JP5478322B2 - フェライト粒子及びそれを用いた電子写真現像用キャリア、電子写真用現像剤並びにフェライト粒子の製造方法 - Google Patents

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Description

本発明は、フェライト粒子及びそれを用いた電子写真現像用キャリア、電子写真用現像剤並びにフェライト粒子の製造方法に関するものである。
電子写真方式を用いたファクシミリやプリンタ、複写機などの画像形成装置では、現像剤である粉体のトナーを感光体上の静電潜像に付着させ、当該付着したトナー像を所定の用紙等へ転写した後、加熱・加圧して用紙等へ溶融定着させている。ここで、現像剤としては、トナーのみを含む一成分系現像剤を用いる一成分系現像法と、トナーとキャリアとを含む二成分系現像剤を用いる二成分系現像法とに大別される。そして、近年は、ほとんどの場合、トナーの荷電制御が容易で安定した高画質を得ることができ、高速現像が可能であることから二成分系現像法が用いられている。
二成分系現像法では、キャリアは現像スリーブ上でトナーを抱合した磁気ブラシを形成し、当該磁気ブラシを介して、感光体へトナーを移動させる働きをする。ここで、現像スリーブ上でキャリアが磁気ブラシを形成するにあたって、キャリアの磁力が重要となる。キャリアの磁力が低すぎると、キャリア‐現像スリーブ間、キャリア‐キャリア間の結合力が弱くなる。当該結合力が弱いと、磁気ブラシを形成するキャリアが、回転する現像スリーブの遠心力に耐え切れず、キャリアまでがトナーと一緒に感光体に飛散するために、感光体にキャリアが付着する現象(キャリア付着)が起き、画像異常となる。
他方、キャリアの磁力が高すぎると、キャリア同士の結合力が強くなり磁気ブラシが硬くなりすぎる。すると、当該磁気ブラシから感光体へトナーが移動する際に、一部に集中して移動するため、バラつきが多くなり、画質が悪くなるという現象が起きる。また、現像トルクが高いため、現像剤の劣化が早く、耐久性が悪くなる。
そこで、例えば特許文献1では、マグネシウム(以下「Mg」と記すことがある)フェライト粒子の表面を樹脂被覆したキャリアにおいて、Mgの含有量を所定範囲とし、窒素雰囲気、または窒素+酸素共存下で焼成することで所定の磁気特性を備えた電子写真用キャリアが提案されている。
特開2001-154416号公報
近年、画像形成装置における画像形成速度の高速化及び高画質化の市場要求に対応するため、キャリアとして使用するフェライト粒子の高電気抵抗化、高帯電化が求められている。
ところが、前記提案された電子写真用キャリアでは、飽和磁化は所定範囲に維持されると考えられるが、電気抵抗に関する検討がなされていないため、電気抵抗が低く、電荷のリークが生じ、画質劣化を引き起こすおそれがある。
本発明はこのような従来の問題に鑑みてなされたものであり、その目的は、所望の飽和磁化を有するとともに、高電気抵抗を有するフェライト粒子及びその製造方法を提供することにある。
また、本発明の目的は、高速化及び高画質化を満足する電子写真現像用キャリア及び電子写真用現像剤を提供することにある。
本発明者らは、所望の飽和磁化と高い電気抵抗と有するフェライト粒子を得るべく、鋭意検討を重ねた結果、組成としてはMgFe3−xで表されるフェライト粒子が適していること、そしてフェライト粒子が酸素を放出し、スピネル格子中に酸素欠損が生じると、鉄の価数が変化し、飽和磁化を含む磁力及び電気抵抗が変化することを見出し、本発明をなすに至った。すなわち、本発明に係るフェライト粒子は、組成式:MgFe3−x4−δ(但し、0.96≦x≦1)で表わされ、フェライト相におけるスピネル格子中の酸素欠損量δが0.002〜0.050の範囲であることを特徴とする。
また、本発明者等は、フェライト粒子における酸素の欠損量は、焼成過程における酸素化学ポテンシャルμO2(以下「μO2」と記載する場合がある)で制御できること、また冷却過程におけるμO2を調整することで、フェライト粒子の内部まで均一に酸素欠損が生じることを見出した。ここで、μO2はμO2=RTlnPO2の式で表すことができ、温度と酸素濃度によって変化させることができる。そこで、本発明に係るフェライト粒子の製造方法は、MgFe3−x(但し、0.96≦x≦1)で表わされる組成のフェライト粒子が生成するように成分調整されたFe原料及びMg原料を媒体液中で混合してスラリーを得る工程と、前記スラリーを噴霧乾燥させて造粒物を得る工程と、前記造粒物を焼成して焼成物を得る工程とを有し、前記焼成を下記式(1)を満たす条件で行い、MgFe3−x4−σ(但し、0.002≦δ≦0.050)で表わされるフェライト粒子を生成させることを特徴とする。
−5000≦T×logPO2≦0 ・・・・・・(1)
(式中、T:温度(℃),PO2=酸素圧力/全体圧力)
ここで、フェライト粒子の平均粒子径としては、10μm〜100μmの範囲が好ましい。
また、本発明によれば、前記記載のフェライト粒子の表面を樹脂で被覆したことを特徴とする電子写真現像用キャリアが提供される。
さらに、本発明によれば、前記記載のキャリアとトナーとを含む電子写真用現像剤が提供される。
本発明のフェライト粒子は、フェライト相におけるスピネル格子中に酸素を所定量欠損に有するので、所望の飽和磁化を有すると同時に高電気抵抗を有する。
また、本発明の電子写真現像用キャリア及び電子写真用現像剤は、前記フェライト粒子を用いているので、画像形成の高速化及び高画質化に対応できる。
そしてまた、本発明の製造方法では、式(1)を満たす条件で焼成を行うので、フェライト粒子のスピネル格子中の酸素欠損量を制御できるようになる。
まず、本発明に係るフェライト粒子について説明する。本発明に係るフェライト粒子の大きな特徴は、組成式:MgFe3−x4−δ(但し、0.96≦x≦1)で表され、フェライト相中のスピネル構造における酸素欠損量δが、0.002〜0.050の範囲であることにある。これにより、例えば、所定の飽和磁化σを維持しながら、電気抵抗も高く維持できるようになる。xを上記範囲とすることで、フェライト粒子が酸素を放出する欠損型になりやすくなるからである。また、酸素欠損量δが0.002未満であると、本発明の効果を得ることができず、酸素欠損量δが0.050を超えると、分解して単相のフェライトを得ることができず、本発明の効果を得ることができなくなる。酸素欠損量δのより好ましい範囲は、0.010〜0.030である。
本発明に係るフェライト粒子の平均粒子径としては10μm〜100μmの範囲が好ましい。平均粒子径が10μm以上あることで、粒子のそれぞれに必要な磁力が確実に付与され、例えば、フェライト粒子を電子写真現像用キャリアとして用いた場合に、感光体へのキャリア付着が抑制されるようになる。一方、平均粒子径が100μm以下であることで、画像特性を良好に保つことができるようになる。フェライト粒子の平均粒子径を上記範囲とするには、フェライト粒子の製造工程中または製造工程後に篩等を用いて分級処理を行えばよい。
本発明に係るフェライト粒子の好ましい飽和磁化σは、20〜90emu/gの範囲である。飽和磁化σが20emu/g未満であると、例えば、フェライト粒子を電子写真現像用キャリアとして用いた場合に、感光体へのキャリア付着が頻繁に起きるおそれがある。一方、飽和磁化σが90emu/gを超えると、磁気ブラシの穂が硬くなり、電子写真現像における画質低下を招くおそれがある。フェライト粒子の、より好ましい飽和磁化σは30〜80emu/gの範囲であり、さらに好ましくは40〜70emu/gの範囲である。
本発明に係るフェライト粒子の好ましい電気抵抗は、印加電圧10Vにおいて1×10〜1×1012Ωcmの範囲である。電気抵抗が1×10Ωcm未満であると、電荷のリークが起きるおそれがある一方、電気抵抗が1×1012Ωcmを超えると、エッジ効果が大きくなり画像濃度の低下を招くおそれがある。フェライト粒子の、より好ましい電気抵抗は1×10〜1×1011Ωcmの範囲であり、さらに好ましくは1×10〜1×1010Ωcmの範囲である。
本発明のフェライト粒子は各種用途に用いることができ、例えば、電子写真現像用キャリアや電磁波吸収材、電磁波シールド材用材料粉末、ゴム、プラスチック用充填材・補強材、ペンキ、絵具・接着剤用艶消材、充填材、補強材等として用いることができる。これらの中でも特に電子写真現像用キャリアとして好適に用いられる。
本発明のフェライト粒子の製造方法に特に限定はないが、以下に説明する製造方法が好適である。
まず、Fe原料とMg原料とを秤量して分散媒中に投入し混合してスラリーを作製する。Fe原料としては、Fe粉、Fe酸化物、Fe水酸化物等が使用でき、Mg原料としては、MgFe仮焼粉、Mg酸化物、Mg水酸化物等が好適に使用できる。スラリーの固形分濃度は50〜90wt%の範囲が望ましい。原料であるFe原料、Mg原料を分散媒に投入する前に、必要により、粉砕混合処理しておいてもよい。
本発明で使用する分散媒としては水が好適である。分散媒には、前記Fe原料、Mg原料の他、必要によりバインダー、分散剤等を配合してもよい。バインダーとしては、例えば、ポリビニルアルコールが好適に使用できる。バインダーの配合量としてはスラリー中の濃度が0.5〜2wt%程度とするのが好ましい。また、分散剤としては、例えば、ポリカルボン酸アンモニウム等が好適に使用できる。分散剤の配合量としてはスラリー中の濃度が0.5〜2wt%程度とするのが好ましい。その他、潤滑剤や焼結促進剤等を配合してもよい。
次に、以上のようにして作製されたスラリーを必要により湿式粉砕する。例えば、ボールミルや振動ミルを用いて所定時間湿式粉砕する。粉砕後の原材料の平均粒径は50μm以下が好ましく、より好ましくは10μm以下である。振動ミルやボールミルには、所定粒径のメディアを内在させるのがよい。メディアの材質としては、鉄系のクロム鋼や酸化物系のジルコニア、チタニア、アルミナなどが挙げられる。粉砕工程の形態としては連続式及び回分式のいずれであってもよい。粉砕物の粒径は、粉砕時間や回転速度、使用するメディアの材質・粒径などによって調整される。
そして、粉砕されたスラリーを噴霧乾燥させて造粒する。具体的には、スプレードライヤーなどの噴霧乾燥機にスラリーを導入し、雰囲気中へ噴霧することによって球状に造粒する。噴霧乾燥時の雰囲気温度は100〜300℃の範囲が好ましい。これにより、粒径10〜200μmの球状の造粒物が得られる。なお、得られた造粒物は、振動ふるい等を用いて、粗大粒子や微粉を除去し粒度分布をシャープなものとするのが望ましい。
次に、得られた造粒物を加熱した炉に投入して焼成し、磁性相を有する焼成物を得る。焼成温度は、目的となる磁性相が生成する温度範囲に設定すればよいが、本発明に係るフェライト粒子を製造する場合には、1000〜1400℃の温度範囲で焼成することが好ましい。より好ましくは、1100℃〜1350℃の温度範囲である。
ここで重要なことは、前記式(1)を満たす条件で焼成を行うことである。これにより、フェライト粒子中のスピネル構造における酸素欠損量δを0.002〜0.050の範囲とすることができ、その結果、適切な飽和磁化と高い電気抵抗を有するフェライト粒子が得られる。具体的には、例えば、炉内の酸素濃度を0.03%〜20.6%の範囲とし、μO2が1200℃において−100KJ/mоl以上、−19KJ/mоl以下、800℃において−74KJ/mоl以上、−14KJ/mоl以下、400℃において−45KJ/mоl以上、−8KJ/mоl以下の冷却過程を経るようにする。このような範囲となるように炉内の温度T及び酸素圧力PO2を制御することによって、粒子内部まで酸素欠損したフェライト粒子が得られる。また、焼成工程における冷却段階において、所望の飽和磁化、電気抵抗になるように制御したμO2のところで、炉内の焼成物を液体窒素や水などの冷却溶媒の中に浸漬させて焼成物を得るようにしてもよい。これにより温度降下中の反応が抑えられ、目的とするμO2での飽和磁化、電気抵抗が得られるようになる。後述の実施例では、冷却段階において急冷するこの方法で所定の酸素欠損量のフェライト粒子を作製した。なお、炉内の酸素圧力の制御は、大気または大気と窒素の混合ガスを炉内にフローさせることにより行えばよい。
次に、得られた焼成物を解砕する。具体的には、例えば、ハンマーミル等によって焼成物を解砕する。解砕工程の形態としては連続式及び回分式のいずれであってもよい。そして、必要により、粒径を所定範囲に揃えるため分級を行ってもよい。分級方法としては、風力分級や篩分級など従来公知の方法を用いることができる。また、風力分級機で1次分級した後、振動篩や超音波篩で粒径を所定範囲に揃えるようにしてもよい。さらに、分級工程後に、磁場選鉱機によって非磁性粒子を除去するようにしてもよい。
以上のようにして作製した本発明のフェライト粒子を、電子写真現像用キャリアとして用いる場合、フェライト粒子をそのまま電子写真現像用キャリアとして用いることもできるが、帯電性等の観点からは、フェライト粒子の表面を樹脂で被覆して用いるのが好ましい。
フェライト粒子の表面を被覆する樹脂としては、従来公知のものが使用でき、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ−4−メチルペンテン−1、ポリ塩化ビニリデン、ABS(アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン)樹脂、ポリスチレン、(メタ)アクリル系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、並びにポリ塩化ビニル系やポリウレタン系、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリブタジエン系等の熱可塑性エストラマー、フッ素シリコーン系樹脂などが挙げられる。
フェライト粒子の表面を樹脂で被覆するには、樹脂の溶液又は分散液をフェライト粒子に施せばよい。塗布溶液用の溶媒としては、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒;テトラヒドロフラン、ジオキサン等の環状エーテル類溶媒;エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール系溶媒;エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等のセロソルブ系溶媒;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒などの1種又は2種以上を用いることができる。塗布溶液中の樹脂成分濃度は、一般に0.001〜30wt%、特に0.001〜2wt%の範囲内にあるのがよい。
フェライト粒子への樹脂の被覆方法としては、例えばスプレードライ法や流動床法あるいは流動床を用いたスプレードライ法、浸漬法等を用いることができる。これらの中でも、少ない樹脂量で効率的に塗布できる点で流動床法が特に好ましい。樹脂被覆量は、例えば流動床法の場合には吹き付ける樹脂溶液量や吹き付け時間によって調整することができる。
本発明に係る電子写真用現像剤は、以上のようにして作製したキャリアとトナーとを混合してなる。キャリアとトナーとの混合比に特に限定はなく、使用する現像装置の現像条件などから適宜決定すればよい。一般に現像剤中のトナー濃度は1〜20wt%の範囲が好ましい。トナー濃度が1wt%未満の場合、画像濃度が薄くなりすぎ、他方トナー濃度が20wt%を超える場合、現像装置内でトナー飛散が発生し機内汚れや転写紙などの背景部分にトナーが付着する不具合が生じるおそれがあるからである。より好ましいトナー濃度は3〜15wt%の範囲である。
キャリアとトナーとの混合は、従来公知の混合装置を用いることができる。例えばヘンシェルミキサー、V型混合機、タンブラーミキサー、ハイブリタイザー等を用いることができる。
(実施例1)
MgFe仮焼粉を準備した。原料の配合比は、組成式MgFe3−x4−δにおいて、x=1に相当するものである。分散剤としてポリカルボン酸アンモニウムを、媒体液中濃度が1%となるように添加した純水中に、準備したMgFe仮焼粉を分散させ、混合物とした。この混合物を湿式ボールミル(メディア径2mm)で粉砕処理し、スラリーを得た。
得られたスラリーをスプレードライヤーにて約150℃の熱風中に噴霧し、粒径10〜100μmの乾燥造粒物を得た。そして、篩を用いて粒径が100μmを超える造粒物を除去した。得られた乾燥造粒物を、電気炉に投入して、大気フロー雰囲気下にて、1200℃で3時間焼成した後、直ちに急冷して焼成物を得た(温度T:1200℃、酸素分圧PO2(酸素圧力/全体圧力):2.1×10−1、T×logPO2=−813)。得られた焼成物を粉砕処理した後、篩を用いて粗粒及び微粒を除去し、平均粒子径45μmのMgフェライト粒子を得た。なお、フェライト粒子の平均粒子径は、レーザー回折式粒度分布測定装置(日機装株式会社製マイクロトラック、Model 9320−X100)を用いて測定したものである。
得られたフェライト粒子の酸素欠損量δ、飽和磁化σs、電気抵抗を下記方法で測定した。また、フェライト粒子を樹脂被覆してキャリアとし評価機に投入し、画像評価を行った。結果を表1にまとめて示す。
(酸素欠損量δの測定方法)
MgFe3−x4−δにおいて、Mgは2価(+2)、Oは2価(−2)であるから、MgFe3−x4−δ格子中に酸素欠損がない(δ=0)場合、Feの理論価数は下記式から算出される。
Feの理論価数={(8−2x)/(3−x)}
一方、格子中に酸素欠損が存在する場合、Feの平均価数は下記式から算出される。
Feの平均価数={(4−σ)×2−2x}/(3−x)
=(8−2x−2δ)/(3−x)
=(8−2x)/(3−x)−2δ/(3−x)
=Feの理論価数−2δ/(3−x)
したがって、MgFe3−x4−δ格子中の酸素欠損量δは下記式から求められる。
δ=(3−x)/2(Feの理論価数−Feの平均価数)
なお、Feの平均価数は次のようにして求める。まず、フェライト粒子を、炭酸ガスのバブリング中で還元性の酸である塩酸(HCl)水に溶解させ溶液とする。その後、当該溶液中のFe2+イオンの量を過マンガン酸カリウム溶液で電位差滴定することにより定量分析し、当該滴定量からFe2+の定量値(α)を求める。
次に、フェライト粒子を上記と同量秤量し、塩酸と硝酸の混酸水に溶解させ溶液とする。次いで、当該溶液を蒸発乾固させた後、乾固物に硫酸水を添加して再溶解させて溶液とし、過剰な塩酸と硝酸を揮発させる。当該溶液へ固体Alを添加して、溶液中のFe3+をFe2+に還元する。続いて、この還元された溶液のFe2+イオンの量を、過マンガン酸カリウム溶液で電位差滴定することにより定量分析し、当該滴定量から総Feの定量値(β)を求める。
次いで、総Feの定量量(β)からFe2+の定量値(α)を引いて、フェライト粒子のFe3+量とする。そして、以下式からFeの平均価数を算出する。
Fe平均価数={3×(β−α)+2×α}/β
(飽和磁化測定)
フェライトの磁気特性は、VSM(東英工業株式会社製、VSM−P7)を用いて磁化率の測定を行い、印加磁場10kOeにおける飽和磁化σ(emu/g)を測定した。
(電気抵抗測定)
表面を電解研磨した厚さ2mmの電極としての真鍮板2枚を、距離2mm離して対向するように配置した。電極間にフェライト粒子200mgを装入した後、それぞれの電極の背後に、断面積240mmの磁石(表面磁束密度が1500ガウスのフェライト磁石)を配置して、電極間にフェライト粒子のブリッジを形成させた。そして、10Vから1000Vまでの直流電圧を電極間に印加し、フェライト粒子に流れる電流値を測定し、フェライト粒子の電気抵抗を算出した。
(画像評価)
シリコーン系樹脂(信越化学製、KR251)をトルエンに溶解させて被覆樹脂溶液を作製した。そして、フェライト粒子と被覆樹脂溶液とを重量比で9:1の割合にて撹拌機に投入し、フェライト粒子を樹脂溶液に浸漬しながら150〜250℃で3時間加熱撹拌した。この樹脂被覆されたフェライト粒子を、熱風循環式加熱装置にて250℃で5時間加熱し樹脂被覆層を硬化させてキャリアを得た。
得られたキャリア92重量%と、フルカラー複写機のトナー(シアン)8重量%をV型混合機で混合して電子写真現像剤とした。この電子写真現像剤を、現像バイアス電圧として交流バイアス電圧を印加する、デジタル反転現像方式の20枚/分の画像形成装置をベースにした評価機に投入して、初期、50K枚、100K枚、150K枚時にグレー画像を出力させた。そして、キャリア付着に起因するホワイトスポットの有無に着目して下記基準により画像評価を行った。
「◎」は非常に良好
「○」は良好
「△」は使用可能なレベル
「×」は使用不可
(実施例2)
焼成工程において、造粒物を1200℃で3時間焼成した後、冷却段階において温度Tが1000℃、酸素分圧PO2(酸素圧力/全体圧力)が2.1×10−1、T×logPO2=−678のところで急冷した以外は、実施例1と同様にして焼成物を得た。得られた焼成物を粉砕処理した後、篩を用いて粗粒及び微粒を除去し、平均粒子径45μmのMgフェライト粒子を得た。
得られたMgフェライト粒子の酸素欠損量δ、飽和磁化σs、電気抵抗を実施例1と同様にして測定すると共に、Mgフェライト粒子を樹脂被覆してキャリアとし評価機に投入し、画像評価を行った。結果を表1にまとめて示す。
(実施例3)
焼成工程において、造粒物を1200℃で3時間焼成した後、冷却段階において温度Tが800℃、酸素分圧PO2(酸素圧力/全体圧力)が2.1×10−1、T×logPO2=−542のところで急冷した以外は、実施例1と同様にして焼成物を得た。得られた焼成物を粉砕処理した後、篩を用いて粗粒及び微粒を除去し、平均粒子径45μmのMgフェライト粒子を得た。
得られたMgフェライト粒子の酸素欠損量δ、飽和磁化σs、電気抵抗を実施例1と同様にして測定すると共に、Mgフェライト粒子を樹脂被覆してキャリアとし評価機に投入し、画像評価を行った。結果を表1にまとめて示す。
(実施例4)
焼成工程において、酸素濃度0.03%の雰囲気下で造粒物を1200℃で3時間焼成した後、直ちに急冷して焼成物を得た(温度T:1200℃、酸素分圧PO2(酸素圧力/全体圧力):2.0×10−4、T×logPO2=−4439)以外は、実施例1と同様にして焼成物を得た。得られた焼成物を粉砕処理した後、篩を用いて粗粒及び微粒を除去し、平均粒子径45μmのMgフェライト粒子を得た。
得られたMgフェライト粒子の酸素欠損量δ、飽和磁化σs、電気抵抗を実施例1と同様にして測定すると共に、Mgフェライト粒子を樹脂被覆してキャリアとし評価機に投入し、画像評価を行った。結果を表1にまとめて示す。
(実施例5)
x=0.975となるように、FeとMgFe仮焼粉とを3:78(モル比)で配合した以外は、実施例1と同様にして、造粒物を得て、そして焼成物を得た。得られた焼成物を粉砕処理した後、篩を用いて粗粒及び微粒を除去し、平均粒子径45μmのMgフェライト粒子を得た。
得られたMgフェライト粒子の酸素欠損量δ、飽和磁化σs、電気抵抗を実施例1と同様にして測定すると共に、Mgフェライト粒子を樹脂被覆してキャリアとし評価機に投入し、画像評価を行った。結果を表1にまとめて示す。
(実施例6)
x=0.96となるように、FeとMgFe仮焼粉とを1:16(モル比)で配合した以外は、実施例1と同様にして、造粒物を得て、そして焼成物を得た。得られた焼成物を粉砕処理した後、篩を用いて粗粒及び微粒を除去し、平均粒子径45μmのMgフェライト粒子を得た。
得られたMgフェライト粒子の酸素欠損量δ、飽和磁化σs、電気抵抗を実施例1と同様にして測定すると共に、Mgフェライト粒子を樹脂被覆してキャリアとし評価機に投入し、画像評価を行った。結果を表1にまとめて示す。
(実施例7)
x=0.96となるように、FeとMgFe仮焼粉とを1:16(モル比)で配合した以外は、実施例1と同様にして造粒物を得た。そして、焼成工程において、酸素濃度0.03%の雰囲気下で造粒物を1200℃で3時間焼成した後、直ちに急冷して焼成物を得た(温度T:1200℃、酸素分圧PO2(酸素圧力/全体圧力):2.0×10−4、T×logPO2=−4439)以外は、実施例1と同様にして焼成物を得た。得られた焼成物を粉砕処理した後、篩を用いて粗粒及び微粒を除去し、平均粒子径45μmのMgフェライト粒子を得た。
得られたMgフェライト粒子の酸素欠損量δ、飽和磁化σs、電気抵抗を実施例1と同様にして測定すると共に、Mgフェライト粒子を樹脂被覆してキャリアとし評価機に投入し、画像評価を行った。結果を表1にまとめて示す。
(比較例1)
x=0.7となるように、MgOとFe仮焼粉とを7:3(モル比)で配合した以外は、実施例1と同様にして造粒物を得た。そして、焼成工程において、窒素雰囲気下で造粒物を1200℃で3時間焼成した後、直ちに急冷して焼成物を得た(温度T:1200℃、酸素分圧PO2(酸素圧力/全体圧力):2.0×10−4、T×logPO2=−92)。得られた焼成物を粉砕処理した後、篩を用いて粗粒及び微粒を除去し、平均粒子径45μmのMgフェライト粒子を得た。
得られたMgフェライト粒子の酸素欠損量δ、飽和磁化σs、電気抵抗を実施例1と同様にして測定すると共に、Mgフェライト粒子を樹脂被覆してキャリアとし評価機に投入し、画像評価を行った。結果を表1にまとめて示す。
(比較例2)
x=0.45となるように、MgOとFe仮焼粉とを8:23(モル比)で配合した以外は、実施例1と同様にして造粒物を得た。そして、焼成工程において、窒素雰囲気下で造粒物を1200℃で3時間焼成した後、直ちに急冷して焼成物を得た(温度T:1200℃、酸素分圧PO2(酸素圧力/全体圧力):2.0×10−4、T×logPO2=−92)。得られた焼成物を粉砕処理した後、篩を用いて粗粒及び微粒を除去し、平均粒子径45μmのMgフェライト粒子を得た。
得られたMgフェライト粒子の酸素欠損量δ、飽和磁化σs、電気抵抗を実施例1と同様にして測定すると共に、Mgフェライト粒子を樹脂被覆してキャリアとし評価機に投入し、画像評価を行った。結果を表1にまとめて示す。
実施例1〜7のフェライト粒子は、酸素欠損量δが0.002〜0.042の範囲であり、所望の飽和磁化及び高い電気抵抗を有していた。また、これらのフェライト粒子を用いたキャリアでは、150Kの耐刷試験後でも、実使用上支障来すようなホワイトスポットは発生しなかった。これに対して、比較例1及び比較例2のMgフェライト粒子は、還元雰囲気で焼成したため、酸素欠損量δがゼロとなり、所望の飽和磁化及び電気抵抗が得られなかった。このため、比較例1及び比較例2のMgフェライト粒子を用いたキャリアでは、150K画像形成後に実使用上支障を来すようなホワイトスポットが発生した。
本発明のフェライト粒子は、フェライト相におけるスピネル格子中の酸素が所定量欠損しているので、所望の飽和磁化を有すると同時に高電気抵抗を有する。これにより、例えば、本発明のフェライト粒子を電子写真現像用キャリアとして用いると、画像形成の高速化及び高画質化に対応できるようになる。

Claims (5)

  1. 組成式:MgFe3−x4−δ(但し、0.96≦x≦1)で表わされるフェライト粒子であって、
    フェライト相におけるスピネル格子中の酸素欠損量δが0.002〜0.050の範囲であることを特徴とするフェライト粒子。
  2. 平均粒子径が10μm〜100μmの範囲であることを特徴とする請求項1記載のフェライト粒子。
  3. 請求項1又は2記載のフェライト粒子の表面を樹脂で被覆したことを特徴とする電子写真現像用キャリア。
  4. 請求項3記載のキャリアとトナーとを含む電子写真用現像剤。
  5. MgFe3−x(但し、0.96≦x≦1)で表わされる組成のフェライト粒子が生成するように成分調整されたFe原料及びMg原料を媒体液中で混合してスラリーを得る工程と、前記スラリーを噴霧乾燥させて造粒物を得る工程と、前記造粒物を焼成して焼成物を得る工程とを有し、
    前記焼成を下記式(1)を満たす条件で行い、
    MgFe3−x4−δ(但し、0.002≦δ≦0.050)で表わされるフェライト粒子を生成させることを特徴とするフェライト粒子の製造方法。
    −5000≦T×logPO2≦0 ・・・・・・(1)
    (式中、T:温度(℃),PO2=酸素圧力/全体圧力)
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