JP5692602B2 - 金属薄膜転写材料およびその製造方法 - Google Patents
金属薄膜転写材料およびその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5692602B2 JP5692602B2 JP2011502958A JP2011502958A JP5692602B2 JP 5692602 B2 JP5692602 B2 JP 5692602B2 JP 2011502958 A JP2011502958 A JP 2011502958A JP 2011502958 A JP2011502958 A JP 2011502958A JP 5692602 B2 JP5692602 B2 JP 5692602B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- metal thin
- layer
- transfer material
- insulating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B23/00—Layered products comprising a layer of cellulosic plastic substances, i.e. substances obtained by chemical modification of cellulose, e.g. cellulose ethers, cellulose esters, viscose
- B32B23/04—Layered products comprising a layer of cellulosic plastic substances, i.e. substances obtained by chemical modification of cellulose, e.g. cellulose ethers, cellulose esters, viscose comprising such cellulosic plastic substance as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
- B32B23/08—Layered products comprising a layer of cellulosic plastic substances, i.e. substances obtained by chemical modification of cellulose, e.g. cellulose ethers, cellulose esters, viscose comprising such cellulosic plastic substance as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J7/00—Adhesives in the form of films or foils
- C09J7/20—Adhesives in the form of films or foils characterised by their carriers
- C09J7/29—Laminated material
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/36—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyesters
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2255/00—Coating on the layer surface
- B32B2255/20—Inorganic coating
- B32B2255/205—Metallic coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J2400/00—Presence of inorganic and organic materials
- C09J2400/10—Presence of inorganic materials
- C09J2400/16—Metal
- C09J2400/163—Metal in the substrate
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Decoration By Transfer Pictures (AREA)
Description
式1 Tr≧87.522×Exp(−0.0422×X)
式2 Tr≧120.52×Exp(−0.0418×X)
これらの式が意味するところは以下の通りである。すなわち、右辺は絶縁性金属薄膜の厚さXの関数として、Xが増大すると指数関数的に値が小さくなることを示すが、全光線透過率TrがこのXの関数の値以上であることを示している。言い換えれば、これらの式が等式とした場合の、ある透過率Trに対する厚さX以上の厚みを絶縁性金属薄膜が有することを示している。
5cm×1cmの試料フィルムを、塩酸と硝酸を1:4の比に混合した溶液に入れ24時間以上放置する。
表面をアルコールで清拭した厚さ1mm×巾10cm×長さ20cmのアクリル板に、ロールスタンパー(太平工業(株)製RT−300X)を用い、ロール温度220℃、速度5cm/秒で転写後、フィルムを剥離し、保護層を表面としたテストピースを作製した。作製したテストピースを、日本電色工業(株)製ヘイズメータNDH−2000を用い、JIS−K7136(2000年制定)に則り全光線透過率Tr(%)を測定した。
蒸着加工による絶縁性金属層を設けたフィルムを試料とし、日立収束イオンビーム加工観察装置FB2000Aを用い、試料断面を作成後、絶縁性金属薄膜層の断面を日立透過型電子顕微鏡(TEM)HF−2100で加速電圧30kV、観測倍率421,000倍で観察し、その写真の単位視野内に観察される島の数と島の厚さ(島の保護樹脂層側境界面からの高さ)から、数平均をとって絶縁性金属薄膜層の厚みX(nm)を算出した。この場合、島間の間隔は考慮せず、島のもっとも高い部分の厚みの数平均値を計算する。例えば図1においては(48.9+56.6+42.6+56.7)/4=51.2nmと計算する。
絶縁性金属薄膜転写材料としてのフィルムを、厚さ1mmの透明アクリル板(透明基体)を用意し、表面をアルコール等で清拭し、ロールスタンパー(太平工業(株)製RT−300X)を用い、ロール温度220℃、速度5cm/秒で転写し、フィルムを剥離し、保護樹脂層を表面としたテストピースを作製した。作製したテストピースを、日本電色工業(株)製ヘイズメーターNDH2000(JIS−K7136(2000年制定)準拠)で全光線透過率を測定し、タバイエスペック(株)製恒温恒湿オーブン(PL−1SP)のサンプルセット網にクリップで吊し、温度85℃、湿度85%RH環境下にて48時間放置した。48時間経過品も先述同様に全光線透過率を測定し、環境負荷前のサンプルと比較した。負荷前(試験前)透過率をA(%)、負荷後(試験後)透過率をB(%)としB/Aの倍率を透過率変化として算出した。
15cm×15cmにカットした金属薄膜転写フィルムを、マイクロウェーブファクトリー株式会社製KEC法シールド効果測定装置MAM101にセットし、Agilent Technologies製 Network Analyzer Agilent E5062Aを用い、800MHzの電波の減衰率(dB)を測定した。電波透過性は、金属薄膜が不連続な島状構造であることにより発現し、同時に絶縁性が確保される。値は小さいほど電波透過性に優れ、絶縁性に優れたものとなり、1dB以下であることが好ましく、0.5dB以下であることがより好ましい。
(実施例1〜3)
透明基材フィルムとして東洋紡製二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムE5001タイプ25μmを用いて、該フィルムの片面に離型樹脂層として、酢酸セルロース樹脂をグラビア型塗工機で乾燥後厚さ0.5g/m2になるように塗工形成し、さらに該離型樹脂層面にメタクリル酸、メタクリル酸2−ヒドロキシエチル、メタクリル酸nブチル、メラミン樹脂を含有するトルエン溶液を前記コータを用いて塗布、乾燥、樹脂硬化をおこない、厚さ1μmの保護樹脂層を得た。続いて該保護樹脂層面に金属薄膜層としてスズ50ng/cm2をスパッタリング法により設けた。スパッタリング条件は、放電ガスとしてアルゴンガスを使用し、カソードとしてスズ電極を用いた。該金属薄膜層面にスズを絶縁性金属層として、Trを調節して、5%、15%および46%とし、各々を実施例1、2、3とした。該絶縁性金属層は、誘導加熱方式真空蒸着機(日本真空製EB5207)を使用し、作業圧力0.04Paで蒸着加工により設けた。該蒸着面に接着剤層として、飽和ポリエステル樹脂をグラビア型塗工機を用いて、乾燥後厚さ1g/m2に塗工形成した。ここで得た金属薄膜転写フィルムの性能を評価した結果を表1に示す。実施例1、2、3では、いずれも良好な電波透過性を示し、同時に耐蝕性試験でも試験前後の変化(B/A)が2.5倍以下と良好であった。なお、実施例2で得た絶縁性金属薄膜材料の島状金属層の構造についてTEMでの断面写真を図1に示す。
(実施例4〜6)
金属薄膜層の厚さを、実施例4として15ng/cm2、実施例5として200ng/cm2、実施例6として500ng/cm2に形成した。次いで各々に、絶縁性金属薄膜としてスズを光線透過率Trを15%となるように形成した。その他条件は実施例1、2、3と同様にして、金属薄膜転写材を作成して特性を評価した結果を表1に示す。実施例4、5、6ともに良好な電波透過性、絶縁性を持つと同時に耐蝕性試験でのTr変化が2.5倍以下であった。
(実施例7)
保護樹脂層面に金属薄膜層として銅50ng/cm2をスパッタリング法により設けた。スパッタリング条件は、放電ガスとしてアルゴンガスを使用し、カソードとして銅電極を用いた。、絶縁性金属としてインジウムをTrが15%となるように蒸着した。
(実施例8)
実施例1と同様にして準備した保護樹脂層までを積層した基材フィルムロールを誘導加熱方式真空蒸着機(日本真空製EB5207)にセットし、フィルムを巻き出した後、真空中でスズ電極を用いたプレーナー方式のプラズマ処理装置により、窒素ガスを流しながらプラズマ処理を行い、引き続きスズを絶縁性金属として蒸着しTrを25%としたものを作成した。なお、プラズマ処理のみを行い蒸着を行わなかった事前検討により、スズの付着量は45ng/cm2であることを確認していたが、一連の蒸着でスズを絶縁性金属として形成したものでは同様の付着量であると推定する。
(実施例9)
実施例8と同様にして、真空中で銅電極を用いたプレーナー方式のプラズマ処理装置により、窒素ガスを流しながらプラズマ処理を行い、引き続きスズを絶縁性金属として蒸着しTrを23%としたものを作成した。なお、プラズマ処理のみを行い蒸着を行わなかった事前検討により、銅の付着量は55ng/cm2であることを確認していたが、一連の蒸着でスズを絶縁性金属として形成したものでは同様の付着量であると推定する。
(実施例10)
実施例6とほぼ同様にして、スズを700ng/cm2付着させたものを実施例10とした。電波透過性は0.68dBと大きくなる傾向が認められたが実用範囲内であり、良好なものが得られた。
(実施例11)
実施例7と同様にして保護樹脂層面に金属薄膜層として銅を300ng/cm2をスパッタリング法により設けた上に、絶縁性金属としてスズをTr18%となるように蒸着した。耐蝕性試験においては良い結果であったが、核付けの銅金属の影響により基材フィルム剥離後の金属光沢が若干赤目であり、電波透過性も1dBを超えたものとなった。
(実施例12)
実施例1と同様にして、絶縁性金属層を95.8nmとした。電波透過性が1.23dBと悪化したため、電波透過性を必要とする用途には使用しづらい性能となったが、通常の金属光沢のみを必要とする用途には好適に使用できるものであった。
(実施例13)
実施例4と同様に金属薄膜の付着量を15ng/cm2とし、全光線透過率を22%としたところ、透過率の変化が2.6倍となり、やや耐蝕性に不十分なものとなった。
(実施例14)
実施例8、9と同様に真空蒸着機中でプラズマ処理を行い、連続的にスズの蒸着を行ったが、プラズマ処理の電極をガラス被覆の電極とし、電源は110kHzの高周波のものを用いて50W・分/m2の強度でプラズマ処理を行った。放電ガスは酸素であり、実質的に放電電極材料のスパッタリングは発生していなかったが、式1を満足する結果であり、電波透過性、耐蝕性に優れたものとなった。
(比較例1、2)
金属薄膜層を設けずにスズ蒸着膜をTr=6%、17%に設け、その他の条件を実施例1と同様にして、各々を比較例1、比較例2とし、その特性を評価した。評価結果を表1に示す。比較例1では電波透過性が低く、絶縁性も不十分であった。また比較例1、2ともに耐蝕性が低い結果であった。なお、比較例2のTEM断面写真を図2に示す。
(比較例3)
金属薄膜層を実施例1と同様のスパッタリング法で10ng/cm2の付着量で形成し、スズを光線透過率Trを14%となるように形成した。その他の条件を実施例1と同様にして比較例3とし、性能を評価しその結果を表1に示す。耐蝕性試験では、耐蝕試験前後のTrの変化率が2.5倍を越え不十分であった。
(比較例4)
金属薄膜層を実施例1と同様のスパッタリング法で800ng/cm2の付着量で形成し、スズを光線透過率Trを15%となるように形成した。その他の条件を実施例1と同様にして比較例4とし、性能を評価しその結果を表1に示す。電波透過性が1.56dBと悪化し、絶縁性も不十分なものとなった。金属の付着量が多くなり、電波透過性が悪化したものと推定される。
(比較例5、6)
実施例1と同様にして、絶縁性金属層の厚さを4.5nmと108nmとしてそれぞれ全光線透過率を74%、2.6%としてものを作成しそれぞれ比較例5、6とした。比較例5では、全光線透過率が高く、金属光沢が不十分なものとなった。比較例6では絶縁性が確保できず電波透過性が悪化した。
(比較例7)
実施例13と同様に真空蒸着機中で、ガラス被覆電極を用いてプラズマ処理を行ったが処理強度を6W・分/m2としたところ、式1を満足せず、耐蝕性が不十分なものとなった。
2 絶縁性金属薄膜層
Claims (7)
- 透明基材フィルムの少なくとも片面に、離型樹脂層、保護樹脂層、絶縁性金属薄膜層および接着剤層がこの順に積層された金属薄膜転写材料であって、絶縁性金属薄膜は島状構造の不連続な金属薄膜であり、絶縁性金属薄膜層がスズ、インジウム、亜鉛からなる群から選ばれた一種又は二種以上の金属を含有し、絶縁性金属薄膜層の厚さXが5nm〜100nmであり、全光線透過率をTr(%)としたときに、
Tr≧87.522×Exp(−0.0422×X)
の関係を満足する金属薄膜転写材料。 - 透明基材フィルムの少なくとも片面に、離型樹脂層、保護樹脂層、金属薄膜層、絶縁性金属薄膜層および接着剤層がこの順に積層された金属薄膜転写材料であって、絶縁性金属薄膜は島状構造の不連続な金属薄膜であり、絶縁性金属薄膜層がスズ、インジウム、亜鉛からなる群から選ばれた一種又は二種以上の金属を含有し、金属薄膜層の付着量が15ng/cm2〜700ng/cm2、絶縁性金属薄膜層の厚さXが5nm〜100nmであり、全光線透過率をTr(%)としたときに、
Tr≧87.522×Exp(−0.0422×X)
の関係を満足する金属薄膜転写材料。 - KEC法による800MHzの電波透過試験において、電波の減衰率が1dB以下であることを特徴とする、請求項1または2に記載の金属薄膜転写材料。
- 透明基体に転写したものを温度85℃、湿度85%RHの環境下に48時間さらした後の全光線透過率が前記環境下にさらす前の全光線透過率に対して1〜2.5倍である請求項1〜3いずれかに記載の金属薄膜転写材料。
- 全光線透過率Tr(%)と絶縁性金属薄膜層の厚みX(nm)との関係が、
Tr≧120.52×Exp(−0.0418×X)
を満足する請求項1〜4いずれかに記載の金属薄膜転写材料。 - 請求項1〜5いずれかに記載の金属薄膜転写材料の製造方法であって、透明基材フィルムの少なくとも片面に、離型樹脂層と保護樹脂層を積層し、この保護樹脂層の表面に、減圧下でのプラズマ処理により表面処理を行い、その上に絶縁性金属薄膜層を形成し、該絶縁性金属薄膜層上に接着性樹脂層を積層することを特徴とする金属薄膜転写材料の製造方法。
- 前記減圧下でのプラズマ処理により、絶縁性金属薄膜と同種の金属を前記保護樹脂層上に15ng/cm2〜700ng/cm2積層することを特徴とする請求項6に記載の金属薄膜転写材料の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011502958A JP5692602B2 (ja) | 2010-01-25 | 2011-01-18 | 金属薄膜転写材料およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010012758 | 2010-01-25 | ||
JP2010012758 | 2010-01-25 | ||
JP2011502958A JP5692602B2 (ja) | 2010-01-25 | 2011-01-18 | 金属薄膜転写材料およびその製造方法 |
PCT/JP2011/050699 WO2011090010A1 (ja) | 2010-01-25 | 2011-01-18 | 金属薄膜転写材料およびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2011090010A1 JPWO2011090010A1 (ja) | 2013-05-23 |
JP5692602B2 true JP5692602B2 (ja) | 2015-04-01 |
Family
ID=44306813
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011502958A Expired - Fee Related JP5692602B2 (ja) | 2010-01-25 | 2011-01-18 | 金属薄膜転写材料およびその製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5692602B2 (ja) |
KR (1) | KR101780661B1 (ja) |
CN (1) | CN103003063B (ja) |
TW (1) | TWI507288B (ja) |
WO (1) | WO2011090010A1 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2748270A2 (en) * | 2011-08-22 | 2014-07-02 | Adhesives Research, Inc. | Polymeric coated busbar tape for photovoltaic systems |
JP6944425B2 (ja) * | 2016-10-24 | 2021-10-06 | 日東電工株式会社 | 電磁波透過性金属光沢部材、これを用いた物品、及び、金属薄膜 |
JP6400062B2 (ja) | 2016-10-24 | 2018-10-03 | 日東電工株式会社 | 電磁波透過性金属光沢部材、これを用いた物品、及び、金属薄膜 |
JP2019031079A (ja) * | 2017-08-04 | 2019-02-28 | 積水化学工業株式会社 | 積層体 |
JP2019123238A (ja) * | 2018-01-12 | 2019-07-25 | 日東電工株式会社 | 電波透過性金属光沢部材、これを用いた物品、及びその製造方法 |
KR102636972B1 (ko) | 2018-10-25 | 2024-02-15 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치 및 표시 장치의 제조 방법 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5047260A (en) * | 1987-02-06 | 1991-09-10 | Key-Tech, Inc. | Method for producing a shielded plastic enclosure to house electronic equipment |
JPS63249688A (ja) * | 1987-04-03 | 1988-10-17 | Reiko Co Ltd | 転写材料 |
DE69021378T2 (de) * | 1990-01-08 | 1996-02-15 | Nippon Carbide Kogyo Kk | Laminierter harzfilm mit metallaussehen. |
JPH10329496A (ja) * | 1997-05-29 | 1998-12-15 | Nissha Printing Co Ltd | クロム光沢調のハーフ蒸着フィルム |
US6818291B2 (en) * | 2002-08-17 | 2004-11-16 | 3M Innovative Properties Company | Durable transparent EMI shielding film |
DE102004014645A1 (de) * | 2004-03-25 | 2005-10-13 | Mitsubishi Polyester Film Gmbh | Transparente, elektrisch leitfähige, beschichtete Polyesterfolie, Verfahren zu ihrer Herstellung sowie ihre Verwendung |
JP2006281591A (ja) * | 2005-03-31 | 2006-10-19 | Nissha Printing Co Ltd | 金属光沢を有する加飾シート及びこれを用いた加飾成形品 |
JP4067109B2 (ja) * | 2006-06-08 | 2008-03-26 | 株式会社麗光 | 耐腐食性に優れた絶縁性転写フイルム、及びそれを使用して得る成形品 |
JP4308861B2 (ja) * | 2007-02-23 | 2009-08-05 | 株式会社麗光 | 耐腐食性、及び意匠性に優れたハーフ調金属光沢転写フイルム、並びにそれを使用して得る成形品 |
TW200927477A (en) * | 2007-12-24 | 2009-07-01 | Metal Ind Res Anddevelopment Ct | Electromagnetic wave-permeable coating with metallic luster |
-
2011
- 2011-01-18 JP JP2011502958A patent/JP5692602B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2011-01-18 WO PCT/JP2011/050699 patent/WO2011090010A1/ja active Application Filing
- 2011-01-18 KR KR1020127015435A patent/KR101780661B1/ko active IP Right Grant
- 2011-01-18 CN CN201180005987.0A patent/CN103003063B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2011-01-24 TW TW100102414A patent/TWI507288B/zh not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20120123030A (ko) | 2012-11-07 |
CN103003063B (zh) | 2015-05-13 |
TW201136758A (en) | 2011-11-01 |
WO2011090010A1 (ja) | 2011-07-28 |
KR101780661B1 (ko) | 2017-09-21 |
CN103003063A (zh) | 2013-03-27 |
JPWO2011090010A1 (ja) | 2013-05-23 |
TWI507288B (zh) | 2015-11-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5692602B2 (ja) | 金属薄膜転写材料およびその製造方法 | |
JP2014529642A (ja) | 光学的に透明な導電性接着剤及びそれから製造される物品 | |
JP4308861B2 (ja) | 耐腐食性、及び意匠性に優れたハーフ調金属光沢転写フイルム、並びにそれを使用して得る成形品 | |
TW200412833A (en) | Flexible, formable conductive films | |
WO2021025054A1 (ja) | 電磁波透過性積層体 | |
JP5906774B2 (ja) | 積層体 | |
JP4036465B1 (ja) | 金属光沢に優れた絶縁性材料、及びそれを用いた成形品 | |
CN103074819A (zh) | 抗刮伤雾面防静电离型纸 | |
CN102762371A (zh) | 硬涂层膜及其制造方法 | |
JP2019188806A (ja) | 電磁波透過性金属光沢物品、及び、加飾部材 | |
JP6912279B2 (ja) | 導電性フィルム | |
WO2021006130A1 (ja) | 電磁波透過性金属光沢物品 | |
JP4067109B2 (ja) | 耐腐食性に優れた絶縁性転写フイルム、及びそれを使用して得る成形品 | |
CN103061207A (zh) | 新型雾面防静电离型纸的制备方法 | |
WO2021251476A1 (ja) | フィルムミラー積層体、及びミラー部材 | |
KR20200074860A (ko) | 도전성 필름 | |
JP2005353656A (ja) | 透明電磁波シールドフィルムおよびその製法、ならびにそれを用いたプラズマディスプレイパネル用前面フィルターおよびプラズマディスプレイ | |
CN103046432A (zh) | 离型材料用雾面离型剂 | |
JP4876850B2 (ja) | 金属薄膜転写材料およびその製造方法 | |
JP2002164691A (ja) | 電磁波シールドシートおよびその製造方法 | |
JP2014113689A (ja) | 成型加飾用積層フィルム、成型加飾用積層シート | |
CN220283960U (zh) | 一种防爆膜 | |
JP6596591B2 (ja) | 透明導電性フィルム用の光学調整層付きハードコートフィルム、および透明導電性フィルム | |
JP2004149747A (ja) | 金属箔サポート材樹脂組成物 | |
JP6026758B2 (ja) | 透明導電性基板の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20141014 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20141205 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150106 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150121 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5692602 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |