JP5727526B2 - フレキソ印刷版とその製造方法、ならびに液晶パネル用基板の製造方法 - Google Patents
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Description
前記液晶配向膜には、できるだけ厚みが均一でピンホール等がなく、しかも薄いことが求められる。
そのため、前記フレキソ印刷に用いるフレキソ印刷版の印刷面(印刷時にインキを保持する面)は、前記液晶配向膜のもとになるインキに対して高い保持性を有している必要がある。すなわち前記印刷面には、前記液晶配向膜の厚みに応じた少量のインキであってもはじきやカスレ等を生じることなしに、その全面に亘ってできるだけ均一な厚みに保持できる良好な保持性が求められる。
例えば特許文献1、2には、前記印刷面に、円形等の幾何学的な平面形状を有する微小突起を多数設けることにより、前記多数の微小突起と、その間の溝部とによって前記印刷面を凹凸形状とすることで、当該印刷面のインキに対する濡れ性を向上させることが記載されている。
前記微小突起は、例えばフォトリソグラフ法によって形成される。すなわち、フレキソ印刷版のもとになる感光性樹脂組成物の層を用意し、その上に、前記微小突起の平面形状に対応する微細なパターン(ドットパターン等)を形成したネガまたはポジフィルムからなるマスクを重ねた状態で露光して、前記感光性樹脂組成物を、前記マスクのパターンに対応させて選択的に硬化させたのち、現像して未硬化の感光性樹脂組成物を除去することにより、前記多数の微小突起が形成される。
また特許文献3には、印刷面を、例えばエッチングやサンドブラスト等の任意の粗面化法を利用して粗面化して、前記微小突起と溝部のように凹凸の境界が明りょうでなく、またその形状や大きさが前記微小突起のように規則的でないランダムな凹凸を有する、例えば梨地面等の凹凸面に仕上げるとともに、その表面粗さを、中心線平均粗さRaで表して1〜5μmに規定することが記載されている。
例えばソーダライムガラス基板に対する接触角が、従来のインキは15°程度であったのに対し、新しいインキの多くは30°程度と大きく、前記ソーダライムガラス基板に対する濡れ性が悪いことが確認されている。
そこで前記新しいインキを使用して、厚みができるだけ均一でかつ厚みの再現性に優れており、しかも薄い液晶配向膜を形成するためには、フレキソ印刷による印刷の直後に、現状よりもさらにインキ層の厚みが均一であることが求められる。
例えば、特許文献1、2に記載のフレキソ印刷版を使用した場合には、インキ層の厚みが小さいほど、当該インキ層の厚みに、前記印刷面に形成された多数の微小突起とその間の溝部とからなる凹凸の影響が出やすい。つまり印刷面の凹凸形状がそのままインキ層に反映されて、厚みが均一で、かつ厚みの再現性に優れた良好な液晶配向膜を形成することができない。
また前記フレキソ印刷版では、メンテナンス時に、前記深い溝部内に入り込んだインキを洗浄によって除去するのが容易でないという問題もある。
しかし、インキ層の厚みが印刷面の領域ごとにばらついたり、インキ層にピンホールが発生したりしやすいという問題があり、これらの問題を生じない厚みが均一かつ厚みの再現性が良好なインキ層、ひいては液晶配向膜を形成することができない。
前記課題を解決するため、発明者は、微小突起と溝部のように凹凸の境界が明りょうではないため前記凹凸の影響が出にくい、特許文献3に記載の印刷面の凹凸形状を改良して、インキ層の厚みが印刷面の領域ごとにばらついたり、その結果として厚みの再現性が低下したり、さらにはピンホールが発生したりするのを防止することを検討した。
また比表面積は、先に説明したように印刷面の、インキに対する濡れ性、ならびにインキの保持量と、前記印刷面からのインキの離型性、ならびにガラス基板等へのインキの転写量と正の相関関係を有している。
本発明は、前記本発明のフレキソ印刷版の製造方法であって、前記フレキソ印刷版のもとになる感光性樹脂組成物の層を、前記感光性樹脂組成物を硬化反応させることができる活性光線に対して透過性を有する材料からなり、片面が、前記フレキソ印刷版の印刷面の形状に対応した形状を有する賦形面とされた型材の、前記賦形面に接触させた状態で、前記層を、前記型材を通して、前記活性光線の照射によって硬化反応させたのち、前記賦形面から剥離することにより、前記層の、前記賦形面と接触していた面を粗面化された印刷面とする工程を含むことを特徴とするフレキソ印刷版の製造方法である。
フレキソ印刷版は、前記工程を経て所定の凹凸形状に形成した前記印刷面の、印刷パターンに対応する領域以外の領域を機械的、または熱的に除去することによって製造される。
本発明は、前記本発明のフレキソ印刷版を用いて、フレキソ印刷により、液晶パネル用の液晶配向膜を形成する工程を含むことを特徴とする液晶パネル用基板の製造方法である。
本発明は、片面が印刷面とされた平板状に形成され、前記印刷面は粗面化されているとともに、粗さ曲線の二乗平均平方根傾斜RΔqが0.9以上、3.0以下、比表面積が2.8以上、4.9以下であることを特徴とするフレキソ印刷版である。
一方、図1(c)を参照して、前記二乗平均平方根傾斜RΔqが3.0を超え、同図に示すように凹凸の傾斜が急峻な印刷面は、前記凹凸の凸部が先鋭化してインキ層を貫通しやすいため、却ってインキ層、ひいては液晶配向膜にピンホールが発生し易い。
なお、かかる効果をより一層向上することを考慮すると、前記二乗平均平方根傾斜RΔqは、前記範囲内でも1.2以上であるのが好ましく、2.7以下であるのが好ましい。
また、比表面積が2.8未満ある平滑な印刷面はインキの濡れ性が低いためインキの保持量が低くなりすぎて、一方、比表面積4.9を超える凹凸の大きい印刷面がインキの濡れ性が強すぎてフレキソ印刷時に適正な転写厚みを確保できない。そのため、このいずれの場合にも、ガラス基板等の表面に、その厚みが印刷面の領域ごとにばらつかずに均一で、しかも適正なインキ層を形成することができない。
なお、かかる効果をより一層向上することを考慮すると、前記比表面積は、前記範囲内でも3.0以上、特に3.6以上であるのが好ましく、4.6以下、特に4.0以下であるのが好ましい。
フレキソ印刷版の印刷面を、前記二乗平均平方根傾斜RΔqの範囲、および前記比表面積の範囲をいずれも満足する凹凸形状とするためには、次に説明する本発明のフレキソ印刷版の製造方法において前記印刷面に対応する型材の賦形面を、前記範囲を満足する凹凸形状に形成すればよい。
具体的には例えば、エンボスロールが金属ロールである場合、エッチング、ショットブラスト、レーザ彫刻等によって、またゴムロールの場合は型取り、研磨、微細混入物等によって、そして樹脂ロールの場合は型取り、研磨、エッチング、微細混入物等によって、その外周面を凹凸形状とすることができる。
前記本発明のフレキソ印刷版は、本発明の製造方法によって製造することができる。これにより、印刷面が前記特定の表面状態に規定された本発明のフレキソ印刷版を、生産性良くコスト安価に製造することができる。
図2(a)を参照して、この例の製造方法においては、まずガラスや、あるいはアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂等の硬質樹脂などの硬質材料からなり、なおかつ感光性樹脂組成物を硬化反応させることができる、紫外線等の活性光線に対する透過性を有する支持基板1を用意する。
なお、前記の中でもPE、PP、TPU等の比較的軟質の熱可塑性樹脂からなり、かつ比較的薄手(例えば150μm以下程度)の粗面化シート4はそれ自体のコシが弱く、フラットな支持基板1の表面2にシワなく均一に密着させるのが難しい場合がある。
粗面化シート4は、当該粗面化シート4上に液状の感光性樹脂組成物を塗り拡げる際のせん断力や、あるいは前記感光性樹脂組成物の硬化時の収縮力等によって、前記粗面化シート4が支持基板1に対して位置ずれするのを防止するとともに、使用後の粗面化シート4の交換を容易にするため、例えば下記(i)〜(iii)のいずれかの方法によって、前記支持基板1の表面2に着脱自在に固定しておくのが好ましい。
(ii) 前記支持基板の表面に吸引溝を形成し、当該吸引溝を介して真空吸引することにより、前記表面に着脱自在に吸着固定。
(iii) 前記支持基板1の面方向の寸法よりも間隔を隔てた一対のチャック治具間に展張させた状態で、前記支持基板の表面に着脱自在に圧接固定。
(ii)の吸着固定をするには、支持基板1の表面2を平滑に仕上げるとともに、かかる表面2の略全面に吸引溝を形成する。吸引溝は、真空ポンプ等を含む真空系に接続する。
固定した粗面化シート4を表面2から取り外すには、真空系を停止させるか、あるいは真空系と吸引溝との接続を遮断すればよい。
両図を参照して、この圧接固定法においては、例えば液晶表示素子の画面の形状に対応させて矩形状に形成した粗面化シート4の、互いに平行な2辺をその全長に亘って保持する一対のチャック治具Cを用意する。
粗面化シート4としては、前記2辺間の長さL1が、同じく矩形状に形成した支持基板1の、対応する2辺間の寸法L2よりも長いものを用意し、前記2辺を、その全長に亘って、チャック治具Cによって保持する。粗面化シート4は、図示していないが、賦形面3を、図において上側に向けた状態で保持する。
次いでこの状態で、チャック治具Cを図において下方に移動させることで、前記チャック治具C間に展張させた粗面化シート4を、図4(a)に白抜きの矢印で示すように支持基板1の表面2の方向に下降させて、図4(b)に示すように、前記表面2に隙間なく圧接させると、前記粗面化シート4を、前記表面2上に固定することができる。
図2(b)を参照して、次にこの例の製造方法では、前記いずれかの方法で支持基板1の表面2上に固定した粗面化シート4の賦形面3上に、所定量の液状の感光性樹脂組成物6を供給する。
そして前記対向基板9の対向面10を、前記表面2との間に一定の間隔を隔てて平行に維持しながら、図2(c)に黒矢印で示すように前記対向基板9を前記支持基板1の方向に押圧することで、前記層8を粗面化シート4の賦形面3に圧着させる。
この際、支持基板1の表面2と、対向基板9の対向面10との間の間隔は、製造するフレキソ印刷版の厚みに粗面化シート4の厚みを加えた寸法を維持するようにする。
特に対向基板9を、支持基板1と同様の、活性光線に対する透過性を有する材料によって形成し、また補強フィルム7も、粗面化シート4と同様の、活性光線に対する透過性を有する材料によって形成して、当該対向基板9の側からも感光性樹脂組成物の層8を活性光線によって露光して架橋反応させるようにしてもよい。
そして図3(b)に一点鎖線の矢印で示すように、粗面化シート4を、前記積層体11の一端から他端へかけて順に引き剥がすと、層8の図において上面側が、粗面化シート4の賦形面3の凹凸形状が転写されて粗面化された印刷面13とされる。
感光性樹脂組成物としては、紫外線等の活性光線によって硬化させることができ、しかも硬化後は、例えばフレキソ印刷等に使用するのに適した適度なゴム弾性を有するとともに、印刷に使用するインキ中に含まれたり、印刷版の清掃に使用したりする溶剤に対する耐溶剤性に優れた硬化物を形成しうる種々の樹脂組成物が、いずれも使用可能である。
前記光重合開始剤としては、ベンゾインアルキルエーテルが好ましく、特に蛍光灯等からの可視光によって反応して印刷用樹脂原版を黄変させる原因となるベンゾインの含有割合が、感光性樹脂組成物の総量の500ppm以下であるものが好適に使用される。これにより、短期間で黄変しない耐光性に優れた印刷用樹脂原版を得ることができる。
本発明によれば、先に説明した印刷面の表面形状に基づいて、厚みが均一でかつ厚みの再現性にも優れ、しかもピンホールのない液晶配向膜を備えた液晶パネル用基板を製造することができる。
すなわち、ソーダライムガラス基板等の透明基板の片面に、所定のマトリクスパターン等に対応した透明電極層を形成した上に、前記本発明のフレキソ印刷版を用いたフレキソ印刷により液晶配向膜を形成し、さらに前記液晶配向膜の表面を、必要に応じてラビング等によって配向処理することで、液晶パネル用基板が製造される。
前記本発明の製造方法は、先に説明したように液晶パネルの高精細化、高機能化に伴って開発されつつある、ガラス基板等に対する濡れ性の悪いインキを原材料とする液晶配向膜の形成に適している。
具体的には、これに限定されるものではないが、例えばJSR(株)製のオプトマー(登録商標)AL60702等が、ガラス基板等に対する濡れ性の悪いインキとして挙げられる。
その他、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の変更を施すことができる。
(粗面化シート)
粗面化シートとしては、片面に厚み100μmのPETシートを補強シートとして貼り合わせたTPUのシート〔大倉工業(株)製のシルクロン(登録商標)SNESS80−150μm〕の、補強シートを貼り合わせた面と反対側に露出したTPUの表面を、エンボスロールを用いた加圧シート成形によって粗面化した賦形面としたものを用いた。かかる粗面化シートは、活性光線としての紫外線に対する透過性を有している。
図2(a)〜(c)を参照して、支持基板1としての、紫外線透過性を有する平滑透明ガラス板と、対向基板9とを備えた印刷用樹脂原版の製造装置の、前記支持基板1の表面2に、前記粗面化シート4を、その賦形面3を上、反対面5を下にして、前記反対面5が前記表面2に接するように、スプレー粘着剤の層を介して着脱自在に固定した。
そして前記対向面10を、前記表面2との間に一定の間隔を隔てて平行に維持しながら、図2(c)に黒矢印で示すように前記対向基板9を前記支持基板1の方向に押圧することで、前記層8を粗面化シート4の賦形面3に圧着させた。
そしてこの状態で、前記層8を、図2(c)に実線の矢印で示すように、前記支持基板1および粗面化シート4を通して紫外線によって露光して、前記層8を形成する感光性樹脂組成物6を硬化反応させた。光源としてはフィリップス社製のUV光源を用いた。
そして図3(b)に一点鎖線の矢印で示すように、粗面化シート4を、前記積層体11の一端から他端へかけて順に引き剥がして、層8の図において上面側を、粗面化シート4の賦形面3の凹凸形状が転写されて粗面化された印刷面13とした。
パターン化の条件は、炭酸ガスレーザの出力:400W×2ビーム、ビーム径:20μm、送りピッチ:60μm、送り速度140cm/秒とした。
前記フレキソ印刷版16の印刷面13の、粗さ曲線の二乗平均平方根傾斜RΔqを、前出の走査型共焦点レーザ顕微鏡を用いて測定して得た粗さ曲線から、前記と同じ基準長さにおける局部傾斜dz/dxの二乗平均平方根として求めたところ2.0であった。
以上の結果から、フレキソ印刷版16の印刷面13の凹凸形状は、前記粗面化シート4の賦形面3の凹凸形状を忠実に写し取ったものであることが確認された。
実施例2〜9、比較例2、3では、実施例1で使用したのと同じTPUのシートの、補強シートを貼り合わせた面と反対側に露出したTPUの表面を加圧シート成形によって粗面化するためのエンボスロールを変更して、賦形面の、粗さ曲線の二乗平均平方根傾斜RΔq、および比表面積が、下記表1〜表3に示す値である粗面化シート4を用意した。
そして前記各粗面化シート4を用いたこと以外は実施例1と同様にして、フレキソ印刷版16を製造した。
(フレキソ印刷)
液晶配向膜用のフレキソ印刷機〔ナカンテクノ(株)製の形式A45〕に、前記各実施例、比較例で製造したフレキソ印刷版16を、アニロックスロール#400とともに組み込んだ。
フレキソ印刷の条件は、予備乾燥後の液晶配向膜の厚みが1000Åとなるように設定した。
予備乾燥後の液晶配向膜の厚みを測定して、下記の基準で厚み再現性を評価した。
○○○:厚みが1000Åちょうどであった。
○○:厚みが1000Å以外で、かつ1000±50Å以内であった。
○:厚みが1000±50Å以外で、かつ1000±100Å以内であった。
(ピンホール評価)
予備乾燥後の液晶配向膜を観察して、下記の基準でピンホールの有無を評価した。
○○:ピンホール、およびピンホールになりかけの窪み等は見られなかった。
○:ピンホールは見られないものの、前記ピンホールになりかけの、局所的に厚みが薄くなった窪みが見られた。
(総合判定)
前記厚みの再現性、およびピンホールの有無の結果から、下記の基準でフレ基礎印刷版を総合判定した。
○○○○:厚みの再現性が○○○で、かつピンホールの有無が○○であるもの。
○○:厚みの再現性が○○で、かつピンホールの有無が○であるもの、または厚みの再現性が○で、かつピンホールの有無が○○であるもの。
○:厚みの再現性が○で、かつピンホールの有無が○であるもの。
以上の結果を表4〜表6に示す。
さらに実施例6〜9の結果より、前記効果をより一層向上して、特にピンホールや窪み等のない良好な液晶配向膜を形成するためには、前記二乗平均平方根傾斜RΔqは、前記範囲内でも1.2以上であるのが好ましく、2.7以下であるのが好ましいことが判った。
2 表面
3 賦形面
4 粗面化シート
5 反対面
6 感光性樹脂組成物
7 補強フィルム
8 層
9 対向基板
10 対向面
11 積層体
12 作業台
13 印刷面
14 レーザヘッド
15 炭酸ガスレーザ
16 フレキソ印刷版
C チャック治具
Claims (5)
- 片面が印刷面とされた平板状に形成され、前記印刷面は粗面化されているとともに、粗さ曲線の二乗平均平方根傾斜RΔqが0.9以上、3.0以下、比表面積が2.8以上、4.9以下であることを特徴とするフレキソ印刷版。
- 請求項1に記載のフレキソ印刷版の製造方法であって、前記フレキソ印刷版のもとになる感光性樹脂組成物の層を、前記感光性樹脂組成物を硬化反応させることができる活性光線に対して透過性を有する材料からなり、片面が、前記フレキソ印刷版の印刷面の形状に対応した形状を有する賦形面とされた型材の、前記賦形面に接触させた状態で、前記層を、前記型材を通して、前記活性光線の照射によって硬化反応させたのち、前記賦形面から剥離することにより、前記層の、前記賦形面と接触していた面を粗面化された印刷面とする工程を含むことを特徴とするフレキソ印刷版の製造方法。
- 前記印刷面の、印刷パターンに対応する領域以外の領域を機械的、または熱的に除去する工程を含む請求項2に記載のフレキソ印刷版の製造方法。
- プレポリマ、少なくとも1種のエチレン性不飽和基を有するモノマ、および光重合開始剤を含む感光性樹脂組成物を用いる請求項2または3に記載のフレキソ印刷版の製造方法。
- 請求項1に記載のフレキソ印刷版を用いて、フレキソ印刷により、液晶パネル用の液晶配向膜を形成する工程を含むことを特徴とする液晶パネル用基板の製造方法。
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