JP5665919B2 - 基板処理装置及び方法 - Google Patents
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Description
200・・・支持ユニット
300・・・リフトユニット
320・・・リフトアセンブリー
340・・・支持アセンブリー
400・・・ガス供給ユニット
420・・・蝕刻ガス供給部材
440・・・アッシングガス供給部材
460・・・洗浄ガス供給部材
500・・・第1プラズマ発生ユニット
520・・・バッフル(上部電極)
540・・・下部電極
600・・・第2プラズマ発生ユニット
640・・・アンテナ
Claims (28)
- 工程チャンバーと、
前記工程チャンバー内で基板を支持する支持板と、
前記工程チャンバーへガスを供給するガス供給ユニットと、
前記工程チャンバー内でプラズマを発生させるように提供される第1プラズマ発生ユニットと、
前記工程チャンバー外部でプラズマを発生させるように提供される第2プラズマ発生ユニットと、を含み、
前記ガス供給ユニットはアッシング処理ガスを供給するアッシングガス供給部材、蝕刻処理ガスを供給する蝕刻ガス供給部材、及び洗浄処理ガスを供給する洗浄ガス供給部材の中で少なくとも2つを含み、
前記第1プラズマ発生ユニットは、
前記支持板に提供される下部電極と、
前記下部電極と対向されるように前記工程チャンバー内に提供される上部電極と、
前記下部電極へ電力を印加する電源と、を含み、
前記上部電極は上下方向に貫通された複数の噴射ホールが形成され、かつ、導電性材質からなる、接地されたバッフルを含み、
前記基板と前記バッフルとの間の距離は、縁部洗浄工程遂行の時に、プラズマシース領域より小さい距離とされるように構成される、基板処理装置。 - 前記バッフルの大きさは前記基板より小さく、
前記基板処理装置は前記バッフルと前記支持板との相対距離調節が可能するように前記支持板を上下に駆動する支持板駆動器をさらに含む請求項1に記載の基板処理装置。 - 前記基板処理装置は基板を前記支持板から持ち上げるか、或いは前記支持板に下ろすように提供されるリフトユニットをさらに含む請求項2に記載の基板処理装置。
- 前記リフトユニットは支持アセンブリーを含み、
前記支持アセンブリーは、
前記支持板の外側に提供され、前記支持板上に置かれる基板を上下に移動させる支持ピンと、
前記支持ピンを駆動する支持ピン駆動器と、を有し、
前記支持ピンは前記基板の縁部領域に接触できるように提供される請求項3に記載の基板処理装置。 - 前記第1プラズマ発生ユニットは、
前記バッフルを有する上部電極と、
前記支持板内に提供される下部電極と、
前記上部電極又は前記下部電極へ電力を印加する第1電源と、を有し、
前記第2プラズマ発生ユニットは、
本体と、
前記本体の外側周辺を囲むように提供されるアンテナと、
前記アンテナへ電力を印加する第2電源と、を有し、
前記アッシングガス供給部材と前記蝕刻ガス供給部材は前記本体のガスポートを通じてアッシング処理ガスと蝕刻処理ガスを供給するように提供される請求項1に記載の基板処理装置。 - 工程チャンバーと、
前記工程チャンバー内で基板を支持する支持板と、
前記工程チャンバーへガスを供給するガス供給ユニットと、
前記工程チャンバー内でプラズマを発生させるように提供される第1プラズマ発生ユニットと、
前記工程チャンバー外部でプラズマを発生させるように提供される第2プラズマ発生ユニットと、
基板を前記支持板から持ち上げるか、或いは前記支持板に下ろすように提供されるリフトユニットと、を含み、
前記工程チャンバー内には上下方向に噴射ホールが形成され、接地されたバッフルが提供され、
前記基板と前記バッフルとの間の距離は、縁部洗浄工程遂行の時に、プラズマシース領域より小さい距離とされるように構成される、基板処理装置。 - 前記第1プラズマ発生ユニットは、
前記工程チャンバー内に提供される上部電極と、
前記上部電極と対向されるように前記支持板に提供される下部電極と、
前記下部電極へ電力を印加する第1電源と、を含み、
前記上部電極は上下方向に貫通された複数の噴射ホールが形成されたバッフルを含む請求項6に記載の基板処理装置。 - 前記第2プラズマ発生ユニットは、
本体と、
前記本体の外側周辺を囲むように提供されるアンテナと、
前記アンテナへ電力を印加する第2電源と、を有する請求項7に記載の基板処理装置。 - 前記ガス供給ユニットはアッシング処理ガスを供給するアッシングガス供給部材、蝕刻処理ガスを供給する蝕刻ガス供給部材、及び洗浄処理ガスを供給する洗浄ガス供給部材の中で少なくとも2つを含む請求項8に記載の基板処理装置。
- 前記本体はガスポート、放電室、及び誘導管を含み、
前記ガスポート、前記放電室、及び前記誘導管は順次的に提供され、
前記誘導管は前記工程チャンバーに結合され、
前記アンテナは前記放電室の外側を囲むように提供され、
前記アッシング処理ガス、前記洗浄処理ガス、及び前記蝕刻処理ガスは前記ガスポートを通じて供給される請求項9に記載の基板処理装置。 - 前記バッフルは導電性材質で提供され、
前記バッフルは接地される請求項6に記載の基板処理装置。 - 前記バッフルは前記基板の中央領域と対応される大きさを有する請求項11に記載の基板処理装置。
- 前記支持板は前記基板の中央領域と対応される大きさを有する請求項6に記載の基板処理装置。
- 前記基板処理装置は前記支持板を上下に移動させる支持板駆動器をさらに含む請求項6乃至請求項13のいずれかに記載の基板処理装置。
- 前記リフトユニットは支持アセンブリーを含み、
前記支持アセンブリーは、
前記支持板に外側に提供され、前記支持板上に置かれる基板を上下に移動させる支持ピンと、
前記支持ピンを駆動する支持ピン駆動器と、を有し、
前記支持ピンは前記基板の縁部領域に接触できるように提供される請求項6乃至請求項13のいずれかに記載の基板処理装置。 - 前記リフトユニットはリフトアセンブリーをさらに含み、
前記リフトアセンブリーは、
前記支持板内に提供されたピンホールに挿入されるリフトピンと、
前記リフトピンを駆動するリフトピン駆動器と、を有し、
前記リフトピンは基板の中央領域に接触可能するように提供される請求項15に記載の基板処理装置。 - 基板を処理する方法において、
蝕刻工程、アッシング工程、及び洗浄工程の中で少なくとも2つの工程を同一の工程チャンバー内に基板が提供された状態で順次的に遂行し、
前記蝕刻工程は前記工程チャンバー内で第1プラズマ発生ユニットを利用して蝕刻処理ガスからプラズマを発生させて遂行し、
前記アッシング工程は前記工程チャンバー外部で第2プラズマ発生ユニットを利用してアッシング処理ガスからプラズマを発生させた後、これを前記工程チャンバー内へ供給して遂行し、
前記洗浄工程は前記工程チャンバー内で前記第1プラズマ発生ユニットを利用して洗浄処理ガスからプラズマを発生させて遂行し、
前記工程チャンバー内には上下方向に噴射ホールが形成され、接地されたバッフルが提供され、
前記洗浄工程は基板の縁領域を洗浄する縁部洗浄工程をさらに含み、
前記縁部洗浄工程遂行の時の、前記基板と前記バッフルとの間の距離はプラズマシース領域より小さい距離とされる基板処理方法。 - 前記蝕刻工程は前記工程チャンバー外部で前記第2プラズマ発生ユニットを利用して1次的にプラズマを発生させることをさらに含む請求項17に記載の基板処理方法。
- 前記アッシング工程は前記工程チャンバー内で前記第1プラズマ発生ユニットを利用して2次的にプラズマを発生させることをさらに含む請求項17に記載の基板処理方法。
- 前記蝕刻処理ガス又は前記アッシング処理ガスは前記バッフルの噴射ホールを通じて前記基板へ供給される請求項18又は請求項19に記載の基板処理方法。
- 前記第1プラズマ発生ユニットは前記工程チャンバー内に提供される上部電極と前記工程チャンバー内に前記上部電極と対向されるように提供される下部電極を含み、前記上部電極は上下方向に貫通された噴射ホールが形成され、接地されたバッフルを含み、前記下部電極は前記基板を支持する支持板内に提供され、
前記バッフルは前記基板の中央領域と対応される大きさを有し、前記基板の中央領域と対向されるように配置される、請求項17に記載の基板処理方法。 - 前記第1プラズマ発生ユニットは前記工程チャンバー内に提供される上部電極と前記工程チャンバー内に前記上部電極と対向されるように提供される下部電極を含み、前記上部電極は上下方向に貫通された噴射ホールが形成され、接地されたバッフルを含み、前記下部電極は前記基板を支持する支持板内に提供され、
前記洗浄工程は基板の後面を洗浄する後面洗浄工程をさらに含み、
前記後面洗浄工程遂行の時、前記基板はプラズマシース領域より大きい距離に前記支持板から離隔される請求項21に記載の基板処理方法。 - 前記後面洗浄工程遂行の時、前記基板は前記支持板の外側周囲に提供されるピンによってその縁部領域が支持される請求項22に記載の基板処理方法。
- 基板を処理する方法において、
基板を工程チャンバー内に搬入し、
前記工程チャンバー内で蝕刻処理ガスからプラズマを発生させて前記基板に対して蝕刻工程を遂行し、
前記工程チャンバー外部でアッシング処理ガスからプラズマを発生させ、これを前記工程チャンバー内へ供給して前記基板に対してアッシング工程を遂行し、
前記工程チャンバー内で洗浄処理ガスからプラズマを発生させて前記基板に対して洗浄工程を遂行し、
前記基板を前記工程チャンバー外部へ搬出し、
前記工程チャンバー内には上下方向に噴射ホールが形成され、接地されたバッフルが提供され、
前記洗浄工程は基板の縁領域を洗浄する縁部洗浄工程をさらに含み、
前記縁部洗浄工程遂行の時の、前記基板と前記バッフルとの間の距離はプラズマシース領域より小さい距離とされる基板処理方法。 - 前記洗浄工程は基板の縁部領域を洗浄する縁部洗浄工程を含み、
前記工程チャンバー内には上下方向に噴射ホールが形成され、接地されたバッフルが提供され、前記バッフルは前記基板の中央領域と対応される大きさを有し、
前記縁部洗浄工程遂行の時の前記基板と前記バッフルの距離は前記蝕刻工程及び前記アッシング工程遂行の時の前記基板と前記バッフルの距離より近くされる請求項24に記載の基板処理方法。 - 前記縁部洗浄工程遂行の時、前記基板と前記バッフルの距離はプラズマシース領域より短くされ、前記蝕刻工程と前記アッシング工程遂行の時、前記基板と前記バッフルの距離はプラズマシース領域より長くされる請求項25に記載の基板処理方法。
- 前記洗浄工程は基板の後面領域を洗浄する後面領域を洗浄する後面洗浄工程をさらに含み、
前記蝕刻工程と前記アッシング工程との遂行の時、前記基板は支持板上に置かれた状態で工程が行われ、
前記後面洗浄工程遂行の時、前記基板は前記支持板から離隔された状態で工程が行われる請求項24に記載の基板処理方法。 - 前記後面洗浄工程遂行の時、前記基板は前記支持板の外側周囲に提供されたピンによって、その縁部領域が支持された状態にされる請求項27に記載の基板処理方法。
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