JPH0961605A - 反射防止フィルター - Google Patents
反射防止フィルターInfo
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- JPH0961605A JPH0961605A JP8153822A JP15382296A JPH0961605A JP H0961605 A JPH0961605 A JP H0961605A JP 8153822 A JP8153822 A JP 8153822A JP 15382296 A JP15382296 A JP 15382296A JP H0961605 A JPH0961605 A JP H0961605A
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- JP
- Japan
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- film
- group
- antireflection
- integer
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- Paints Or Removers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ＣＲＴディスプレーや液晶ディスプレーなど
の表示画面に用いらる汚染防止性が高く、しかもその効
果が永続する反射防止フィルターを提供する。 【解決手段】 透明基材からなるフィルムまたはシート
の少なくとも片面に、無機化合物の層からなる反射防止
膜、及び下記の一般式 化１で示される数平均分子量５
×１０2 〜１×１０5 のシラン化合物からなる層が形成
された反射防止フィルター。 【化１】 （式中、Ｒf は炭素数１〜１６の直鎖状または分岐状パ
ーフルオロアルキル基、Ｘはヨウ素原子または水素原
子、Ｙは水素原子または低級アルキル基、Ｚはフッ素原
子またはトリフルオロメチル基、Ｒ1 は加水分解可能な
基、Ｒ2 は水素原子または不活性な一価の有機基、ａ，
ｂ，ｃ，ｄは０〜２００の整数、ｅは０または１、ｍお
よびｎは０〜２の整数、ｐは１〜１０の整数を表す。）
の表示画面に用いらる汚染防止性が高く、しかもその効
果が永続する反射防止フィルターを提供する。 【解決手段】 透明基材からなるフィルムまたはシート
の少なくとも片面に、無機化合物の層からなる反射防止
膜、及び下記の一般式 化１で示される数平均分子量５
×１０2 〜１×１０5 のシラン化合物からなる層が形成
された反射防止フィルター。 【化１】 （式中、Ｒf は炭素数１〜１６の直鎖状または分岐状パ
ーフルオロアルキル基、Ｘはヨウ素原子または水素原
子、Ｙは水素原子または低級アルキル基、Ｚはフッ素原
子またはトリフルオロメチル基、Ｒ1 は加水分解可能な
基、Ｒ2 は水素原子または不活性な一価の有機基、ａ，
ｂ，ｃ，ｄは０〜２００の整数、ｅは０または１、ｍお
よびｎは０〜２の整数、ｐは１〜１０の整数を表す。）
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ＣＲＴディスプレ
ー、プロジェクションテレビ、プラズマディスプレー、
ＥＬディスプレー、液晶ディスプレーなどのＶＤＴの表
面に貼合して、または前面板として用いられる透光性の
反射防止フィルターに関する。
ー、プロジェクションテレビ、プラズマディスプレー、
ＥＬディスプレー、液晶ディスプレーなどのＶＤＴの表
面に貼合して、または前面板として用いられる透光性の
反射防止フィルターに関する。
【０００２】
【従来の技術】各種ディスプレーなどの表示画面は、照
明光の反射や背景が映ることによる画像の不鮮明になる
ことを防止するため、透光性の反射防止フィルターを用
いている。一方、表示画面には、人が使用するに際し、
手垢、指紋、汗、化粧料などの付着があり、反射防止膜
を形成させると、その付着による汚れが目立ちやすく、
またその汚れがとれにくくなる。そこで、汚れにくく、
あるいは汚れを拭き取りやすくするために、反射防止膜
の表面に更に防汚層を設ける工夫がなされている。例え
ば特開昭６４−８６１０１号公報では、基材の表面に、
主として二酸化珪素からなる反射防止膜を付け、さらに
その表面に有機珪素置換基を含む化合物で処理した耐汚
染性、耐擦傷性の反射防止物品が提案されている。また
特開平４−３３８９０１号公報では、同様に反射防止膜
上に末端シラノール有機ポリシロキサンを皮膜した、耐
汚染性、耐擦傷性のＣＲＴフィルターが提案されてい
る。更に特公平６−２９３３２号公報ではプラスチック
表面にポリフルオロアルキル基を含むモノ及びジシラン
化合物およびハロゲン原子、アルキル基、又はアルコキ
シ基を有するシラン化合物とからなる反射防止膜を積層
した低反射性と防汚性を有する低反射プラスチックが提
案されている。
明光の反射や背景が映ることによる画像の不鮮明になる
ことを防止するため、透光性の反射防止フィルターを用
いている。一方、表示画面には、人が使用するに際し、
手垢、指紋、汗、化粧料などの付着があり、反射防止膜
を形成させると、その付着による汚れが目立ちやすく、
またその汚れがとれにくくなる。そこで、汚れにくく、
あるいは汚れを拭き取りやすくするために、反射防止膜
の表面に更に防汚層を設ける工夫がなされている。例え
ば特開昭６４−８６１０１号公報では、基材の表面に、
主として二酸化珪素からなる反射防止膜を付け、さらに
その表面に有機珪素置換基を含む化合物で処理した耐汚
染性、耐擦傷性の反射防止物品が提案されている。また
特開平４−３３８９０１号公報では、同様に反射防止膜
上に末端シラノール有機ポリシロキサンを皮膜した、耐
汚染性、耐擦傷性のＣＲＴフィルターが提案されてい
る。更に特公平６−２９３３２号公報ではプラスチック
表面にポリフルオロアルキル基を含むモノ及びジシラン
化合物およびハロゲン原子、アルキル基、又はアルコキ
シ基を有するシラン化合物とからなる反射防止膜を積層
した低反射性と防汚性を有する低反射プラスチックが提
案されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】これまで提案のあった
反射防止フィルターの耐汚染性については、それなりに
効果があるものの未だ充分ではない。特に、付着した汚
染物が拭い取りにくいため、拭い取るのに水及び／また
は有機溶媒を用いなければばらず、この拭き取りによっ
て耐汚染性を発現する物質が除かれやすく、耐汚染性、
その永続性に乏しい。そこで、本発明の目的は、汚染防
止性がより高いのみならず、汚染物の除去が容易でしか
もその効果が永続する反射防止フィルターを提供するこ
とにある。
反射防止フィルターの耐汚染性については、それなりに
効果があるものの未だ充分ではない。特に、付着した汚
染物が拭い取りにくいため、拭い取るのに水及び／また
は有機溶媒を用いなければばらず、この拭き取りによっ
て耐汚染性を発現する物質が除かれやすく、耐汚染性、
その永続性に乏しい。そこで、本発明の目的は、汚染防
止性がより高いのみならず、汚染物の除去が容易でしか
もその効果が永続する反射防止フィルターを提供するこ
とにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、透明基材から
なるフィルムまたはシートの片面または両面に、無機化
合物の層からなる反射防止膜、及び下記の一般式 化３
で示される数平均分子量５×１０2 〜１×１０5 のシラ
ン化合物からなる層が形成された反射防止フィルターで
ある。
なるフィルムまたはシートの片面または両面に、無機化
合物の層からなる反射防止膜、及び下記の一般式 化３
で示される数平均分子量５×１０2 〜１×１０5 のシラ
ン化合物からなる層が形成された反射防止フィルターで
ある。
【０００５】
【化３】 （式中、Ｒf は炭素数１〜１６の直鎖状または分岐状パ
ーフルオロアルキル基、Ｘはヨウ素原子または水素原
子、Ｙは水素原子または低級アルキル基、Ｚはフッ素原
子またはトリフルオロメチル基、Ｒ1 は加水分解可能な
基、Ｒ2 は水素または不活性な一価の有機基、ａ、ｂ、
ｃ、ｄは０〜２００の整数、ｅは０または１、ｍおよび
ｎは０〜２の整数、及びｐは１〜１０の整数を表す。）
ーフルオロアルキル基、Ｘはヨウ素原子または水素原
子、Ｙは水素原子または低級アルキル基、Ｚはフッ素原
子またはトリフルオロメチル基、Ｒ1 は加水分解可能な
基、Ｒ2 は水素または不活性な一価の有機基、ａ、ｂ、
ｃ、ｄは０〜２００の整数、ｅは０または１、ｍおよび
ｎは０〜２の整数、及びｐは１〜１０の整数を表す。）
【０００６】
【発明の実施の形態】本発明における透明基材として
は、ガラス、透明プラスチック等を挙げることができ、
その形状はフィルムまたはシート状である。透明プラス
チックとしては例えば、アクリル系樹脂、ポリカーボネ
ート系樹脂、ポリエステル系樹脂、トリアセチルセルロ
ース、ジアセチルセルロース等のセルロース系樹脂、ス
チレン系樹脂等である。なかでも光透過性、耐候性の点
からアクリル系樹脂が適している。アクリル系樹脂のな
かでもアクリルゴムを分散させたアクリル系樹脂が耐衝
撃性強度の点で、グルタル酸無水物単位やグルタルイミ
ド単位を含むアクリル系樹脂が耐熱性の点で好ましい。
またこれら透明基材として、偏光特性を付与した光学フ
ィルムまたはシート、例えばポリビニルアルコール樹脂
からなるヨウ素系または染料系偏光フィルムまたはシー
ト、または該偏光フィルムまたはシートとセルロース系
樹脂等が積層されたフィルムまたはシート等、も同様に
挙げられる。
は、ガラス、透明プラスチック等を挙げることができ、
その形状はフィルムまたはシート状である。透明プラス
チックとしては例えば、アクリル系樹脂、ポリカーボネ
ート系樹脂、ポリエステル系樹脂、トリアセチルセルロ
ース、ジアセチルセルロース等のセルロース系樹脂、ス
チレン系樹脂等である。なかでも光透過性、耐候性の点
からアクリル系樹脂が適している。アクリル系樹脂のな
かでもアクリルゴムを分散させたアクリル系樹脂が耐衝
撃性強度の点で、グルタル酸無水物単位やグルタルイミ
ド単位を含むアクリル系樹脂が耐熱性の点で好ましい。
またこれら透明基材として、偏光特性を付与した光学フ
ィルムまたはシート、例えばポリビニルアルコール樹脂
からなるヨウ素系または染料系偏光フィルムまたはシー
ト、または該偏光フィルムまたはシートとセルロース系
樹脂等が積層されたフィルムまたはシート等、も同様に
挙げられる。
【０００７】透明基材からなるフィルムまたはシートは
単層でもよいし、積層したものでもよい。その厚みは、
使途によって任意に選択し得るが、通常は０．０１〜１
０ｍｍ程度である。
単層でもよいし、積層したものでもよい。その厚みは、
使途によって任意に選択し得るが、通常は０．０１〜１
０ｍｍ程度である。
【０００８】透明基材からなるフィルムまたはシート
（以下、この「透明基材からなるフィルムまたはシー
ト」を単に「透明基材」と表すことがある）の片面また
は両面に、直接反射防止膜を形成してもよいが、あらか
じめ該透明基材の片面または両面にハードコート層を形
成し、該ハードコート層上に反射防止膜を形成してもよ
いもよい。このハードコート層を透明基材表面に形成
し、該基材表面を被覆することにより表面硬度が増すの
みならず、反射防止膜と接触する面が平滑になり、反射
防止膜の密着性が向上する。
（以下、この「透明基材からなるフィルムまたはシー
ト」を単に「透明基材」と表すことがある）の片面また
は両面に、直接反射防止膜を形成してもよいが、あらか
じめ該透明基材の片面または両面にハードコート層を形
成し、該ハードコート層上に反射防止膜を形成してもよ
いもよい。このハードコート層を透明基材表面に形成
し、該基材表面を被覆することにより表面硬度が増すの
みならず、反射防止膜と接触する面が平滑になり、反射
防止膜の密着性が向上する。
【０００９】該ハードコート層としては、この用途に用
いられる公知のものでよい。例えば多官能性モノマーを
主成分とする原料を重合硬化させることによって得られ
る硬化膜を挙げることができる。具体的には、ウレタン
変性（メタ）アクリルオリゴマー、多価アルコールと
（メタ）アクリル酸とのエステル化物、ポリエーテル
（メタ）アクリレート等のアクリロイル基、メタクリロ
イル基を２つ以上含んだ多官能重合性化合物を紫外線、
電子線等の活性化エネルギー線によって重合硬化させた
層；あるいはシリコン系、メラミン系、エポキシ系の架
橋性樹脂原料を熱によって架橋硬化させた物などを挙げ
ることができる。なかでも、耐久性や取り扱いの容易さ
の点でウレタン変性アクリルオリゴマーからなる樹脂原
料を紫外線または電子線によって硬化させた層、シリコ
ン系の多官能重合性化合物からなる樹脂原料を熱によっ
て硬化させた層が優れている。
いられる公知のものでよい。例えば多官能性モノマーを
主成分とする原料を重合硬化させることによって得られ
る硬化膜を挙げることができる。具体的には、ウレタン
変性（メタ）アクリルオリゴマー、多価アルコールと
（メタ）アクリル酸とのエステル化物、ポリエーテル
（メタ）アクリレート等のアクリロイル基、メタクリロ
イル基を２つ以上含んだ多官能重合性化合物を紫外線、
電子線等の活性化エネルギー線によって重合硬化させた
層；あるいはシリコン系、メラミン系、エポキシ系の架
橋性樹脂原料を熱によって架橋硬化させた物などを挙げ
ることができる。なかでも、耐久性や取り扱いの容易さ
の点でウレタン変性アクリルオリゴマーからなる樹脂原
料を紫外線または電子線によって硬化させた層、シリコ
ン系の多官能重合性化合物からなる樹脂原料を熱によっ
て硬化させた層が優れている。
【００１０】ウレタン変性（メタ）アクリレートは、末
端イソシアネートポリウレタンと水酸基を有する（メ
タ）アクリル酸誘導体とのウレタン化反応によって得る
ことができる。末端イソシアネートポリウレタンは、ポ
リイソシアネート例えばヘキサメチレンジイソシアネー
ト、イソホロンジイソシアネート等と複数の水酸基を有
するオリゴマー例えばポリカプロラクトンジオール、ポ
リテトラメチレンジオール等との反応によって生成され
る。水酸基を有する（メタ）アクリル酸誘導体として
は、例えば（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、
（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル等を挙げる
ことができる。
端イソシアネートポリウレタンと水酸基を有する（メ
タ）アクリル酸誘導体とのウレタン化反応によって得る
ことができる。末端イソシアネートポリウレタンは、ポ
リイソシアネート例えばヘキサメチレンジイソシアネー
ト、イソホロンジイソシアネート等と複数の水酸基を有
するオリゴマー例えばポリカプロラクトンジオール、ポ
リテトラメチレンジオール等との反応によって生成され
る。水酸基を有する（メタ）アクリル酸誘導体として
は、例えば（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、
（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル等を挙げる
ことができる。
【００１１】多価アルコールと（メタ）アクリル酸との
エステル化物における多価アルコールとしては、例えば
エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピ
レングリコール、ポリプロピレングリコール、プロパン
ジオール、ブタンジオール、ペンタンジオール、ヘキサ
ンジオール、ネオペンチルグリコール、２−エチル−
１，３−ヘキサンジオール、２，２’−チオジエタノー
ル、１，４−シクロヘキサンジメタノール等の２価のア
ルコール、トリメチロールプロパン、ペンタグリセロー
ル、グリセロール、ペンタエリスリトール、ジグリセロ
ール、ジペンタグリセロール等の３価以上のアルコール
が挙げられる。また、得られる硬化膜の可とう性をもた
せひび割れしにくくするために、多価アルコールと（メ
タ）アクリル酸とのエステル化物の生成において、（メ
タ）アクリル酸に加えさらに多価不飽和カルボン酸を少
量加えて混合エステルとしてもよい。該多価不飽和カル
ボン酸としては、例えばコハク酸、テトラヒドロフタル
酸、フタル酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸等を
挙げることができる。
エステル化物における多価アルコールとしては、例えば
エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピ
レングリコール、ポリプロピレングリコール、プロパン
ジオール、ブタンジオール、ペンタンジオール、ヘキサ
ンジオール、ネオペンチルグリコール、２−エチル−
１，３−ヘキサンジオール、２，２’−チオジエタノー
ル、１，４−シクロヘキサンジメタノール等の２価のア
ルコール、トリメチロールプロパン、ペンタグリセロー
ル、グリセロール、ペンタエリスリトール、ジグリセロ
ール、ジペンタグリセロール等の３価以上のアルコール
が挙げられる。また、得られる硬化膜の可とう性をもた
せひび割れしにくくするために、多価アルコールと（メ
タ）アクリル酸とのエステル化物の生成において、（メ
タ）アクリル酸に加えさらに多価不飽和カルボン酸を少
量加えて混合エステルとしてもよい。該多価不飽和カル
ボン酸としては、例えばコハク酸、テトラヒドロフタル
酸、フタル酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸等を
挙げることができる。
【００１２】ハードコート層を形成させる方法として
は、まず、原料を通常のコーティング作業で用いられる
方法で、例えば、基材を回転させ、その上にコート剤を
滴下することで、コート剤による被膜を均一に形成させ
るスピン塗装；基材をコート剤溶液中に浸漬させ、一定
速度で引き上げることで被膜を形成させる浸漬塗装；ロ
ールにコート剤被膜を形成させ、ロール間を基材が移動
することによりロールのコート剤を基材上に転写させる
ロールコート塗装やグラビアコート塗装；コート剤を滝
状に流し落とし、その下を基材が通り抜けることにより
コート剤の被膜を形成させるカーテンフロー塗装等で塗
布し（例えば「コーティング方法」（原崎勇次著、槇書
店 １９７９年１０月３０日発行）や「塗布機と周辺機
器」（青山他 著 株式会社ポリマー工業研究所、加工
技術研究会 １９７９年２月発行）に記載の方法）、続
いて上記したように、用いた原料に応じた方法により、
硬化させる方法を挙げることができる。
は、まず、原料を通常のコーティング作業で用いられる
方法で、例えば、基材を回転させ、その上にコート剤を
滴下することで、コート剤による被膜を均一に形成させ
るスピン塗装；基材をコート剤溶液中に浸漬させ、一定
速度で引き上げることで被膜を形成させる浸漬塗装；ロ
ールにコート剤被膜を形成させ、ロール間を基材が移動
することによりロールのコート剤を基材上に転写させる
ロールコート塗装やグラビアコート塗装；コート剤を滝
状に流し落とし、その下を基材が通り抜けることにより
コート剤の被膜を形成させるカーテンフロー塗装等で塗
布し（例えば「コーティング方法」（原崎勇次著、槇書
店 １９７９年１０月３０日発行）や「塗布機と周辺機
器」（青山他 著 株式会社ポリマー工業研究所、加工
技術研究会 １９７９年２月発行）に記載の方法）、続
いて上記したように、用いた原料に応じた方法により、
硬化させる方法を挙げることができる。
【００１３】ハードコート層の厚さは、塗膜強度、表面
強度、光学特性の点から１〜２０μｍが好ましい。
強度、光学特性の点から１〜２０μｍが好ましい。
【００１４】反射防止膜は透明基材の片面または両面に
直接、または透明基材の片面または両面に形成されたハ
ードコート層の表面に積層する。反射防止膜は、無機化
合物の単層または多層の薄膜からなる公知のものでよ
く、真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリ
ング法などの公知の方法により形成することができる。
例えば、真空蒸着法においては、被覆させたい基材を真
空槽に仕込み、通常は真空度を１０-4Torr以下とし、蒸
着させる物質を抵抗加熱、電子線加熱等により加熱蒸発
させ、この蒸発した物質が基材表面に凝縮することによ
り、薄膜を形成することができる。スパッタリング法に
おいては、通常、１０-3Torr程度の低圧中で二電極間で
グロー放電を行わせ、これにより放出される陰極物質を
基材に付着させることができる。さらに具体的には前述
の特開平４−３３８９０１号公報や特開昭６４−８６１
０１号公報、さらには特開昭５６−１１３１０１号公報
に記載の方法が挙げられる。また、反射防止膜の構成に
関しては、米国特許3,185,020 号公報や、同3,432,225
号公報等に記載のものを挙げることができる。反射防止
膜としてはポリスチレン層等を積層した反射防止膜（特
開平６−３４４４８７号公報）等の有機系の反射防止膜
もあるが、本発明において用いる反射防止膜は無機化合
物の層からなる反射防止膜であって、有機系の反射防止
膜では耐久性の良いシラン化合物層が得られ難い。
直接、または透明基材の片面または両面に形成されたハ
ードコート層の表面に積層する。反射防止膜は、無機化
合物の単層または多層の薄膜からなる公知のものでよ
く、真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリ
ング法などの公知の方法により形成することができる。
例えば、真空蒸着法においては、被覆させたい基材を真
空槽に仕込み、通常は真空度を１０-4Torr以下とし、蒸
着させる物質を抵抗加熱、電子線加熱等により加熱蒸発
させ、この蒸発した物質が基材表面に凝縮することによ
り、薄膜を形成することができる。スパッタリング法に
おいては、通常、１０-3Torr程度の低圧中で二電極間で
グロー放電を行わせ、これにより放出される陰極物質を
基材に付着させることができる。さらに具体的には前述
の特開平４−３３８９０１号公報や特開昭６４−８６１
０１号公報、さらには特開昭５６−１１３１０１号公報
に記載の方法が挙げられる。また、反射防止膜の構成に
関しては、米国特許3,185,020 号公報や、同3,432,225
号公報等に記載のものを挙げることができる。反射防止
膜としてはポリスチレン層等を積層した反射防止膜（特
開平６−３４４４８７号公報）等の有機系の反射防止膜
もあるが、本発明において用いる反射防止膜は無機化合
物の層からなる反射防止膜であって、有機系の反射防止
膜では耐久性の良いシラン化合物層が得られ難い。
【００１５】用いられる無機化合物としては、例えば二
酸化珪素、一酸化珪素等の酸化珪素、酸化イットリウ
ム、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化トリウ
ム、酸化スズ、酸化ランタン、酸化インジウム、酸化ネ
オジウム、酸化アンチモン、酸化ジルコニウム、酸化セ
リウム、酸化チタン、酸化ビスマスなどの金属酸化物、
フッ化カルシウム、フッ化ナトリウム、フッ化リチウ
ム、フッ化マグネシウム、フッ化ランタン、フッ化ネオ
ジウム、フッ化セリウム、フッ化鉛等の金属ハロゲン化
物、硫化亜鉛、硫化カドミウム、三硫化アンチモン等の
金属硫化物、セレン化亜鉛等のセレン化金属、テルル化
カドミウム、テルル化鉛等のテルル化金属、珪素、ゲル
マニウム、テルルなどを挙げることができる。
酸化珪素、一酸化珪素等の酸化珪素、酸化イットリウ
ム、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化トリウ
ム、酸化スズ、酸化ランタン、酸化インジウム、酸化ネ
オジウム、酸化アンチモン、酸化ジルコニウム、酸化セ
リウム、酸化チタン、酸化ビスマスなどの金属酸化物、
フッ化カルシウム、フッ化ナトリウム、フッ化リチウ
ム、フッ化マグネシウム、フッ化ランタン、フッ化ネオ
ジウム、フッ化セリウム、フッ化鉛等の金属ハロゲン化
物、硫化亜鉛、硫化カドミウム、三硫化アンチモン等の
金属硫化物、セレン化亜鉛等のセレン化金属、テルル化
カドミウム、テルル化鉛等のテルル化金属、珪素、ゲル
マニウム、テルルなどを挙げることができる。
【００１６】シラン化合物からなる層は、反射防止膜上
に形成され、防汚層として機能する被覆膜であり、該シ
ラン化合物は前記の一般式 化３で示され、かつその数
平均分子量は５×１０2 〜１×１０5 である。なかでも
一般式 化３中の、Ｒf は通常、炭素数１〜１６の直鎖
状または分岐状パーフルオロアルキル基であり、好まし
くは、ＣＦ3 基、Ｃ2 Ｆ5 基、Ｃ3 Ｆ 7 基である。Ｙに
おける低級アルキル基としては通常、炭素数１〜５のも
のが挙げられる。Ｒ1 の加水分解可能な基としては、塩
素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子、Ｒ3
Ｏ基、Ｒ3 ＣＯＯ基、（Ｒ4 ) 2 Ｃ＝Ｃ（Ｒ3 ）ＣＯ
基、（Ｒ3）2 Ｃ＝ＮＯ基、Ｒ5 Ｃ＝ＮＯ基、（Ｒ4 ) 2
Ｎ基、及びＲ3 ＣＯＮＲ4 基が好ましい。（ここで、
Ｒ3 はアルキル基等の通常は炭素数１〜１０の脂肪族炭
化水素基またはフェニル基等の通常は炭素数６〜２０の
芳香族炭化水素基、Ｒ4 は水素原子またはアルキル基等
の通常は炭素数１〜５の低級脂肪族炭化水素基、Ｒ5は
アルキリデン基等の通常は炭素数３〜６の二価の脂肪族
炭化水素基である。） さらに好ましくは、塩素原子、ＣＨ3 Ｏ基、Ｃ2 Ｈ5 Ｏ
基である。Ｒ2 は水素原子または不活性な一価の有機基
であり、好ましくは、アルキル基等の通常は炭素数１〜
４の一価の炭化水素基である。ａ、ｂ、ｃ、ｄは０〜２
００の整数であり、好ましくは１〜５０である。ｍおよ
びｎは、０〜２の整数であり、好ましくは０である。ｐ
は１または２以上の整数であり、好ましくは１〜１０の
整数であり、さらに好ましくは１〜５の整数である。ま
た、数平均分子量は５×１０2 〜１×１０5 であり、好
ましくは１×１０3〜１×１０4 である。
に形成され、防汚層として機能する被覆膜であり、該シ
ラン化合物は前記の一般式 化３で示され、かつその数
平均分子量は５×１０2 〜１×１０5 である。なかでも
一般式 化３中の、Ｒf は通常、炭素数１〜１６の直鎖
状または分岐状パーフルオロアルキル基であり、好まし
くは、ＣＦ3 基、Ｃ2 Ｆ5 基、Ｃ3 Ｆ 7 基である。Ｙに
おける低級アルキル基としては通常、炭素数１〜５のも
のが挙げられる。Ｒ1 の加水分解可能な基としては、塩
素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子、Ｒ3
Ｏ基、Ｒ3 ＣＯＯ基、（Ｒ4 ) 2 Ｃ＝Ｃ（Ｒ3 ）ＣＯ
基、（Ｒ3）2 Ｃ＝ＮＯ基、Ｒ5 Ｃ＝ＮＯ基、（Ｒ4 ) 2
Ｎ基、及びＲ3 ＣＯＮＲ4 基が好ましい。（ここで、
Ｒ3 はアルキル基等の通常は炭素数１〜１０の脂肪族炭
化水素基またはフェニル基等の通常は炭素数６〜２０の
芳香族炭化水素基、Ｒ4 は水素原子またはアルキル基等
の通常は炭素数１〜５の低級脂肪族炭化水素基、Ｒ5は
アルキリデン基等の通常は炭素数３〜６の二価の脂肪族
炭化水素基である。） さらに好ましくは、塩素原子、ＣＨ3 Ｏ基、Ｃ2 Ｈ5 Ｏ
基である。Ｒ2 は水素原子または不活性な一価の有機基
であり、好ましくは、アルキル基等の通常は炭素数１〜
４の一価の炭化水素基である。ａ、ｂ、ｃ、ｄは０〜２
００の整数であり、好ましくは１〜５０である。ｍおよ
びｎは、０〜２の整数であり、好ましくは０である。ｐ
は１または２以上の整数であり、好ましくは１〜１０の
整数であり、さらに好ましくは１〜５の整数である。ま
た、数平均分子量は５×１０2 〜１×１０5 であり、好
ましくは１×１０3〜１×１０4 である。
【００１７】また、上記の一般式 化３で表されるシラ
ン化合物の好ましい構造のものとして、Ｒf がＣ3 Ｆ7
基であり、ａが１〜５０の整数であり、ｂ、ｃ及びｄが
０であり、ｅが１であり、Ｚがフッ素原子であり、ｎが
０である化合物、即ち下記の一般式 化４で表される化
合物がある。
ン化合物の好ましい構造のものとして、Ｒf がＣ3 Ｆ7
基であり、ａが１〜５０の整数であり、ｂ、ｃ及びｄが
０であり、ｅが１であり、Ｚがフッ素原子であり、ｎが
０である化合物、即ち下記の一般式 化４で表される化
合物がある。
【００１８】
【化４】 （式中、Ｙ、ｍ、Ｒ1 及びｐは前記と同じ意味を表し、
ｑは１〜５０の整数を表す。）
ｑは１〜５０の整数を表す。）
【００１９】これらのシラン化合物は、市販のパーフル
オロポリエーテルをシラン処理することによって得るこ
とができる。例えば、特開平１−２９４７０９号公報に
開示のあるごとくである。
オロポリエーテルをシラン処理することによって得るこ
とができる。例えば、特開平１−２９４７０９号公報に
開示のあるごとくである。
【００２０】該シラン化合物からなる層を、反射防止膜
上に形成させるには、ハードコート層の形成の際の原料
塗布と同様な塗布方法によればよい。つまり、スピン塗
装、浸漬塗装、ロールコート塗装、グラビアコート塗
装、カーテンフロー塗装等が用いられる。なお、塗布す
る際には溶剤で希釈して行うことが該シラン化合物から
なる層の厚みを制御する点で、また作業性の点で好まし
い。該溶剤としては、例えばパーフルオロヘキサン、パ
ーフルオロメチルシクロヘキサン、パーフルオロ−１、
３−ジメチルシクロヘキサン等の通常は炭素数５〜１２
のパーフルオロ脂肪族炭化水素、ビス（トリフルオロメ
チル）ベンゼン等の多フッ素化芳香族炭化水素、多フッ
素化脂肪族炭化水素等が挙げられる。塗布液中の該シラ
ン化合物濃度は浸漬塗装法においては０．０５〜０．５
ｗｔ％が好ましい。
上に形成させるには、ハードコート層の形成の際の原料
塗布と同様な塗布方法によればよい。つまり、スピン塗
装、浸漬塗装、ロールコート塗装、グラビアコート塗
装、カーテンフロー塗装等が用いられる。なお、塗布す
る際には溶剤で希釈して行うことが該シラン化合物から
なる層の厚みを制御する点で、また作業性の点で好まし
い。該溶剤としては、例えばパーフルオロヘキサン、パ
ーフルオロメチルシクロヘキサン、パーフルオロ−１、
３−ジメチルシクロヘキサン等の通常は炭素数５〜１２
のパーフルオロ脂肪族炭化水素、ビス（トリフルオロメ
チル）ベンゼン等の多フッ素化芳香族炭化水素、多フッ
素化脂肪族炭化水素等が挙げられる。塗布液中の該シラ
ン化合物濃度は浸漬塗装法においては０．０５〜０．５
ｗｔ％が好ましい。
【００２１】該シラン化合物層の厚みは、汚染防止効果
及び反射防止効果の点から0.００１〜0.０３μｍが好ま
しい。
及び反射防止効果の点から0.００１〜0.０３μｍが好ま
しい。
【００２２】
【発明の効果】本発明の反射防止フィルターは、従来の
ものに比し汚れがつきにくい。かつ、いったんついた汚
れもとれやすく、耐久性にも優れている。従って、ＣＲ
Ｔディスプレー、プロジェクションテレビ、プラズマデ
ィスプレー、ＥＬディスプレー、液晶ディスプレーなど
のＶＤＴの反射防止フィルターとして、ＶＤＴの前面に
貼合または配置して利用することにより、反射防止機能
はもとより、優れた汚染防止効果を発揮する。
ものに比し汚れがつきにくい。かつ、いったんついた汚
れもとれやすく、耐久性にも優れている。従って、ＣＲ
Ｔディスプレー、プロジェクションテレビ、プラズマデ
ィスプレー、ＥＬディスプレー、液晶ディスプレーなど
のＶＤＴの反射防止フィルターとして、ＶＤＴの前面に
貼合または配置して利用することにより、反射防止機能
はもとより、優れた汚染防止効果を発揮する。
【００２３】
【実施例】以下、本発明を実施例により更に詳細に説明
するが、本発明は実施例に限定されるものではない。
尚、実施例において各種の物性の評価試験方法は以下の
通りである。 （１）反射率測定；自記分光光度計（MPS-2000：島津製
作所）を用い、波長３００ｎｍ〜８００ｎｍの入射角１
５°における平均反射率を測定した。 （２）水に対する接触角；接触角計（CA-A型：協和界面
科学（株））を使用し、室温下で直径1.０ｍｍの水滴を
針先につくり、これを基材の表面に触れさせて液滴を作
った。このときに生ずる液滴と面との角度を測定し接触
角とした。 （３）耐久性；セルロース製不織布（ベンコット：旭化
成）により、基材の表面を２０往復拭き取った後に、前
述した方法で水に対する接触角を測定することで耐久性
試験を行った。 （４）指紋の付着性；基材表面に右手親指を３秒間押し
つけて、指紋を付着させ、そのつき易さあるいは目立ち
易さを目視判定した。判定基準は次の通りとした。 ○：指紋の付着が少なく、付いた指紋が目立たない。 ×：指紋が付着が明確に認識できる。 （５）指紋の拭き取り性；付着した指紋をセルロース製
不織布で拭き取り、指紋のとれ易さを目視判定した。判
定基準は以下の通りとした。 ○：指紋を完全に拭き取ることができる。 △：指紋の拭き取り跡が残る。 ×：指紋を抜き取り跡が広がり、除去することが困難で
ある。
するが、本発明は実施例に限定されるものではない。
尚、実施例において各種の物性の評価試験方法は以下の
通りである。 （１）反射率測定；自記分光光度計（MPS-2000：島津製
作所）を用い、波長３００ｎｍ〜８００ｎｍの入射角１
５°における平均反射率を測定した。 （２）水に対する接触角；接触角計（CA-A型：協和界面
科学（株））を使用し、室温下で直径1.０ｍｍの水滴を
針先につくり、これを基材の表面に触れさせて液滴を作
った。このときに生ずる液滴と面との角度を測定し接触
角とした。 （３）耐久性；セルロース製不織布（ベンコット：旭化
成）により、基材の表面を２０往復拭き取った後に、前
述した方法で水に対する接触角を測定することで耐久性
試験を行った。 （４）指紋の付着性；基材表面に右手親指を３秒間押し
つけて、指紋を付着させ、そのつき易さあるいは目立ち
易さを目視判定した。判定基準は次の通りとした。 ○：指紋の付着が少なく、付いた指紋が目立たない。 ×：指紋が付着が明確に認識できる。 （５）指紋の拭き取り性；付着した指紋をセルロース製
不織布で拭き取り、指紋のとれ易さを目視判定した。判
定基準は以下の通りとした。 ○：指紋を完全に拭き取ることができる。 △：指紋の拭き取り跡が残る。 ×：指紋を抜き取り跡が広がり、除去することが困難で
ある。
【００２４】実施例１ （１）反射防止膜付きアクリルシートの作成 片面にマスクフィルムを装着した２００ｍｍ×３００ｍ
ｍ×0.２５ｍｍの耐衝撃アクリルシート（テクノロイ：
住友化学工業）をウレタンアクリルレート系ハードコー
ト剤（ユニディック１７−８０６：大日本インキ 固形
分がトルエン中に３０％含有）中に浸漬し、４５ｃｍ／
分の速さで引き上げて塗布した。溶剤を揮散させた後に
マスクフィルムを取り除き、１２０Ｗのメタルハライド
ランプ（アイグラフィックス社製ＵＢ０４５１）を２０
ｃｍの距離から１０秒間照射することにより、ハードコ
ート層を該アクリルシートの片面に形成させた。このハ
ードコート層を付与したアクリルシートを真空蒸着装置
（（株）シンクロンBMC-700 ）の真空蒸着槽に入れ、真
空度を２Ｘ１０-5Torrにした後、二酸化珪素、二酸化チ
タン、二酸化珪素、二酸化チタン、二酸化珪素の順序で
ＥＢ（電子線）により、各層の厚みが順に１５、１５、
２８、１０７、９０ｎｍとなるように蒸着し、反射防止
膜付きアクリルシートを得た。
ｍ×0.２５ｍｍの耐衝撃アクリルシート（テクノロイ：
住友化学工業）をウレタンアクリルレート系ハードコー
ト剤（ユニディック１７−８０６：大日本インキ 固形
分がトルエン中に３０％含有）中に浸漬し、４５ｃｍ／
分の速さで引き上げて塗布した。溶剤を揮散させた後に
マスクフィルムを取り除き、１２０Ｗのメタルハライド
ランプ（アイグラフィックス社製ＵＢ０４５１）を２０
ｃｍの距離から１０秒間照射することにより、ハードコ
ート層を該アクリルシートの片面に形成させた。このハ
ードコート層を付与したアクリルシートを真空蒸着装置
（（株）シンクロンBMC-700 ）の真空蒸着槽に入れ、真
空度を２Ｘ１０-5Torrにした後、二酸化珪素、二酸化チ
タン、二酸化珪素、二酸化チタン、二酸化珪素の順序で
ＥＢ（電子線）により、各層の厚みが順に１５、１５、
２８、１０７、９０ｎｍとなるように蒸着し、反射防止
膜付きアクリルシートを得た。
【００２５】（２）汚染防止液の調製 特開平１−２９４７０９号公報の実施例６の原料の下記
の式 化５で示されるフッ素含有ポリエーテルを使用
し、同公報実施例４に従って、CH2 =CHSiCl3で示される
ビニルトリクロルシランを反応させ、得られたヨウ素含
有シラン化合物を亜鉛粉末とメタノールで処理し、下記
の式 化６で示される数平均分子量が約５０００のシラ
ン化合物を得た。
の式 化５で示されるフッ素含有ポリエーテルを使用
し、同公報実施例４に従って、CH2 =CHSiCl3で示される
ビニルトリクロルシランを反応させ、得られたヨウ素含
有シラン化合物を亜鉛粉末とメタノールで処理し、下記
の式 化６で示される数平均分子量が約５０００のシラ
ン化合物を得た。
【００２６】
【化５】C3F7-(OCF2CF2CF2)24-O(CF2)2I
【００２７】
【化６】
【００２８】具体的には、攪拌機、滴下ロート、還流冷
却器及び温度計を備えた２００ｍｌの４つ口フラスコ中
に、化５で示されるω−フルオロポリパーフルオロオキ
セタンヨウ素化合物４０ｇをヘキサフルオロテトラクロ
ロブタン８０ｇに溶解したもの、及び、ジ−ｔ−ブチル
パーオキシド１．５ｇ（１×１０-2モル）を仕込み、充
分に系内を窒素置換したのち、窒素気流下滴下ロートよ
りビニルトリクロロシラン１６．１ｇ（０．１モル）を
滴下した。滴下終了後、系内の温度を１２０℃に昇温さ
せ、４時間反応させた。反応終了後、減圧下で揮発分を
完全に留去することによって末端にヨウ素を有するシラ
ン化合物３８．７ｇを得た。次いで、前記と同様のフラ
スコ中に、前記シラン化合物３４．４ｇをパーフルオロ
ヘキサン５０ｇに溶解したものを仕込み、亜鉛２．１ｇ
（３．２×１０-2モル）を強攪拌分散させた。氷水浴で
系を冷却し、窒素気流下無水メタノール１０ｇを滴下し
た。滴下終了後、氷水浴を取り除き、加熱還流下２時間
反応させた。反応終了後、不溶物を濾別し、２層に分離
した液相から分液ロートを用いて下層を分取した。得ら
れた溶液を無水メタノールを用いて３回洗浄したのち、
減圧下揮発分を完全に留去することによって、化６で示
される末端が水素化されたシラン化合物３１．６ｇを得
た。
却器及び温度計を備えた２００ｍｌの４つ口フラスコ中
に、化５で示されるω−フルオロポリパーフルオロオキ
セタンヨウ素化合物４０ｇをヘキサフルオロテトラクロ
ロブタン８０ｇに溶解したもの、及び、ジ−ｔ−ブチル
パーオキシド１．５ｇ（１×１０-2モル）を仕込み、充
分に系内を窒素置換したのち、窒素気流下滴下ロートよ
りビニルトリクロロシラン１６．１ｇ（０．１モル）を
滴下した。滴下終了後、系内の温度を１２０℃に昇温さ
せ、４時間反応させた。反応終了後、減圧下で揮発分を
完全に留去することによって末端にヨウ素を有するシラ
ン化合物３８．７ｇを得た。次いで、前記と同様のフラ
スコ中に、前記シラン化合物３４．４ｇをパーフルオロ
ヘキサン５０ｇに溶解したものを仕込み、亜鉛２．１ｇ
（３．２×１０-2モル）を強攪拌分散させた。氷水浴で
系を冷却し、窒素気流下無水メタノール１０ｇを滴下し
た。滴下終了後、氷水浴を取り除き、加熱還流下２時間
反応させた。反応終了後、不溶物を濾別し、２層に分離
した液相から分液ロートを用いて下層を分取した。得ら
れた溶液を無水メタノールを用いて３回洗浄したのち、
減圧下揮発分を完全に留去することによって、化６で示
される末端が水素化されたシラン化合物３１．６ｇを得
た。
【００２９】1Ｈ−ＮＭＲより、１．２〜３．０ｐｐｍ
に下記の式 化７の各水素原子に由来する幅広い吸収体
が現れた。内部標準としてω−フルオロポリパーフルオ
ロオキセタン水素化物５．０モル％を添加し、下記の式
数１から重合度Ｐ（化４におけるｐの平均値）を計算
すると２．０となった。
に下記の式 化７の各水素原子に由来する幅広い吸収体
が現れた。内部標準としてω−フルオロポリパーフルオ
ロオキセタン水素化物５．０モル％を添加し、下記の式
数１から重合度Ｐ（化４におけるｐの平均値）を計算
すると２．０となった。
【００３０】
【化７】
【００３１】
【数１】 Ｉ／Ｉs ＝〔０．９５（３Ｐ＋１）〕／０．０５ Ｉ ： １．２〜３．０ｐｐｍの積分吸収強度 Ｉs ： 内部標準物質の積分吸収強度 Ｐ ： 重合度（化４におけるｐの平均値）
【００３２】次いで、得られたシラン化合物を、テトラ
デカフルオロヘキサンで希釈し、０．１重量％となした
汚染防止液を調整した。
デカフルオロヘキサンで希釈し、０．１重量％となした
汚染防止液を調整した。
【００３３】（３）汚染防止層（シラン化合物からなる
層）による反射防止膜付きアクリルシートの被覆 上記（１）で作成した反射防止膜付きアクリルシートの
反射防止膜が積層されていない面をマスクフィルムで覆
った後、このシートを（２）で調製した汚染防止液中に
浸漬し、１５ｃｍ／分の速さで引き上げて塗布した。塗
布後は室温条件下で一昼夜放置して溶剤を揮散させて汚
染防止層を反射防止膜の表面に形成させ、マスクフィル
ムを取り除き、反射防止フィルターを得た。各種物性を
評価した。結果を表１に示す。
層）による反射防止膜付きアクリルシートの被覆 上記（１）で作成した反射防止膜付きアクリルシートの
反射防止膜が積層されていない面をマスクフィルムで覆
った後、このシートを（２）で調製した汚染防止液中に
浸漬し、１５ｃｍ／分の速さで引き上げて塗布した。塗
布後は室温条件下で一昼夜放置して溶剤を揮散させて汚
染防止層を反射防止膜の表面に形成させ、マスクフィル
ムを取り除き、反射防止フィルターを得た。各種物性を
評価した。結果を表１に示す。
【００３４】比較例１ 実施例１の（１）で得られた反射防止膜付きアクリルシ
ートをそのまま評価した。評価結果を表１に示す。
ートをそのまま評価した。評価結果を表１に示す。
【００３５】比較例２ 汚染防止液として C8F17C2H4Si(OCH3)3(東芝シリコーン
（株）製 商品名XC98-A5382）をイソブタノールで希釈
し１．６ｇ／Ｌの溶液としたものを用いた以外は、実施
例１と同様にして反射防止フィルターを作成した。評価
結果を表１に示す。
（株）製 商品名XC98-A5382）をイソブタノールで希釈
し１．６ｇ／Ｌの溶液としたものを用いた以外は、実施
例１と同様にして反射防止フィルターを作成した。評価
結果を表１に示す。
【００３６】比較例３ 汚染防止液として、両末端にシラノール基を有するジメ
チルポリシロキサン（東芝シリコーン（株）製商品名XF
3905）をメチルイソブチルケトン／シクロヘキサノン
（６／４）混合溶媒に溶解させ１ｇ／Ｌ溶液としたもの
を用いた以外は、実施例１と同様にして反射防止フィル
ターを作成した。評価結果を表１に示す。
チルポリシロキサン（東芝シリコーン（株）製商品名XF
3905）をメチルイソブチルケトン／シクロヘキサノン
（６／４）混合溶媒に溶解させ１ｇ／Ｌ溶液としたもの
を用いた以外は、実施例１と同様にして反射防止フィル
ターを作成した。評価結果を表１に示す。
【００３７】実施例２ 耐衝撃アクリルシートに代えて２００ｍｍ×３００ｍｍ
×0.３ｍｍの偏光フィルム（スミカラン：住友化学工業
（株）製、構成（三層構造）：トリアセチルセルロース
／ポリビニルアルコールからなるヨウ素系偏光膜／トリ
アセチルセルロース）を用いた以外は、実施例１と同様
にして反射防止フィルターを作製した。評価結果を表１
に示す。
×0.３ｍｍの偏光フィルム（スミカラン：住友化学工業
（株）製、構成（三層構造）：トリアセチルセルロース
／ポリビニルアルコールからなるヨウ素系偏光膜／トリ
アセチルセルロース）を用いた以外は、実施例１と同様
にして反射防止フィルターを作製した。評価結果を表１
に示す。
【００３８】
【表１】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０９Ｆ 9/00 ３２１ Ｇ０９Ｆ 9/00 ３２１Ｚ (72)発明者 康乗 幸雄 大阪府高槻市塚原２丁目10番１号 住友化 学工業株式会社内 (72)発明者 田中 勇次 大阪府摂津市西一津屋１番１号 ダイキン 工業株式会社淀川製作所内 (72)発明者 蜂須賀 仁治 大阪府摂津市西一津屋１番１号 ダイキン 工業株式会社淀川製作所内
Claims (7)
- 【請求項１】透明基材からなるフィルムまたはシートの
少なくとも片面に、無機化合物の層からなる反射防止
膜、及び下記の一般式 化１で示される数平均分子量５
×１０ 2 〜１×１０5 のシラン化合物からなる層が形成
された反射防止フィルター。 【化１】 （式中、Ｒf は炭素数１〜１６の直鎖状または分岐状パ
ーフルオロアルキル基、Ｘはヨウ素原子または水素原
子、Ｙは水素原子または低級アルキル基、Ｚはフッ素原
子またはトリフルオロメチル基、Ｒ1 は加水分解可能な
基、Ｒ2 は水素または不活性な一価の有機基、ａ、ｂ、
ｃ、ｄは０〜２００の整数、ｅは０または１、ｍおよび
ｎは０〜２の整数、及びｐは１〜１０の整数を表す。） - 【請求項２】該シラン化合物が、下記の一般式 化２で
示される化合物である請求項１記載の反射防止フィルタ
ー。 【化２】 （式中、Ｙは水素原子または低級アルキル基、Ｒ1 は加
水分解可能な基、ｑは１〜５０の整数を、ｍは０〜２の
整数、ｐは１〜１０の整数を表す。） - 【請求項３】一般式 化２で示される該シラン化合物の
ｐが１である請求項１または２記載の反射防止フィルタ
ー。 - 【請求項４】透明基材からなるフィルムまたはシートと
反射防止膜との間に更にハードコート層が形成された請
求項１記載の反射防止フィルター。 - 【請求項５】透明基材からなるフィルムまたはシートの
厚さが０．０１〜１０ｍｍである請求項１記載の反射防
止フィルター。 - 【請求項６】反射防止膜が少なくとも２層からなり、該
反射防止膜の層のうち、透明基材からなるフィルムまた
はシートから最も離れた層が酸化珪素または金属酸化物
からなる層である請求項１記載の反射防止フィルター。 - 【請求項７】シラン化合物の層の厚さが０．００１〜
０．０３μｍである請求項１記載の反射防止フィルタ
ー。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15382296A JP3494195B2 (ja) | 1995-06-15 | 1996-06-14 | 反射防止フィルター |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14903195 | 1995-06-15 | ||
| JP7-149031 | 1995-06-15 | ||
| JP15382296A JP3494195B2 (ja) | 1995-06-15 | 1996-06-14 | 反射防止フィルター |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0961605A true JPH0961605A (ja) | 1997-03-07 |
| JP3494195B2 JP3494195B2 (ja) | 2004-02-03 |
Family
ID=26479043
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15382296A Expired - Lifetime JP3494195B2 (ja) | 1995-06-15 | 1996-06-14 | 反射防止フィルター |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3494195B2 (ja) |
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-
1996
- 1996-06-14 JP JP15382296A patent/JP3494195B2/ja not_active Expired - Lifetime
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