JP5734337B2 - 透明導電膜及びその製造方法 - Google Patents
透明導電膜及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5734337B2 JP5734337B2 JP2013092742A JP2013092742A JP5734337B2 JP 5734337 B2 JP5734337 B2 JP 5734337B2 JP 2013092742 A JP2013092742 A JP 2013092742A JP 2013092742 A JP2013092742 A JP 2013092742A JP 5734337 B2 JP5734337 B2 JP 5734337B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- acid
- conductive film
- transparent conductive
- silver
- ammonium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3405—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of organic materials
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/18—Layered products comprising a layer of synthetic resin characterised by the use of special additives
- B32B27/20—Layered products comprising a layer of synthetic resin characterised by the use of special additives using fillers, pigments, thixotroping agents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/42—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating of an organic material and at least one non-metal coating
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B15/00—Layered products comprising a layer of metal
- B32B15/01—Layered products comprising a layer of metal all layers being exclusively metallic
- B32B15/018—Layered products comprising a layer of metal all layers being exclusively metallic one layer being formed of a noble metal or a noble metal alloy
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3613—Coatings of type glass/inorganic compound/metal/inorganic compound/metal/other
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3644—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the metal being silver
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacturing Of Electric Cables (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Description
[化学式1]
[化学式2]
[化学式3]
[化学式4]
(式中、Xは、酸素、硫黄、ハロゲン、シアノ、シアネート、カーボネート、ニトレート、ニトライト、サルフェート、ホスフェート、チオシアネート、クロレート、パークロレート、テトラフロロボレート、アセチルアセトネート、カルボキシレート、及びこれらの誘導体から選ばれる置換基であり、
nは、1〜4の整数であり、
R1〜R6は、互いに独立して、水素、C1〜C30の脂肪族や脂環族アルキル基またはアリールやアラルキル(aralkyl)基、官能基が置換されたアルキル及びアリール基、ヘテロ環化合物と高分子化合物、及びこれらの誘導体から選択される置換基であって、R1とR2またはR4とR5は、互いに独立して、ヘテロ原子が含まれるか含まれないアルキレンで連結されて環を形成することができる。)
(実施例1)
攪拌器付き250mlシュレンク(Schlenk)フラスコにメタノール10mlとナフテン酸5gを添加して80℃で攪拌しながら、28重量%アンモニア水溶液2mlを添加して1時間反応させ、20重量%バリウムニトレート水溶液9.3mlをシュレンク(Schlenk)フラスコに徐々に滴加した後、ナフテン酸バリウム(barium naphthenate)溶液を製造する。この溶液を濾過してナフテン酸バリウムを取って、ヘキサンで再び溶かして濾過した後、不純物の除去されたナフテン酸バリウム溶液を製造する。この溶液をバリウム含量が0.3重量%になるようにヘキサンで希釈し、透明層用インク組成物を製造した。
攪拌器付き250mlシュレンク(Schlenk)フラスコにメタノール10mlとネオデカン酸5gを添加して80℃で攪拌しながら、28重量%アンモニア水溶液4mlを添加して1時間反応させ、30重量%カルシウムニトレート水溶液8mlをシュレンク(Schlenk)フラスコに徐々に滴加した後、ネオデカン酸カルシウム(calcium neodecanoate)溶液を製造する。この溶液を濾過してネオデカン酸カルシウムを取って、ヘキサンで再び溶かして濾過した後、不純物の除去されたネオデカン酸カルシウム溶液を製造する。この溶液をカルシウム含量が0.3重量%になるようにヘキサンで希釈し、透明層用インク組成物を製造した。
攪拌器付き250mlシュレンク(Schlenk)フラスコにメタノール10mlとナフテン酸5gを添加して80℃で攪拌しながら、28重量%アンモニア水溶液2mlを添加して1時間反応させ、20重量%アルミニウムニトレート水溶液13.4mlをシュレンク(Schlenk)フラスコに徐々に滴加した後、ナフテン酸アルミニウム(aluminum naphthenate)溶液を製造する。この溶液を濾過してナフテン酸アルミニウムを取って、ヘキサンで再び溶かして濾過した後、不純物の除去されたナフテン酸アルミニウム溶液を製造する。この溶液をアルミニウム含量が0.2重量%になるようにヘキサンで希釈し、透明層用インク組成物を製造した。
攪拌器付き250mlシュレンク(Schlenk)フラスコにメタノール10mlとネオデカン酸5gを添加して80℃で攪拌しながら、28重量%アンモニア水溶液4mlを添加して1時間反応させ、20重量%コバルトニトレート水溶液21.1mlをシュレンク(Schlenk)フラスコに徐々に滴加した後、ネオデカン酸コバルト(cobalt neodecanoate)溶液を製造する。この溶液を濾過してネオデカン酸コバルトを取って、ヘキサンで再び溶かして濾過した後、不純物の除去されたネオデカン酸コバルト溶液を製造する。この溶液をコバルト含量が0.2重量%になるようにヘキサンで希釈し、透明層用インク組成物を製造した。
攪拌器付き250mlシュレンク(Schlenk)フラスコにメタノール10mlとナフテン酸5gを添加して80℃で攪拌しながら、28重量%アンモニア水溶液2mlを添加して1時間反応させ、45重量%マンガンニトレート水溶液1.9mlをシュレンク(Schlenk)フラスコに徐々に滴加した後、ナフテン酸マンガン(manganese naphthenate)溶液を製造する。この溶液を濾過してナフテン酸マンガンを取って、ヘキサンで再び溶かして濾過した後、不純物の除去されたナフテン酸マンガン溶液を製造する。この溶液をマンガン含量が0.4重量%になるようにヘキサンで希釈し、透明層用インク組成物を製造した。
攪拌器付き250mlシュレンク(Schlenk)フラスコにメタノール10mlとナフテン酸5gを添加して80℃で攪拌しながら、28重量%アンモニア水溶液2mlを添加して1時間反応させ、20重量%ジンクニトレート水溶液10.6mlをシュレンク(Schlenk)フラスコに徐々に滴加した後、ナフテン酸亜鉛(zinc naphthenate)溶液を製造する。この溶液を濾過してナフテン酸亜鉛を取って、ヘキサンで再び溶かして濾過した後、不純物の除去されたナフテン酸亜鉛溶液を製造する。この溶液をジンク含量が0.3重量%になるようにヘキサンで希釈し、透明層用インク組成物を製造した。
攪拌器付き250mlシュレンク(Schlenk)フラスコにメタノール10mlとナフテン酸5gを添加して80℃で攪拌しながら、28重量%アンモニア水溶液2mlを添加して1時間反応させ、20重量%マグネシウムニトレート水溶液9.2mlをシュレンク(Schlenk)フラスコに徐々に滴加した後、ナフテン酸マグネシウム(magnesium naphthenate)溶液を製造する。この溶液を濾過してナフテン酸マグネシウムを取って、ヘキサンで再び溶かして濾過した後、不純物の除去されたナフテン酸マグネシウム溶液を製造する。この溶液をマグネシウム含量が0.2重量%になるようにヘキサンで希釈し、透明層用インク組成物を製造した。
実施例1で製造された溶液と実施例2で製造された溶液とを50/50vol%の比率で混合して透明層用溶液を製造した。
実施例4で製造された溶液と実施例7で製造された溶液とを50/50vol%の比率で混合して透明層用溶液を製造した。
(実施例10)
攪拌器付き250mlのシュレンク(Schlenk)フラスコに、2−エチルヘキシルアンモニウム2−エチルヘキシルカルバメート33.7g(141.9ミリモル)を入れて、酸化銀10.0g(43.1ミリモル)を添加し、常温で2時間攪拌しながら反応させた。反応が進行されるにつれて、最初は黒色懸濁液(Slurry)から錯化合物が生成されるにつれて段々色が薄くなり、最終的には粘度0.31pa.sの黄色の透明な液状銀錯体化物43.7gが得られて、熱分析(TGA)の結果、銀含量は22.0重量%であった。この銀錯化合物を、銀含量が0.75重量%になるようにメタノールで希釈して、導電層用溶液を製造した。
実施例10の方法により製造するが、銀含量が1.0重量%になるようにメタノールで希釈し、導電層用溶液を製造した。
実施例10の方法により製造するが、銀含量が0.3重量%になるようにメタノールで希釈し、導電層用溶液を製造した。
(実施例13)
5nm大きさのシリカゾル(製品名:NYASIL 5、製造社:NYACOL社)溶液を、シリカ含量が1重量%になるようにメタノールで希釈し、保護層用溶液を製造した。
1−ヘキシルメルカプタン(製造社:Aldrich社)10gとメタノール350gを混合した後、1時間攪拌して保護層用溶液を製造した。
(実施例15)
透明導電膜の製造のために、スピンコーティング用ガラス基板を用意した後、まずエタノールを利用してガラス基板表面の塵を除去した後、乾燥機で50℃で乾燥した。30分間以上乾燥されたガラス基板をスピンコーターに位置させて、実施例2の組成物20mlをガラス基板上に注いで30rpmで回転させて透明層を形成し、100℃で1分間乾燥した後、実施例12の組成物20mlを透明層上に注いで30rpmで回転させて導電層を形成し、2分間120℃で乾燥して透明導電膜を製造した。製造された透明導電膜の面抵抗、透過率及び経時変化の結果を表1に示した。
透明導電膜の製造のために、スピンコーティング用ガラス基板を用意した後、まずエタノールを利用してガラス基板表面の塵を除去した後、乾燥機で50℃で乾燥した。30分間以上乾燥されたガラス基板をスピンコーターに位置させて、実施例2の組成物20mlをガラス基板上に注いで30rpmで回転させて透明層を形成し、100℃で1分間乾燥した後、実施例12の組成物20mlを透明層上に注いで30rpmで回転させて導電層を形成した。2分間120℃で乾燥した後、実施例13の組成物を300rpmで回転させて保護層を形成し、透明導電膜を製造した。製造された透明導電膜の面抵抗、透過率及び経時変化の結果を表1に示した。
実施例11の組成物を使用して導電層を形成したことを除いては、実施例16と同様な方法により行った。製造された透明導電膜の面抵抗、透過率及び経時変化の結果を表1に示した。
実施例1の組成物を使用して透明層を形成して、実施例14の組成物を保護層に使用したことを除いては、実施例16と同様な方法により行った。製造された透明導電膜の面抵抗、透過率及び経時変化の結果を表1に示した。
実施例3の組成物を使用して透明層を形成したことを除いては、実施例16と同様な方法により行った。製造された透明導電膜の面抵抗、透過率及び経時変化の結果を表1に示した。
実施例4の組成物を使用して透明層を形成したことを除いては、実施例16と同様な方法により行った。製造された透明導電膜の面抵抗、透過率及び経時変化の結果を表1に示した。
実施例5の組成物を使用して透明層を形成したことを除いては、実施例16と同様な方法により行った。製造された透明導電膜の面抵抗、透過率及び経時変化の結果を表1に示した。
実施例6の組成物を使用して透明層を形成したことを除いては、実施例16と同様な方法により行った。製造された透明導電膜の面抵抗、透過率及び経時変化の結果を表1に示した。
実施例7の組成物を使用して透明層を形成したことを除いては、実施例16と同様な方法により行った。製造された透明導電膜の面抵抗、透過率及び経時変化の結果を表1に示した。
実施例8の組成物を使用して透明層を形成したことを除いては、実施例16と同様な方法により行った。製造された透明導電膜の面抵抗、透過率及び経時変化の結果を表1に示した。
実施例9の組成物を使用して導電層を形成したことを除いては、実施例16と同様な方法により行った。製造された透明導電膜の面抵抗、透過率及び経時変化の結果を表1に示した。
透明導電膜の製造のために、スピンコーティング用ガラス基板を用意した後、まずエタノールを利用してガラス基板表面の塵を除去した後、乾燥機で50℃で乾燥した。30分間以上乾燥されたガラス基板をスピンコーターに位置させて、実施例12の組成物20mlをガラス基板上に注いで30rpmで回転させて透明導電膜を形成した後、120℃で2分間乾燥した。製造された透明導電膜の面抵抗、透過率及び経時変化の結果を表1に示した。
透明導電膜の製造のために、スピンコーティング用ガラス基板を用意した後、まず一般洗浄液を利用してガラス基板表面の塵を除去した後、乾燥機で50℃で乾燥した。30分間以上乾燥されたガラス基板をスピンコーターに位置させて、PEDOT/PSS(Bayer社製品)20mlをガラス基板上に注いで30rpmで回転させて透明導電膜を形成した後、120℃で2分間乾燥した。製造された透明導電膜の面抵抗、透過率及び経時変化の結果を表1に示した。
実施例及び比較例で製造された透明導電膜の物性データ
○:面抵抗の変化がない場合
△:面抵抗の変化が10%以内
×:面抵抗の変化が10%以上
(2)伝導度の評価:パターン1cm×3cmの長方形サンプルを製作後、これを(AIT)CMT−SR1000Nで面抵抗測定。
(3)透過率の評価:パターン2cm×2cmの正方形サンプルを製作後、分光光度計(PerkinElmer Model lambla−650)で透過率測定。
2 透明層
3 導電層
4 保護層
10 透明導電膜
Claims (22)
- 透明基材に、有機酸金属塩を含む透明層溶液を塗布して透明層を形成する段階と、
前記透明層に、下記化学式1で表される銀化合物と、化学式2のアンモニウムカルバメート系化合物、化学式3のアンモニウムカーボネート系化合物、化学式4のアンモニウムバイカーボネート系化合物またはこれらの混合物とを反応させて得られる銀錯体化合物を含有する導電層溶液を塗布して導電層を形成する段階と、
を含み、
前記透明層は、前記透明基材及び前記導電層に直接接触している、ことを特徴とする、透明導電膜の製造方法。
[化学式1]
[化学式2]
[化学式3]
[化学式4]
(式中、Xは、酸素、硫黄、ハロゲン、シアノ、シアネート、カーボネート、ニトレート、ニトライト、サルフェート、ホスフェート、チオシアネート、クロレート、パークロレート、テトラフロロボレート、アセチルアセトネート、及び、カルボキシレートから選ばれる置換基であり、
nは、1〜4の整数であり、
R1〜R6は、互いに独立して、水素、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、アミル、ヘキシル、エチルヘキシル、ヘプチル、オクチル、イソオクチル、ノニル、デシル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、ドコデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、アリール、ヒドロキシ、メトキシ、メトキシエチル、メトキシプロピル、シアノエチル、エトキシ、ブトキシ、ヘキシルオキシ、メトキシエトキシエチル、メトキシエトキシエトキシエチル、ヘキサメチレンイミン、モルホリン、ピペリジン、ピペラジン、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、トリエチレンジアミン、ピロール、イミダゾール、ピリジン、カルボキシメチル、トリメトキシシリルプロピル、トリエトキシシリルプロピル、フェニル、メトキシフェニル、シアノフェニル、フェノキシ、トリル、ベンジル、ポリアリルアミン、及び、ポリエチレンアミンから選ばれる。 - 透明基材が、ポリイミド(PI)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリエーテルスルホン(PES)、ナイロン(Nylon)、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリカーボネート(PC)、ポリアリレート(PAR)またはガラスであることを特徴とする、請求項1に記載の透明導電膜の製造方法。
- 有機酸金属塩が、炭素数3〜28個の有機酸を含む有機酸金属塩であることを特徴とする、請求項1に記載の透明導電膜の製造方法。
- 有機酸金属塩の有機酸が、ブチル酸(butyric acid)、バレリン酸(valeric acid)、アクリル酸(acrylic acid)、ピバル酸(pivalic acid)、n−ヘキサン酸(hexanoic acid)、t−オクタン酸(octanoic acid)、2−エチル−ヘキサン酸(2−ethyl−hexanoic acid)、ネオデカン酸(neodecanoic acid)、ラウリン酸(lauric acid)、ステアリン酸(stearic acid)、オレイン酸(oleic acid)、ナフテン酸(naphthenic acid)、ドデカン酸(dodecanoic acid)またはリノール酸(linoleic acid)から選択されることを特徴とする、請求項3に記載の透明導電膜の製造方法。
- 有機酸金属塩における金属が、Li、Na、K、Rb、Cs、Be、Mg、Ca、Sr、Ba、Ti、V、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Y、Zr、Nb、Mo、Ru、Rh、Pd、Ag、Cd、Hf、Ta、W、Re、Os、Ir、Pt、Au、Hg、Al、Ga、In、Tl、Ge、Sn、Pb、Sb、Bi、La、Ce、Pr、Nd、SmまたはEuから選択されることを特徴とする、請求項3に記載の透明導電膜の製造方法。
- 有機酸金属塩が、n−ヘキサン酸マンガン、t−オクタン酸マグネシウム、ナフテン酸リチウム、ネオデカン酸カリウム、2−エチルヘキサン酸銀、ネオデカン酸亜鉛、ステアリン酸コバルト、ナフテン酸ニッケル、ナフテン酸アルミニウム、ナフテン酸マグネシウム、ナフテン酸バリウム、ナフテン酸マンガン、ナフテン酸亜鉛、ナフテン酸バナジウム、ナフテン酸ジルコニウム、ナフテン酸ストロンチウム、オレイン酸錫、t−オクタン酸インジウム、ジアクリル酸亜鉛、ネオデカン酸コバルト、2−エチルヘキサン酸銅、ステアリン酸鉄、オレイン酸ニッケル、ネオデカン酸カルシウム、ネオデカン酸バリウム、ドデカン酸セシウム、リノール酸鉛またはナフテン酸セリウムから1種以上選択されて、単独または混合されて使用されることを特徴とする、請求項5に記載の透明導電膜の製造方法。
- 有機酸金属塩が、透明層溶液の全重量に対して0.01〜10重量%であることを特徴とする、請求項1に記載の透明導電膜の製造方法。
- 前記銀化合物が、酸化銀、チオシアネート化銀、シアン化銀、シアネート化銀、炭酸銀、硝酸銀、亜硝酸銀、硫酸銀、燐酸銀、過塩素酸化銀、四フッ素ボレート化銀、アセチルアセトネート化銀、酢酸銀、乳酸銀、及びシュウ酸銀から選ばれる1種または2種以上の混合物であることを特徴とする、請求項1に記載の透明導電膜の製造方法。
- 前記化学式2のアンモニウムカルバメート系化合物は、2―メトキシエチルアンモニウム2−メトキシエチルカルバメート、2−シアノエチルアンモニウム2−シアノエチルカルバメート、ヘキサメチレンイミンアンモニウムヘキサメチレンイミンカルバメート、モルホリニウムモルホリンカルバメート、ピリジニウムエチルヘキシルカルバメート、トリエチレンジアミニウムイソプロピルバイカルバメート、ベンジルアンモニウムベンジルカルバメート、及びトリエトキシシリルプロピルアンモニウムトリエトキシシリルプロピルカルバメートからなる群から選ばれた1種または2種以上の混合物であり、
前記化学式3のアンモニウムカーボネート系化合物は、2−メトキシエチルアンモニウム2−メトキシエチルカーボネート、2−シアノエチルアンモニウム2−シアノエチルカーボネート、ヘキサメチレンイミンアンモニウムヘキサメチレンイミンカーボネート、モルホリンアンモニウムモルホリンカーボネート、ベンジルアンモニウムベンジルカーボネート、トリエトキシシリルプロピルアンモニウムトリエトキシシリルプロピルカーボネート、及びトリエチレンジアミニウムイソプロピルカーボネートから選択される1種または2種以上の混合物であり、
前記化学式4のアンモニウムバイカーボネート系化合物は、2−メトキシエチルアンモニウムバイカーボネート、2−シアノエチルアンモニウムバイカーボネート、ピリジニウムバイカーボネート、及びトリエチレンジアミニウムバイカーボネートから選択される1種または2種以上の混合物であることを特徴とする、請求項1に記載の透明導電膜の製造方法。 - 導電層溶液が、溶媒、安定剤、薄膜補助剤、分散剤、バインダー樹脂、還元剤、界面活性剤、湿潤剤、揺変剤またはレベリング剤から選択される1種以上の添加剤をさらに含むことを特徴とする、請求項1に記載の透明導電膜の製造方法。
- 前記溶媒が、水、アルコール、グリコール、アセテート、エーテル、ケトン、脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素、またはハロゲン化炭化水素系溶媒から選択される1種または2種以上の混合物であることを特徴とする、請求項10に記載の透明導電膜の製造方法。
- 前記安定剤が、アミン化合物、下記化学式2のアンモニウムカルバメート系化合物、下記化学式3のアンモニウムカーボネート系化合物、下記化学式4のアンモニウムバイカーボネート系化合物、リン化合物または硫黄化合物から選択される1種以上であることを特徴とする、請求項10に記載の透明導電膜の製造方法。
[化学式2]
[化学式3]
[化学式4]
(上記化学式2乃至4において、R1〜R6は、互いに独立して、水素、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、アミル、ヘキシル、エチルヘキシル、ヘプチル、オクチル、イソオクチル、ノニル、デシル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、ドコデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、アリール、ヒドロキシ、メトキシ、メトキシエチル、メトキシプロピル、シアノエチル、エトキシ、ブトキシ、ヘキシルオキシ、メトキシエトキシエチル、メトキシエトキシエトキシエチル、ヘキサメチレンイミン、モルホリン、ピペリジン、ピペラジン、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、トリエチレンジアミン、ピロール、イミダゾール、ピリジン、カルボキシメチル、トリメトキシシリルプロピル、トリエトキシシリルプロピル、フェニル、メトキシフェニル、シアノフェニル、フェノキシ、トリル、ベンジル、ポリアリルアミン、及び、ポリエチレンアミンから選ばれる。) - リン化合物が、下記化学式5乃至7で表される化合物から選択されることを特徴とする、請求項12に記載の透明導電膜の製造方法。
[化学式5]
R3P
[化学式6]
(RO)3P
[化学式7]
(RO)3PO
(式中、Rは、炭素数1〜20のアルキルまたはアリール基から選択される置換基である。) - 硫黄化合物が、ブタンチオール、n−ヘキサンチオール、ジエチルサルファイド、テトラヒドロチオフェン、アリルジサルファイド、メルカプトベンゾチアゾール、アルキルメルカプトアセテート、またはオクチルチオグリコレートから選択されることを特徴とする、請求項12に記載の透明導電膜の製造方法。
- 薄膜補助剤が、有機酸、有機酸アンモニウム塩、または有機酸金属塩から選択される1種または2種以上の混合物であることを特徴とする、請求項10に記載の透明導電膜の製造方法。
- 有機酸が、酢酸(acetic acid)、シュウ酸(oxalic acid)、クエン酸(citric acid)、乳酸(Lactic acid)、マレイン酸(maleic acid)、アクリル酸(acrylic acid)、ブチル酸(butyric acid)、バレリン酸(valeric acid)、ピバル酸(pivalic acid)、n−ヘキサン酸(hexanoic acid)、t−オクタン酸(octanoic acid)、2−エチル−ヘキサン酸(2−ethyl−hexanoic acid)、ネオデカン酸(neodecanoic acid)、ラウリン酸(lauric acid)、ステアリン酸(stearic acid)、オレイン酸(oleic acid)、ナフテン酸(naphthenic acid)、ドデカン酸(dodecanoic acid)またはリノール酸(linoleic acid)から選択されて、有機酸金属塩の金属が、Au、Cu、Zn、Ni、Co、Pd、Pt、Ti、V、Mn、Fe、Cr、Zr、Nb、Mo、W、Ru、Cd、Ta、Re、Os、Ir、Al、Ga、Ge、In、Sn、Sb、Pb、Bi、Sm、Eu、AcまたはThから選択されることを特徴とする、請求項15に記載の透明導電膜の製造方法。
- 導電層の形成後、無機酸化物またはメルカプタン化合物を塗布して保護層を形成する段階をさらに含むことを特徴とする、請求項1に記載の透明導電膜の製造方法。
- 無機酸化物が、シリカ(SiO2)、二酸化チタン、ジルコニア、または酸化亜鉛から選択される1種または2種以上の混合物であることを特徴とする、請求項17に記載の透明導電膜の製造方法。
- メルカプタン化合物は、炭素数が2〜24個のアルキルまたはアリールグループが導入されたメルカプタン化合物から選択されることを特徴とする、請求項17に記載の透明導電膜の製造方法。
- メルカプタン化合物が、1−ヘキシルメルカプタン、ドデシルメルカプタン、ラウリルメルカプタン、ヘキサデシルメルカプタン、オクタデシルメルカプタン、ベンゾメルカプタン、メルカプトアセト酸、メルカプトベンジルアルコール、メルカプトエタノール、メルカプトエチルエーテル、メルカプトイミダゾール、メルカプトピリジン、メルカプトフェノール、1,2−エタンジチオール、1,2−プロパンジチオールまたは2,3−ジメルカプト−1−プロパノールから選択される1種または2種以上の混合物であることを特徴とする、請求項18に記載の透明導電膜の製造方法。
- 塗布方法が、スピンコーティング、ロールコーティング、スプレーコーティング、ディップコーティング、フロー(flow)コーティング、ドクターブレード(doctor blade)とディスペンシング、インクジェットプリンティング、オフセットプリンティング、スクリーンプリンティング、パッド(pad)プリンティング、グラビアプリンティング、フレキソプリンティング、ステンシルプリンティング、インプリンティング(imprinting)、ゼログラフィー(xerography)、リソグラフィー方法から選択されることを特徴とする、請求項1または17に記載の透明導電膜の製造方法。
- 透明層溶液の塗布後、導電層溶液の塗布後、または無機酸化物の塗布後に、熱処理段階をさらに含むことを特徴とする、請求項1または17に記載の透明導電膜の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR10-2007-0059119 | 2007-06-15 | ||
KR1020070059119A KR100856508B1 (ko) | 2007-06-15 | 2007-06-15 | 투명도전막 및 이의 제조방법 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010512086A Division JP5260641B2 (ja) | 2007-06-15 | 2008-06-13 | 透明導電膜及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014013750A JP2014013750A (ja) | 2014-01-23 |
JP5734337B2 true JP5734337B2 (ja) | 2015-06-17 |
Family
ID=40022398
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010512086A Expired - Fee Related JP5260641B2 (ja) | 2007-06-15 | 2008-06-13 | 透明導電膜及びその製造方法 |
JP2013092742A Expired - Fee Related JP5734337B2 (ja) | 2007-06-15 | 2013-04-25 | 透明導電膜及びその製造方法 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010512086A Expired - Fee Related JP5260641B2 (ja) | 2007-06-15 | 2008-06-13 | 透明導電膜及びその製造方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9556065B2 (ja) |
JP (2) | JP5260641B2 (ja) |
KR (1) | KR100856508B1 (ja) |
CN (1) | CN101678658B (ja) |
TW (1) | TWI386955B (ja) |
WO (1) | WO2008153356A2 (ja) |
Families Citing this family (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100922810B1 (ko) | 2007-12-11 | 2009-10-21 | 주식회사 잉크테크 | 흑화 전도성 패턴의 제조방법 |
EP2145917B1 (en) * | 2008-07-17 | 2012-06-06 | W.L. Gore & Associates GmbH | Polymer coating comprising a complex of an ionic fluoropolyether and a counter ionic agent |
EP2145916B1 (en) * | 2008-07-17 | 2013-06-19 | W.L.Gore & Associates Gmbh | Substrate coating comprising a complex of an ionic fluoropolymer and surface charged nanoparticles |
KR101388972B1 (ko) * | 2009-03-31 | 2014-04-25 | 주식회사 잉크테크 | 박막 금속적층필름의 제조방법 |
KR101487342B1 (ko) * | 2010-07-30 | 2015-01-30 | 주식회사 잉크테크 | 투명 도전막의 제조방법 및 이에 의해 제조된 투명 도전막 |
KR101468759B1 (ko) * | 2010-09-14 | 2014-12-03 | 주식회사 엘지화학 | 도전성 피막의 제조방법, 및 이를 위한 프라이머 조성물 |
CN102074281A (zh) * | 2010-12-21 | 2011-05-25 | 苏州禾盛新型材料股份有限公司 | 射频等离子的透明导电膜 |
JP6204348B2 (ja) * | 2011-05-04 | 2017-09-27 | リキッド エクス プリンテッド メタルズ インコーポレイテッド | 分子インク由来の金属合金 |
JP5361025B2 (ja) * | 2011-05-10 | 2013-12-04 | 株式会社シマノ | 釣り具用部品又は自転車用部品の表面装飾構造 |
TWI427644B (zh) * | 2011-06-13 | 2014-02-21 | Univ Nat Yunlin Sci & Tech | 透明導電膜結構之製造方法 |
EP2795627B1 (en) | 2011-12-23 | 2019-03-13 | The Board of Trustees of the University of Illionis | Ink composition for making a conductive silver structure |
JP5832943B2 (ja) * | 2012-03-23 | 2015-12-16 | 富士フイルム株式会社 | 導電性組成物、導電性部材、導電性部材の製造方法、タッチパネルおよび太陽電池 |
JP6003144B2 (ja) * | 2012-03-28 | 2016-10-05 | コニカミノルタ株式会社 | 透明電極の製造方法 |
JP5610359B2 (ja) * | 2012-12-21 | 2014-10-22 | 株式会社フェクト | 銀鏡膜層形成組成液、銀鏡膜層形成組成液の製造方法及び銀鏡膜塗面の形成方法 |
JP6142645B2 (ja) * | 2013-04-26 | 2017-06-07 | コニカミノルタ株式会社 | 透明電極、透明電極の製造方法、電子デバイス及び有機エレクトロルミネッセンス素子 |
CN103788592B (zh) * | 2013-12-20 | 2016-02-10 | 安徽国星生物化学有限公司 | 一种高透光率的pet复合材料 |
US9982154B2 (en) | 2014-04-17 | 2018-05-29 | Electroninks Incorporated | Solid ink composition |
JP6599891B2 (ja) * | 2014-04-17 | 2019-10-30 | エレクトロニンクス インコーポレイテッド | 導電性インク組成物 |
US11685995B2 (en) * | 2014-06-12 | 2023-06-27 | Basf Coatings Gmbh | Process for producing flexible organic-inorganic laminates |
CN104217819B (zh) * | 2014-09-02 | 2016-09-07 | 上海交通大学 | 一种基于有机金属银盐的导电薄膜及其制备方法 |
CN104443772A (zh) * | 2014-09-25 | 2015-03-25 | 桐城市福润包装材料有限公司 | 一种薄膜 |
CN106477914B (zh) * | 2016-10-09 | 2018-10-30 | 天津市职业大学 | 一种复合透明导电薄膜玻璃的制备方法 |
CN109935379B (zh) * | 2017-12-15 | 2020-06-23 | Tcl科技集团股份有限公司 | 导电薄膜及其制备方法 |
CN107967909B (zh) * | 2017-12-25 | 2019-11-26 | 深圳市优聚显示技术有限公司 | 防辐射护眼显示屏 |
Family Cites Families (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4542214A (en) * | 1982-03-04 | 1985-09-17 | Air Products And Chemicals, Inc. | Carbamate and carbonate salts of tertiary amines |
JPS6264007A (ja) * | 1985-09-17 | 1987-03-20 | 松下電器産業株式会社 | 透明導電膜及びその形成方法 |
JPH02258655A (ja) * | 1988-12-16 | 1990-10-19 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 熱線反射性合せ板 |
JPH06264007A (ja) | 1993-03-10 | 1994-09-20 | Kansai Paint Co Ltd | 防汚塗料組成物 |
JPH06338381A (ja) | 1993-04-02 | 1994-12-06 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 透明面状ヒーター及びその製造方法 |
US5764401A (en) * | 1994-11-11 | 1998-06-09 | Sony Corporation | Optical apparatus |
JPH09115334A (ja) * | 1995-10-23 | 1997-05-02 | Mitsubishi Materiais Corp | 透明導電膜および膜形成用組成物 |
JP3442082B2 (ja) * | 1996-06-11 | 2003-09-02 | 住友大阪セメント株式会社 | 透明導電膜、低反射透明導電膜および表示装置 |
JPH10110123A (ja) | 1996-10-08 | 1998-04-28 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | 透明導電膜形成用塗料およびその製造方法、透明導電低反射性膜およびその製造方法、ならびに透明導電低反射性膜付き表示装置 |
KR100472496B1 (ko) | 1997-07-23 | 2005-05-16 | 삼성에스디아이 주식회사 | 투명도전성조성물,이로부터형성된투명도전막및그제조방법 |
KR20000009405A (ko) | 1998-07-24 | 2000-02-15 | 김영남 | 투명한 전도성 광선택 흡수피막이 형성된화상표시면판 및 그제조방법과 그 도포용액 |
JP3544878B2 (ja) | 1999-01-12 | 2004-07-21 | 三井化学株式会社 | 透明導電性薄膜積層体 |
KR100357946B1 (ko) * | 1999-09-28 | 2002-10-25 | 삼성에스디아이 주식회사 | 투명 도전막의 제조방법 |
US7560175B2 (en) * | 1999-12-31 | 2009-07-14 | Lg Chem, Ltd. | Electroluminescent devices with low work function anode |
WO2002054416A1 (fr) * | 2000-12-28 | 2002-07-11 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Procede de modelage des contours d'une couche d'oxyde d'etain electro-conductrice |
US6625875B2 (en) * | 2001-03-26 | 2003-09-30 | Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) | Method of attaching bus bars to a conductive coating for a heatable vehicle window |
JP4271438B2 (ja) | 2002-12-24 | 2009-06-03 | 住友大阪セメント株式会社 | 透明導電膜形成用塗料と透明導電膜及びその製造方法並びにそれを備えた表示装置 |
JP2005056587A (ja) * | 2003-08-01 | 2005-03-03 | Toyota Industries Corp | El装置及びその製造方法 |
US20050183769A1 (en) * | 2003-11-10 | 2005-08-25 | Hiroki Nakagawa | Method of producing substrate for dye-sensitized solar cell and dye-sensitized solar cell |
WO2006040989A1 (ja) * | 2004-10-08 | 2006-04-20 | Toray Industries, Inc. | 導電性フィルム |
CA2597130C (en) * | 2005-02-07 | 2013-08-20 | Inktec Co., Ltd. | Organic silver complexes, their preparation methods and their methods for forming thin layers |
KR100727466B1 (ko) | 2005-02-07 | 2007-06-13 | 주식회사 잉크테크 | 유기 은 착체 화합물, 이의 제조방법 및 이를 이용한박막형성방법 |
JP4964152B2 (ja) * | 2005-03-04 | 2012-06-27 | インクテック カンパニー リミテッド | 導電性インク組成物及びこの製造方法 |
US7498735B2 (en) * | 2005-10-18 | 2009-03-03 | Eastman Kodak Company | OLED device having improved power distribution |
KR100727483B1 (ko) * | 2006-04-29 | 2007-06-13 | 주식회사 잉크테크 | 유기 은 착체 화합물을 포함하는 반사막 코팅액 조성물 및이를 이용한 반사막 제조방법 |
EP2052043B1 (en) * | 2006-08-07 | 2016-10-12 | Inktec Co., Ltd. | Process for preparation of silver nanoparticles, and the compositions of silver ink containing the same |
WO2008018719A1 (en) * | 2006-08-07 | 2008-02-14 | Inktec Co., Ltd. | Manufacturing methods for metal clad laminates |
US8574666B2 (en) * | 2006-12-21 | 2013-11-05 | 3M Innovative Properties Company | Method of imparting corrosion resistance to a multi-layer window film having a metal layer |
-
2007
- 2007-06-15 KR KR1020070059119A patent/KR100856508B1/ko active IP Right Grant
-
2008
- 2008-06-13 US US12/663,933 patent/US9556065B2/en active Active
- 2008-06-13 TW TW097122214A patent/TWI386955B/zh not_active IP Right Cessation
- 2008-06-13 WO PCT/KR2008/003352 patent/WO2008153356A2/en active Application Filing
- 2008-06-13 CN CN2008800203738A patent/CN101678658B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2008-06-13 JP JP2010512086A patent/JP5260641B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2013
- 2013-04-25 JP JP2013092742A patent/JP5734337B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2008153356A3 (en) | 2009-02-12 |
US20100166948A1 (en) | 2010-07-01 |
JP2010531033A (ja) | 2010-09-16 |
CN101678658B (zh) | 2012-06-27 |
WO2008153356A2 (en) | 2008-12-18 |
US9556065B2 (en) | 2017-01-31 |
JP5260641B2 (ja) | 2013-08-14 |
JP2014013750A (ja) | 2014-01-23 |
TWI386955B (zh) | 2013-02-21 |
KR100856508B1 (ko) | 2008-09-04 |
CN101678658A (zh) | 2010-03-24 |
TW200912965A (en) | 2009-03-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5734337B2 (ja) | 透明導電膜及びその製造方法 | |
JP5613331B2 (ja) | 透明導電膜の製造方法およびそれにより製造された透明導電膜 | |
KR101795419B1 (ko) | 투명 도전막의 제조방법 및 이에 의해 제조된 투명 도전막 | |
JP5745114B2 (ja) | 銀ナノ粒子の製造方法及びこれにより製造される銀ナノ粒子を含む銀インク組成物 | |
US9090785B2 (en) | Silver ink composition | |
KR100658492B1 (ko) | 도전성 잉크 조성물 및 이를 이용한 박막 형성방법 | |
KR20060112025A (ko) | 금속 잉크 조성물 | |
US9290844B2 (en) | Method for preparing metallic thin film | |
KR20090099646A (ko) | 복합 기능 코팅액 조성물 | |
JP2010219042A (ja) | 金属ナノ粒子組成物 | |
KR20090019781A (ko) | 나노입자, 제조 방법 및 용도 | |
WO2008113632A1 (de) | Transparente, elektrisch leitfähige schicht, ein verfahren zur herstellung der schicht sowie die verwendung | |
WO2013172949A1 (en) | Dispersible metal chalcogenide nanoparticles | |
JP2019519669A (ja) | 表面改質銀ナノワイヤーを含む生産物を製造する方法およびその生産物を使用する方法 | |
WO2021049515A1 (ja) | 複合体および複合体の製造方法 | |
TW201705235A (zh) | 電極的製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20141202 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150302 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20150302 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20150302 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20150302 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150324 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150414 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5734337 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |