JP5655215B2 - コーティング用組成物、防汚処理方法および防汚性基材 - Google Patents

Description

本発明は、コーティング用組成物、防汚処理方法および防汚性基材に関し、特に防汚性を付与できるコーティング用組成物、防汚処理方法および該方法で防汚処理された携帯電話に関する。

携帯電話の表示面、液晶パネルやタッチパネルの表示面、メガネレンズなどは、人が使用することによって、皮脂、指紋、汗、化粧品などが付着する。そこで、汚れが付着しにくく、かつ汚れを拭き取りやすくするための表面処理として、防汚処理が施される場合がある。
防汚処理は、基材の表面に防汚性を有する物質を薄膜にコーティングするものである。薄膜の原料としては、フルオロアルキル樹脂あるいはシリコーン系樹脂を利用することが多いが、中でもペルフルオロポリエーテル基を含む化合物は、その表面エネルギーが小さく、またエーテル結合を含むために分子構造が柔軟であることから、優れた防汚性を発揮することが知られている。これを薄膜にコーティングする際には、基材と薄膜の密着性を確保するため、同化合物中に加水分解が可能な基を導入したものを原料とするのが一般的である。

例えば特許第３４４９０７０号には、ペルフルオロポリエーテル変性シランを真空蒸着法により薄膜にコーティングする方法が提案されている。しかしながら、真空蒸着法では、高価な生産設備を必要とし、また生産性が低いため、生産コストが高くなる問題があった。また、真空蒸着法で薄膜化が可能な原料は、その分子量が約５０００以下のものに制限されるため、高機能な長鎖型の原料を利用できないという問題があった。

そこで、低コストで生産可能な、ディップ法、スプレー法などのウエットコーティング法が注目されている。
しかし、従来のウエットコーティング法では、目的の化合物を可溶溶媒に溶かして溶液化し、基材表面に塗布するが、目的の化合物が加水分解する基を含んでいるため、溶液を大気中に曝すと大気中の水分と化合物が反応して、溶液がゲル化したり、目的の化合物が粒子化したりする問題がある。
また、ディップ法においては、溶液が大気に曝される時間が長いため、溶液の変質が顕著であり、原料の利用効率、被膜の品質上の問題が発生し、結果的に生産コストが高くなってしまうという問題があった。またディップ法では、原理的に形成される被膜が分子１層しか堆積しないため、実用上十分な耐久性を持つ被膜を形成することが困難であった。

スプレー法は溶液が大気に曝される時間を短くすることができるので、溶液が変質することは避けられる。また生産性も高く、大面積化も容易であることから、大量生産に向いた工法であると言える。
しかしながら、スプレーノズルから噴射された液滴が基材表面に付着し、濡れ拡がり、溶媒が乾燥して目的の化合物が表面で薄膜化する過程で、原料高分子が粒子化して被膜が白濁する問題があった。
特許第３４４９０７０号

本発明は、上記問題を解決するためになされたもので、防汚性に優れ、透明であり、実用上十分な耐久性を持った防汚性被膜を、低コストで形成することができるコーティング用組成物、防汚処理方法および防汚性基材の提供を目的とする。

本発明のコーティング用組成物は、ペルフルオロアルキレンエーテル基を分子主鎖内に含み、シリコン原子を含む加水分解性基を側鎖に含む化合物を溶媒に溶解した組成物であることを特徴とする。この組成物において、上記溶媒がフッ素化炭化水素およびフッ素化エーテルの少なくとも１つを含むフッ素系溶媒同士の混合溶媒であり、上記フッ素系溶媒は１気圧下での沸点が４０℃以上７０℃以下であり、混合されている上記フッ素系溶媒の沸点の最大値と最小値の差が２５℃以内であることを特徴とする。
特に上記化合物が下記式（１）で表される化合物であることを特徴とする。

式中、Ｒｆは炭素数１〜１６の直鎖状または分岐状パーフルオロアルキル基、Ｙは水素原子または炭素数１〜３のアルキル基、Ｒ¹はハロゲン原子、−ＯＲ³基、−ＯＣＯＲ³基、−ＯＣ（Ｒ³）＝Ｃ（Ｒ⁴）₂基、−ＯＮ＝Ｃ（Ｒ³）₂基、および−ＯＮ＝Ｃ（Ｒ⁵）₂基から選ばれる少なくとも１つの基を表し、Ｒ³は脂肪族炭化水素基または芳香族炭化水素基を表し、Ｒ⁴は水素原子または炭素数１〜３のアルキル基を表し、Ｒ⁵は炭素数３〜６の２価の脂肪族炭化水素基を表し、ｑは１〜５０の整数、ｍは０〜２の整数、ｒは１〜１０の整数を表す。
また、式（１）で表される化合物を溶解するフッ素系溶媒が１,１,１,３,３−ペンタフルオロブタン、ペルフルオロヘキサン、１,１,１,２,２,３,３,４,５,５,５−ウンデカフルオロ−４−（トリフルオロメチル）ペンタン、または、メチルノナフルオロブチルエーテルであることを特徴とする。

本発明の防汚処理方法は、無機基材の表面、または無機もしくは有機基材に形成された無機表面膜の表面にコーティングを施すことにより、防汚処理を行なう防汚処理方法において、上記無機基材の表面または無機表面膜の表面へのコーティングが上記本発明のコーティング用組成物をスプレー法で塗布されたコーティングであることを特徴とする。
特に、上記無機表面膜は、ポリシラザン溶液をスプレー法で塗布することにより形成した無機表面膜であることを特徴する。

本発明の防汚性基材は、基材の表面、または基材に形成された無機表面膜の表面に防汚層を有する防汚性基材であって、上記防汚層が本発明の防汚処理方法により形成された防汚層であることを特徴とする。
特に、上記防汚性基材は、画像表示部を有し、該画像表示部の表面に上記防汚層が形成された携帯電話であることを特徴とする。

本発明のコーティング用組成物は、式（１）で表される化合物を特定の構造および沸点を有する複数の混合溶媒を溶媒として用いるので、防汚性に優れ、透明であり、実用上十分な耐久性を持った被膜を、低コストで形成することが可能になった。

本発明の携帯電話の実施形態の一例を示す外観図である。 図１の断面ＡＡ’を示す概略図である。

本発明に使用できるペルフルオロアルキレンエーテル基を分子主鎖内に、シリコン原子を含む加水分解性基を側鎖に、それぞれ含む化合物は、コーティング用組成物の溶質となる化合物である。
上記ペルフルオロアルキレンエーテル基は、下記式（１−１）で表され、上記シリコン原子を含む加水分解性基は下記式（１−２）で表される。

式（１−１）において、ｎは１〜５の整数を、式（１−２）において、ｍは０〜２の整数、Ｒ¹は加水分解可能な基をそれぞれ表す。

ペルフルオロアルキレンエーテル基内におけるエーテル結合の頻度は特に限定されるものではなく、繰り返し単位として、−（ＯＣＦ₂）−、−（ＯＣ₂Ｆ₄）−、−（ＯＣ₃Ｆ₆）−、−（ＯＣ₄Ｆ₈）−等が単独で、または複数組み合わされて形成されているペルフルオロアルキレンエーテル基が使用できる。また、ペルフルオロアルキレンエーテル基の一方の端部は、ｎが１以上のＣ_nＦ_2n＋1−基であることが好ましい。

側鎖に有するシリコン原子を含む加水分解性基としては、コーティングにおける塗膜形成時に水の作用により分解する基であればよく、上記式（１−２）で表される。
Ｒ¹としては、例えばハロゲン原子、−ＯＲ³基、−ＯＣＯＲ³基、−ＯＣ（Ｒ³）＝Ｃ（Ｒ⁴）₂基、−ＯＮ＝Ｃ（Ｒ³）₂基、−ＯＮ＝Ｃ（Ｒ⁵）₂基等が挙げられる。ここで、Ｒ³は脂肪族炭化水素基または芳香族炭化水素基を表し、Ｒ⁴は水素原子または炭素数１〜３のアルキル基を表し、Ｒ⁵は炭素数３〜６の２価の脂肪族炭化水素基を表す。
本発明において、好ましいＲ¹としては、式（１）で表される化合物を溶質として用いた場合に、被膜の白濁発生をより抑えることができる塩素原子、−ＯＣＨ₃基、−ＯＣ₂Ｈ₅基である。

上記本発明に使用できる化合物の好ましい例としては、式（１）で表される化合物が挙げられる。
Ｒｆとして表される炭素数１〜１６の直鎖状または分岐状ペルフルオロアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロペンチル基等が挙げられる。
Ｙとして表される炭素数１〜３のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基が挙げられる。
ｑは１〜５０、好ましくは１８〜３０、より好ましくは２２〜２６の整数、ｍは０〜２、好ましくは０の整数、ｒは１〜１０、好ましくは１〜５の整数を表す。
式（１）で表されるフッ素化合物は市販のパーフルオロポリエーテルをシラン処理することによって得ることができる。その方法は、例えば、特開平１−２９４７０９号公報に開示されている。

本発明で使用できる混合溶媒の成分を構成する、フッ素化炭化水素およびフッ素化エーテルの少なくとも１つを含むフッ素系溶媒は、１気圧下での沸点が４０℃以上７０℃以下である。また、混合溶媒中のフッ素系溶媒の沸点の最大値と最小値の差が２５℃以内、好ましくは２０℃以内である。
好ましい混合溶媒の構成は、１気圧下での沸点が４０℃以上７０℃以下のフッ素系溶媒１と、該溶媒１の沸点に対して２０℃以内の沸点差を有するフッ素系溶媒２との混合溶媒である。
上述の沸点条件を満たす２種類以上の溶媒を混合したコーティング剤をスプレーコーティングした場合には、膜厚のムラが抑制され、また透明な被膜が得られることが分かった。

混合溶媒ではなく、１種類の溶媒を使用したコーティング剤をスプレー法でコーティングすると、被膜が白濁しやすく、透明な薄膜を得る条件範囲（例えば、コーティング時の雰囲気の湿度と温度等）が著しく狭くなり、結果的に高コストなプロセスになってしまう。また、沸点の差が２５℃をこえる溶媒の組み合わせでは、被膜の膜厚均一性が損なわれ、目視で認識できるムラが発生してしまう。沸点が７０℃より高い溶媒を使用すると乾燥するまでの時間がかかり、逆に沸点が４０℃未満の低い溶媒を使用するとスプレーガンから噴射されたコーティング組成物の液滴が基材に到着する前にパウダー化し、透明な薄膜を得ることができない。そのメカニズムは明確ではないが、上記溶媒組成にすることで膜厚のムラを抑制して透明な被膜が得られる。

本発明で使用できる溶媒としては、環境破壊への影響、生産時の安全性、入手性などを考慮すると、１,１,１,３,３−ペンタフルオロブタン（沸点４０℃）、ペルフルオロヘキサン（沸点５６℃）、１,１,１,２,２,３,３,４,５,５,５−ウンデカフルオロ−４−（トリフルオロメチル）ペンタン（沸点５６℃）、メチルノナフルオロブチルエーテル（沸点６１℃）の中から２種類以上の溶剤を選んで混合したものが好適である。特に沸点の差が２０℃以内の２種類以上の溶剤を選んで混合したものが好適である。
また、混合溶媒の混合割合は、混合溶媒全体に対して、少なくとも１つの成分が１重量％以上、好ましくは２重量％以上混合されていることが好ましい。
なお、上記溶媒には濡れ性などの諸特性を調整する助剤を混合することができる。

本発明のコーティング用組成物は、基材をコーティング用組成物に浸漬するディップ法、基材にコーティング用組成物を噴霧状に塗布するスプレー法、基材を回転させながらコーティング用組成物を滴下するスピンコート法などのウェットプロセス、コーティング用組成物の溶質を用いる真空蒸着法などのドライプロセスなど、公知の方法でコーティングすることで表面に防汚層を形成できる。
これらの中で、スプレー法で形成した防汚層は、他の方法よりも耐磨耗性に優れることが分かった。また、材料の利用効率、生産性の観点からも、スプレー法は他の方法よりも有利である。したがって、コーティング方法としてはスプレー法が最も好ましい。

上記防汚層が形成される基材は、無機基材または有機基材を挙げることができる。
無機基材としては、ガラス、金属、セラミックスなどが挙げられる。これらの中で、透明もしくは半透明のガラス、セラミックスなどが好ましい。
有機基材としては、プラスチックス、ゴム、エラストマーなどが挙げられる。これらの中で、透明もしくは半透明のプラスチックスが好ましく、特にアクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂などが好ましい。
透明もしくは半透明の基材は、携帯電話、各種表示器などの表示部に用いられる場合が多く、防汚層の形成を特に必要とされる基材のためである。

基材の形状としてはフィルムまたはシートが好ましいが、特に限定されるものではなく、コーティング面が平面または滑らかな曲面であれば防汚層を形成する基材として使用できる。また、基材上にハードコーティング、反射防止コーティング、アンチグレアコーティングなど、他の表面処理があらかじめ施されていてもよい。

無機基材または有機基材の表面に無機表面膜を設けることが好ましい。特に有機基材の表面には無機表面膜を設けることが好ましい。無機表面膜を設けることにより、防汚層の密着力が向上する。
無機表面膜としては、金属膜、半導体膜、酸化膜、窒化膜、酸窒化膜などから、製品の要求仕様に応じて選択することができる。無機表面膜の厚さは、防汚コーティング層の密着性が確保される必要最小限の厚さにすべきであり、０．０１〜１μｍの範囲、より好ましくは０．０５〜０．２μｍの範囲で形成するのが好ましい。ただし、防汚性以外の製品の要求仕様からこの範囲外の無機膜が必要な場合には、当然それに適合した膜厚としてもよい。

基材の表面への無機表面膜の形成は、スプレー法、ゾルゲル法、スパッタリング法、ＣＶＤ法など公知の形成方法で成膜することができる。
式（１）で表される化合物の防汚層を形成する場合、ポリシラザン溶液を用いてスプレー法で塗布して乾燥した無機表面膜が実用上十分な耐摩耗性が得られることが分かった。また、生産コスト、生産性の観点からも、ポリシラザン溶液をスプレー法で塗布する無機表面膜形成方法は他の方法と同等もしくは優れていることから、無機表面膜はこの方法で形成するのが好ましい。

ポリシラザン溶液は、ＡＺエレクトロニックマテリアルズ社から市販されており、濃度、溶媒の種類などを基材の種類、膜厚、スプレー条件などに合わせて、希釈、濃縮を適宜行なえばよい。なお、ポリシラザン溶液をスプレー塗布する際に使用するキャリアガスは、極力水分を含まないガスが適しており、コストの観点から窒素ガスが最も適している。また、必要に応じて乾燥後のポリシラザン系無機膜を高湿度雰囲気中に放置すること、あるいは光または熱エネルギーを加えることにより、シリカへの転化を促進させてもよい。

本発明の防汚性基材は、携帯電話の表示面、液晶パネルやタッチパネルの表示面、メガネレンズなど、皮脂、指紋、汗、化粧品などが付着しやすい基材の表面に上述した防汚処理が施されているものである。
以下、本発明のコーティング用組成物を用いて防汚層が形成された携帯電話の例について、図面を用いて説明する。
図１および図２は、携帯電話の一例を示す図である。
図１は携帯電話の全体を示し、通話等に使用する各種の操作キー１、電話に関する各種の情報（電話番号、電波状態、バッテリーの残量等）や画像表示部である画像表示装置２、マイク３、スピーカー４から構成されている。画像表示装置２は具体的には液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）や有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ（有機ＥＬディスプレイ）などが挙げられる。

図２は図１の断面ＡＡ'を示す。画像表示装置２は携帯電話の筐体５の内部に設けられており、画像表示装置２の上には透過窓部材６が設けられている。透過窓部材６は一般的には光透過率の良い樹脂性であり、その材質はアクリル、ポリカーボネート等でできている。
本発明は、透過窓部材６に無機表面膜６ａおよび式（１）で表される化合物による防汚層６ｂを順に設けるものである。

透明な無機表面膜６ａは、スパッタリング法によって透過窓部材６に形成される。無機表面膜６ａの材料としては、ポリシラザン系無機膜を利用できる。
また、表面の防汚層６ｂとしては、式（１）で表される化合物を溶質とするコーティング用組成物を用いてスプレー法で塗布・乾燥して形成できる。

防汚処理理後の基材を以下の方法で評価した。評価項目とその方法を説明する。
（評価１）外観
評価サンプルを、暗室内で蛍光灯５００ルクス以上の照度の下、目視観察し、被膜の白濁、ムラの有無を判定した。
（評価２）皮脂付着性
評価サンプルを頬に押し当て、皮脂の付着状態を目視観察した。評価基準は、未処理の青板ガラスの付着状態を不良とし、これに比較して皮脂の付着が明らかに少ないものを良好とした。
（評価３）皮脂除去性
下記（評価４）の評価サンプルをセルロース製不織布（旭化成社製ベンコット）で軽く１０往復擦り、皮脂の残り方を目視観察した。評価基準は、皮脂がほとんど残らないものを良好、明らかに残るものを不良とした。
（評価４）耐摩耗性
コピー用紙（アスクル製スーパーホワイト）を９．８Ｎ／ｃｍ²の荷重でサンプルに押し当て、往復摺動させ、摺動部の水に対する接触角を測定し、接触角が９０°を下回るまでの摺動回数を測定した。試験は３回以上行ない、その平均値で評価した。なお、この試験方法で５万回程度の耐摩耗性があれば、実用上十分な耐摩耗性を有すると考えられる。
なお、以下の実施例、比較例に記載している膜厚は、評価サンプルと同時に形成したＳｉ（１００）基板上の被膜を、エリプソメーター（溝尻光学社製ＤＨＡ−ＦＲ）により測定した。また接触角は、評価サンプル表面の水に対する接触角を接触角計（協和界面科学社社製ＤＭ１００）により測定した。

実施例１
コーティング用組成物として、下記の式（２）で表される化合物１重量部を、ペルフルオロヘキサン（沸点５６℃）４重量部と１,１,１,３,３−ペンタフルオロブタン（沸点４０℃）１９５重量部との混合溶媒に溶解した組成物を準備した。このコーティング組成物をガラス基板（アズワン社製スライドガラスＳ１２２５）にスプレー法でコーティングして、５０℃で３０分間乾燥した。形成された防汚層の膜厚は８．４ｎｍ、接触角は１１６°だった。被膜の外観はムラがなく透明で、皮脂付着性、皮脂除去性とも良好だった。また耐摩耗性は９５，７６３回だった。結果を表１に示す。

式（２）において、トリメトキシシランを側鎖に有する繰り返し単位の繰り返し数１−１０は、繰り返し数が１〜１０の混合物を表す。

実施例２
コーティング用組成物として、上記式（２）で表される化合物１重量部を、ペルフルオロヘキサン（沸点５６℃）４重量部と１,１,１,２,２,３,３,４,５,５,５−ウンデカフルオロ−（トリフルオロメチル）ペンタン（沸点５６℃）１９５重量部との混合溶媒に溶解した組成物を準備した。このコーティング組成物をガラス基板（アズワン社製スライドガラスＳ１２２５）にスプレー法でコーティングして、５０℃で３０分間乾燥した。形成された防汚層の膜厚は９．２ｎｍ、接触角は１１５°だった。被膜の外観はムラがなく透明で、皮脂付着性、皮脂除去性とも良好だった。また耐摩耗性は８８，１４０回だった。結果を表１に示す。

実施例３
コーティング用組成物として、上記式（２）で表される化合物１重量部を、ペルフルオロヘキサン（沸点５６℃）４重量部とメチルナノフルオロブチルエーテル（沸点６１℃）１９５重量部との混合溶媒に溶解した組成物を準備した。このコーティング組成物をガラス基板（アズワン社製スライドガラスＳ１２２５）にスプレー法でコーティングして、５０℃で３０分間乾燥した。形成された防汚層の膜厚は８．８ｎｍ、接触角は１１６°だった。被膜の外観はムラがなく透明で、皮脂付着性、皮脂除去性とも良好だった。また耐摩耗性は９２，５９８回だった。結果を表１に示す。

実施例４
ハードコート付きアクリル基板（三菱レイヨン社製アクリライトＭＲ−２００）に、スプレー法でポリシラザン溶液（ＡＺエレクトロニックマテリアル社製アクアミカＮＬ１２０Ａ−０５）を塗布し、大気雰囲気に１昼夜放置してポリシラザン薄膜（膜厚９３ｎｍ）を形成した。その後、実施例２で使用したコーティング組成物を実施例２と同じ条件でスプレー法でコーティングした。防汚層の膜厚は８．５ｎｍ、接触角は１１７°だった。
被膜の外観はムラがなく透明で、皮脂付着性、皮脂除去性とも良好だった。また耐摩耗性は６６，０３１回だった。

比較例１
コーティング組成物として、上記式（２）で表される化合物１重量部を、ペルフルオロヘキサン（沸点５６℃）１９９重量部に溶解して準備した。このコーティング組成物をガラス基板（アズワン社製スライドガラスＳ１２２５）に実施例１と同じ条件でスプレー法でコーティングした。被膜の外観は、明らかに白濁していた。被膜の外観が不良であったため、皮脂付着性、皮脂除去性および耐摩耗性の評価を中止した。

比較例２
コーティング組成物として、上記式（２）で表される化合物１重量部を、ペルフルオロヘキサン（沸点５６℃）４重量部と旭硝子社製ＮｏｖｅｃＨＦＥ７２００（沸点７６℃）１９５重量部の混合溶媒に溶解して準備した。このコーティング組成物をガラス基板（アズワン社製スライドガラスＳ１２２５）に実施例１と同じ条件でスプレー法でコーティングした。被膜の外観は透明だったが、目視で認識できる円形の模様（ムラ）が発生した。被膜の外観が不良であったため、皮脂付着性、皮脂除去性および耐摩耗性の評価を中止した。

比較例３
コーティング組成物として、上記式（２）で表される化合物１重量部を、ペルフルオロヘキサン（沸点５６℃）４重量部と住友スリーエム社製フロリナートＦＣ−４０（沸点１５５℃）１９５重量部との混合溶媒に溶解して準備した。このコーティング組成物をガラス基板（アズワン社製スライドガラスＳ１２２５）に実施例１と同じ条件でスプレー法でコーティングした。被膜の外観は透明だったが、目視で認識できる不定形（アメーバ状）のムラが発生した。被膜の外観が不良であったため、皮脂付着性、皮脂除去性および耐摩耗性の評価を中止した。

比較例４
実施例２で使用したコーティング組成物を、実施例４で使用したハードコート付きアクリル基板に直接スプレー法でコーティングした。防汚層の膜厚は９．９ｎｍ、接触角は１１６°だった。被膜の外観はムラがなく透明で、皮脂付着性、皮脂除去性とも良好だった。しかし、耐摩耗性は７，３７９回と低かった。

比較例５
実施例２で使用したコーティング組成物の溶質を、実施例２で使用したガラス基板に真空蒸着法で成膜した。真空蒸着の背景圧力は１０^-3Ｐａ台とし、ガラス製坩堝に入れたコーティング組成物の溶質を室温から５００℃まで約３０分かけて昇温した。形成された被膜の膜厚は７．２ｎｍ、接触角は１１７°だった。被膜の外観はムラがなく透明で、皮脂付着性、皮脂除去性とも良好だった。しかし、耐摩耗性は４２，２１７回であり、実施例２と比較すると低かった。

比較例６
実施例２で使用したコーティング組成物を、実施例２で使用したガラス基板にディップ法で成膜した。ディップは、室温で２４時間浸漬し、１０ｍｍ／秒程度の速さで引き上げた。形成された被膜の膜厚は５ｎｍ以下で、測定できなかった。また、接触角は１１７°だった。被膜の外観はムラがなく透明で、皮脂付着性、皮脂除去性とも良好だった。しかし、耐摩耗性は４，７０１回と低かった。

比較例７
実施例４で使用したハードコート付きアクリル基板に、スパッタ法でＳｉＯ₂薄膜（膜厚１０１ｎｍ）を形成した。スパッタはイオンビーム方式で行い、背景圧力を１０^-3Ｐａ台とし、溶融石英ターゲットに７００ｅＶのＡｒイオンビームを照射した。その後、実施例２で使用したコーティング剤をスプレー法でコーティングした。防汚層の膜厚は８．９ｎｍ、接触角は１１５°だった。被膜の外観はムラがなく透明で、皮脂付着性、皮脂除去性とも良好だった。しかし、耐摩耗性は２０，５５８回と実施例４と比較すると低かった。

各実施例と各比較例の結果を表１にまとめた。なお、表１において、溶媒Ａはペルフルオロヘキサン（沸点５６℃）を、溶媒Ｂは１,１,１,３,３−ペンタフルオロブタン（沸点４０℃）を、溶媒Ｃは１,１,１,２,２,３,３,４,５,５,５−ウンデカフルオロ-（トリフルオロメチル）ペンタン（沸点５６℃）を、溶媒Ｄはメチルナノフルオロブチルエーテル（沸点６１℃）を、溶媒Ｅは旭硝子社製ＮｏｖｅｃＨＦＥ７２００（沸点７６℃）を、溶媒Ｆは住友スリーエム社製フロリナートＦＣ−４０（沸点１５５℃）をそれぞれ表す。

本発明のコーティング組成物および表面処理方法により、防汚性に優れ、透明であり、実用上十分な耐久性を持った防汚被膜を、低コストで形成することが可能となるので、携帯電話、表示装置等に利用できる。

１ 操作キー
２ 画像表示装置
３ マイク（送話口）
４ スピーカー（受話口）
５ 筐体
６ 透過窓部材
６ａ 無機表面膜
６ｂ 防汚層

Claims (9)

1. ペルフルオロアルキレンエーテル基を分子主鎖内に含み、シリコン原子を含む加水分解性基を側鎖に含む化合物を溶媒に溶解してなるコーティング用組成物であって、
   前記溶媒がフッ素化炭化水素およびフッ素化エーテルの少なくとも１つを含むフッ素系溶媒同士の混合溶媒であり、前記フッ素系溶媒は１気圧下での沸点が４０℃以上７０℃以下であり、前記混合溶媒中の前記フッ素系溶媒の沸点の最大値と最小値の差が２５℃以内であり、前記フッ素系溶媒が１,１,１,３,３−ペンタフルオロブタン、ペルフルオロヘキサン、１,１,１,２,２,３,３,４,５,５,５−ウンデカフルオロ−４−（トリフルオロメチル）ペンタン、または、メチルノナフルオロブチルエーテルであることを特徴とするコーティング用組成物。
2. 前記ペルフルオロアルキレンエーテル基が下記式（１−１）で表され、前記シリコン原子を含む加水分解性基が下記式（１−２）で表されることを特徴とする請求項１記載のコーティング用組成物。
   

   

   （式中、ｎは１〜５の整数、ｍは０〜２の整数、Ｒ¹は加水分解可能な基を表す。）
3. 前記化合物が下記式（１）で表される化合物であることを特徴とする請求項２記載のコーティング用組成物。
   

   

   （式中、Ｒｆは炭素数１〜１６の直鎖状または分岐状パーフルオロアルキル基、Ｙは水素原子または炭素数１〜３のアルキル基、Ｒ¹はハロゲン原子、−ＯＲ³基、−ＯＣＯＲ³基、−ＯＣ（Ｒ³）＝Ｃ（Ｒ⁴）₂基、−ＯＮ＝Ｃ（Ｒ³）₂基、および−ＯＮ＝Ｃ（Ｒ⁵）₂基から選ばれる少なくとも１つの基を表し、Ｒ³は脂肪族炭化水素基または芳香族炭化水素基を表し、Ｒ⁴は水素原子または炭素数１〜３のアルキル基を表し、Ｒ⁵は炭素数３〜６の２価の脂肪族炭化水素基を表し、ｑは１〜５０の整数、ｍは０〜２の整数、ｒは１〜１０の整数を表す。）
4. 前記Ｒ¹が塩素原子、−ＯＣＨ₃基、および−ＯＣ₂Ｈ₅基から選ばれる少なくとも１つの基であることを特徴とする請求項３記載のコーティング用組成物。
5. 前記混合溶媒が１,１,１,３,３−ペンタフルオロブタン、ペルフルオロヘキサン、１,１,１,２,２,３,３,４,５,５,５−ウンデカフルオロ−４−（トリフルオロメチル）ペンタン、および、メチルノナフルオロブチルエーテルから選ばれた２種類のフッ素系溶媒の混合溶媒であることを特徴とする請求項１記載のコーティング用組成物。
6. 無機基材の表面、または無機もしくは有機基材に形成された無機表面膜の表面にコーティングを施すことにより、防汚処理を行なう防汚処理方法において、
   前記無機基材の表面または無機表面膜の表面へのコーティングが請求項１記載のコーティング用組成物をスプレー法で塗布されたコーティングであることを特徴とする防汚処理方法。
7. 前記無機表面膜は、ポリシラザン溶液をスプレー法で塗布することにより形成した無機表面膜であることを特徴する請求項６記載の防汚処理方法。
8. 基材の表面、または基材に形成された無機表面膜の表面に防汚層を有する防汚性基材であって、
   前記防汚層が請求項６記載の防汚処理方法により形成された防汚層であることを特徴とする防汚性基材。
9. 前記防汚性基材は、画像表示部を有し、該画像表示部の表面に請求項８記載の耐防汚層が形成された携帯電話であることを特徴とする防汚性基材。

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