JP5677033B2 - レーザ加工装置及びその方法 - Google Patents
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Description
本発明のレーザ加工方法の他の一つの態様は、レーザ出力手段によりパルスレーザ光を出力するレーザ光出力ステップと、このレーザ光出力ステップにおいて出力された前記レーザ光が入力され基本波と高調波を発生する高調波発生ステップと、この高調波発生ステップにおいて発生した前記基本波が伝送される基本波伝送ステップと、前記高調波発生ステップにおいて発生した前記高調波が伝送される高調波伝送ステップと、前記基本波伝送ステップより伝送された前記基本波と前記高調波伝送ステップにより伝送された前記高調波とを、同一の集光光学系によって集光し、水を介して被加工物に照射してアブレーション加工により前記被加工物に圧縮応力を付与するレーザ照射ステップと、を有し、前記レーザ照射ステップにおいて、前記基本波と前記高調波が前記被加工物の同一箇所に照射され、また、前記基本波と前記高調波が前記被加工物に照射されるときに、前記基本波と前記高調波のレーザ光が異なる焦点距離で、かつ、基本波施工可能範囲と高調波施工可能範囲の一部のみが重畳して他の部分が重畳しないように集光され、この基本波施工可能範囲から高調波施工可能範囲までを焦点裕度として施工すること、を特徴とするものである。
本発明のレーザ加工方法の他の一つの態様は、レーザ出力手段によりパルスレーザ光を出力するレーザ光出力ステップと、このレーザ光出力ステップにおいて出力された前記レーザ光が入力され基本波と高調波を発生する高調波発生ステップと、この高調波発生ステップにおいて発生した前記基本波が伝送される基本波伝送ステップと、前記高調波発生ステップにおいて発生した前記高調波が伝送される高調波伝送ステップと、前記基本波伝送ステップより伝送された前記基本波と前記高調波伝送ステップにより伝送された前記高調波とを、同一の集光光学系によって集光し、水を介して被加工物に照射してアブレーション加工により前記被加工物に圧縮応力を付与するレーザ照射ステップと、を有し、前記レーザ照射ステップにおいて、前記基本波と前記高調波が前記被加工物の同一箇所に、前記基本波と前記高調波がエネルギー分布を変えて照射されること、を特徴とするものである。
本発明のレーザ加工装置の他の一つの態様は、レーザ光を出力するレーザ出力手段と、このレーザ出力手段から出力された前記レーザ光が入力され基本波と高調波を発生する第1の高調波発生手段と、この第1の高調波発生手段により発生した前記基本波を伝送する基本波伝送光学系と、前記第1の高調波発生手段により発生した前記高調波を伝送する高調波伝送光学系と、前記基本波伝送光学系より伝送された前記基本波と前記高調波伝送光学系により伝送された前記高調波とを集光し、水を介して被加工物に照射させる集光光学系と、を有するレーザ加工装置であって、前記集光光学系は、前記基本波と前記高調波を前記被加工物の同一箇所に照射し、また、前記基本波と前記高調波が前記被加工物に照射されるときに、前記基本波と前記高調波のレーザ光が異なる焦点距離で、かつ、基本波施工可能範囲と高調波施工可能範囲の一部のみが重畳して他の部分が重畳しないように集光するものであり、この基本波施工可能範囲から高調波施工可能範囲までを焦点裕度として施工することが可能に構成されていること、を特徴とするものである。
本発明のレーザ加工装置の他の一つの態様は、レーザ光を出力するレーザ出力手段と、このレーザ出力手段から出力された前記レーザ光が入力され基本波と高調波を発生する第1の高調波発生手段と、この第1の高調波発生手段により発生した前記基本波を伝送する基本波伝送光学系と、前記第1の高調波発生手段により発生した前記高調波を伝送する高調波伝送光学系と、前記基本波伝送光学系より伝送された前記基本波と前記高調波伝送光学系により伝送された前記高調波とを集光し、水を介して被加工物に照射させる集光光学系と、を有するレーザ加工装置であって、前記基本波と前記高調波が前記被加工物の同一箇所に、前記基本波と前記高調波がエネルギー分布を変えて照射されるように構成されていること、を特徴とするものである。
それぞれ別々の光学系により伝送される。波長変換部3で発生した高調波4は、高調波用光学系7を経由し、高調波出力調整部9で出力調整され、レーザ光合成部10に伝達される。
Claims (6)
- レーザ出力手段によりパルスレーザ光を出力するレーザ光出力ステップと、
このレーザ光出力ステップにおいて出力された前記レーザ光が入力され基本波と高調波を発生する高調波発生ステップと、
この高調波発生ステップにおいて発生した前記基本波が伝送される基本波伝送ステップと、
前記高調波発生ステップにおいて発生した前記高調波が伝送される高調波伝送ステップと、
前記基本波伝送ステップより伝送された前記基本波と前記高調波伝送ステップにより伝送された前記高調波とを、同一の集光光学系によって集光し、水を介して被加工物に照射してアブレーション加工により前記被加工物に圧縮応力を付与するレーザ照射ステップと、を有し、
前記レーザ照射ステップにおいて、前記基本波と前記高調波を交互に照射すること、
を特徴とするレーザ加工方法。 - レーザ出力手段によりパルスレーザ光を出力するレーザ光出力ステップと、
このレーザ光出力ステップにおいて出力された前記レーザ光が入力され基本波と高調波を発生する高調波発生ステップと、
この高調波発生ステップにおいて発生した前記基本波が伝送される基本波伝送ステップと、
前記高調波発生ステップにおいて発生した前記高調波が伝送される高調波伝送ステップと、
前記基本波伝送ステップより伝送された前記基本波と前記高調波伝送ステップにより伝送された前記高調波とを、同一の集光光学系によって集光し、水を介して被加工物に照射してアブレーション加工により前記被加工物に圧縮応力を付与するレーザ照射ステップと、を有し、
前記レーザ照射ステップにおいて、前記基本波と前記高調波が前記被加工物の同一箇所に照射され、また、前記基本波と前記高調波が前記被加工物に照射されるときに、前記基本波と前記高調波のレーザ光が異なる焦点距離で、かつ、基本波施工可能範囲と高調波施工可能範囲の一部のみが重畳して他の部分が重畳しないように集光され、
この基本波施工可能範囲から高調波施工可能範囲までを焦点裕度として施工すること、
を特徴とするレーザ加工方法。 - レーザ出力手段によりパルスレーザ光を出力するレーザ光出力ステップと、
このレーザ光出力ステップにおいて出力された前記レーザ光が入力され基本波と高調波を発生する高調波発生ステップと、
この高調波発生ステップにおいて発生した前記基本波が伝送される基本波伝送ステップと、
前記高調波発生ステップにおいて発生した前記高調波が伝送される高調波伝送ステップと、
前記基本波伝送ステップより伝送された前記基本波と前記高調波伝送ステップにより伝送された前記高調波とを、同一の集光光学系によって集光し、水を介して被加工物に照射してアブレーション加工により前記被加工物に圧縮応力を付与するレーザ照射ステップと、を有し、
前記レーザ照射ステップにおいて、前記基本波と前記高調波が前記被加工物の同一箇所に、前記基本波と前記高調波がエネルギー分布を変えて照射されること、
を特徴とするレーザ加工方法。 - レーザ光を出力するレーザ出力手段と、
このレーザ出力手段から出力された前記レーザ光が入力され基本波と高調波を発生する第1の高調波発生手段と、
この第1の高調波発生手段により発生した前記基本波を伝送する基本波伝送光学系と、
前記第1の高調波発生手段により発生した前記高調波を伝送する高調波伝送光学系と、
前記基本波伝送光学系より伝送された前記基本波と前記高調波伝送光学系により伝送された前記高調波とを集光し、水を介して被加工物に照射させる集光光学系と、
前記基本波と前記高調波が交互に前記集光光学系から照射されるようにタイミングをずらす手段と、
を有することを特徴とするレーザ加工装置。 - レーザ光を出力するレーザ出力手段と、
このレーザ出力手段から出力された前記レーザ光が入力され基本波と高調波を発生する第1の高調波発生手段と、
この第1の高調波発生手段により発生した前記基本波を伝送する基本波伝送光学系と、
前記第1の高調波発生手段により発生した前記高調波を伝送する高調波伝送光学系と、
前記基本波伝送光学系より伝送された前記基本波と前記高調波伝送光学系により伝送された前記高調波とを集光し、水を介して被加工物に照射させる集光光学系と、
を有するレーザ加工装置であって、
前記集光光学系は、前記基本波と前記高調波を前記被加工物の同一箇所に照射し、また、前記基本波と前記高調波が前記被加工物に照射されるときに、前記基本波と前記高調波のレーザ光が異なる焦点距離で、かつ、基本波施工可能範囲と高調波施工可能範囲の一部のみが重畳して他の部分が重畳しないように集光するものであり、
この基本波施工可能範囲から高調波施工可能範囲までを焦点裕度として施工することが可能に構成されていること、
を特徴とするレーザ加工装置。 - レーザ光を出力するレーザ出力手段と、
このレーザ出力手段から出力された前記レーザ光が入力され基本波と高調波を発生する第1の高調波発生手段と、
この第1の高調波発生手段により発生した前記基本波を伝送する基本波伝送光学系と、
前記第1の高調波発生手段により発生した前記高調波を伝送する高調波伝送光学系と、
前記基本波伝送光学系より伝送された前記基本波と前記高調波伝送光学系により伝送された前記高調波とを集光し、水を介して被加工物に照射させる集光光学系と、
を有するレーザ加工装置であって、
前記基本波と前記高調波が前記被加工物の同一箇所に、前記基本波と前記高調波がエネルギー分布を変えて照射されるように構成されていること、
を特徴とするレーザ加工装置。
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