JP5659344B2

JP5659344B2 - 消泡剤

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Publication number: JP5659344B2
Application number: JP2011535382A
Authority: JP
Inventors: 陽平松村; 佳秀泉; 伸夫久田
Original assignee: San Nopco Ltd
Current assignee: San Nopco Ltd
Priority date: 2009-10-09
Filing date: 2010-10-04
Publication date: 2015-01-28
Anticipated expiration: 2030-10-04
Also published as: WO2011043299A3; KR20120095351A; KR101703374B1; JPWO2011043299A1; EP2486967A2; EP2486967A4; CN102548631A; CN102548631B; WO2011043299A2

Description

本発明は消泡剤に関する。

塗料（水性塗料等）用消泡剤及び各種製造工程（抄紙工程、発酵工程、排水処理工程、モノマーストリッピング工程及びポリマー重合工程等）用消泡剤として、アルコールのアルキレンオキシド付加物にビスアミドを分散させた消泡剤が知られている（特許文献１）。

特開平１−９９６１９号公報

従来の消泡剤組成物では、十分な消泡性（初期消泡性、持続消泡性）が得られないという問題がある。
本発明の目的は、上記のような問題を解決し、消泡性（初期消泡性及び消泡持続性）に優れる消泡剤を提供することである。

本発明者は、前記目的を達成すべく鋭意検討を重ねた結果、ビスアミドをポリエーテル中に分散させた消泡剤において、分散質の粒子径を好適な範囲に制御することにより優れた消泡性を発揮することを見出し、本発明に達した。
一方、従来の消泡剤組成物（特許文献１に記載のもの等）では、ビスアミドの粒子が粗大であり、消泡性が不足する（消泡性が全く不十分なものである）。
すなわち、本発明の製造方法の特徴は、ビスアミド（Ａ）をポリエーテル化合物（Ｂ）中に分散して含有し、
ビスアミド（Ａ）及びポリエーテル化合物（Ｂ）の重量に基づいて、ビスアミド（Ａ）の含有量が０．０１〜１０重量％、ポリエーテル化合物（Ｂ）の含有量が９０〜９９．９９重量％であり、
ビスアミド（Ａ）の体積基準の粒子径分布における最頻値が０．１〜５μｍである消泡剤を製造する方法であって、
ビスアミド（Ａ）とポリエーテル化合物（Ｂ）の一部とを加熱攪拌しながら、ビスアミド（Ａ）を溶解させて溶解液を得る工程（１）、
ポリエーテル化合物（Ｂ）の残部を冷却攪拌しながら、この残部に得られた溶解液を投入してビスアミド（Ａ）の微細分散体を得る工程（２）、並びに
得られた微細分散体を均質化処理して消泡剤を得る工程（３）を含む方法；又は
ビスアミド（Ａ）、ポリエーテル化合物（Ｂ）の一部及び、スルホネート（−ＳＯ _３Ｍ、Ｍは金属原子）基含有有機化合物及びアミノ基又はアンモニオ基含有有機化合物から選ばれる結晶形状制御剤（Ｇ）を加熱攪拌しながら、ビスアミド（Ａ）を溶解させて溶解液を得る工程（４）、
ポリエーテル化合物（Ｂ）の残部を冷却攪拌しながら、この残部に得られた溶解液を投入してビスアミド（Ａ）の微細分散体を得る工程（５）、並びに
得られた微細分散体を均質化処理して消泡剤を得る工程（６）を含む方法；又は
ビスアミド（Ａ）、ポリエーテル化合物（Ｂ）及び、スルホネート（−ＳＯ _３Ｍ、Ｍは金属原子）基含有有機化合物及びアミノ基又はアンモニオ基含有有機化合物から選ばれる結晶形状制御剤（Ｇ）を加熱攪拌しながら、ビスアミド（Ａ）を溶解させて溶解液を得る工程（７）、溶解液を冷却攪拌して、ビスアミド（Ａ）を析出させて微細分散体を得る工程（８）、並びに
得られた微細分散体を均質化処理して消泡剤を得る工程（９）を含む方法
である点を要旨とする。
体積基準の粒子径分布における最頻値（μｍ）：粒子径分布は、測定試料を適当な分散媒に分散させ、ＪＩＳＺ８８２５−１−２００１「粒子径解析−レーザー回折法−第1部：測定原理」に記載された測定原理を有するレーザー回折式粒度分布測定装置により測定され、この粒子径分布において、最大の頻度となる粒子径を最頻値とする。

本発明のエマルション塗料の特徴は、樹脂エマルション、顔料、水性媒体及び上記の消泡剤を含有する点を要旨とする。

本発明の排水処理方法の特徴は、上記の消泡剤を排水に添加して排水を処理する工程を含む点を要旨とする。

本発明の消泡剤は、著しく優れた消泡性（初期消泡性及び消泡持続性）を発揮する。また、本発明の製造方法を用いると、消泡性（初期消泡性及び消泡持続性）に優れた消泡剤を容易に得ることができる。また、本発明のエマルション塗料は、上記の消泡剤を含むので、優れた消泡性（初期消泡性及び消泡持続性）を発揮する。また、本発明の排水処理方法は、上記の消泡剤を添加するので、処理効率に優れ、効率よく排水を処理できる。

ビスアミド（Ａ）としては、アミド結合を２つ持つ公知のビスアミドが使用でき、消泡性の観点から、一般式（１）で表されるビスアミドが好ましい。
なお、ビスアミド（Ａ）には、ビスアミドのアルキレンオキシド付加体は含まれない｛このような付加体は、ポリエーテル化合物（Ｂ）に該当する。｝。

Ｒ^１ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_ｔ−ＮＨＣＯＲ^１（１）

Ｒ^１は炭素数１０〜２２のアルキル基、アルケニル基、ヒドロキシアルキル基又はヒドロキシアルケニル基、ｔは１〜６の整数である。

Ｒ^１のうち、アルキル基としては、デシル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタデシル及びドコシル等が挙げられる。また、アルケニル基としては、デセニル、ドデセニル、テトラデセニル、ヘキサデセニル、オクタデセニル及びドコセニル等が挙げられる。また、ヒドロキシアルケニル基としては、ヒドロキシデシル、ヒドロキシドデシル、ヒドロキシテトラデシル、ヒドロキシヘキサデシル、ヒドロキシオクタデシル及びヒドロキシドコシル等が挙げられる。また、ヒドロキシアルケニル基としては、ヒドロキシデセニル、ヒドロキシドデセニル、ヒドロキシテトラデセニル、ヒドロキシヘキサデセニル、ヒドロキシオクタデセニル及びヒドロキシドコセニル等が挙げられる。

一般式（１）で表されるビスアミドとしては、炭素数１〜６のアルキレンジアミンと炭素数１０〜２２の脂肪酸との反応物が含まれ、エチレンビスステアリルアミド、エチレンビスパルミチルアミド、エチレンビスミリスチルアミド、エチレンビスラウリルアミド、エチレンビスオレイルアミド、メチレンビスステアリルアミド、ヘキサメチレンビスステアリルアミド、エチレン−ビス−１２−ヒドロキシステアリルアミド、ヘキサメチレンビス（１２−ヒドロキシステアリル）アミド、エチレンビスベヘニルアミド及びエチレンビスエルシルアミド等が挙げられる。

これらのうち、消泡性等の観点から、エチレンビスステアリルアミド、メチレンビスステアリルアミド、エチレンビスパルミチルアミド、エチレンビスミリスチルアミド、ヘキサメチレンビスステアリルアミド、エチレンビスオレイルアミド及びエチレンビス−１２−ヒドロキシステアリルアミドが好ましく、特に好ましくはエチレンビスステアリルアミドである。

ビスアミド（Ａ）の含有量（重量％）は、ビスアミド（Ａ）及びポリエーテル化合物（Ｂ）の重量に基づいて、０．０１〜１０が好ましく、さらに好ましくは０．１〜９、特に好ましくは０．５〜８、最も好ましくは１〜７．５である。

なお、ビスアミド（Ａ）には副成分を含有していてもよい。副成分としては、ビスアミド以外の成分であって、未反応ジアミン、モノアミド及び未反応カルボン酸が含まれる。副成分の含有量（重量％）は、ビスアミド（Ａ）の重量に基づいて、６０未満が好ましく、さらに好ましくは５０未満、特に好ましくは４０未満である。

ポリエーテル化合物（Ｂ）としては、炭素数２〜１８のオキシアルキレン基を単位とする重合体が含まれ、一般式（２）で表されるポリエーテル化合物（Ｂ１）、一般式（３）で表されるポリエーテル化合物（Ｂ２）、一般式（４）で表されるポリエーテル化合物（Ｂ３）、一般式（５）で表されるポリエーテル化合物（Ｂ４）及び一般式（６）で表されるポリエーテル化合物（Ｂ５）からなる群より選ばれる少なくとも１種が好ましく例示できる。

Ｒ^２は炭素数１〜２５の活性水素化合物の反応残基、Ｒ^３及びＲ^４は炭素数１〜２４の１価の有機基、Ｒ^５は炭素数１〜２４の２価の有機基、Ｒ^６は水酸基又は炭素数１〜２４の１価の有機基、ＡＯ及びＯＡは炭素数２〜１８のオキシアルキレン基、グリシドールの反応残基、炭素数４〜１８のアルキルグリシジルエーテルの反応残基又は炭素数５〜１８のアルケニルグリシジルエーテルの反応残基を表し、（ＡＯ）ｎのうち、オキシエチレン基の占める割合は０〜３０重量％であり、ｎは１〜１００の整数で一分子中に複数のｎが存在する場合、それぞれ同じでも異なっていてもよく、ｓは１〜１０の整数、ｐは０〜１０の整数、ｑは０〜９の整数、ｒは０〜９の整数、ｍは０〜９の整数、ｐ＋ｒは１〜１０の整数、ｐ＋ｑ＋ｒは１〜１０の整数、ｐ＋ｑ＋ｒ＋ｍは２〜１０である。

炭素数１〜２５の活性水素化合物の反応残基（Ｒ^２）を構成する活性水素含有化合物としては、水酸基（−ＯＨ）、イミノ基（−ＮＨ−）及び／又はアミノ基（−ＮＨ_２）を少なくとも１個含む化合物が含まれ、アルコール、アミド及びアミンが含まれる。

アルコールとしては、モノオール（メタノール、ブタノール、ステアリルアルコール、オレイルアルコール及びイソステアリルアルコール等）及びポリオール（エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、ジグリセリン、テトラグリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、ジヒドロキシアセトン、フルクトース、グルコース、マンノース、ガラクトース、スクロース、ラクトース及びトレハロース等）等が挙げられる。

アミドとしては、モノアミド（ギ酸アミド、プロピオン酸アミド及びステアリルアミド等）及びポリアミド（マロン酸ジアミド及びエチレンビスオクチルアミド等）等が挙げられる。

アミンとしては、モノアミン（ジメチルアミン、エチルアミン、アニリン及びステアリルアミン等）及びポリアミン（エチレンジアミン、ジエチレントリアミン及びトリエチレンテトラミン等）等が挙げられる。

炭素数１〜２４の１価の有機基（Ｒ^３、Ｒ^４）としては、アルキル基（Ｒ）、アルケニル基（Ｒ’）、炭素数８〜２４のアシル基（−ＣＯＲ）、炭素数８〜２４のアロイル基（−ＣＯＲ’）、Ｎ−アルキルカルバモイル基（−ＣＯＮＨＲ）、Ｎ−アルケニルカルバモイル基（−ＣＯＮＨＲ’）、アルキルカルボニルアミノ基（−ＮＨＣＯＲ）、アルケニルカルボニルアミノ基（−ＮＨＣＯＲ’）、アルキルカルボキシアミノ基（アルキルカーバメート基、−ＮＨＣＯＯＲ）及びアルケニルカルボキシアミノ基（アルケニルカーバメート基、−ＮＨＣＯＯＲ’）が含まれる。

アルキル基（Ｒ）としては、メチル、エチル、イソプロピル、ｔ−ブチル、オクチル、２−エチルヘキシル、ドデシル及びオクタデシル等が挙げられる。

アルケニル基（Ｒ’）としては、ビニル、プロペニル、ヘキセニル、イソオクテニル、ドデセニル及びオクタデセニル等が挙げられる。

水酸基又は炭素数１〜２４の１価の有機基（Ｒ^６）のうち、炭素数１〜２４の１価の有機基は、上記と同様の有機基が含まれる。

炭素数１〜２４の２価の有機基（Ｒ^５）としては、アルキレン基（Ｔ）、アルケニレン基（Ｔ’）、１−オキサアルキレン基（−ＯＴ−）、１−オキサアルケニレン基（−ＯＴ’−）、１−オキソアルキレン基（−ＣＯＴ−）、１−オキソアルケニレン基（−ＣＯＴ’−）、１−アザ−２−オキソアルキレン基（−ＮＨＣＯＴ−）、１−アザ−２−オキソアルケニレン基（−ＮＨＣＯＴ’−）、１−オキソ−２−アザアルキレン基（−ＣＯＮＨＴ−）、１−オキソ−２−アザアルケニレン基（−ＣＯＮＨＴ’−）、１−アザ−２−オキソ−３−オキサアルキレン基（−ＮＨＣＯＯＴ−）及び１−アザ−２−オキソ−３−オキサアルケニレン基（−ＮＨＣＯＯＴ’−）が含まれる。

アルキレン基（Ｔ）としては、メチレン、エチレン、イソブチレン、１，１０−デシレン、１，２−デシレン、１，１２−ドデシレン、１，２−ドデシレン及び１，２−オクタデシレン等が挙げられる。

アルケニレン基（Ｔ’）としては、エチニレン、イソブチニレン、１，１０−デシニレン、１−オクチルエチニレン、１−オクテニルエチレン、１，１２−ドデシニレン及び１−オクタデセニルエチレン等が挙げられる。

炭素数２〜１８のオキシアルキレン基、グリシドールの反応残基、炭素数４〜１８のアルキルグリシジルエーテルの反応残基又は炭素数５〜１８のアルケニルグリシジルエーテルの反応残基（ＡＯ、ＯＡ）のうち、炭素数２〜１８のオキシアルキレン基としては、オキシエチレン、オキシプロピレン、オキシブチレン、オキシイソブチレン、オキシ−１，２−デシレン、オキシ−１，１２−ドデシレン、オキシ−１，２−ドデシレン及びオキシ−１，２−オクタデシレンが挙げられる。

また、（ＡＯ、ＯＡ）のうち、炭素数４〜１８のアルキルグリシジルエーテルとしては、メチルグリシジルエーテル、エチルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、２−エチルヘキシルグリシジルエーテル、ドデシルグリシジルエーテル及びオクタデシルグリシジルエーテル等が挙げられる。

また、（ＡＯ、ＯＡ）のうち、炭素数５〜１８のアルケニルグリシジルエーテルとしては、ビニルグリシジルエーテル、ブテニルグリシジルエーテル、２−エチルヘキセニルグリシジルエーテル、ドデセニルグリシジルエーテル及びオクタデセニルグリシジルエーテル等が挙げられる。

（ＡＯ）ｎのうち、オキシエチレン基の占める割合は、すべての（ＡＯ）ｎの重量に基づいて、０〜３０重量％であり、好ましくは０〜２５重量％、さらに好ましくは０〜２０重量％である。なお、オキシエチレン基を含む場合、オキシエチレン基の占める割合の下限は、すべての（ＡＯ）ｎの重量に基づいて、３重量％が好ましく、さらに好ましくは５重量％、特に好ましくは８重量％である。

ｎは、１〜１００の整数であり、好ましくは２〜７５の整数、さらに好ましくは３〜５０の整数である。

一般式（２）で表されるポリエーテル化合物（Ｂ１）としては、ポリオキシプロピレンモノブチルエーテル、テトラデシルアルコールのプロピレンオキシドエチレンオキシドブロック付加体、トリメチロールプロパンのプロピレンオキシドエチレンオキシドブロック付加体、ポリオキシプロピレングリコール、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレングリコール（ブロック付加）、グリセリンのプロピレンオキシド付加体、グリセリンのエチレンオキシドプロピレンオキシドブロック付加体、モノドデシルアミンのプロピレンオキシド付加体、ポリオキシプロピレンモノオレート、グリセリンのプロピレンオキシド２−エチルヘキシルグリシジルブロック付加体、蔗糖のプロピレンオキシドブチレンオキシドブロック付加体及びペンタエリスリトールのエチレンオキシドプロピレンオキシドブロック付加体等が挙げられる。

一般式（３）で表されるポリエーテル化合物（Ｂ２）としては、ポリオキシプロピレンモノブチルエーテルモノオレート、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレングリコール（ブロック付加）のジステアレート、グリセリンのプロピレンオキシド付加体のモノステアレート及び蔗糖のプロピレンオキシド付加体のモノＮ−ヘキシルカルバミン酸エステル等が挙げられる。

一般式（４）で表されるポリエーテル化合物（Ｂ３）としては、エチレンビスステアリルアミドのプロピレンオキシド付加体、グリセリンモノステアリルエステルのプロピレンオキシド付加体及び蔗糖モノ（２−エチルヘキシルグリシジル）エーテルのプロピレンオキシド付加体のモノＮ−デシルカルバミン酸エステル等が挙げられる。

一般式（５）で表されるポリエーテル化合物（Ｂ４）としては、ひまし油のプロピレンオキシド付加体のモノオレート及びグリセリンビス（１２−ヒドロキシステアレート）のプロピレンオキシド付加体等が挙げられる。

一般式（６）で表されるポリエーテル化合物（Ｂ５）としては、ポリオキシプロピレンモノラウリルエーテルとポリオキシプロピレングリコールとヘキサメチレンジイソシアネートとの反応体及びポリオキシプロピレンモノステアリルエーテルとポリオキシエチレンポリオキシプロピレングリコール（ブロック付加）とキシレンジイソシアネートとの反応体等が挙げられる。

これらのうち、消泡性等の観点から、一般式（２）で表されるポリエーテル化合物（Ｂ１）及び一般式（３）で表されるポリエーテル化合物（Ｂ２）が好ましい。すなわち、ポリエーテル化合物（Ｂ）が、一般式（２）で表されるポリエーテル化合物（Ｂ１）を含むもの、ポリエーテル化合物（Ｂ）が、一般式（３）で表されるポリエーテル化合物（Ｂ２）を含むもの、及びポリエーテル化合物（Ｂ）が、一般式（２）で表されるポリエーテル化合物（Ｂ１）及び一般式（３）で表されるポリエーテル化合物（Ｂ２）を含むものが好ましい。

ポリエーテル化合物（Ｂ）の含有量（重量％）は、ビスアミド（Ａ）及びポリエーテル化合物（Ｂ）の重量に基づいて、９０〜９９．９９が好ましく、さらに好ましくは９１〜９９．９、特に好ましくは９２〜９９．５、最も好ましくは９２．５〜９９である。

ビスアミド（Ａ）の体積基準の粒子径分布における最頻値（μｍ）は、０．１〜５が好ましく、さらに好ましくは０．１〜３、特に好ましくは０．２〜１である。この範囲であると、さらに消泡性が良好となる。

なお、粒子径分布は、測定試料を適当な分散媒（分散質を溶解及び／又は凝集させず、ポリエーテル（Ｂ）を均一に溶解するもの。たとえば、メタノール、ポリオキシプロピレングリコール、アセトン、グリセリンのプロピレンオキシド付加体又はヘキサン等が挙げられ、分散質及びポリエーテル（Ｂ）にあわせて適当なものを選択する。）に分散させ、ＪＩＳＺ８８２５−１−２００１「粒子径解析−レーザー回折法−第1部：測定原理」に記載された測定原理を有するレーザー回折式粒度分布測定装置（たとえば、株式会社島津製作所製ＳＡＬＤ−１１００、株式会社堀場製作所製ＬＡ−９５０、株式会社堀場製作所製ＬＡ−９５０Ｖ２、日機装株式会社製マイクロトラック粒度分布測定装置ＵＰＡ−ＳＴ１５０等、「マイクロトラック」はリーズ、アンド、ノースラップ、カンパニーの登録商標である。）等により測定される。そして、この粒子径分布において、最大の頻度となる粒子径を最頻値粒子径とする。

最頻値（μｍ）は、ビスアミド（Ａ）とポリエーテル化合物（Ｂ）とを加熱により均一溶解して溶解液を得た後、溶解液を冷却してビスアミド（Ａ）を析出させる際に制御する方法（制御方法１０）と、析出させた後熱処理する方法（制御方法２０）とによって制御できる。

（制御方法１０）としては、ビスアミド（Ａ）を析出させる際の冷却速度によって制御する制御手法（１１）と、ビスアミド（Ａ）を析出させる際に結晶形状制御剤（Ｇ）を共存させる制御手法（１２）とがある。

＜制御手法（１１）＞
溶解液を冷却して、ビスアミド（Ａ）を析出させる際、溶解液の冷却速度が速い程、得られるビスアミド（Ａ）の分散粒子の最頻値（μｍ）は小さくなる傾向があり、逆に冷却速度が遅いほど、ビスアミド（Ａ）の最頻値（μｍ）は大きくなる傾向がある。

＜制御手法（１２）＞
溶解液を冷却して、ビスアミド（Ａ）を析出させる際、溶解液に結晶形状制御剤（Ｇ）を加えておき、結晶形状制御剤（Ｇ）の存在下で冷却して析出させることにより、得られるビスアミド（Ａ）の結晶形状を変化させ、分散粒子の最頻値を小さくできる。一方、結晶形状制御剤（Ｇ）なしで冷却して析出させると、制御手法（１１）を適用しない限り、得られるビスアミド（Ａ）の分散粒子の最頻値を小さくできない。

結晶形状制御剤（Ｇ）としては、スルホネート（−ＳＯ_３Ｍ、Ｍは金属原子）基含有有機化合物及びアミノ基又はアンモニオ基含有有機化合物が含まれる。

スルホネート基含有有機化合物としては、有機スルホン酸金属塩と有機硫酸エステル金属塩が含まれる。
有機スルホン酸としては、炭素数１２〜２４のアルキルアリールスルホン酸、炭素数１８〜３０のアルキルジフェニルエーテルジスルホン酸、炭素数６〜１８のアルキルスルホン酸及び石油スルホン酸が含まれる。

炭素数１２〜２４のアルキルアリールスルホン酸としては、ヘキシルベンゼンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、オクタデシルベンゼンスルホン酸、ドデシルナフタレンスルホン酸及びドデシルビフェニルスルホン酸等が挙げられる。

炭素数１８〜３０のアルキルジフェニルエーテルジスルホン酸としては、ドデシルジフェニルエーテルジスルホン酸｛Ｃ_１２Ｈ_２３−Ｃ_６Ｈ_４（ＳＯ_３Ｈ）−Ｏ−Ｃ_６Ｈ_４−ＳＯ_３Ｈ｝等が挙げられる。

炭素数６〜１８のアルキルスルホン酸としては、ヘキサンスルホン酸、ドデシルデカンスルホン酸及びオクタデカンスルホン酸等が挙げられる。

有機硫酸エステルとしては、炭素数６〜１８の有機硫酸エステルが含まれ、ヘキシル硫酸エステル、ラウリル硫酸エステル及びオクタデシル硫酸エステル等が挙げられる。

金属塩としては、アルカリ金属塩及びアルカリ土類金属塩が含まれる。

有機スルホン酸金属塩及び有機硫酸エステル金属塩は市場から容易に入手でき、たとえば、ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム（商品名として、たとえば、テイカパワーＢＣ２０７０Ｍ；テイカ株式会社）、アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム（商品名として、たとえば、ニューレックスＲ；日油株式会社）、ドデシルジフェニルエーテルジスルホン酸ナトリウム、ラウリル硫酸ナトリウム、石油スルホネートバリウム塩（商品名として、たとえばＢＡ−３０Ｎ；ＭＯＲＥＳＣＯ株式会社）、石油スルホネートカルシウム塩（商品名として、たとえばＣＡ−４５Ｎ；ＭＯＲＥＳＣＯ株式会社）等が挙げられる。

アミノ基又はアンモニオ基含有有機化合物としては、有機第四級アンモニウム塩及び炭素数１２〜２４のアルキルアミンが含まれる。
有機第四級アンモニウム塩としては、炭素数１２〜３２の有機第四級アンモニウムとハロゲンイオン又は炭素数１〜３の有機酸イオンとの塩が含まれ、臭化エチルオクチルジメチルアンモニウム塩、酢酸オクタデシルトリメチルアンモニウム、蟻酸オクタデシルジメチルベンジルアンモニウム、塩化ステアリルジメチルベンジルアンモニウム、塩化ベンザルコニウム等が挙げられる。

炭素数１２〜２４のアルキルアミンとしては、ステアリルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルベヘニルアミン等が挙げられる。

有機第四アンモニウム塩は市場から容易に入手でき、たとえば、塩化ステアリルジメチルベンジルアンモニウム（商品名として、カチオンＳ、三洋化成工業株式会社）等が挙げられる。

これらのうち、スルホネート基含有有機化合物が好ましく、特に好ましくは有機スルホン酸金属塩及び有機硫酸エステル金属塩、最も好ましくは有機スルホン酸金属塩である。

結晶形状制御剤（Ｇ）を含有する場合、その含有量（重量％）は、ビスアミド（Ａ）及びポリエーテル化合物（Ｂ）の重量に基づいて、０．０１〜１０が好ましく、さらに好ましくは０．１〜５、特に好ましくは０．２〜４、最も好ましくは０．３〜３である。

結晶形状制御剤（Ｇ）を用いると、ビスアミドの析出粒子が特定の方向に成長することを抑制して等方的に近い形状（粒状）とすることができる。一方、結晶形状制御剤（Ｇ）を使用しない場合、ビスアミドの析出粒子は細長い紐状に成長し、得られる消泡剤の粘度が著しく高く、取り扱いに適さなくなる場合がある。結晶形状制御剤（Ｇ）の存在下にビスアミド（Ａ）を析出させると、低粘度で、取り扱い性に優れる消泡剤を得ることができる。

析出させた後熱処理する方法（制御方法２０）としては、ビスアミド（Ａ）が析出した微細分散体を５０〜１００℃で熱処理することにより、最頻値（μｍ）を大きくできる。そして、温度が高い程最頻値は大きくなる傾向があり、また、熱処理の時間が長い程、最頻値（μｍ）は大きくなる傾向がある。
一方、ビスアミド（Ａ）が析出した微細分散体を５０℃未満（０〜４０℃が好ましく、さらに好ましくは０〜３５℃、特に好ましくは０〜３０℃、最も好ましくは０〜２５℃）に保つことにより、最頻値（μｍ）が大きくなることを防ぐことができる。

本発明の消泡剤には、さらに、金属石鹸（Ｃ）、合成樹脂（Ｄ）、疎水性シリカ（Ｅ）及びワックス（Ｆ）からなる群より選ばれる少なくとも１種の分散質を含有してもよい。
金属石鹸（Ｃ）、合成樹脂（Ｄ）、疎水性シリカ（Ｅ）及び／又はワックス（Ｆ）を含有する場合、これらは、ポリエーテル化合物（Ｂ）中に分散してもよい。特に、金属石鹸（Ｃ）の一部又は全部はポリエーテル化合物（Ｂ）中に溶解していてもよい。

金属石鹸（Ｃ）、合成樹脂（Ｄ）及び疎水性シリカ（Ｅ）を含有する場合、その含有量（重量％）は、ビスアミド（Ａ）及びポリエーテル化合物（Ｂ）の重量に基づいて、０．０１〜１０が好ましく、さらに好ましくは０．１〜９、特に好ましくは０．２〜８、最も好ましくは０．３〜７．５である。

ワックス（Ｆ）を含有する場合、その含有量（重量％）は、ビスアミド（Ａ）及びポリエーテル化合物（Ｂ）の重量に基づいて、０．０１〜１０が好ましく、さらに好ましくは０．０５〜１０、つぎに好ましくは０．１〜９、特に好ましくは０．２〜８、最も好ましくは０．３〜７．５である。

金属石鹸（Ｃ）としては、炭素数１２〜２２の脂肪酸と、金属（アルカリ土類金属、アルミニウム、マンガン、コバルト、鉛、クロム、銅、鉄及びニッケル等）との塩が含まれ、ステアリン酸アルミニウム、ステアリン酸カルシウム、ラウリン酸亜鉛、ベヘニン酸マグネシウム、ラウリル硫酸マグネシウム及びドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム等が挙げられる。これらのうち、ステアリン酸アルミニウム及びラウリン酸亜鉛が好ましい。

合成樹脂（Ｄ）としては、エチレン性不飽和モノマーの（共）重合体（ポリスチレン、ポリアクリロニトリル、ポリメタクリル酸メチル及びスチレン／アクリロニトリル共重合物等）及び重縮合モノマーの重合体（ポリウレタン、ポリエステル及びポリアミド等）が含まれる。

合成樹脂（Ｄ）の粒子径（μｍ）は、０．１〜１０が好ましく、さらに好ましくは０．１２〜９、特に好ましくは０．１５〜８である。

合成樹脂（Ｄ）は、乳化重合等の手法によって得られた粒子を用いてもよいし、粒子径の大きな粒子を粉砕して、適切な粒子径としてもよい。また、ポリエーテル（Ｂ）中で、モノマーを重合させて合成樹脂（Ｄ）を調製してもよい。

このような合成樹脂は、公知（たとえば、特開平４−１３２７０５号公報、特開２００９−７５０６号公報、特開平７−６２２１２号公報、特公昭６３−５８６１０号公報、特開平０８−５９７７０号公報）の方法等によって得ることができる。

疎水性シリカ（Ｅ）としては、シリカ粉末を疎水化剤で疎水化処理した疎水性シリカが含まれ、市場から入手できる。
市場から入手できる疎水性シリカとしては、商品名として、ＮｉｐｓｉｌＳＳ−１０、ＳＳ−４０、ＳＳ−５０及びＳＳ−１００（東ソー・シリカ株式会社、「Ｎｉｐｓｉｌ」は東ソー・シリカ株式会社の登録商標である。）、ＳＩＰＥＲＮＡＴＤ−１０（エボニック・デグサ・ジャパン株式会社、「ＳＩＰＥＲＮＡＴ」はエボニックデグサゲーエムベーハーの登録商標である。）、ＡＥＲＯＳＩＬＲ９７２、ＲＸ２００及びＲＹ２００（日本アエロジル株式会社、「ＡＥＲＯＳＩＬ」はエボニックデグサゲーエムベーハーの登録商標である。）、ＴＳ−５３０、ＴＳ−６１０、ＴＳ−７２０（キャボットカーボン社）、ＡＥＲＯＳＩＬＲ２０２，Ｒ８０５及びＲ８１２（デグサジャパン株式会社）、ＲＥＯＬＯＳＩＬＭＴ−１０、ＤＭ−１０及びＤＭ−２０Ｓ（株式会社トクヤマ、「ＲＥＯＬＯＳＩＬ」は同社の登録商標である。）、並びにＳＹＬＯＰＨＯＢＩＣ１００、７０２、５０５及び６０３（富士シリシア化学株式会社、「ＳＹＬＯＰＨＯＢＩＣ」は同社の登録商標である。）等が挙げられる。

ワックス（Ｆ）としては、少なくとも５０℃（好ましくは７０〜１６０℃）の融点を持ち、ポリエーテル化合物（Ｂ）に溶解せず、分散できるワックス様物質（天然ワックス、合成ワックス及び油脂等）が含まれ、７０〜１６０℃の温度範囲に融点を持ち、（Ｆ１）石油ワックス、（Ｆ２）合成ワックス、（Ｆ３）植物ワックス及び（Ｆ４）これらのワックスを変性した変性ワックスからなる群より選ばれる少なくとも１種が好ましく例示できる。
なお、ワックス（Ｆ）には、ビスアミドを含まない。

（Ｆ１）石油ワックスとしては、マイクロクリスタリンワックス及びパラフィンワックス等が挙げられる。
（Ｆ２）合成ワックスとしては、フィッシャートロプシュワックス及びポリエチレンワックス等が挙げられる。
（Ｆ３）植物ワックスとしては、カルナウバワックス及び木蝋等が挙げられる。
（Ｆ４）これらのワックスを変性した変性ワックスとしては、マレイン酸変性酸化ポリエチレンワックス及び酸化ポリエチレンワックス等が挙げられる。

これらのうち、消泡性等の観点から、（Ｆ１）石油ワックス及び（Ｆ２）合成ワックスが好ましく、さらに好ましくはパラフィンワックス、フィッシャートロプシュワックス及びマイクロクリスタリンワックス、特に好ましくはパラフィンワックス及びフィッシャートロプシュワックスである。

本発明の消泡剤が、金属石鹸（Ｃ）、合成樹脂（Ｄ）、疎水性シリカ（Ｅ）及びワックス（Ｆ）からなる群より選ばれる少なくとも１種の分散質を含有する場合、消泡剤中の分散質｛ビスアミド（Ａ）を含む｝の体積基準における最頻値粒子径（μｍ）は、０．１〜１０が好ましく、さらに好ましくは０．１〜５、特に好ましくは０．２〜３である。

本発明の消泡剤は、さらにポリエーテル化合物（Ｂ）と相溶する量の油（Ｈ）を含有してもよい。油（Ｈ）としては、油脂類（動物油、植物油）、鉱物油等が挙げられる。相溶する量としては、用いるポリエーテル化合物（Ｂ）及び油（Ｈ）の組成によって適宜決定される。

本発明の消泡剤は、市場から入手できるシリコーン組成物（Ｉ）を含んでもよい。シリコーン組成物（Ｉ）としては、ＫＳ−５３０、ＫＳ−５３７、ＫＳ−５４０（信越化学工業株式会社）、ＳＨ２００−１００ＣＳ、ＳＨ２００−１０００ＣＳ、ＤＫＱ１−０４９、ＦＳアンチフォーム１２６６、ＦＳアンチフォーム５４４コンパウンド（東レ・ダウコーニング株式会社）、ＳＩＬＦＯＡＭＳＣ３７０、ＳＩＬＦＯＡＭＳＣ１３２、ＳＩＬＦＯＡＭＳＲＥ（旭化成ワッカーシリコーン株式会社、「ＳＩＬＦＯＡＭ」は同社の登録商標である）、ＰＵＬＰＳＩＬ５０Ｃ（旭化成ワッカーシリコーン株式会社、「ＰＵＬＰＳＩＬ」は同社の登録商標である）等が挙げられる。

本発明の消泡剤には、水性発泡液（被消泡液体）に対する乳化分散性を向上させるために、乳化分散剤（Ｊ）を含んでもよい。乳化分散剤（Ｊ）としては、一般的な乳化剤や分散剤等を用いることができ、たとえば、多価アルコールの脂肪酸エステル（ソルビタン脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、ポリグリセリン脂肪酸エステル及びショ糖脂肪酸エステル等）、ポリオキシアルキレン化合物の脂肪酸エステル（ポリオキシアルキレン基のうち、オキシエチレン基の占める割合が４０〜１００重量％であるもの；ポリオキシエチレングリコールジラウレート及びソルビタン脂肪酸エステルのエチレンオキシド付加体等）及び１価又は多価アルコールのアルキレンオキシド付加物（ポリオキシアルキレン基のうち、オキシエチレン基の占める割合が４０〜１００重量％であるもの；ポリオキシエチレングリコールのプロピレンオキシド付加体等）等が挙げられる。

本発明の消泡剤は、たとえば、次の製造方法によって製造することができる。
これらの製造方法のうち、消泡性及び消泡剤の経日安定性の観点から、製造方法（１）及び（２）が好ましい。

製造方法（１）：
ビスアミド（Ａ）とポリエーテル化合物（Ｂ）の一部とを加熱攪拌しながら、ビスアミド（Ａ）を溶解させて溶解液を得る工程（１）、
ポリエーテル化合物（Ｂ）の残部を冷却攪拌しながら、この残部に得られた溶解液を投入してビスアミド（Ａ）の微細分散体を得る工程（２）、並びに
得られた微細分散体を均質化処理して消泡剤を得る工程（３）を含む方法。

製造方法（２）：
ビスアミド（Ａ）、ポリエーテル化合物（Ｂ）の一部及び結晶形状制御剤（Ｇ）を加熱攪拌しながら、ビスアミド（Ａ）を溶解させて溶解液を得る工程（４）、
ポリエーテル化合物（Ｂ）の残部を冷却攪拌しながら、この残部に得られた溶解液を投入してビスアミド（Ａ）の微細分散体を得る工程（５）、並びに
得られた微細分散体を均質化処理して消泡剤を得る工程（６）を含む方法。

製造方法（３）：
ビスアミド（Ａ）、ポリエーテル化合物（Ｂ）及び結晶形状制御剤（Ｇ）を加熱攪拌しながら、ビスアミド（Ａ）を溶解させて溶解液を得る工程（７）、
溶解液を冷却攪拌して、ビスアミド（Ａ）を析出させて微細分散体を得る工程（８）、並びに
得られた微細分散体を均質化処理して消泡剤を得る工程（９）を含む方法。

加熱攪拌の温度(℃)としては、ビスアミド（Ａ）が溶解できれば制限がないが、１００〜１８０が好ましく、さらに好ましくは１１０〜１６０、特に好ましくは１２０〜１５０、最も好ましくは１２５〜１４５である。

加熱攪拌の時間としては、ビスアミド（Ａ）が溶解できれば制限がないが、ポリエーテル化合物（Ｂ）の酸化や分解等を防ぐため、できるだけ短時間とすることが好ましい。

加熱攪拌は、密閉下で行ってもよいし（加圧下でもよい）、開放下で行ってもよい。ビスアミド（Ａ）及びポリエーテル化合物（Ｂ）の酸化や分解を防止するため、密閉下又は不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。

製造方法（１）の工程（２）及び製造方法（２）の工程（５）において、溶解液を投入している間も溶解液を加熱攪拌し、ビスアミド（Ａ）を溶解させた状態を保つことが好ましい。
また、ポリエーテル化合物（Ｂ）の残部の温度は、消泡性（分散粒子の体積基準の粒度分布における最頻値）及び製造コストの観点等から、０〜４０℃に保つことが好ましく、さらに好ましくは０〜３５℃、特に好ましくは０〜３０℃、最も好ましくは０〜２５℃に保つことである。すなわち、工程（２）では、０〜４０℃に冷却したポリエーテル化合物（Ｂ）の残部を攪拌しながら、この残部に０〜４０℃を保ちながら溶解液を少量ずつ投入して混合物を得ることが好ましい。

均質化処理は、ビスアミド（Ａ）の微細分散体を含む分散液を均質化できれば制限はないが、乳化分散機（ビーズミル、ディスパーミル、ホモジナイザー又はゴーリンホモジナイザー等）を用いて均質化処理することが好ましい。

結晶形状制御剤（Ｇ）を使用する場合、工程（１）、工程（４）又は工程（７）又はこの直前で、均一混合することが好ましい。結晶形状制御剤（Ｇ）は溶解液の冷却後に添加混合してもその効果を発揮し得ない。

合成樹脂（Ｄ）、疎水性シリカ（Ｅ）及び／又は油（Ｈ）を使用する場合、上記のいずれの工程で投入してもよく、工程（３）の直前又は直後で、均一混合してもよい。

金属石鹸（Ｃ）及び／又はワックス（Ｆ）を使用する場合、ビスアミド（Ａ）を溶解する工程（１）で、ビスアミド（Ａ）と共に溶解させてもよいし、ビスアミド（Ａ）とは別にポリエーテル化合物（Ｂ）に微細分散させてから、工程（３）の直前又は直後で、均一混合してもよい。

本発明の消泡剤は、水性発泡液に対して効果的であり、例えば、塗料（水性塗料等）用消泡剤及び各種製造工程（抄紙工程、発酵工程、培養工程、排水処理工程、モノマーストリッピング工程及びポリマー重合工程等）用消泡剤等として使用することができる。
これらのうち、塗料用消泡剤、排水処理用消泡剤として適しており、さらに水性塗料用消泡剤として好適であり、水性塗料（水性建築外装用塗料、建築内装用塗料、水性インキ及び紙塗工用塗料等）のうち、エマルション塗料用消泡剤として最適である。

なお、エマルション塗料に含まれるバインダーとしては、酢酸ビニル樹脂、アクリル樹脂、スチレン樹脂、ハロゲン化オレフィン樹脂、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂又はフッ素原子含有シリコーン樹脂等が挙げられ、いずれに対しても効果的である。

本発明のエマルション塗料は、樹脂エマルション、顔料、水性媒体及び上記の消泡剤を含有する。

樹脂エマルションとしては、上記のエマルション塗料に含まれるバインダーが含まれる。顔料としては、公知の顔料（たとえば、「塗料原料便覧第８版」（日本塗料工業会編、日本塗料工業会発行）の３３３〜４４７頁に記載のもの）が含まれる。水性媒体としては、水（上水、脱イオン水等）が含まれる。

本発明の水性塗料は、公知の製造方法と同様にして得られる。

本発明の排水処理方法は、上記の消泡剤を排水に添加して排水を処理する工程を含むものである。

排水としては、家庭排水（生活排水及び屎尿排水等）及び産業排水（リサイクル排水を含む）が含まれる。

本発明の排水処理方法は、公知の好気的処理及び嫌気的処理のいずれにも適用できる。

本発明の消泡剤の添加方法は、塗料に適用する場合、（１）ミルベースの仕込み時、（２）顔料を均一に分散させる前練時、（３）顔料分散時、（４）残りの原料を投入して混合する調合時及び／又は（５）塗料作成後に添加する方法等が挙げられる。また、各種製造工程に適用する場合、（１）原料の供給と共に、（２）加熱及び／若しくは減圧処理前に、並びに／又は（３）最終仕上げ工程等に添加する方法のいずれでもよい。たとえば、排水処理工程に適用する場合、排水の流入（曝気槽前）、分離前（沈殿槽前）、最終仕上げ（放流）等に添加できる。

各種製造工程に適用する場合、本発明の消泡剤の添加量（重量％）は、水性発泡液の重量に基づいて、０．０００１〜３が好ましく、さらに好ましくは０．００１〜２．７、特に好ましくは０．００５〜２．３、最も好ましくは０．０１〜２である。また、塗料に適用する場合、本発明の消泡剤の添加量（重量％）は、塗料の重量に基づいて、０．０５〜３が好ましく、さらに好ましくは０．１〜２．７、特に好ましくは０．２〜２．３、最も好ましくは０．３〜２．０である。

なお、最適なエマルション塗料に適用する場合、本発明の消泡剤の添加量（重量％）は、塗料の重量に基づいて、０．０５〜３が好ましく、さらに好ましくは０．１〜２．７、特に好ましくは０．２〜２．３、最も好ましくは０．３〜２である。

以下、実施例により本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。なお、特記しない限り、部は重量部を、％は重量％を意味する。

なお、体積基準の粒子径分布における最頻値（μｍ）は、レーザ回折／散乱式粒子径分布測定装置ＰａｒｔｉｃａＬＡ−９５０Ｖ２（バッチセル式、分散質の屈折率＝１．４６、反復回数１５、株式会社堀場製作所）を使用して、分散媒をバッチセルに入れてブランク測定を行い、引き続き、この分散媒に消泡剤を適量加えて泡が入らないように均一になるまで混合し、測定を行い、この測定値からブランク測定の値を差し引いて算出した。分散媒は、測定するビスアミド（Ａ）及びポリエーテル化合物（Ｂ）の種類に応じて凝集や溶解の起こらないものを選定し、各実施例に記載したものを用いた。計算に用いた分散媒の屈折率は、各実施例に記載した数値を用いた。
ただし、消泡剤の量は、青色ＬＥＤ光の透過率が８９〜９１％になるように調整し、消泡剤の量が多いほど透過率が低くなるので、この範囲から外れている場合、消泡剤又は分散媒の量により、範囲内に入るように調整した。

＜実施例１＞
加熱、攪拌、冷却の可能な容器内でビスアミド（ａ１）｛アルフローＡＤ−２８１Ｆ、日油株式会社製、エチレンビスオレイン酸アミド｝４５部、ポリエーテル化合物（ｂ１）｛ニューポールＰＥ−６１、三洋化成工業株式会社製、ポリオキシエチレン（５モル）ポリオキシプロピレン（３０モル）ブロックポリマー；「ニューポール」は同社の登録商標である。｝１００部及びポリエーテル化合物（ｂ２）｛蔗糖ポリオキシプロピレン８０モル付加物｝２００部を加熱攪拌しながら１２５℃まで昇温し、この温度にてさらに１５分間加熱攪拌を続けてビスアミド溶解液（１）を得た。

次いで、ポリエーテル化合物（ｂ１）１５０部及びポリエーテル化合物（ｂ２）５０５部を５℃に調節して冷却攪拌しながら、これにビスアミド溶解液（１）を少量ずつ投入し、１５分間攪拌して分散液（１）を得た。ビスアミド溶解液の投入中及び投入後の混合物（分散液）の温度は５〜２５℃であった。

分散液（１）をインペラー型羽根を装着したエクセルオートホモジナイザー（株式会社日本精機製作所製）にて４０００ｒｐｍにて１５分間攪拌して均質化して、本発明の消泡剤（１）を得た。分散体の体積基準の粒子径分布における最頻値（μｍ）は３．２μｍであった（粒子径分布測定の分散媒には、サンニックスＧＰ−３０００（三洋化成工業株式会社製、グリセリンのプロピレンオキシド（４３モル）付加体、屈折率１．４４）を使用した）。

＜実施例２＞
加熱、攪拌、冷却の可能な容器内でビスアミド（ａ２）｛ＩＴＯＨＷＡＸＪ−６３０、伊藤製油株式会社製、ヘキサメチレンビスヒドロキシステアリルアミド｝３０部及びポリエーテル化合物（ｂ３）｛サンニックスＧＰ−３０００、三洋化成工業株式会社製、グリセリンのプロピレンオキシド（４３モル）付加体｝；「サンニックス」は同社の登録商標である。｝３００部を加熱攪拌しながら１４５℃まで昇温し、この温度にてさらに１５分間加熱攪拌を続けてビスアミド溶解液（２）を得た。

次いで、５℃に調節したポリエーテル化合物（ｂ３）６７０部を冷却攪拌しながら、これにビスアミド溶解液（２）を少量ずつ投入し、１５分間攪拌して分散液（２）を得た。ビスアミド溶解液の投入中及び投入後の混合物（分散液）の温度は５〜３５℃であった。

分散液（２）をゴーリンホモジナイザー（マントンゴーリン社製）を用いて３５００ｐｓｉ（２４．１ＭＰａ）にて均質化処理して、本発明の消泡剤（２）を得た。分散体の体積基準の粒子径分布における最頻値（μｍ）は０．７μｍであった（粒子径分布測定の分散媒には、サンニックスＧＰ−３０００（屈折率１．４４）を使用した）。

＜実施例３＞
加熱、攪拌、冷却の可能な容器内でビスアミド（ａ３）｛アルフローＨ−５０Ｓ、日油株式会社製、エチレンビスステアリルアミド｝３０部及びポリエーテル化合物（ｂ４）｛ニューポールＴＬ−４５００Ｎ、三洋化成工業株式会社製、トリメチロールプロパンのエチレンオキシド（１０モル）／プロピレンオキシド（６８モル）ブロック付加体｝３００部を加熱攪拌しながら１４５℃まで昇温し、この温度にてさらに１５分間加熱攪拌を続けてビスアミド溶解液（３）を得た。

次いで、ポリエーテル化合物（ｂ４）６２０部及びポリエーテル化合物（ｂ５）｛ニューポールＧＰ−６００、三洋化成工業株式会社製、グリセリンのプロピレンオキシド（９モル）付加体｝５０部を５℃に調節して冷却攪拌しながら、これにビスアミド溶解液（３）を少量ずつ投入し、１５分間攪拌して分散液（３）を得た。ビスアミド溶解液の投入中及び投入後の混合物（分散液）の温度は５〜４０℃であった。

分散液（３）をゴーリンホモジナイザー（マントンゴーリン社製）を用いて３５００ｐｓｉ（２４．１ＭＰａ）にて均質化処理して、本発明の消泡剤（３）を得た。分散体の体積基準の粒子径分布における最頻値（μｍ）は０．３μｍであった（粒子径分布測定の分散媒には、アセトン（屈折率１．３６）を使用した）。

＜実施例４＞
加熱、攪拌、冷却の可能な容器内でビスアミド（ａ１）２０部及びポリエーテル化合物（ｂ６）｛ニューポールＬＢ−１７１５、三洋化成工業株式会社製、ブタノールポリオキシプロピレン（４０モル）付加体｝３００部を加熱攪拌しながら１２５℃まで昇温し、この温度にてさらに１５分間加熱攪拌を続けてビスアミド溶解液（４）を得た。

次いで、５℃に調節したポリエーテル化合物（ｂ６）５９２部を冷却攪拌しながら、これにビスアミド溶解液（４）を少量ずつ投入し、１５分間攪拌して分散液（４）を得た。ビスアミド溶解液の投入中及び投入後の混合物（分散液）の温度は５〜３５℃であった。

分散液（４）をゴーリンホモジナイザーを用いて３５００ｐｓｉ（２４．１ＭＰａ）にて均質化処理し、特開２００９−７５０６号公報の実施例１に準じて作成した合成樹脂（ｄ１）｛｛（スチレン）／（アクリロニトリル）／（ジビニルベンゼン）／（グリセリンのプロピレンオキシド付加物と２−ヒドロキシエチルメタクリレートとをトリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）でジョイントして得られる反応性分散剤）／（アリルアルコールにプロピレンオキシド（ＰＯ）を付加させたポリオキシアルキレンエーテル）を構成単位とする共重合物（粒子径０．７μｍ）｝７５部、ポリエーテル（ｂ７）｛ペンタエリスリトールにプロピレンオキシド−エチレンオキシド（エチレンオキシドの割合１２重量％）の順にアルキレンオキシドをブロック付加させた水酸基価３２のポリオール｝８３．６部及びポリエーテル（ｂ８）｛特開２０００−３４４８８１号公報に準じて作成したグリセリンプロピレンオキシド付加体、水酸基価５６｝４．４部の混合液｝を加えて１５分間攪拌して本発明の消泡剤（４）を得た。分散体の体積基準の粒子径分布における最頻値（μｍ）は２．１μｍであった（粒子径分布測定の分散媒には、サンニックスＧＰ−３０００（屈折率１．４４）を使用した）。

＜実施例５＞
加熱、攪拌、冷却の可能な容器内でビスアミド（ａ４）｛ＩＴＯＨＷＡＸＪ−５３０、伊藤製油株式会社製、エチレンビス（１２−ヒドロキシステアリル）アミド｝１５部及びポリエーテル化合物（ｂ４）１００部、ポリエーテル化合物（ｂ６）２５０部及び結晶形状制御剤（ｇ１）｛テイカパワーＢＣ２０７０Ｍ、テイカ株式会社製、ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム（７０％メタノール溶液）｝１４．３部（ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウムとして１０部、残部はメタノール）を加熱攪拌しながら１４５℃まで昇温し、この温度にてさらに１５分間加熱攪拌を続けてビスアミド溶解液（５）を得た。

次いで、５℃に調節したポリエーテル化合物（ｂ６）６３５部を冷却攪拌しながら、これにビスアミド溶解液（５）を少量ずつ投入し、１５分間攪拌して分散液（５Ａ）を得た。ビスアミド溶解液の投入中及び投入後の混合物（分散液）の温度は５〜３８℃であった。

分散液（５Ａ）をゴーリンホモジナイザー（マントンゴーリン社製）を用いて３５００ｐｓｉ（２４．１ＭＰａ）にて均質化処理して、分散液（５Ｂ）を得た。分散液（５Ｂ）の分散体の体積基準の粒子径分布における最頻値（μｍ）は２．８であった（粒子径分布測定の分散媒には、アセトン（屈折率１．３６）を使用した）。

分散液（５Ｂ）に、疎水性シリカ（ｅ１）｛ＳＩＰＥＲＮＡＴＤ１０、エボニック・デグサ・ジャパン株式会社製、疎水性シリカ｝３部を加え、ゴーリンホモジナイザー（マントンゴーリン社製）を用いて３５００ｐｓｉ（２４．１ＭＰａ）にて均質化処理して、本発明の消泡剤（５）を得た。分散体の体積基準の粒子径分布における最頻値（μｍ）は８．３であった（粒子径分布測定の分散媒には、アセトン（屈折率１．３６）を使用した）。

＜実施例６＞
加熱、攪拌、冷却の可能な容器内でビスアミド（ａ５）｛カオーワックスＥＢ−Ｐ、花王株式会社、エチレンビスステアリルアミド｝２６部及びポリエーテル化合物（ｂ１）１４６部、ポリエーテル化合物（ｂ６）１４６部、金属石鹸（ｃ１）｛ＳＡ−１５００、堺化学工業株式会社製、ステアリン酸アルミニウム｝１０部及び結晶形状制御剤（ｇ２）｛スルホール４３０Ａ、株式会社ＭＯＲＥＳＣＯ製、石油スルホネートナトリウム（６０％溶液）｝８．３３部（石油スルホネートナトリウムとして５部、残部は不明）を加熱攪拌しながら１４５℃まで昇温し、この温度にてさらに１５分間加熱攪拌を続けてビスアミド溶解液（６）を得た。

次いで、ポリエーテル化合物（ｂ１）３４１部及びポリエーテル化合物（ｂ６）３４１部を５℃に調節して冷却攪拌しながら、これにビスアミド溶解液（６）を少量ずつ投入し、１５分間攪拌して分散液（６）を得た。ビスアミド溶解液の投入中及び投入後の混合物（分散液）の温度は５〜３６℃であった。

分散液（６）をゴーリンホモジナイザー（マントンゴーリン社製）を用いて３５００ｐｓｉ（２４．１ＭＰａ）にて均質化処理して、本発明の消泡剤（６）を得た。分散体の体積基準の粒子径分布における最頻値（μｍ）は０．５μｍであった（粒子径分布測定の分散媒には、アセトン（屈折率１．３６）を使用した）。

＜実施例７＞
加熱、攪拌、冷却の可能な容器内でビスアミド（ａ３）３０部及びポリエーテル化合物（ｂ６）１９４部、ポリエーテル化合物（ｂ９）｛ニューポールＬＢ−６２５、三洋化成工業株式会社製、ブタノールポリオキシプロピレン（３３モル）付加体｝１９４部及び結晶形状制御剤（ｇ１）７．１部（ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウムとして５部、残部はメタノール）を加熱攪拌しながら１４５℃まで昇温し、この温度にてさらに１５分間加熱攪拌を続けてビスアミド溶解液（７）を得た。

次いで、ポリエーテル化合物（ｂ６）２９１部及びポリエーテル化合物（ｂ９）２９１部を５℃に調節して冷却攪拌しながら、これにビスアミド溶解液（７）を少量ずつ投入し、１５分間攪拌して分散液（７）を得た。ビスアミド溶解液の投入中及び投入後の混合物（分散液）の温度は５〜３６℃であった。

分散液（７）をゴーリンホモジナイザー（マントンゴーリン社製）を用いて３５００ｐｓｉ（２４．１ＭＰａ）にて均質化処理して、本発明の消泡剤（７）を得た。分散体の体積基準の粒子径分布における最頻値（μｍ）は０．２μｍであった（粒子径分布測定の分散媒には、アセトン（屈折率１．３６）を使用した）。

＜実施例８＞
加熱、攪拌、冷却の可能な容器内でビスアミド（ａ３）３０部及びポリエーテル化合物（ｂ２）２７２部、ポリエーテル化合物（ｂ１０）｛ニューポールＰＰ−２０００、三洋化成工業株式会社製、ポリプロピレングリコール（３４モル）｝１１６部及び結晶形状制御剤（ｇ２）１．６７部（石油スルホネートナトリウムとして１部、残部は不明）を加熱攪拌しながら１４５℃まで昇温し、この温度にてさらに１５分間加熱攪拌を続けてビスアミド溶解液（８）を得た。

次いで、ポリエーテル化合物（ｂ２）４０７部及びポリエーテル化合物（ｂ１０）１７５部を２５℃に調節して冷却攪拌しながら、これにビスアミド溶解液（８）を少量ずつ投入し、１５分間攪拌して分散液（８）を得た。ビスアミド溶解液の投入中及び投入後の混合物（分散液）の温度は２５〜６４℃であった。

分散液（８）をゴーリンホモジナイザー（マントンゴーリン社製）を用いて３５００ｐｓｉ（２４．１ＭＰａ）にて均質化処理して、本発明の消泡剤（８）を得た。分散体の体積基準の粒子径分布における最頻値（μｍ）は０．４μｍであった（粒子径分布測定の分散媒には、アセトン（屈折率１．３６）を使用した）。

＜実施例９＞
加熱、攪拌、冷却の可能な容器内でビスアミド（ａ３）３０部及びポリエーテル化合物（ｂ４）２７２部、ポリエーテル化合物（ｂ６）１１６部及び結晶形状制御剤（ｇ３）｛スルホールＢＡ−３０Ｎ、株式会社ＭＯＲＥＳＣＯ製、石油スルホネートバリウム（３０％溶液）｝１０部（石油スルホネートバリウムとして３部、残部は不明）を加熱攪拌しながら１４５℃まで昇温し、この温度にてさらに１５分間加熱攪拌を続けてビスアミド溶解液（９）を得た。

次いで、ポリエーテル化合物（ｂ４）４０７部及びポリエーテル化合物（ｂ６）１７５部を２５℃に調節して冷却攪拌しながら、これにビスアミド溶解液（９）を少量ずつ投入し、１５分間攪拌して分散液（９）を得た。ビスアミド溶解液の投入中及び投入後の混合物（分散液）の温度は２５〜６６℃であった。

分散液（９）をゴーリンホモジナイザー（マントンゴーリン社製）を用いて３５００ｐｓｉ（２４．１ＭＰａ）にて均質化処理して、本発明の消泡剤（９）を得た。分散体の体積基準の粒子径分布における最頻値（μｍ）は０．４μｍであった（粒子径分布測定の分散媒には、アセトン（屈折率１．３６）を使用した）。

＜実施例１０＞
加熱、攪拌、冷却の可能な容器内でビスアミド（ａ５）１０部及びポリエーテル化合物（ｂ６）３５０部及び結晶形状制御剤（ｇ４）｛カチオンＳ、三洋化成工業株式会社製、ステアリルコニウムクロライド｝５部を加熱攪拌しながら１４５℃まで昇温し、この温度にてさらに１５分間加熱攪拌を続けてビスアミド溶解液（１０）を得た。

次いで、２５℃に調節したポリエーテル化合物（ｂ６）６４０部を冷却攪拌しながら、これにビスアミド溶解液（１０）を少量ずつ投入し、１５分間攪拌して分散液（１０）を得た。ビスアミド溶解液の投入中及び投入後の混合物（分散液）の温度は２５〜７０℃であった。

分散液（１０）をゴーリンホモジナイザー（マントンゴーリン社製）を用いて３５００ｐｓｉ（２４．１ＭＰａ）にて均質化処理して、本発明の消泡剤（１０）を得た。分散体の体積基準の粒子径分布における最頻値（μｍ）は０．４μｍであった（粒子径分布測定の分散媒には、アセトン（屈折率１．３６）を使用した）。

＜実施例１１＞
加熱、攪拌、冷却の可能な容器内でビスアミド（ａ５）３０部及びポリエーテル化合物（ｂ６）６００部及びポリエーテル化合物（ｂ１１）｛ニューポールＬＢ−３８５、三洋化成工業株式会社製、ブタノールポリオキシプロピレン付加体（２７モル）｝３７０部、結晶形状制御剤（ｇ２）５０部（石油スルホネートナトリウムとして３０部、残部は不明）を加熱攪拌しながら１４５℃まで昇温し、この温度にてさらに１５分間加熱攪拌を続けてビスアミド溶解液（１１）を得た。

次いで、ビスアミド溶解液（１１）を攪拌しながら５分間かけて２５℃まで冷却して分散液（１１）を得た。

分散液（１１）をゴーリンホモジナイザー（マントンゴーリン社製）を用いて３５００ｐｓｉ（２４．１ＭＰａ）にて均質化処理して、本発明の消泡剤（１１）を得た。分散体の体積基準の粒子径分布における最頻値（μｍ）は４．９μｍであった（粒子径分布測定の分散媒には、アセトン（屈折率１．３６）を使用した）。

＜実施例１２＞
加熱、攪拌、冷却の可能な容器内で、ビスアミド（ａ３）７５部、ワックス（ｆ１）｛エポレンＥ−１０、イーストマンケミカル社製、酸化ポリエチレンワックス｝３部、ポリエーテル化合物（ｂ１２）｛ポリオキシプロピレン（４０モル）グリコールモノブチルエーテルのオレイン酸エステル｝２００部及びポリエーテル化合物（ｂ１３）｛ブタノールポリオキシプロピレン（５０モル）付加体｝２５０部を加熱攪拌しながら１４５℃まで昇温し、この温度にてさらに１５分間加熱攪拌を続けてビスアミド溶解液（１２）を得た。

次いで、ポリエーテル化合物（ｂ１２）２００部及びポリエーテル化合物（ｂ１３）２７５部を５℃に調節して冷却攪拌しながら、これにビスアミド溶解液（１２）を少量ずつ投入し、１５分間攪拌して分散液（１２Ａ）を得た。ビスアミド溶解液の投入中及び投入後の混合物（分散液）の温度は５〜４０℃であった。

分散液（１２Ａ）をゴーリンホモジナイザー（マントンゴーリン社製）を用いて３５００ｐｓｉ（２４．１ＭＰａ）にて均質化処理して、分散液（１２Ｂ）を得た。分散体の体積基準の粒子径分布における最頻値（μｍ）は０．６μｍであった（粒子径分布測定の分散媒には、アセトン（屈折率１．３６）を使用した）。

分散液（１２Ｂ）を７０℃で１時間加熱攪拌し、本発明の消泡剤（１２）を得た。分散体の体積基準の粒子径分布における最頻値（μｍ）は１．８μｍであった（粒子径分布測定の分散媒には、アセトン（屈折率１．３６）を使用した）。

＜実施例１３＞
加熱、攪拌、冷却の可能な容器内で、ビスアミド（ａ５）２０部、ワックス（ｆ２）｛ＦＴ−１０５、日本精蝋株式会社製、フィッシャートロプシュワックス｝３０部、ポリエーテル化合物（ｂ３）２００部、ポリエーテル化合物（ｂ６）２００部、結晶形状制御剤（ｇ３）２０部（石油スルホネートバリウムとして、６部、残部は不明）及び油（ｈ１）｛食用菜種油、ニッコー製油株式会社製、菜種油｝３０部を加熱攪拌しながら１４５℃まで昇温し、この温度にてさらに１５分間加熱攪拌を続けてビスアミド溶解液（１３）を得た。

次いで、ポリエーテル化合物（ｂ６）２００部、ポリエーテル化合物（ｂ１４）｛ポリエーテル化合物（ｂ１）のステアリン酸ジエステル｝２８０部及びポリエーテル化合物（ｂ１５）｛ひまし油のプロピレンオキシド（３０モル）付加体のオレイン酸エステル｝１００部を５℃に調節して冷却攪拌しながら、これにビスアミド溶解液（１３）を少量ずつ投入し、１５分間攪拌して分散液（１３）を得た。ビスアミド溶解液の投入中及び投入後の混合物（分散液）の温度は５〜３７℃であった。

分散液（１３）をゴーリンホモジナイザーを用いて３５００ｐｓｉ（２４．１ＭＰａ）にて均質化処理し、本発明の消泡剤（１３）を得た。分散体の体積基準の粒子径分布における最頻値（μｍ）は０．３μｍであった。

＜実施例１４＞
加熱、攪拌、冷却の可能な容器内で、ビスアミド（ａ３）２５部及びポリエーテル化合物（ｂ１６）｛グリセリンのエチレンオキシド（３モル）／２−エチルヘキシルグリシジルエーテル（６モル）ブロック付加体｝３００部を加熱攪拌しながら１４５℃まで昇温し、この温度にてさらに１５分間加熱攪拌を続けてビスアミド溶解液（１４）を得た。

次いで、ポリエーテル化合物（ｂ１２）２７５部、ポリエーテル化合物（ｂ１４）３００部及びポリエーテル化合物（ｂ１７）｛ポリオキシプロピレン（３４モル）グリコール２００部と、ポリオキシエチレン（３モル）ポリオキシプロピレン（１４モル）ミリスチルエーテル２３１部と、ヘキサメチレンジイソシアネート１６．８部とを反応させて得たポリエーテル化合物｝１００部を２℃に調節して冷却攪拌しながら、これにビスアミド溶解液（１４）を少量ずつ投入し、１５分間攪拌して分散液（１４）を得た。ビスアミド溶解液の投入中及び投入後の混合物（分散液）の温度は２〜２９℃であった。

分散液（１４）をゴーリンホモジナイザーを用いて３５００ｐｓｉ（２４．１ＭＰａ）にて均質化処理して、本発明の消泡剤（１４）を得た。分散体の体積基準の粒子径分布における最頻値（μｍ）は０．５μｍであった。

＜実施例１５＞
加熱、攪拌、冷却の可能な容器内で、ビスアミド（ａ３）１部及びポリエーテル化合物（ｂ６）３００部を加熱攪拌しながら１４５℃まで昇温し、この温度にてさらに１５分間加熱攪拌を続けてビスアミド溶解液（１５）を得た。

次いで、５℃に調節したポリエーテル化合物（ｂ６）６９９部を冷却攪拌しながら、これにビスアミド溶解液（１５）を少量ずつ投入し、１５分間攪拌して分散液（１５）を得た。ビスアミド溶解液の投入中及び投入後の混合物（分散液）の温度は５〜３０℃であった。

分散液（１５）をゴーリンホモジナイザーを用いて３５００ｐｓｉ（２４．１ＭＰａ）にて均質化処理して、本発明の消泡剤（１５）を得た。分散体の体積基準の粒子径分布における最頻値（μｍ）は０．２μｍであった。

＜比較例１〜４＞
ビスアミド（ａ１）〜（ａ３）を用いないこと以外、実施例１〜３、７と同様にして、比較用の消泡剤（Ｈ１）〜（Ｈ４）を作成した（比較例１は実施例１、比較例２は実施例２、比較例３は実施例３、比較例４は実施例７にそれぞれ対応）。

＜比較例５＞
加熱、攪拌、冷却の可能な容器内でビスアミド（ａ１）３０部、ポリエーテル化合物（ｂ６）２００部、ポリエーテル化合物（ｂ１１）７７０部を加熱攪拌しながら１４０℃まで昇温し、この温度にてさらに１５分間加熱攪拌を続けてビスアミド溶解液（ｈ５）を得た。

次いで、ビスアミド溶解液（ｈ５）を９０分かけて２５℃まで冷却し、分散液（ｈ５）を得た。

分散液（ｈ５）をインペラー型羽根を装着したエクセルオートホモジナイザー（株式会社日本精機製作所製）にて１００００ｒｐｍにて１０分間攪拌して均質化して、比較用の消泡剤（Ｈ５）を得た。分散体の体積基準の粒子径分布における最頻値（μｍ）は１４．９μｍであった。

＜比較例６＞
加熱、攪拌、冷却の可能な容器内でビスアミド（ａ１）３０部、ポリエーテル化合物（ｂ１）２００部、ポリエーテル化合物（ｂ２）７７０部を加熱攪拌しながら１４０℃まで昇温し、この温度にてさらに１５分間加熱攪拌を続けてビスアミド溶解液（ｈ６）を得た。

次いで、ビスアミド溶解液（ｈ６）を１５分かけて２５℃まで冷却し、分散液（ｈ６）を得た。

分散液（ｈ６）をインペラー型羽根を装着したエクセルオートホモジナイザー（株式会社日本精機製作所製）にて１００００ｒｐｍにて１０分間攪拌して均質化して、比較用の消泡剤（Ｈ６）を得た。分散体の体積基準の粒子径分布における最頻値（μｍ）は１１．３μｍであった。

＜消泡性の評価（１）＞
実施例１〜１５及び比較例１〜６で得た消泡剤（１）〜（１５）及び（Ｈ１）〜（Ｈ６）を用いて、以下のようにして消泡性を評価し、評価結果を表１に示した。

（１）評価液の作成
ＡＣＲＯＮＡＬ２９５ＤＮ（ＢＡＳＦ社製アクリルエマルション、「ＡＣＲＯＮＡＬ」は、ビ−エ−エスエフアクチエンゲゼルシヤフトの登録商標である）２５ｇを１００ｍｌの共栓付きメスシリンダーに加え、上水（水道水）で２倍に希釈して均一に混合した後、消泡剤を０．０７５ｇ添加し、２５℃に調節してエマルションを作成した。
なお、消泡剤を添加しないこと以外、上記と同様にして、ブランク用のエマルションを調製した。

（２）消泡性の評価（２５℃）
メスシリンダーの栓を閉じて、エマルションを１分間で２００回振とうし、振とうして１分間静置した後の液面高さ（ｍｍ）を読み取り、初期消泡性の値とした。液面高さが低いほど泡が破壊されており消泡性に優れているといえる（泡無しの状態で液面高さは５０ｍｍ、泡でメスシリンダー内が充満した時の液面高さは１００ｍｍ）。
続いて同様に１分間で２００回振とうして１分間静置のサイクルを４回繰り返し、５回目（合計で１０００回振とう後）の静置後の液面高さを読み取って持続消泡性の値とした。

本発明の消泡剤を用いたエマルションは、比較用の消泡剤を用いたものに比べて、消泡性（初期消泡性及び消泡持続性）が極めて良好であった。

＜消泡性の評価（２）＞
実施例１〜１５及び比較例１〜６で得た消泡剤（１）〜（１５）及び（Ｈ１）〜（Ｈ６）を用いて、以下のようにして調製したエマルション塗料に対する消泡性を評価し、評価結果を表３に示した。

（１）エマルションベース塗料の調製
以下の原料組成にて、インペラー型羽根を装着したエクセルオートホモジナイザー（日本精器株式会社製、モデルＥＤ）を用いて、グラインディング及びレットダウンして塗料化とした。得られた塗料を、ストマー粘度計（ＪＩＳＫ５６００−２−２）で８０ＫＵ（２５℃）になるように水で希釈してエマルションベース塗料を得た。

注１：サンノプコ株式会社製分散剤
注２：サンノプコ株式会社製増粘剤
注３：石原産業株式会社製二酸化チタン
注４：ＢＡＳＦ社製アクリルエマルション、「ＡＣＲＯＮＡＬ」は、ビ−エ−エスエフアクチエンゲゼルシヤフトの登録商標である。
注５：サンノプコ株式会社製防腐剤
注６：イーストマンケミカル社製造膜調整剤、「テキサノール」は吉村化学株式会社の登録商標である。
注７：サンノプコ株式会社製増粘剤

（２）エマルション塗料の調製
エマルションベース塗料に、評価試料（消泡剤）を０．３重量％（対エマルションベース塗料）となるように加えて、インペラー型羽根を装着したエクセルオートホモジナイザーにて２５℃、４０００ｒｐｍ、３分間攪拌混合してエマルション塗料（１）〜（２１）を得た。また、ブランク用として消泡剤を加えないこと以外、上記と同様にして、エマルション塗料（２２）を得た。

（３）消泡性の評価（２５℃）
エマルション塗料（１）〜（２２）を攪拌混合して作成した１５秒後に、泡を巻き込んだエマルション塗料（１）〜（２２）の比重を５０ｍｌの比重カップにて測定した。比重が大きいほど巻き込んだ泡が破壊されており消泡性に優れているといえる。

（４）エイジング後の評価
エマルション塗料（１）〜（２２）をそれぞれ密閉サンプル容器にて、４０℃にて１ケ月静置保管した後、改めてインペラー型羽根を装着したエクセルオートホモジナイザーにて、２５℃、４０００ｒｐｍ、３分間攪拌混合してエイジング評価用のエマルション塗料を得、同様に消泡性（消泡持続性）を評価した。

本発明の消泡剤を用いたエマルション塗料は、比較用の消泡剤を用いたものに比べて、消泡性（初期消泡性及び消泡持続性）が極めて良好であった。

＜消泡性の評価（３）＞
実施例１〜３、７及び比較例１〜４で得た消泡剤（１）〜（３）、（７）及び（Ｈ１）〜（Ｈ４）を用いて、以下のようにして消泡性を評価し、評価結果を表４に示した。

発泡液体として、非イオン界面活性剤［サンノプコ株式会社、ＳＮウェットＬ］０．２５部、アニオン界面活性剤［サンノプコ株式会社、ＳＮウェット９７０］０．５０部及び水９９．８７５部を含有する界面活性剤水溶液を使用した。この水溶液５０ｇを１００ｍｌの共栓付きメスシリンダーに加え、さらに評価試料（消泡剤）を０．３７ｇ添加し、３０℃に調節して消泡試験液を調製した。
メスシリンダーの栓を閉じて、消泡試験液を１分間で２００回振とうし、振とうして１分間静置した後の液面高さ（ｍｍ）を読み取り、消泡性の値とした。液面高さが低いほど泡が破壊されており消泡性に優れているといえる（泡無しの状態で液面高さは５０ｍｍ、泡でメスシリンダー内が充満した時の液面高さは１００ｍｍ）。
また、消泡剤を添加しないこと以外、上記と同様にして、ブランク試験を行った。

本発明の消泡剤は界面活性剤水溶液に対し、比較用の消泡剤と比べて、消泡性が極めて良好であった。

＜消泡性の評価（４）＞
実施例１〜１５及び比較例１〜６で得た消泡剤（１）〜（１５）及び（Ｈ１）〜（Ｈ６）を用いて、以下のようにして消泡性を評価し、評価結果を表５に示した。

染色工場排水（活性汚泥処理工程のばっ気槽より採取した試験水）に、評価試料（消泡剤）の濃度が２００ｐｐｍとなるように評価試料を添加し、循環式の消泡試験機（直径３．５ｃｍ、長さ２１ｃｍのガラス製円筒に試験水を加え、下部からポンプで試験水を吸い上げて円筒上部から落下させる試験機、流量１Ｌ／分、循環落差は泡の無い状態で１８ｃｍ）を用いて、試験水が試験機から溢流するまでの時間を測定した（試験水温度３４℃）。

本発明の消泡剤は比較用の消泡剤と比べて、消泡性が極めて良好であった。

本発明の消泡剤はあらゆる用途に用いることができるが、水性発泡液に対して効果的であり、例えば、紙パルプ製造工業（パルプ化工程、抄紙工程及び塗工工程等）、建築工業（抄造工程等）、染料工業、染色工業、発酵工業、合成樹脂製造工業、合成ゴム製造工業、インキ、塗料工業及び繊維加工工業等の各種工程で発生する気泡に対して適用することができる。これらのうち、塗料用消泡剤、排水処理用消泡剤として適しており、さらに水性塗料用消泡剤として好適であり、水性塗料（水性建築外装用塗料、建築内装用塗料、水性インキ及び紙塗工用塗料等）のうち、エマルション塗料用消泡剤として最適である。

Claims

ビスアミド（Ａ）をポリエーテル化合物（Ｂ）中に分散して含有し、
ビスアミド（Ａ）及びポリエーテル化合物（Ｂ）の重量に基づいて、ビスアミド（Ａ）の含有量が０．０１〜１０重量％、ポリエーテル化合物（Ｂ）の含有量が９０〜９９．９９重量％であり、
ビスアミド（Ａ）の体積基準の粒子径分布における最頻値が０．１〜５μｍである消泡剤を製造する方法であって、

ビスアミド（Ａ）とポリエーテル化合物（Ｂ）の一部とを加熱攪拌しながら、ビスアミド（Ａ）を溶解させて溶解液を得る工程（１）、
ポリエーテル化合物（Ｂ）の残部を冷却攪拌しながら、この残部に得られた溶解液を投入してビスアミド（Ａ）の微細分散体を得る工程（２）、並びに
得られた微細分散体を均質化処理して消泡剤を得る工程（３）を含む方法；又は

ビスアミド（Ａ）、ポリエーテル化合物（Ｂ）の一部及び、スルホネート（−ＳＯ _３Ｍ、Ｍは金属原子）基含有有機化合物及びアミノ基又はアンモニオ基含有有機化合物から選ばれる結晶形状制御剤（Ｇ）を加熱攪拌しながら、ビスアミド（Ａ）を溶解させて溶解液を得る工程（４）、
ポリエーテル化合物（Ｂ）の残部を冷却攪拌しながら、この残部に得られた溶解液を投入してビスアミド（Ａ）の微細分散体を得る工程（５）、並びに
得られた微細分散体を均質化処理して消泡剤を得る工程（６）を含む方法；又は

ビスアミド（Ａ）、ポリエーテル化合物（Ｂ）及び、スルホネート（−ＳＯ _３Ｍ、Ｍは金属原子）基含有有機化合物及びアミノ基又はアンモニオ基含有有機化合物から選ばれる結晶形状制御剤（Ｇ）を加熱攪拌しながら、ビスアミド（Ａ）を溶解させて溶解液を得る工程（７）、溶解液を冷却攪拌して、ビスアミド（Ａ）を析出させて微細分散体を得る工程（８）、並びに
得られた微細分散体を均質化処理して消泡剤を得る工程（９）を含む方法
であることを特徴とする製造方法。

体積基準の粒子径分布における最頻値（μｍ）：粒子径分布は、測定試料を適当な分散媒に分散させ、ＪＩＳＺ８８２５−１−２００１「粒子径解析−レーザー回折法−第1部：測定原理」に記載された測定原理を有するレーザー回折式粒度分布測定装置により測定され、この粒子径分布において、最大の頻度となる粒子径を最頻値とする。
ビスアミド（Ａ）が、一般式（１）で表されるビスアミドである請求項１に記載の製造方法。

Ｒ^１ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_ｔ−ＮＨＣＯＲ^１（１）

Ｒ^１は炭素数１０〜２２のアルキル基、アルケニル基、ヒドロキシアルキル基又はヒドロキシアルケニル基、ｔは１〜６の整数である。
ポリエーテル化合物（Ｂ）が、一般式（２）で表されるポリエーテル化合物（Ｂ１）、一般式（３）で表されるポリエーテル化合物（Ｂ２）、一般式（４）で表されるポリエーテル化合物（Ｂ３）、一般式（５）で表されるポリエーテル化合物（Ｂ４）及び一般式（６）で表されるポリエーテル化合物（Ｂ５）からなる群より選ばれる少なくとも１種である請求項１又は２に記載の製造方法。

Ｒ^２は炭素数１〜２５の活性水素化合物の反応残基、Ｒ^３及びＲ^４は炭素数１〜２４の１価の有機基、Ｒ^５は炭素数１〜２４の２価の有機基、Ｒ^６は水酸基又は炭素数１〜２４の１価の有機基、ＡＯ及びＯＡは炭素数２〜１８のオキシアルキレン基、グリシドールの反応残基、炭素数４〜１８のアルキルグリシジルエーテルの反応残基又は炭素数５〜１８のアルケニルグリシジルエーテルの反応残基を表し、（ＡＯ）ｎのうち、オキシエチレン基の占める割合は０〜３０重量％であり、ｎは１〜１００の整数で一分子中に複数のｎが存在する場合、それぞれ同じでも異なっていてもよく、ｓは１〜１０の整数、ｐは０〜１０の整数、ｑは０〜９の整数、ｒは０〜９の整数、ｍは０〜９の整数、ｐ＋ｒは１〜１０の整数、ｐ＋ｑ＋ｒは１〜１０の整数、ｐ＋ｑ＋ｒ＋ｍは２〜１０である。
ポリエーテル化合物（Ｂ）が、ポリエーテル化合物（Ｂ１）とポリエーテル化合物（Ｂ２）を含有してなり、
ポリエーテル化合物（Ｂ）の重量に基づいて、ポリエーテル化合物（Ｂ１）の含有量が１０〜９０重量％、ポリエーテル化合物（Ｂ２）の含有量が１０〜９０重量％である請求項１〜３のいずれかに記載の製造方法。
さらに、消泡剤に金属石鹸（Ｃ）、合成樹脂（Ｄ）、疎水性シリカ（Ｅ）及びワックス（Ｆ）からなる群より選ばれる少なくとも１種の分散質を含有し、
分散質の含有量が、ビスアミド（Ａ）及びポリエーテル化合物（Ｂ）の重量に基づいて、０．００５〜１０重量％であり、かつ分散質及びビスアミド（Ａ）の体積基準の粒子径分布における最頻値が０．１〜１０μｍである請求項１〜４のいずれかに記載の製造方法。
結晶形状制御剤（Ｇ）の使用量が、ビスアミド（Ａ）及びポリエーテル化合物（Ｂ）の重量に基づいて、０．０１〜１０重量％である請求項１〜５のいずれかに記載の製造方法。
樹脂エマルション、顔料、水性媒体及び請求項１〜６のいずれかに記載された製造方法で得られた消泡剤を含有することを特徴とするエマルション塗料。
請求項１〜６のいずれかに記載された製造方法で得られた消泡剤を排水に添加して排水を処理する工程を含むことを特徴とする排水処理方法。