WO2013061587A1 - レーザー除染装置 - Google Patents

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峰原　英介
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Minehara Eisuke
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    • G21F9/28—Treating solids
    • G21F9/30—Processing

Definitions

  • the present invention relates to the improvement of a laser decontamination apparatus, and more specifically, to a nuclear reactor during recovery from an accident or during a decommissioning operation, a radioactive material (RI) handling storage facility, a reprocessing plant, a nuclear fuel storage facility, an accelerator facility etc.
  • the present invention relates to a laser decontamination apparatus capable of efficiently decontaminating containers, equipment and the like that are contaminated by the above, and further exhibiting an excellent decontamination function more than ever.
  • a method is known in which a low average power pulsed laser, which is roughly collimated, is irradiated linearly and two-dimensionally in a one-dimensional or two-dimensional manner on a surface of an RI-contaminated object.
  • the decontamination apparatus adopting this method, it is possible to evaporate and remove RI contamination on the colored surface with large light absorption such as black without damaging metal and the like of the base material.
  • decontamination using sandblast, sander, grinder or the like is also performed in addition to the above laser decontamination.
  • the surface of an object contaminated with sandblast or sand is 0.05 mm.
  • RI not only re-enters the surface during grinding and recontamination tends to occur, but also grinding particles of sandblasts used repeatedly, or grinding belts of sanders or grinders, grinding The disks cause secondary contamination of the grinding device (sandblasting nozzles, etc.).
  • a laser processing apparatus that adjusts the focal length using a beam expander is already known (see Patent Document 2), but in this apparatus, a condensing optical system including a compound lens is disposed after the XY scanner. Because of this, even if it is going to measure the surface shape with the laser range finder, the reflected light from the object is affected by the compound lens etc. and the distance measurement can not often be performed accurately. In addition, the attenuation of the processing and measurement laser light is also increased by passing the compound lens or the like. For this reason, the processing laser beam which can be handled is limited to what has a small output.
  • the present invention has been made in view of the problems as described above, and the object of the present invention is to ensure a sufficient energy density that can be removed even by RI that has invaded the inside of the contamination, and contamination Irradiation unevenness does not occur even if there are irregularities on the surface of the object, and further, there is no melting diffusion or recontamination of RI due to the thermal effect at the time of laser processing, and cost and environment of equipment and operation, and operation efficiency It is an object of the present invention to provide an excellent laser decontamination apparatus.
  • the present invention includes a CW laser oscillator 1 used for the light source processing laser beam L 1; XY-axis scanner 21 and the laser beam L 1 is two-dimensionally scanningly deflected by the optical deflector 21a, and the laser beam L 1
  • the Z-axis scanner 22 is provided with a Z-axis scanner 22 for adjusting the focal length by a variable focus lens or a movable lens 22a, and the Z-axis scanner 22 is disposed closer to the light source than the XY-axis scanner 21.
  • a scanner unit 2 for condensing on the surface of the contaminants T without using the laser light L 1 scanned by the scanner 22 complex lenses such as f ⁇ lens (hereinafter compound lens abbreviated); the surface shape of the contaminant T
  • a laser decontamination apparatus comprising a surface shape measuring apparatus 3 which is measured by an optical means using a laser distance meter 31 and an XY axis scanner 21; Further, according to the irradiation position, the Z axis scanner 22 of the scanner device 2 focuses the laser light L 1 on the surface of the contaminant T based on the shape data obtained by the surface shape measuring device 3
  • the focal position control unit 24 that automatically adjusts the position, While focusing position on the surface of the contaminant T a laser beam L 1 is characterized in that a three-dimensionally scanned, can be irradiated.
  • a single mode fiber laser having a large average output and capable of focusing a minute point of 10 ⁇ m or less is used as the laser oscillator 1, and laser light on the surface of the contaminant T
  • L 1 is irradiated with an energy density of 1 GW / cm 2 or more (in the stopped state)
  • melting in proportion to 1 to the square of the energy density Increase the amount of crushing, transpiration and sublimation of the contaminant T without it. This can increase the speed and efficiency of decontamination.
  • decontamination of stainless steel or the like having a surface crack into which RI penetrated to the inside, which was not included in the decontamination target in the conventional laser method can be performed without any problem.
  • the reduction optical system does not reduce the scanning speed and the scanning area.
  • the laser distance meter 31 for calculating the distance from the phase difference or time difference due to interference of the target to the irradiation light is irradiated with measurement laser beam L 2 and its scattered light and performs efficiently measured by placing the laser rangefinder 31 to allow individual simultaneously or independently further scanning of the measuring laser light L 2 with the same XY-axis scanner 21 and the processing laser L 1 be able to.
  • the laser oscillator 1 is installed at a location away from the scanner device 2 and a fiber having an optical fiber with a small diameter in the laser oscillator 1 using the laser, further between the emitting end and the laser window 23 of the optical fiber, toward the Z-axis scanner 22, the measurement laser beam L 2 from the dichroic mirror 33 (the laser rangefinder 31 to the XY-axis scanner 21 reflected while, constructed by arranging the Z-axis mirror transmits the processing laser light L 1 towards the XY-axis scanner 21 and passes through the scanner 22) and XY-axis scanner 21 sequentially.
  • the scanning speed of the XY-axis scanner 21 of the scanner device 2 is set to a high speed of 10 m / s or more, and the processing laser light L 1 reciprocally scanned is in the nanosecond range at an arbitrary irradiation point of the irradiated surface.
  • the focal position control unit 24 of the scanner device 2 has a range of focal depth (Rayleigh length) of the laser light L 1 in order to perform fragmentation, transpiration and sublimation of RI efficiently with high energy density without irradiation unevenness. Since the irradiation surface of the contaminant T is set to be adjusted in or near the inside, high crushing, transpiration and sublimation efficiency can be obtained.
  • the laser decontamination apparatus having the structure described above, the surface contaminants T of the processing laser beam L 1 is irradiated, the angular orientation inert gas as a scanning direction and the schematic opposite direction of the laser beam L 1
  • a gas injection device 4 for blowing particles while spraying and always covering the irradiated portion with an inert gas; and a removal material recovery device 5 for sucking and collecting removal material including radioactive substances blown off by the gas spraying device 4; This makes it easy to collect the removed substances including RI, and can also prevent slight secondary contamination.
  • the laser oscillator 1 is mounted on the remote control robot R, and the scanner device 2 is attached to the arm portion A of the remote control robot R provided with a self-propelled means.
  • the arm unit is operated to sequentially emit laser light.
  • decontamination work can be performed efficiently.
  • laser light can be focused on a minute area of the surface of the contaminant by the imaging optical system (Z-axis scanner) of the scanning device, and the focal length of the laser beam is further made on the surface of the contaminant by the Z-axis scanner. Since the energy density of the laser light can be raised up to 3 GWs / cm 2 larger than before by making it possible to adjust precisely together, it is possible to crush the whole base material even if it is RI which has invaded the inside of the contaminant. ⁇ It is possible to transpire / sublimate and remove the roots.
  • the condensing optical system is disposed closer to the light source than the XY-axis scanner so that the measurement laser light emitted from the laser distance meter does not pass through the condensing optical system. It is also possible to make an accurate measurement of Further, according to the present invention, since a large number of complex lenses such as complex lenses are not used, it is possible to irradiate RI contamination without damaging the lens optical system without attenuating the high output laser light almost at all.
  • the focal position control unit of the Z-axis scanner determines the focal point of the CW laser light according to the irradiation position based on the data (stereoscopic map) of the surface shape of the contaminant measured by the surface shape measuring device. Since the adjustment is made automatically, decontamination can be performed without uneven irradiation without taking time and effort even if the surface of the contaminant is uneven.
  • the scanner device is configured by an XY-axis scanner using an optical deflector (galvano mirror etc.) and a Z-axis scanner using a movable lens (or variable focus lens), scanning of laser light Since the speed can be made much higher than scanning by moving the irradiation head, even non-thermal processing is possible even with laser light with a large energy density, and melt diffusion and reattachment of RI due to thermal effects Can be prevented.
  • the present invention by using a CW laser for continuously emitting laser light as the laser oscillator, it is possible to make the focusing diameter considerably smaller than that of the pulse laser, so the irradiation energy density can be set to a high value. Instead, three-dimensional scanning can be performed more precisely according to the surface shape of the contamination. Also, in terms of cost, the cost per unit output can be reduced compared to a pulsed laser with high cost per unit output and low efficiency of electric-to-optical conversion with the same average output.
  • the laser decontamination apparatus of the present invention there is no need to directly contact parts with contaminants as in the mechanical method, so there is no concern of secondary contamination in the apparatus or radiation exposure of workers.
  • the cost of decontamination can be reduced because there is no need to replace the contaminated apparatus body or parts, or the cost of processing the ion exchange resin.
  • self decontamination can be performed by this apparatus.
  • the removal performance of RI can be significantly improved over the conventional laser decontamination apparatus, and furthermore, the environment is deteriorated due to the discharge of secondary contaminants generated by decontamination methods other than the laser method. Also, the practical use value of the present invention is extremely high because a laser decontamination apparatus capable of solving the problem of expensive cost burden can be solved.
  • Example 1 A first embodiment of the present invention will be described based on FIGS. 1 to 4.
  • reference numeral 1 designates a laser oscillator
  • reference numeral 2 designates a scanner.
  • reference numeral 3 is a surface shape measuring device including a distance meter in the Z-axis direction
  • reference numeral 4 is a gas ejection device.
  • What is indicated by the reference numeral 5 is a removed material recovery device.
  • the laser oscillator 1 which is a light source of the processing laser beam L 1, connected by optical fiber 11 to the scanning device 2 for scanning by condensing the laser beam L 1 on the surface of the contaminant T ing.
  • the laser oscillator 1 uses a fiber laser provided with an optical fiber 11 with a long small diameter.
  • using CW laser can be reduced focused diameter rather than the pulsed laser to the laser oscillator 1.
  • the CW laser is excellent in practicality also in terms of cost because the device price is lower than that of the pulse laser and the efficiency of light-to-light conversion is also high. (The pulse laser is deeply peeled off. Will occur).
  • the Z-axis scanner 22 as well as arranged on the light source side than the XY-axis scanner 21 (between the laser oscillator 1 and the XY-axis scanner 21), the laser light L 1 scanned by the XY-axis scanner 21 through the compound lens Irradiate the object without
  • the scanning device 2 is additionally provided with a surface shape measuring device 3 for measuring the surface shape of the contaminant T, and in the present embodiment, the target is irradiated with the measurement laser light L 2.
  • the laser range finder 31 is installed so that the scanning of the measurement laser beam L 2 can be performed by the XY axis scanner 21 using the laser range finder 31 which determines the distance from the phase difference or time difference due to the interference of the irradiated light and its scattered light. doing.
  • the measuring laser light L 2 of the laser rangefinder 31 (disposed on the optical path between the Z-axis scanner 22 and the XY-axis scanner 21) mirror 32 and the dichroic mirror 33, laser window via the XY-axis scanner 21 It is emitted from 23.
  • the scattered light is incident on the laser distance meter 31 via the laser window 23, the XY axis scanner 21, the dichroic mirror 33, and the mirror 32.
  • the measurement laser light L 2 of the laser rangefinder 31 may also be scanned to perform processing and measurement of the processing laser beam L 1 simultaneously real time XY axis scanner 21 of the scanner device 2, also It can be scanned independently and separately before scanning the processing laser beam L 1. Further, the shape data obtained by the laser range finder 31 is sent to the scanner device 2 by the data transmission means 34.
  • the focus position control section 23 of the scanner device 2 although the range of the laser beam L 1 of focal depth, or irradiation surface contaminants T near the are set to be adjusted
  • the focal position can be freely adjusted by changing the setting of the focal position control unit 23 as necessary.
  • FIG 3 as shown in, even if the RI from the cracking of the surface contaminants T is penetrated inward, the RI in the laser beam L 1 can be removed by each preform momentarily disrupted or vaporized, sublimated.
  • FIG. Begin stretching as shown in 4 (a). Thereafter, the cracks and defects in the surface inner layer further extend as shown in FIG. 4 (b), and finally this surface layer receives a large compressive stress from the unirradiated peripheral portion as shown in FIG. 4 (c). It peels off to the outside and peels off from the base material. Note that the ratio and details of crushing, transpiration and sublimation differ depending on the material to be irradiated.
  • the scanning speed of the scanner apparatus 2 and sets a high speed of more than 10 m / s, as shown in FIG. 5 (a), the minute converging the processing laser beam L 1 to reciprocate in the scanning direction
  • the scanning speed and the focusing diameter of the XY-axis scanner 21 are set so that the light spot is irradiated to an arbitrary irradiation point P of the irradiated surface for the duration of the nanosecond range.
  • the high-speed laser processing is realized by the XY-axis scanner 21 and the Z-axis scanner 22 a compact optical element is rotated at a high speed or moved by a drive motor to scan the laser beam L 1.
  • the output of the CW laser and the Z-axis scanner 22 of the scanner device 2 are set so that the energy density is three orders of magnitude larger than before (specifically, 1 GW / cm 2 or more). Most materials, including stainless steel, can be selected for decontamination.
  • the above laser device the surface contaminants T of the processing laser beam L 1 is irradiated, in the angular direction consisting of outlet 41 to the scanning direction and the schematic opposite direction of the laser beam L 1 Since the gas injection device 4 for blowing the inert gas is attached, the crushed, transpiration, and sublimation particles can be blown away while always covering the irradiated portion with the inert gas using the gas injection device 4.
  • the removed material recovery device 5 is attached to the removed matter blown away by the gas jetting device 4, and the removed matter sucked from the suction port 51 is made to pass through the separation collector 52 (water sealing wire mesh). It collects with the dust collector 53 with a filter.
  • the entire amount is collected by a water-sealing wire mesh on the way, so that slight secondary pollution can be prevented.
  • the decontamination work can be performed without the worker being exposed to radiation. Can. Incidentally, if the length of the optical fiber of the fiber laser is adjusted, it is possible to place the laser oscillator 1 in a separate room away from the other or load it on the remote control robot R.
  • the scanner device 2 can be driven at an arbitrary position on the surface of the contaminant T by operating the arm portion A three-dimensionally, when decontaminating a wall surface or the like having a large area, If the position of the remote control robot R is fixed and the arm unit A is operated, the decontamination work can be efficiently advanced.
  • a laser oscillator Not only fiber lasers but also technically difficult, high-speed scanning at 10 m / s is possible, focusing on a minute area of 10 ⁇ m or less in diameter and having an energy density of 1 GW / cm 2 or more.
  • a high output semiconductor laser, a solid laser, a gas laser, or the like may be employed (in other words, performance equivalent to a beam parameter of 0.3 mmrad equivalent to that of a single mode fiber laser).
  • the light deflector 21a of the XY-axis scanner 21 can be changed from a galvano mirror to a still higher speed electro-optical element, a resonant mirror or the like.
  • the movable lens 22a of the Z-axis scanner 22 and a lens can be electrically controlled to be a variable focus lens or the like which adjusts the focal distance at high speed.
  • the surface shape measuring apparatus 3 it is not necessary to necessarily use the laser distance meter 31, and optical means other than the laser distance meter 31 (for example, it is possible to use a minute optical path with a diameter of less than millimeter over the entire optical path
  • a device for measuring the surface shape of the object by means of triangular surveying other than the phase difference, means for measuring by a method using an image, etc. can be adopted.
  • a separation collector 52 other than the water-sealing wire mesh can be used for collecting RI contamination particles.
  • the laser decontamination apparatus itself may be in a portable small size form or a large installation style, any one of which is within the technical scope of the present invention.
  • the laser decontamination apparatus is, compared with the conventional apparatus, most of carbon steel, stainless steel, titanium, aluminum, zirconium, tiles, concrete, lead, glass, synthetic resin, paint film, etc. Not only excellent in basic decontamination function to remove RI from contaminants of material, but also practical use that can achieve non-repulsive force, cost reduction, downsizing, weight reduction, automation, low exposure, etc. than conventional decontamination equipment Because it is a useful technology in terms of its value, its industrial utility value is very high.

Abstract

【課題】　汚染物の内側に侵入したＲＩでも除去できる充分なエネルギー密度を確保することができ、また汚染物の表面に凹凸がある場合でも照射ムラが生じず、レーザ加工時の熱的影響によるＲＩの拡散や再汚染もなく、しかも、コスト面や環境面、作業効率の面でも優れたレーザー除染装置を提供すること。 【解決手段】　レーザ発振器１と；ＸＹ軸スキャナ21及びＺ軸スキャナ22を備え、かつ、前記レーザ発振器１から出射されたレーザ光Ｌ1をｆθレンズ等の複合レンズを介さず汚染物Ｔの表面上に集光して光走査を行うスキャナ装置２と；前記汚染物Ｔの表面形状測定装置３とを具備すると共に、 前記スキャナ装置２のＺ軸スキャナ22には、表面形状測定装置３で得られた形状データに基づいて、レーザ光Ｌ1の焦点が汚染物Ｔの表面にくるように照射位置に応じて焦点位置を自動的に調整する焦点位置制御部22bを備えて構成した。

Description

レーザー除染装置
　本発明は、レーザー除染装置の改良、詳しくは、事故から回復作業中或いは廃止措置中の原子炉、放射性物質(ＲＩ)の取扱保管施設、再処理工場、核燃料保管施設、加速器施設などにおいてＲＩで汚染された容器や機器等を効率良く除染することができ、しかも、従来以上の優れた除染機能を発揮するレーザー除染装置に関するものである。
　古くからあるレーザー除染法としては、ＲＩ汚染された物体表面に、概略平行光にした低平均出力のパルスレーザを線状に１次元或いは平面状に２次元走査して照射する方法が知られており、この方法を採用した除染装置では、母材の金属等を破損させずに黒色などの光吸収の大きな有色表面のＲＩ汚染物を蒸散させて除去することできる。
　ところが、上記のようにパルスレーザを平行光とする方法では、エネルギー密度(照射強度)を高くするために集光面積を小さくすると、高速で走査した際に未照射ムラが必ず発生するため、同じ場所を複数回照射しなければならない。一方で、１パルスの照射面積を大きくすると、エネルギー密度が低下するため(数MW/cm2程度以下)、照射したレーザ光が光沢のある金属表面で反射してしまい、金属表面の微小な亀裂等に侵入したＲＩを全く除去することができない。
　また、従来においては、上記レーザー除染以外にもサンドブラストやサンダー、グラインダー等を用いた除染も行われており、これらの機械的方法では、サンドブラストやサンダーでＲＩ汚染された物体表面を0.05mmから0.1mm以上の厚み分削り取って付着したＲＩを除去するのが一般的である。
　しかし、上記機械的な除染法では、研削中にＲＩが表面内に再侵入して再汚染が起こり易いだけでなく、繰り返し使用されるサンドブラストの研削粒子、又はサンダーやグラインダーの研削ベルト、研削ディスクによって研削装置(サンドブラストのノズル等）が二次汚染される。
　しかも、上記研削粒子や研削ベルトによって二次汚染されたサンドブラスト装置やサンダー等を除染の度に交換するとなると、装置や部品の交換費用が嵩んで除染コストが非常に高く付くだけでなく、大量の二次廃棄物を生み出す要因にもなるため、コスト面や環境面で好ましくない。
　一方、従来の除染技術としては、ＲＩ汚染された物体を酸化剤・還元剤を含む溶液中に浸して、汚染物質を溶液中に溶出させる方法も知られているが、このような化学的方法では、廃液からＲＩを分離するために使用する大量のイオン交換樹脂の処理(燃やして容積を減らした後、コンクリート等で固定して保管する)に、高額な処理費用がかかる。
　また最近では、ピーク出力が10MW以上のパルスレーザを除染に用いる技術も提案されているが(例えば、特許文献１参照)、これらの装置では、ＲＩ汚染された物体表面にレーザ光の焦点を精密に合わせることができないため、GW/cm2のエネルギー密度(照射強度)を確保することができない。また凹凸のある物体表面では照射ムラも生じる。
　そしてまた、上記のような高出力のパルスレーザを用いる場合には、熱的影響によるＲＩの溶融拡散や再付着の問題も考慮する必要があるが、照射ヘッドを動かしてレーザ光を照射する方法だと例え自動走査であったとしても低速域に走査速度の限界があるため、レーザを照射した部分が大きく深く溶融する等、ＲＩの溶融拡散や熱影響が非常に大きくなる。また、大出力ＣＷレーザで表面を溶融してガス圧で除去する方法(非特許文献１参照)もあるが、更に熱影響が大きく、ＲＩの溶融拡散が極めて大きい。
　他方、ビームエキスパンダを利用して焦点距離を調節するレーザ加工装置も既に公知となっているが(特許文献２参照)、この装置ではＸＹスキャナの後に複合レンズを含めた集光光学系が配置されているため、レーザ距離計で表面形状を測定しようとしても、対象物からの反射光が複合レンズ等の影響を受けて距離計測を正確に行うことができない場合が多い。また、複合レンズ等を通過させることで加工用及び計測用レーザ光の減衰も大きくなる。このため、取り扱える加工用レーザ光は出力が小さいものに制限される。
特開２００４－１９３２６７号公報 特開２０１０－８２６６３号公報
小川竜一郎,他二名,「レーザ除染技術の開発」,サイクル機構技報,2002年6月,第15号,p.59-66
　そこで本発明は、上記の如き問題に鑑みて為されたものであり、その目的とするところは、汚染物の内側に侵入したＲＩでも除去できる充分なエネルギー密度を確保することができ、また汚染物の表面に凹凸がある場合でも照射ムラが生じず、また更にレーザ加工時の熱的影響によるＲＩの溶融拡散や再汚染もなく、しかも、装置や運転のコスト面や環境面、作業効率の面でも優れたレーザー除染装置を提供することにある。
　本発明者が上記課題を解決するために採用した手段を添付図面を参照して説明すれば次のとおりである。
　即ち、本発明は、加工用レーザ光Ｌ1の光源に用いるＣＷレーザ発振器１と；レーザ光Ｌ1を光偏向器21aで二次元的に偏向走査するＸＹ軸スキャナ21、及びレーザ光Ｌ1の焦点距離を可変焦点レンズや可動レンズ22aによって調整するＺ軸スキャナ22を備え、かつ、このＺ軸スキャナ22を前記ＸＹ軸スキャナ21よりも光源側に配置すると共に、前記ＸＹ軸スキャナ21及びＺ軸スキャナ22によって走査したレーザ光Ｌ1をｆθレンズ等の複合レンズ(以下複合レンズと略称)を介さずに汚染物Ｔの表面上に集光するスキャナ装置２と；前記汚染物Ｔの表面形状を、レーザ距離計31とＸＹ軸スキャナ21を用いた光学的手段によって測定する表面形状測定装置３とからレーザー除染装置を構成し、
更に前記スキャナ装置２のＺ軸スキャナ22には、表面形状測定装置３で得られた形状データに基づいて、レーザ光Ｌ1の焦点が汚染物Ｔの表面にくるように照射位置に応じて焦点位置を自動的に調整する焦点位置制御部24を備えて構成したことにより、
汚染物Ｔの表面に焦点位置を合わせながらレーザ光Ｌ1を三次元的に走査・照射可能とした点に特徴がある。
　また、上記レーザ発振器１及びスキャナ装置２に関しては、レーザ発振器１に平均出力が大きく、かつ10μｍ以下の微小点集光が可能なシングルモードファイバレーザを使用すると共に、汚染物Ｔの表面にレーザ光Ｌ1が1GW/cm2以上(停止状態で)のエネルギー密度で照射されるようにレーザ発振器１の出力調整および光学系の設計を行うことで、エネルギー密度の１から２乗に比例して溶融なしに汚染物Ｔの破砕・蒸散・昇華量を増加させる。これにより、除染の速度や効率を高めることができる。また、従来のレーザー法では除染対象に含まれなかった、内部までＲＩが侵入した表面亀裂を有するステンレス鋼等の除染も問題なく行えるようになる。
　また更に、上記のようにレーザ発振器１に小口径の光ファイバを有するファイバレーザを使用して、光ファイバからスキャナ装置２の光偏向器21に直接レーザ光Ｌ1を出射可能とすれば、エネルギー密度を上げるために像点の径を物点よりも小さくする縮小光学系を使用する必要もない。そのため、縮小光学系によって走査速度と走査面積が小さくなることもない。
　一方、上記の表面形状測定装置３に関しては、目標物に測定用レーザ光Ｌ2を照射して照射光とその散乱光との干渉による位相差或いは時間差から距離を計算するレーザ距離計31を使用し、更に測定用レーザ光Ｌ2の走査を加工用レーザＬ1と同じＸＹ軸スキャナ21で同時に、又は独立して個別に行えるようにレーザ距離計31を設置することで効率的に測定を行うことができる。
　また、上記レーザ発振器１、スキャナ装置２及び表面形状測定装置３の配置に関しては、レーザ発振器１をスキャナ装置２から離れた場所に設置すると共に、このレーザ発振器１に小口径の光ファイバを有するファイバレーザを使用し、更に光ファイバの出射端部とレーザ窓23の間に、Ｚ軸スキャナ22、ダイクロイックミラー33(レーザ距離計31からの測定用レーザ光Ｌ2をＸＹ軸スキャナ21に向けて反射すると共に、Ｚ軸スキャナ22を通過してＸＹ軸スキャナ21に向かう加工用レーザ光Ｌ1を透過するミラー)およびＸＹ軸スキャナ21を順に配置して構成する。
　そして更に、上記スキャナ装置２のＸＹ軸スキャナ21の走査速度を10m/s以上の高速に設定すると共に、往復走査される加工用レーザ光Ｌ1が被照射面の任意の照射点にナノ秒域の継続時間で照射されるようにＸＹ軸スキャナ21の走査速度と集光径を設定することにより、レーザ光Ｌ1を1GW/cm2以上の非常に高いエネルギー密度で照射した場合でも、伝熱の影響を低くして破砕・蒸散・昇華による非熱的な加工が可能となる。ゆえに、ＲＩの溶融拡散や再付着の問題を解消することができる。
　また、上記スキャナ装置２の焦点位置制御部24については、照射ムラなく高いエネルギー密度で効率的にＲＩの破砕・蒸散・昇華を行うために、レーザ光Ｌ1の焦点深度(レイリー長)の範囲内、またはその近傍に汚染物Ｔの照射面が調整されるように設定するので高い破砕・蒸散・昇華効率が得られる。
　他方、上記構成から成るレーザー除染装置に、加工用レーザ光Ｌ1が照射されている汚染物Ｔの表面に、レーザ光Ｌ1の走査方向と概略逆方向となる角度方向に不活性ガスを吹き付けて照射部分を常に不活性ガスで覆いながら、粒子を吹き飛ばすガス噴出装置４と、このガス噴出装置４によって吹き飛ばされた放射性物質を含む除去物を吸引して捕集する除去物回収装置５とを付設すれば、ＲＩを含んだ除去物の捕集が容易となり、また僅かな二次汚染も防止できる。
　また、上記レーザ発振器１を遠隔操作ロボットＲに積載すると共に、スキャナ装置２を、自走手段を備えた遠隔操作ロボットＲのアーム部Ａに取り付けて、汚染物Ｔの表面の広範囲においてスキャナ装置２を駆動可能とすれば、作業者が被ばくすることなく除染作業を行うことができ、また面積の大きい壁面を除染する場合にも、アーム部を操作してレーザ光を順次照射していくことにより効率良く除染作業を行うことができる。
　本発明では、スキャン装置の結像光学系(Ｚ軸スキャナ)によって汚染物表面の微小な領域にレーザ光を集光可能とし、更にレーザ光の焦点距離を、Ｚ軸スキャナによって汚染物の表面に合わせて精密に調整可能としたことにより、レーザ光のエネルギー密度を従来よりも３桁大きいGW/cm2まで引き上げることができるため、汚染物の内部に侵入したＲＩであっても母材ごと破砕・蒸散・昇華させて根こそぎ除去することが可能となる。
　また本発明では、集光光学系をＸＹ軸スキャナよりも光源側に配置して、レーザ距離計から出射された測定用レーザ光が、集光光学系を通らないようにしているため、表面形状の測定を正確に行うこともできる。また本発明では、複合レンズ等の多枚数の複合レンズも使用しないので、高出力のレーザ光を殆ど減衰させることなく、レンズ光学系が破損する可能性もなくＲＩ汚染物に照射できる。
　しかも、本発明では、表面形状測定装置によって測定された汚染物の表面形状のデータ(立体地図)に基いて、Ｚ軸スキャナの焦点位置制御部が、ＣＷレーザ光の焦点を照射位置に応じて自動的に調整するようにしているため、汚染物の表面が凹凸状の場合であっても時間や手間をかけずに照射ムラなく除染を行うことができる。
　また、本発明のようにスキャナ装置を、光偏向器(ガルバノミラー等)を用いたＸＹ軸スキャナと可動レンズ(または可変焦点レンズ)を用いたＺ軸スキャナとから構成すれば、レーザ光の走査速度を照射ヘッドを動かして走査するよりも格段に高速化することができるため、エネルギー密度が大きいレーザ光であっても非熱的加工が可能となり、熱的影響によるＲＩの溶融拡散や再付着を防止できる。
　また本発明では、上記レーザ発振器に、連続的にレーザ光を出射するＣＷレーザを使用することで、パルスレーザよりも集光径をかなり小さくすることできるため、照射エネルギー密度を高い値に設定できるだけでなく、汚染物の表面形状に合わせてより精密に３次元走査を行うこともできる。またコスト面でも、レーザ単位出力当たりの装置価格が高く電気－光変換効率の低いパルスレーザよりも同じ平均出力で比較して安価に抑えることができる。
　また更に、本発明のレーザー除染装置では、機械的方法のように汚染物に部品を直接接触させる必要がないため、装置に二次汚染物が出る心配や作業者の放射線被曝の心配もなく、また、コスト面に関しても、汚染された装置本体や部品の交換費用、イオン交換樹脂の処理費用等がかからないため、除染コストを低廉に抑えることができる。また、もし仮にケース等の部品等が汚染されたとしても本装置で自己除染することができる。
　したがって、本発明により、従来のレーザー除染装置よりもＲＩの除去性能を大幅に向上することができ、しかも、レーザー法以外の除染方法で生じていた二次汚染物の排出による環境の悪化や高額なコスト負担の問題も解消できるレーザー除染装置を提供できることから、本発明の実用的利用価値は頗る高い。
本発明の実施例１におけるレーザー除染装置を表わす概略図である。 本発明の実施例１におけるレーザー除染装置の光学機構を説明するための概略図である。 本発明におけるレーザー除染装置の効果を説明するための説明図である。 本発明におけるレーザー除染装置の効果を説明するための説明図である。 本発明におけるレーザー除染装置の高速走査による横方向パルスと従来技術の無走査の縦方向パルスを説明するための説明図である。
　『実施例１』
　本発明の実施例１について、図１から図４に基いて説明する。同図において、符号１で指示するものは、レーザ発振器であり、符号２で指示するものは、スキャナ装置である。また符号３で指示するものは、Ｚ軸方向の距離計を含む表面形状測定装置であり、符号４で指示するものは、ガス噴出装置である。また符号５で指示するものは、除去物回収装置である。
　[レーザー除染装置の構成]
　まずこの実施例１では、加工用レーザ光Ｌ1の光源であるレーザ発振器１を、レーザ光Ｌ1を汚染物Ｔの表面上に集光して走査するスキャン装置２に光ファイバ11で接続している。なお、レーザ発振器１には、長い小口径の光ファイバ11を備えたファイバレーザを使用している。
　また本実施例では、上記レーザ光Ｌ1のエネルギー密度を一層高めるために、パルスレーザではなく集光径を小さくできるＣＷレーザをレーザ発振器１に使用している。また、ＣＷレーザは、パルスレーザよりも装置価格が安く電気－光変換効率も高いため、コスト面でも実用性に優れている(パルスレーザは、深く剥がれるが、除染ムラや除染できない箇所が発生してしまう)。
　また、上記スキャン装置２に関しては、レーザ光Ｌ1を光偏向器21a・21a(ガルバノミラー)で二次元的に偏向走査するＸＹ軸スキャナ21と、レーザ光Ｌ1の焦点距離を可動レンズ22a及び集光光学系である固定レンズ22bによって調整するＺ軸スキャナ22とから構成しており、双方のスキャナを経由したレーザ光Ｌ1はレーザ窓23から目標物に向けて出射される。
　なお、上記Ｚ軸スキャナ22は、ＸＹ軸スキャナ21よりも光源側(レーザ発振器１とＸＹ軸スキャナ21の間)に配置すると共に、ＸＹ軸スキャナ21で走査したレーザ光Ｌ1は複合レンズを介さずに対象物に照射する。
　また更に、上記スキャン装置２には、汚染物Ｔの表面形状を測定するための表面形状測定装置３を付設しており、本実施例では、目標物に測定用レーザ光Ｌ2を照射して照射光とその散乱光との干渉による位相差或いは時間差から距離を割り出すレーザ距離計31を使用して、測定用レーザ光Ｌ2の走査をＸＹ軸スキャナ21で行えるようにレーザ距離計31を設置している。
　なお、上記レーザ距離計31の測定用レーザ光Ｌ2は、ミラー32及びダイクロイックミラー33(Ｚ軸スキャナ22とＸＹ軸スキャナ21間の光路上に配置)、ＸＹ軸スキャナ21を経由してレーザ窓23から出射される。また逆に、散乱光はレーザ窓23、ＸＹ軸スキャナ21、ダイクロイックミラー33、及びミラー32を経由してレーザ距離計31に入射される。
　また、上記レーザ距離計31の測定用レーザ光Ｌ2は、スキャナ装置２のＸＹ軸スキャナ21で加工用レーザ光Ｌ1と同時に実時間の計測と加工を行うために走査することもでき、また加工用レーザ光Ｌ1を走査する前に独立して個別に走査することもできる。また、レーザ距離計31で得られた形状データは、データ送信手段34によってスキャナ装置２に送られる。
　そして、実時間でも別時間でもスキャナ装置２のＺ軸スキャナ22に、表面形状測定装置３で得られた形状データに基づいて、レーザ光Ｌ1の焦点が汚染物Ｔの表面にくるように照射位置に応じて焦点位置を自動的に調整する焦点位置制御部24を設けることで、レーザ光Ｌ1を汚染物Ｔの表面に三次元的に走査・照射できるようにしている。
　また本実施例では、上記スキャナ装置２の焦点位置制御部23を、レーザ光Ｌ1の焦点深度の範囲内、またはその近傍に汚染物Ｔの照射面が調整されるように設定しているが、必要に応じて焦点位置制御部23の設定を変えることにより焦点位置を自由に調整できる。
　そして上記のように、汚染物Ｔの表面に対しレーザ光Ｌ1の焦点位置を精密に調整できるようにしたことによって、レーザ光Ｌ1のエネルギー密度を従来以上に高めることができるため、図３に示すように、汚染物Ｔの表面の亀裂からＲＩが内側に侵入している場合でも、レーザ光Ｌ1でＲＩを母材ごと瞬間的に破砕・蒸散・昇華させて取り除くことができる。
　また、上記レーザ光Ｌ1による破砕のメカニズムについてもう少し説明を加えると、まずレーザ光Ｌ1が照射されて高温となった物質の表面部位において、表面内層に存在する微小な割れ目や欠陥が、図４(a)に示すように伸展を始める。その後、表面内層の割れ目や欠陥は図４(b)に示すように更に伸展し、最終的にこの表面層は、図４(c)に示すように未照射の周囲部分から大きな圧縮応力を受けて外側にはじき飛ばされ、母材から剥離する。なお、照射する材料によって、破砕と蒸散と昇華の割合やその詳細は異なる。
　また本実施例では、上記スキャナ装置２の走査速度を10m/s以上の高速に設定すると共に、図５(a)に示すように、走査方向に往復する加工用レーザ光Ｌ1の微小な集光点が被照射面の任意の照射点Ｐにナノ秒域の継続時間で照射されるようにＸＹ軸スキャナ21の走査速度と集光径を設定している。
　これにより、図５(b)に示すようなパルスレーザ照射型の従来装置(例えば、特開2007-315995等)よりも、安価で高出力、更に照射ムラも生じない非熱的加工が可能となる。なお、上記高速レーザ加工は、小型の光学部材を駆動モータによって高速回転又は移動させてレーザ光Ｌ1を走査するＸＹ軸スキャナ21及びＺ軸スキャナ22によって実現している。
　また本実施例では、上記ＣＷレーザの出力及びスキャナ装置２のＺ軸スキャナ22を、エネルギー密度が従来よりも３桁大きくなるように設定しているため(具体的には1GW/cm2以上に設定している)、ステンレス鋼なども含めた殆どの材料を除染対象として選択することができる。
　一方、本実施例では、上記レーザー装置に、加工用レーザ光Ｌ1が照射されている汚染物Ｔの表面に、吹出口41からレーザ光Ｌ1の走査方向と概略逆方向となる角度方向に不活性ガスを吹き付けるガス噴出装置４を付設しているため、このガス噴出装置４を用いて照射部分を常に不活性ガスで覆いながら、破砕・蒸散・昇華した粒子を吹き飛ばすこともできる。
　また、上記ガス噴出装置４によって吹き飛ばされた除去物については、除去物回収装置５を付設して、吸込口51から吸引した除去物を、分離捕集器52(水封金網）を経由させてフィルター付きの集塵機53で回収している。なお、ＲＩ汚染物の破砕・蒸散・昇華粒子については、途中の水封金網で全量捕集されるため、僅かな二次汚染も防止できる。
　また、上記スキャナ装置２を、自走手段を備えた遠隔操作ロボットＲのアーム部Ａに取り付けて、別室で遠隔操作ロボットＲを操作すれば、作業者が被ばくすることなく除染作業を行うことができる。なお、ファイバレーザの光ファイバの長さを調節すれば、レーザ発振器１を離れた別室に置くことも遠隔操作ロボットＲに積載することもできる。
　しかも、上記アーム部Ａを三次元的に操作することで、汚染物Ｔの表面上の任意の位置でスキャナ装置２を駆動させることができるため、面積の大きい壁面等を除染する際に、遠隔操作ロボットＲの位置を固定してアーム部Ａを操作すれば効率良く除染作業を進めることができる。
　また本発明は、概ね上記のように構成されるが、記載した実施例に限定されるものではなく、「特許請求の範囲」の記載内において種々の変更が可能であって、例えば、レーザ発振器１には、ファイバレーザだけでなく、技術的に困難であるが、10m/sの高速走査が可能で、直径10μｍ以下の微小面積に集光してエネルギー密度を1GW/cm2以上に持っていける(言い換えれば、シングルモードファイバレーザ並みのビームパラメータ0.3mmmradと同等の性能を持つ)高出力の半導体レーザや固体レーザ、ガスレーザ等を採用することもできる。
　また、スキャナ装置２に関しても、ＸＹ軸スキャナ21の光偏向器21aをガルバノミラーから更に高速の電気光学素子やレゾナントミラー等に変更することができる。また、Ｚ軸スキャナ22の可動レンズ22a、レンズ(液体又は結晶の素子等を用いたもの)を電気的に制御して焦点距離を高速に調整する可変焦点レンズ等に変更することもできる。
　そしてまた、表面形状測定装置３に関しても、必ずしもレーザ距離計31を用いる必要はなく、レーザ距離計31以外の光学的手段（例えば、全光路にわたってミリ以下の直径の微小光路を使用することが可能な位相差以外の３角測量や画像を用いる方法で測定する手段など）によって対象物の表面形状を測定する装置を採用することができる。
　他方また、除去物回収装置５に関しても、ＲＩ汚染粒子の捕集に水封金網以外の分離捕集器52を使用することができる。またレーザー除染装置そのものは、ポータブルな小型の形態であっても、設置式の大型の形態であってもよく、何れのものも本発明の技術的範囲に属する。
　原発事故によって、事故からの回復、廃止措置を予定している原子炉は多く、今後更に増えることが予想されることから、従来の除染方法で生じていた様々な課題（例えば、作業者の被ばくやＲＩ汚染物による再汚染、二次廃棄物の発生、高額な除染コスト、作業効率等）の早急な解決が望まれている。
　そのような中で、本発明のレーザー除染装置は、従来装置と比較して炭素鋼、ステンレス鋼、チタン、アルミ、ジルコニウム、タイル、コンクリート、鉛、ガラス、合成樹脂、塗装膜等、殆どの材質の汚染物からＲＩを取り除く基本的な除染機能に優れるだけでなく、従来の除染装置よりも無反発力、低コスト化、小型化、軽量化、自動化および低被曝等が可能な実用面において有用な技術であるため、その産業上の利用価値は非常に高い。
　１　レーザ発振器
　　11　光ファイバ
　２　スキャナ装置
　　21　ＸＹ軸スキャナ
　　　21a　光偏向器
　　22　Ｚ軸スキャナ
　　　22a　可動レンズ
　　　22b　固定レンズ
　　23　レーザ窓
　　24　焦点位置制御部
　３　表面形状測定装置
　　31　レーザ距離計
　　32　ミラー
　　33　ダイクロイックミラー
　　34　データ送信手段
　４　ガス噴出装置
　　41　吹出口
　５　除去物回収装置
　　51　吸込口
　　52　分離捕集器(金網式)
　　53　集塵機(フィルター付)
　Ｔ　汚染物
　Ｌ1　加工用レーザ光
　Ｌ2　測定用レーザ光
　Ｒ　遠隔操作ロボット
　Ａ　アーム部
　Ｐ　照射点

Claims (8)

  1. 　加工用レーザ光(Ｌ1)の光源に用いるＣＷレーザ発振器(１)と；レーザ光(Ｌ1)を光偏向器(21a)で二次元的に偏向走査するＸＹ軸スキャナ(21)、及びレーザ光(Ｌ1)の焦点距離を可変焦点レンズや可動レンズ(22a)によって調整するＺ軸スキャナ(22)を備え、かつ、このＺ軸スキャナ(22)を前記ＸＹ軸スキャナ(21)よりも光源側に配置すると共に、前記ＸＹ軸スキャナ(21)及びＺ軸スキャナ(22)によって走査したレーザ光(Ｌ1)を複合レンズを介さずに汚染物(Ｔ)の表面上に集光するスキャナ装置(２)と；前記汚染物(Ｔ)の表面形状を、レーザ距離計(31)とＸＹ軸スキャナ(21)を用いた光学的手段によって測定する表面形状測定装置(３)とを含んで成り、
    更に前記スキャナ装置(２)のＺ軸スキャナ(22)には、表面形状測定装置(３)で得られた形状データに基づいて、レーザ光(Ｌ1)の焦点が汚染物(Ｔ)の表面にくるように照射位置に応じて焦点位置を自動的に調整する焦点位置制御部(24)を備えて構成したことにより、
    汚染物(Ｔ)の表面に焦点位置を合わせながらレーザ光(Ｌ1)を三次元的に走査・照射可能としたことを特徴とするレーザー除染装置。
  2. 　レーザ発振器(１)に、平均出力が大きく、かつ直径10μｍ以下の微小点集光が可能なシングルモードファイバレーザを使用すると共に、汚染物(Ｔ)の表面にレーザ光(Ｌ1)が1GW/cm2以上(停止状態で)のエネルギー密度で照射されるようにレーザ発振器(１)の出力調整及び光学系を設計して、エネルギー密度の１から２乗に比例して溶融なしに汚染物(Ｔ)の破砕・蒸散・昇華量を増加可能としたことを特徴とする請求項１記載のレーザ除染装置。
  3. 　スキャナ装置(２)のＸＹ軸スキャナ(21)の走査速度が10m/s以上の高速に設定されると共に、往復走査される加工用レーザ光(Ｌ1)が被照射面の任意の微小な照射点にナノ秒域の継続時間で照射されるようにＸＹ軸スキャナ(21)の走査速度と集光径が設定されていることを特徴とする請求項１または２に記載のレーザー除染装置。
  4. 　スキャナ装置(２)の焦点位置制御部(24)が、レーザ光(Ｌ1)の焦点深度(レイリー長)の範囲内、またはその近傍に汚染物(Ｔ)の照射面が調整されるように設定されていることを特徴とする請求項１～３の何れか一つに記載のレーザー除染装置
  5. 　表面形状測定装置(３)に、目標物に測定用レーザ光(Ｌ2)を照射して照射光とその散乱光との干渉による位相差或いは時間差から距離を計算するレーザ距離計(31)を使用すると共に、測定用レーザ光(Ｌ2)の走査を加工用レーザ(Ｌ1)の走査と同じＸＹ軸スキャナ(21)で同時に、又は独立して個別に行えるようにＸＹ軸スキャナ(21)の直前にレーザ距離計(31)を設置したことを特徴とする請求項１～４の何れか一つに記載のレーザー除染装置。
  6. 　レーザ発振器(１)をスキャナ装置(２)から離れた場所に設置すると共に、このレーザ発振器(１)に小口径の光ファイバを有するファイバレーザを使用し、更に光ファイバの出射端部とレーザ窓(23)の間には、Ｚ軸スキャナ(22)、ダイクロイックミラー(33)およびＸＹ軸スキャナ(21)を順に配置して構成したことを特徴とする請求項１～５の何れか一つに記載のレーザー除染装置。
  7. 　加工用レーザ光(Ｌ1)が照射されている汚染物(Ｔ)の表面に、レーザ光(Ｌ1)の走査方向と概略逆方向となる角度方向に不活性ガスを吹き付けて照射部分を常に不活性ガスで覆いながら、粒子を吹き飛ばすガス噴出装置(４)と、このガス噴出装置(４)によって吹き飛ばされた放射性物質を含む除去物を吸引して捕集する除去物回収装置(５)とを備えたことを特徴とする請求項１～６の何れか一つに記載のレーザー除染装置。
  8. 　レーザ発振器(１)を遠隔操作ロボット(Ｒ)に積載すると共に、スキャナ装置(２)を、自走手段を備えた遠隔操作ロボット(Ｒ)のアーム部(Ａ)に取り付けて、汚染物(Ｔ)の表面に対しスキャナ装置(２)を広範囲に駆動可能としたことを特徴とする請求項１～７の何れか一つに記載のレーザー除染装置。
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