示す。また、図８に、作製したフェライト粒子のＳＥＭ写真を示す。

実施例４
第２焼成工程における焼成温度を１２００℃、焼成時間を０．５時間とした以外は実施例１と同様にして前駆体及びフェライト粒子を作製した。そして、得られた前駆体及びフェライト粒子の磁気特性、抵抗特性、見掛け密度、円形度を実施例１と同様にそれぞれ測定した。前駆体の測定結果を表１に示し、フェライト粒子の測定結果を表２に示す。また、図９に、作製したフェライト粒子のＳＥＭ写真を示す。

実施例５
第１焼成工程における焼成温度を１２００℃とし、第２焼成工程における焼成温度を１１５０℃、焼成時間を３時間とした以外は実施例１と同様にして前駆体及びフェライト粒子を作製した。そして、得られた前駆体及びフェライト粒子の磁気特性、抵抗特性、見掛け密度、円形度を実施例１と同様にそれぞれ測定した。前駆体の測定結果を表１に示し、フェライト粒子の測定結果を表２に示す。また、図１０に、作製したフェライト粒子のＳＥＭ写真を示す。

実施例６
第１焼成工程における焼成温度を１２７５℃とし、第２焼成工程における焼成温度を１１５０℃、焼成時間を３時間とした以外は実施例１と同様にして前駆体及びフェライト粒子を作製した。そして、得られた前駆体及びフェライト粒子の磁気特性、抵抗特性、見掛け密度、円形度を実施例１と同様にそれぞれ測定した。前駆体の測定結果を表１に示し、フェライト粒子の測定結果を表２に示す。また、図１１に、作製したフェライト粒子のＳＥＭ写真を示す。

比較例１
実施例１と同様にして作製した造粒粉を、窒素雰囲気下の電気炉に投入し１１５０℃で３時間焼成した。得られた焼成物をハンマーミルで解粒した後に振動ふるいを用いて分級し、平均粒径３５μｍのフェライト粒子を得た。そして、得られたフェライト粒子の磁気特性、抵抗特性、見掛け密度、円形度を実施例１と同様にそれぞれ測定した。測定結果を表２に合わせて示す。また、図１２に、作製したフェライト粒子のＳＥＭ写真を示す。

表２から理解されるように、本発明に係る製造方法で作成した実施例１〜６のＭｎフェライト粒子は、円形度が０．５８以下と表面が凹凸形状で、しかも電子写真現像用キャリアとして用いた場合であってもキャリア飛散などの不具合を生じない磁気特性を有していた。

これに対して還元雰囲気下で一度だけ焼成を行った比較例１のＭｎフェライト粒子は、所定の磁気特性及び抵抗特性は有していたものの、図１２から明らかなように、円形度が０．６４と凹凸度合いが小さかった。

本発明に係るフェライト粒子の製造方法によれば、表面を凹凸形状にすることができ、しかも所定の磁気特性と抵抗特性とを付与することができ有用である。

Claims

Ｍｎ_ＸＦｅ_３−ＸＯ_４（但し、０＜Ｘ≦１）で表される組成のフェライト粒子が生成するように成分調整されたＦｅ成分原料及びＭｎ成分原料を媒体液中に投入してスラリーを得る工程と、前記スラリーを噴霧乾燥させて造粒物を得る工程と、前記造粒物を酸化雰囲気下で焼成して前駆体を得る第１焼成工程と、得られた前駆体を還元雰囲気下で焼成温度１０５０℃〜１３００℃の範囲でさらに焼成して焼成物を得る第２焼成工程とを有することを特徴とするフェライト粒子の製造方法。
第１焼成工程における焼成温度が１１５０℃〜１３００℃の範囲である請求項１記載のフェライト粒子の製造方法。
第１焼成工程における焼成時間が１．５時間以上である請求項１又は２記載のフェライト粒子の製造方法。
第２焼成工程における焼成時間が０．５時間以上である請求項１〜３のいずれかに記載のフェライト粒子の製造方法。
第２焼成工程における酸素濃度が１％以下である請求項１〜４のいずれかに記載のフェライト粒子の製造方法。