JPH1033321A - 防汚性ディスプレイ用透明板及びその成形品 - Google Patents
防汚性ディスプレイ用透明板及びその成形品Info
- Publication number
- JPH1033321A JPH1033321A JP19451896A JP19451896A JPH1033321A JP H1033321 A JPH1033321 A JP H1033321A JP 19451896 A JP19451896 A JP 19451896A JP 19451896 A JP19451896 A JP 19451896A JP H1033321 A JPH1033321 A JP H1033321A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- fluorine
- layer
- transparent plate
- silane compound
- integer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Landscapes
- Paints Or Removers (AREA)
- Freezers Or Refrigerated Showcases (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 汚れが付着しにくく、また付着しても取り除
きやすく、更に表面が傷つきにくいディスプレイ用透明
板を提供する。 【解決手段】 透明板の少なくとも片面に、下記の一般
式 化１で示される数平均分子量５×１０2 〜１×１０
5 の含フッ素シラン化合物からなる層が形成された防汚
性ディスプレイ用透明板。 【化１】 （式中、Ｒf は炭素数１〜１６の直鎖状または分岐状パ
ーフルオロアルキル基、Ｘはヨウ素原子または水素原
子、Ｙは水素原子または低級アルキル基、Ｚはフッ素原
子またはトリフルオロメチル基、Ｒ1 は加水分解可能な
基、Ｒ2 は水素原子または不活性な一価の有機基、ａ，
ｂ，ｃ，ｄは０〜２００の整数、ｅは０または１、ｍお
よびｎは０〜２の整数、ｐは１〜１０の整数を表す。）
きやすく、更に表面が傷つきにくいディスプレイ用透明
板を提供する。 【解決手段】 透明板の少なくとも片面に、下記の一般
式 化１で示される数平均分子量５×１０2 〜１×１０
5 の含フッ素シラン化合物からなる層が形成された防汚
性ディスプレイ用透明板。 【化１】 （式中、Ｒf は炭素数１〜１６の直鎖状または分岐状パ
ーフルオロアルキル基、Ｘはヨウ素原子または水素原
子、Ｙは水素原子または低級アルキル基、Ｚはフッ素原
子またはトリフルオロメチル基、Ｒ1 は加水分解可能な
基、Ｒ2 は水素原子または不活性な一価の有機基、ａ，
ｂ，ｃ，ｄは０〜２００の整数、ｅは０または１、ｍお
よびｎは０〜２の整数、ｐは１〜１０の整数を表す。）
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、防汚性能を有する
ディスプレイ用透明板及びその成形品に関する。
ディスプレイ用透明板及びその成形品に関する。
【０００２】
【従来の技術】商店や百貨店の店舗で商品のディスプレ
ーのために使用されるショーケースなどには、外観の美
しさ、傷の付きにくさ、加工のし易さから従来よりガラ
スや、透明樹脂、特にアクリル系樹脂が主として使用さ
れている。
ーのために使用されるショーケースなどには、外観の美
しさ、傷の付きにくさ、加工のし易さから従来よりガラ
スや、透明樹脂、特にアクリル系樹脂が主として使用さ
れている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ショー
ケースには商品を陳列したり、取り出したりして人が使
用するのに際し、手垢、指紋、汗、化粧料等の付着があ
り、その優れた外観が低下する。また悪戯などによりシ
ョーケースに落書きされたりする場合もあるが、一度付
いた汚れは取り除きにくく、表面に傷が付くことも多
い。さらに照明光の反射や背景が写ることを防ぎ、商品
をより見やすするために反射防止層を設ける場合がある
が、そのために付着した汚れがより目立ちやすく、かつ
とれにくくなる。
ケースには商品を陳列したり、取り出したりして人が使
用するのに際し、手垢、指紋、汗、化粧料等の付着があ
り、その優れた外観が低下する。また悪戯などによりシ
ョーケースに落書きされたりする場合もあるが、一度付
いた汚れは取り除きにくく、表面に傷が付くことも多
い。さらに照明光の反射や背景が写ることを防ぎ、商品
をより見やすするために反射防止層を設ける場合がある
が、そのために付着した汚れがより目立ちやすく、かつ
とれにくくなる。
【０００４】そこで本発明者らは、汚れが付着しにく
く、また付着しても取り除きやすく、更に表面が傷つき
にくいディスプレー用透明板を提供すべく検討した結
果、特定の含フッ素シラン化合物の層を透明板上に形成
することによって、耐汚染性に優れたディスプレー用透
明板が得られることを見出し、本発明に至った。
く、また付着しても取り除きやすく、更に表面が傷つき
にくいディスプレー用透明板を提供すべく検討した結
果、特定の含フッ素シラン化合物の層を透明板上に形成
することによって、耐汚染性に優れたディスプレー用透
明板が得られることを見出し、本発明に至った。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、透明板の少な
くとも片面に、下記の一般式 化３で示される数平均分
子量５×１０2 〜１×１０5 の含フッ素シラン化合物か
らなる層が形成された防汚性ディスプレイ用透明板およ
びその成形品である。
くとも片面に、下記の一般式 化３で示される数平均分
子量５×１０2 〜１×１０5 の含フッ素シラン化合物か
らなる層が形成された防汚性ディスプレイ用透明板およ
びその成形品である。
【０００６】
【化３】 （式中、Ｒf は炭素数１〜１６の直鎖状または分岐状パ
ーフルオロアルキル基、Ｘはヨウ素原子または水素原
子、Ｙは水素原子または低級アルキル基、Ｚはフッ素原
子またはトリフルオロメチル基、Ｒ1 は加水分解可能な
基、Ｒ2 は水素または不活性な一価の有機基、ａ、ｂ、
ｃ、ｄは０〜２００の整数、ｅは０または１、ｍおよび
ｎは０〜２の整数、及びｐは１〜１０の整数を表す。）
ーフルオロアルキル基、Ｘはヨウ素原子または水素原
子、Ｙは水素原子または低級アルキル基、Ｚはフッ素原
子またはトリフルオロメチル基、Ｒ1 は加水分解可能な
基、Ｒ2 は水素または不活性な一価の有機基、ａ、ｂ、
ｃ、ｄは０〜２００の整数、ｅは０または１、ｍおよび
ｎは０〜２の整数、及びｐは１〜１０の整数を表す。）
【０００７】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明における透明板としては、ガラス、透明プラスチ
ック等を挙げることができる。透明プラスチックとして
は例えば、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、
ポリスチレン系樹脂等が挙げられる。なかでも表面硬度
や光沢性の点からアクリル系樹脂が好ましい。
本発明における透明板としては、ガラス、透明プラスチ
ック等を挙げることができる。透明プラスチックとして
は例えば、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、
ポリスチレン系樹脂等が挙げられる。なかでも表面硬度
や光沢性の点からアクリル系樹脂が好ましい。
【０００８】アクリル系樹脂として、メチルメタクリレ
ート単独あるいはメチルメタクリレート５０ｗｔ％以上
と他の共重合可能なエチレン性不飽和単量体との共重合
体からなる樹脂が挙げられる。メチルメタクリレートと
共重合可能なエチレン性不飽和単量体としては、例え
ば、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アク
リレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、フェ
ニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレ
ート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、２−
ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートなどの単官能
（メタ）アクリル酸エステル類；エチレングリコールジ
（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メ
タ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）
アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）ア
クリレート、テトラプロピレングリコールジアクリレー
ト、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレー
ト、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート
などの多官能（メタ）アクリル酸エステル類；メタクリ
ル酸、アクリル酸などの不飽和酸類；ジビニルベンゼ
ン、ジアリルフタレートなどの芳香族多官能化合物類；
スチレン、α−メチルスチレン、アクリロニトリル、メ
タクリロニトリル、無水マレイン酸、フェニルマレイミ
ド、シクロヘキシルマレイミドなどが挙げられるが、こ
れらに限定されるものではない。
ート単独あるいはメチルメタクリレート５０ｗｔ％以上
と他の共重合可能なエチレン性不飽和単量体との共重合
体からなる樹脂が挙げられる。メチルメタクリレートと
共重合可能なエチレン性不飽和単量体としては、例え
ば、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アク
リレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、フェ
ニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレ
ート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、２−
ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートなどの単官能
（メタ）アクリル酸エステル類；エチレングリコールジ
（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メ
タ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）
アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）ア
クリレート、テトラプロピレングリコールジアクリレー
ト、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレー
ト、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート
などの多官能（メタ）アクリル酸エステル類；メタクリ
ル酸、アクリル酸などの不飽和酸類；ジビニルベンゼ
ン、ジアリルフタレートなどの芳香族多官能化合物類；
スチレン、α−メチルスチレン、アクリロニトリル、メ
タクリロニトリル、無水マレイン酸、フェニルマレイミ
ド、シクロヘキシルマレイミドなどが挙げられるが、こ
れらに限定されるものではない。
【０００９】また、この重合体には、無水グルタル酸単
位、グルタルイミド単位をさらに含んでいても良い。さ
らに前述の重合体、共重合体にジエン系ゴム、アクリル
系ゴムをブレンドしたものでも良い。
位、グルタルイミド単位をさらに含んでいても良い。さ
らに前述の重合体、共重合体にジエン系ゴム、アクリル
系ゴムをブレンドしたものでも良い。
【００１０】アクリル系樹脂板は公知の乳化重合法、懸
濁重合法、塊状重合法等の方法により製造した樹脂を、
公知の押出成形、射出成形などにより板状にするか、ま
たは公知の鋳込み重合法により板状にするなどの方法に
より製造することができる。
濁重合法、塊状重合法等の方法により製造した樹脂を、
公知の押出成形、射出成形などにより板状にするか、ま
たは公知の鋳込み重合法により板状にするなどの方法に
より製造することができる。
【００１１】このアクリル系樹脂板には、該樹脂に一般
に用いられる各種の添加剤を含有させても良い。添加剤
としては紫外線吸収剤、酸化防止剤、可塑剤、着色剤、
難燃剤、連鎖移動剤、離型剤、顔料、染料、無機充填剤
等が挙げられる。
に用いられる各種の添加剤を含有させても良い。添加剤
としては紫外線吸収剤、酸化防止剤、可塑剤、着色剤、
難燃剤、連鎖移動剤、離型剤、顔料、染料、無機充填剤
等が挙げられる。
【００１２】なお、本発明のアクリル系樹脂板は、積層
板であっても良く、また表面にフィルム貼合させたもの
でもかまわない。本発明の透明板の厚さは、０．５〜１
０ｍｍが好ましい。
板であっても良く、また表面にフィルム貼合させたもの
でもかまわない。本発明の透明板の厚さは、０．５〜１
０ｍｍが好ましい。
【００１３】透明板の片面または両面に、直接含フッ素
シラン化合物層を設けても良いが、あらかじめ該透明板
の片面または両面にハードコート層を形成し、該ハード
コート層上に含フッ素シラン化合物層を形成してもよ
い。このハードコート層を設けることにより透明樹脂板
表面の硬度が増し傷が付きにくくなるのと同時に、含フ
ッ素シラン化合物層との密着性が向上する。
シラン化合物層を設けても良いが、あらかじめ該透明板
の片面または両面にハードコート層を形成し、該ハード
コート層上に含フッ素シラン化合物層を形成してもよ
い。このハードコート層を設けることにより透明樹脂板
表面の硬度が増し傷が付きにくくなるのと同時に、含フ
ッ素シラン化合物層との密着性が向上する。
【００１４】該ハードコート層としてはこの用途に用い
られる公知のものでよい。原料は例えば多官能性モノマ
ーを主成分として重合硬化させることにより得られるハ
ードコート層を挙げることができる。
られる公知のものでよい。原料は例えば多官能性モノマ
ーを主成分として重合硬化させることにより得られるハ
ードコート層を挙げることができる。
【００１５】具体的には、ウレタン変性（メタ）アクリ
ルオリゴマー、多価アルコールと（メタ）アクリル酸と
のエステル化物、ポリエーテル（メタ）アクリレート等
のアクリロイル基、メタクリロイル基を２つ以上含んだ
多官能重合性化合物を紫外線、電子線等の活性化エネル
ギー線によって重合硬化させた層；あるいはシリコン
系、メラミン系、エポキシ系の架橋性樹脂原料を熱によ
って架橋硬化させた物などを挙げることができる。シリ
コン系のハードコートは含フッ素シラン化合物との密着
性が高く、また表面硬度にも優れているので好ましく用
いられる。
ルオリゴマー、多価アルコールと（メタ）アクリル酸と
のエステル化物、ポリエーテル（メタ）アクリレート等
のアクリロイル基、メタクリロイル基を２つ以上含んだ
多官能重合性化合物を紫外線、電子線等の活性化エネル
ギー線によって重合硬化させた層；あるいはシリコン
系、メラミン系、エポキシ系の架橋性樹脂原料を熱によ
って架橋硬化させた物などを挙げることができる。シリ
コン系のハードコートは含フッ素シラン化合物との密着
性が高く、また表面硬度にも優れているので好ましく用
いられる。
【００１６】また更に含フッ素シラン化合物との密着性
を高めるために、無機化合物微粒子および／または分子
中に加水分解によりシラノール基を生成する基を少なく
とも１個有するシラン化合物が含まれていてもよい。こ
れらの添加物はアクリレート系、メラミン系、エポキシ
系のハードコート剤に添加しても効果的である。無機化
合物微粒子としては、例えば、二酸化珪素、酸化アルミ
ニウム、酸化マグネシウム、酸化チタンなどの無機酸化
物を挙げることができる。なかでも主として二酸化珪素
からなるシリカ微粒子やコロイダルシリカ及びその凝集
体が、価格、粒径の制御のし易さ、更に含フッ素シラン
化合物層との密着性の点から好ましい。また分子中に加
水分解によりシラノール基を生成する基を少なくとも１
個有するシラン化合物としては、例えば、テトラメトキ
シシラン、テトラエトキシシラン、フェニルトリメトキ
シシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ
−グルシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタ
クリロキシプロピルトリメトキシシラン等が挙げられ
る。
を高めるために、無機化合物微粒子および／または分子
中に加水分解によりシラノール基を生成する基を少なく
とも１個有するシラン化合物が含まれていてもよい。こ
れらの添加物はアクリレート系、メラミン系、エポキシ
系のハードコート剤に添加しても効果的である。無機化
合物微粒子としては、例えば、二酸化珪素、酸化アルミ
ニウム、酸化マグネシウム、酸化チタンなどの無機酸化
物を挙げることができる。なかでも主として二酸化珪素
からなるシリカ微粒子やコロイダルシリカ及びその凝集
体が、価格、粒径の制御のし易さ、更に含フッ素シラン
化合物層との密着性の点から好ましい。また分子中に加
水分解によりシラノール基を生成する基を少なくとも１
個有するシラン化合物としては、例えば、テトラメトキ
シシラン、テトラエトキシシラン、フェニルトリメトキ
シシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ
−グルシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタ
クリロキシプロピルトリメトキシシラン等が挙げられ
る。
【００１７】ハードコート層を形成させる方法として
は、まず、原料を通常のコーティング作業で用いられる
方法で、例えば、基材を回転させ、その上にコート剤を
滴下することで、コート剤による被膜を均一に形成させ
るスピン塗装；基材をコート剤溶液中に浸漬させ、一定
速度で引き上げることで被膜を形成させる浸漬塗装；ロ
ールにコート剤被膜を形成させ、ロール間を基材が移動
することによりロールのコート剤を基材上に転写させる
ロールコート塗装やグラビアコート塗装；コート剤を滝
状に流し落とし、その下を基材が通り抜けることにより
コート剤の被膜を形成させるカーテンフロー塗装等で塗
布し（例えば「コーティング方法」（原崎勇次著、槇書
店 １９７９年１０月３０日発行）や「塗布機と周辺機
器」（青山他 著 株式会社ポリマー工業研究所、加工
技術研究会 １９７９年２月発行）に記載の方法）、続
いて上記したように、用いた原料に応じた方法により、
硬化させる方法を挙げることができる。この際被覆しや
すくするために、あるいは被覆膜の膜厚を調整するため
に該原料を種々の溶剤により希釈しても構わない。
は、まず、原料を通常のコーティング作業で用いられる
方法で、例えば、基材を回転させ、その上にコート剤を
滴下することで、コート剤による被膜を均一に形成させ
るスピン塗装；基材をコート剤溶液中に浸漬させ、一定
速度で引き上げることで被膜を形成させる浸漬塗装；ロ
ールにコート剤被膜を形成させ、ロール間を基材が移動
することによりロールのコート剤を基材上に転写させる
ロールコート塗装やグラビアコート塗装；コート剤を滝
状に流し落とし、その下を基材が通り抜けることにより
コート剤の被膜を形成させるカーテンフロー塗装等で塗
布し（例えば「コーティング方法」（原崎勇次著、槇書
店 １９７９年１０月３０日発行）や「塗布機と周辺機
器」（青山他 著 株式会社ポリマー工業研究所、加工
技術研究会 １９７９年２月発行）に記載の方法）、続
いて上記したように、用いた原料に応じた方法により、
硬化させる方法を挙げることができる。この際被覆しや
すくするために、あるいは被覆膜の膜厚を調整するため
に該原料を種々の溶剤により希釈しても構わない。
【００１８】続いて用いた原料に応じた方法により硬化
させる。ハードコート層の原料層を硬化させるには、加
熱昇温する熱重合、紫外線や電子線などの活性エネルギ
ー線の照射による光重合がある。
させる。ハードコート層の原料層を硬化させるには、加
熱昇温する熱重合、紫外線や電子線などの活性エネルギ
ー線の照射による光重合がある。
【００１９】ハードコート層の厚さは特に限定されるも
のではないが、１〜２０μｍが好ましい。１μｍ以下だ
と十分な硬度が得られない。また２０μｍ以上になると
塗膜にひびが入るなど、膜の強度上好ましくない。
のではないが、１〜２０μｍが好ましい。１μｍ以下だ
と十分な硬度が得られない。また２０μｍ以上になると
塗膜にひびが入るなど、膜の強度上好ましくない。
【００２０】なお、透明基材とハードコート層との密着
性を向上させるために、透明板とハードコート層の間に
接着層を設けても構わない。その接着層としてはこの用
途に用いられる公知のものでよい。
性を向上させるために、透明板とハードコート層の間に
接着層を設けても構わない。その接着層としてはこの用
途に用いられる公知のものでよい。
【００２１】透明板と含フッ素シラン化合物の層との間
に、一層以上の無機化合物層からなる反射防止層が形成
されていてもよい。反射防止層は透明板の片面または両
面に直接、または透明板の片面または両面に形成された
ハードコート層の表面に積層する。
に、一層以上の無機化合物層からなる反射防止層が形成
されていてもよい。反射防止層は透明板の片面または両
面に直接、または透明板の片面または両面に形成された
ハードコート層の表面に積層する。
【００２２】反射防止膜は、無機化合物の単層または多
層の薄膜からなる公知のものでよく、真空蒸着法、イオ
ンプレーティング法、スパッタリング法などの公知の方
法により形成することができる。例えば、真空蒸着法に
おいては、被覆させたい基材を真空槽に仕込み、通常は
真空度を１０-4Torr以下とし、蒸着させる物質を抵抗加
熱、電子線加熱等により加熱蒸発させ、この蒸発した物
質が基材表面に凝縮することにより、薄膜を形成するこ
とができる。スパッタリング法においては、通常、１０
-3Torr程度の低圧中で二電極間でグロー放電を行わせ、
これにより放出される陰極物質を基材に付着させること
ができる。さらに具体的には前述の特開平４−３３８９
０１号公報や特開昭６４−８６１０１号公報、さらには
特開昭５６−１１３１０１号公報に記載の方法が挙げら
れる。また、反射防止膜の構成に関しては、米国特許3,
185,020 号公報や、同3,432,225 号公報等に記載のもの
を挙げることができる。
層の薄膜からなる公知のものでよく、真空蒸着法、イオ
ンプレーティング法、スパッタリング法などの公知の方
法により形成することができる。例えば、真空蒸着法に
おいては、被覆させたい基材を真空槽に仕込み、通常は
真空度を１０-4Torr以下とし、蒸着させる物質を抵抗加
熱、電子線加熱等により加熱蒸発させ、この蒸発した物
質が基材表面に凝縮することにより、薄膜を形成するこ
とができる。スパッタリング法においては、通常、１０
-3Torr程度の低圧中で二電極間でグロー放電を行わせ、
これにより放出される陰極物質を基材に付着させること
ができる。さらに具体的には前述の特開平４−３３８９
０１号公報や特開昭６４−８６１０１号公報、さらには
特開昭５６−１１３１０１号公報に記載の方法が挙げら
れる。また、反射防止膜の構成に関しては、米国特許3,
185,020 号公報や、同3,432,225 号公報等に記載のもの
を挙げることができる。
【００２３】反射防止層としてはポリスチレン層等を積
層した反射防止膜（特開平６−３４４４８７号公報）等
の有機系の反射防止膜もあるが、本発明において用いる
反射防止膜は無機化合物の層からなる反射防止膜であっ
て、有機系の反射防止膜では耐久性の良いシラン化合物
層が得られ難い。
層した反射防止膜（特開平６−３４４４８７号公報）等
の有機系の反射防止膜もあるが、本発明において用いる
反射防止膜は無機化合物の層からなる反射防止膜であっ
て、有機系の反射防止膜では耐久性の良いシラン化合物
層が得られ難い。
【００２４】用いられる無機化合物としては、例えば二
酸化珪素、一酸化珪素等の酸化珪素、酸化イットリウ
ム、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化トリウ
ム、酸化スズ、酸化ランタン、酸化インジウム、酸化ネ
オジウム、酸化アンチモン、酸化ジルコニウム、酸化セ
リウム、酸化チタン、酸化ビスマスなどの金属酸化物、
フッ化カルシウム、フッ化ナトリウム、フッ化リチウ
ム、フッ化マグネシウム、フッ化ランタン、フッ化ネオ
ジウム、フッ化セリウム、フッ化鉛等の金属ハロゲン化
物、硫化亜鉛、硫化カドミウム、三硫化アンチモン等の
金属硫化物、セレン化亜鉛等のセレン化金属、テルル化
カドミウム、テルル化鉛等のテルル化金属、珪素、ゲル
マニウム、テルルなどを挙げることができる。
酸化珪素、一酸化珪素等の酸化珪素、酸化イットリウ
ム、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化トリウ
ム、酸化スズ、酸化ランタン、酸化インジウム、酸化ネ
オジウム、酸化アンチモン、酸化ジルコニウム、酸化セ
リウム、酸化チタン、酸化ビスマスなどの金属酸化物、
フッ化カルシウム、フッ化ナトリウム、フッ化リチウ
ム、フッ化マグネシウム、フッ化ランタン、フッ化ネオ
ジウム、フッ化セリウム、フッ化鉛等の金属ハロゲン化
物、硫化亜鉛、硫化カドミウム、三硫化アンチモン等の
金属硫化物、セレン化亜鉛等のセレン化金属、テルル化
カドミウム、テルル化鉛等のテルル化金属、珪素、ゲル
マニウム、テルルなどを挙げることができる。
【００２５】含フッ素シラン化合物からなる層は、防汚
層として機能する被覆膜であり、該含フッ素シラン化合
物は前記の一般式 化３で示され、かつその数平均分子
量は５×１０2 〜１×１０5 である。なかでも一般式
化３中のＲf は、通常、炭素数１〜１６の直鎖状または
分岐状パーフルオロアルキル基であり、好ましくはＣＦ
3 基、Ｃ2 Ｆ5 基、Ｃ3 Ｆ7基である。Ｙにおける低級
アルキル基としては通常、炭素数１〜５のものが挙げら
れる。Ｒ1 の加水分解可能な基としては、塩素原子、臭
素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子、Ｒ3 Ｏ基、Ｒ3
ＣＯＯ基、（Ｒ4 ) 2 Ｃ＝Ｃ（Ｒ3 ）ＣＯ基、（Ｒ3）2
Ｃ＝ＮＯ基、Ｒ5 Ｃ＝ＮＯ基、（Ｒ4 ) 2 Ｎ基、及び
Ｒ3 ＣＯＮＲ4 基が好ましい。（ここで、Ｒ3 はアルキ
ル基等の通常は炭素数１〜１０の脂肪族炭化水素基また
はフェニル基等の通常は炭素数６〜２０の芳香族炭化水
素基、Ｒ4 は水素原子またはアルキル基等の通常は炭素
数１〜５の低級脂肪族炭化水素基、Ｒ5はアルキリデン
基等の通常は炭素数３〜６の二価の脂肪族炭化水素基で
ある。）さらに好ましくは、塩素原子、ＣＨ3 Ｏ基、Ｃ
2 Ｈ5 Ｏ基である。Ｒ2 は水素原子または不活性な一価
の有機基であり、好ましくは、アルキル基等の通常は炭
素数１〜４の一価の炭化水素基である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ
は０〜２００の整数であり、好ましくは１〜５０であ
る。ｍおよびｎは、０〜２の整数であり、好ましくは０
である。ｐは１または２以上の整数であり、好ましくは
１〜１０の整数であり、さらに好ましくは１〜５の整数
である。また、数平均分子量は５×１０2 〜１×１０5
であり、好ましくは１×１０3〜１×１０4 である。
層として機能する被覆膜であり、該含フッ素シラン化合
物は前記の一般式 化３で示され、かつその数平均分子
量は５×１０2 〜１×１０5 である。なかでも一般式
化３中のＲf は、通常、炭素数１〜１６の直鎖状または
分岐状パーフルオロアルキル基であり、好ましくはＣＦ
3 基、Ｃ2 Ｆ5 基、Ｃ3 Ｆ7基である。Ｙにおける低級
アルキル基としては通常、炭素数１〜５のものが挙げら
れる。Ｒ1 の加水分解可能な基としては、塩素原子、臭
素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子、Ｒ3 Ｏ基、Ｒ3
ＣＯＯ基、（Ｒ4 ) 2 Ｃ＝Ｃ（Ｒ3 ）ＣＯ基、（Ｒ3）2
Ｃ＝ＮＯ基、Ｒ5 Ｃ＝ＮＯ基、（Ｒ4 ) 2 Ｎ基、及び
Ｒ3 ＣＯＮＲ4 基が好ましい。（ここで、Ｒ3 はアルキ
ル基等の通常は炭素数１〜１０の脂肪族炭化水素基また
はフェニル基等の通常は炭素数６〜２０の芳香族炭化水
素基、Ｒ4 は水素原子またはアルキル基等の通常は炭素
数１〜５の低級脂肪族炭化水素基、Ｒ5はアルキリデン
基等の通常は炭素数３〜６の二価の脂肪族炭化水素基で
ある。）さらに好ましくは、塩素原子、ＣＨ3 Ｏ基、Ｃ
2 Ｈ5 Ｏ基である。Ｒ2 は水素原子または不活性な一価
の有機基であり、好ましくは、アルキル基等の通常は炭
素数１〜４の一価の炭化水素基である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ
は０〜２００の整数であり、好ましくは１〜５０であ
る。ｍおよびｎは、０〜２の整数であり、好ましくは０
である。ｐは１または２以上の整数であり、好ましくは
１〜１０の整数であり、さらに好ましくは１〜５の整数
である。また、数平均分子量は５×１０2 〜１×１０5
であり、好ましくは１×１０3〜１×１０4 である。
【００２６】また、上記の一般式 化３で表される含フ
ッ素シラン化合物の好ましい構造のものとして、Ｒf が
Ｃ3 Ｆ7 基であり、ａが１〜５０の整数であり、ｂ、ｃ
及びｄが０であり、ｅが１であり、Ｚがフッ素原子であ
り、ｎが０である化合物、即ち下記の一般式 化４で表
される化合物がある。
ッ素シラン化合物の好ましい構造のものとして、Ｒf が
Ｃ3 Ｆ7 基であり、ａが１〜５０の整数であり、ｂ、ｃ
及びｄが０であり、ｅが１であり、Ｚがフッ素原子であ
り、ｎが０である化合物、即ち下記の一般式 化４で表
される化合物がある。
【００２７】
【化４】 （式中、Ｙ、ｍ、Ｒ1 及びｐは前記と同じ意味を表し、
ｑは１〜５０の整数を表す。）
ｑは１〜５０の整数を表す。）
【００２８】これらの含フッ素シラン化合物は、市販の
パーフルオロポリエーテルをシラン処理することによっ
て得ることができる。例えば、特開平１−２９４７０９
号公報に開示のあるごとくである。
パーフルオロポリエーテルをシラン処理することによっ
て得ることができる。例えば、特開平１−２９４７０９
号公報に開示のあるごとくである。
【００２９】該フッ素シラン化合物からなる層を形成さ
せるには、ハードコート層の形成の際の原料塗布と同様
な塗布方法によればよい。すなわち、スピン塗装、浸漬
塗装、ロールコート塗装、グラビアコート塗装、カーテ
ンフロー塗装等が用いられる。なお、塗布する際には溶
剤で希釈して行うことが該フッ素シラン化合物からなる
層の厚みを制御する点で、また作業性の点で好ましい。
該溶剤としては、例えばパーフルオロヘキサン、パーフ
ルオロメチルシクロヘキサン、パーフルオロ−１、３−
ジメチルシクロヘキサン等の通常は炭素数５〜１２のパ
ーフルオロ脂肪族炭化水素、ビス（トリフルオロメチ
ル）ベンゼン等の多フッ素化芳香族炭化水素、多フッ素
化脂肪族炭化水素等が挙げられる。塗布液中の該フッ素
シラン化合物濃度は浸漬塗装法においては０．０５〜
０．５ｗｔ％が好ましい。また含フッ素シラン化合物層
は前述した方法以外に真空蒸着法により設けることもで
きる。その際には原料化合物は高濃度、または希釈溶剤
なしに使用することができる。
せるには、ハードコート層の形成の際の原料塗布と同様
な塗布方法によればよい。すなわち、スピン塗装、浸漬
塗装、ロールコート塗装、グラビアコート塗装、カーテ
ンフロー塗装等が用いられる。なお、塗布する際には溶
剤で希釈して行うことが該フッ素シラン化合物からなる
層の厚みを制御する点で、また作業性の点で好ましい。
該溶剤としては、例えばパーフルオロヘキサン、パーフ
ルオロメチルシクロヘキサン、パーフルオロ−１、３−
ジメチルシクロヘキサン等の通常は炭素数５〜１２のパ
ーフルオロ脂肪族炭化水素、ビス（トリフルオロメチ
ル）ベンゼン等の多フッ素化芳香族炭化水素、多フッ素
化脂肪族炭化水素等が挙げられる。塗布液中の該フッ素
シラン化合物濃度は浸漬塗装法においては０．０５〜
０．５ｗｔ％が好ましい。また含フッ素シラン化合物層
は前述した方法以外に真空蒸着法により設けることもで
きる。その際には原料化合物は高濃度、または希釈溶剤
なしに使用することができる。
【００３０】含フッ素シラン化合物層の厚さは特に限定
されるものではないが、０．００１〜０．５μｍであ
る。０．００１μｍより薄いと防汚効果が乏しくなり、
０．５μｍ以上だと表面がベタベタするため好ましくな
い。
されるものではないが、０．００１〜０．５μｍであ
る。０．００１μｍより薄いと防汚効果が乏しくなり、
０．５μｍ以上だと表面がベタベタするため好ましくな
い。
【００３１】本発明の樹脂製の防汚性ディスプレー用透
明板を、ショーケース等の成形品とするには、該樹脂板
をストレート成形、ドレープ成形などの熱成形等により
行われる。また、防汚性ディスプレー用透明板どうしを
接着し、箱形に組み立てて成形品とすることも行われ
る。透明板表面に含フッ素シラン化合物層を形成させる
場合、成形前の透明板表面にあらかじめ含フッ素シラン
化合物層を形成させた後、成形を行っても良いし、成形
後の状態で表面に含フッ素シラン化合物層を形成させて
も良い。
明板を、ショーケース等の成形品とするには、該樹脂板
をストレート成形、ドレープ成形などの熱成形等により
行われる。また、防汚性ディスプレー用透明板どうしを
接着し、箱形に組み立てて成形品とすることも行われ
る。透明板表面に含フッ素シラン化合物層を形成させる
場合、成形前の透明板表面にあらかじめ含フッ素シラン
化合物層を形成させた後、成形を行っても良いし、成形
後の状態で表面に含フッ素シラン化合物層を形成させて
も良い。
【００３２】
【発明の効果】本発明の防汚性ディスプレー用透明板及
びその成型品は、汚れが付着しにくく、また汚れが付着
しても容易に除去することができる。
びその成型品は、汚れが付着しにくく、また汚れが付着
しても容易に除去することができる。
【００３３】
【実施例】以下、本発明を実施例により更に詳細に説明
するが、本発明は実施例に限定されるものではない。な
お、実施例において各種の物性の評価試験方法は以下の
通りである。 （１）全光線透過率、曇価（Ｈａｚｅ）；ＪＩＳ Ｋ
７１０５に準拠して測定した。 （２）水に対する接触角；接触角計（CA-A型：協和界面
科学（株））を使用し、室温下で直径1.０ｍｍの水滴を
針先につくり、これを基材の表面に触れさせて液滴を作
った。このときに生ずる液滴と面との角度を測定し接触
角とした。 （３）鉛筆硬度；ＪＩＳ Ｋ ５４００に準拠して測定
した。 （４）マジックインキはじき性；試料表面にマジックイ
ンキ（マッキー：ゼブラ社製）で長さ５ｃｍ、幅２ｃｍ
の螺旋状の模様を描き、そのはじき性を目視判定した。
判定基準は次の通りとした。 ○：マジックインキをよくはじき、模様をほとんど描け
ない。 ×：マジックインキをはじかず、通常に模様を描くこと
ができる。 （５）マジックインキ拭き取り性；上記（４）で描いた
模様をセルロース製不織布で拭き取り、その様子を目視
判定した。判定基準は次の通りとした。 ○：きれいに拭き取ることができる。 △：ある程度拭き取れるが、拭き取り跡が残る。 ×：模様を除去することができない。 （６）指紋の付着性；試料表面に右手親指を３秒間押し
つけて、指紋を付着させ、そのつき易さあるいは目立ち
易さを目視判定した。判定基準は次の通りとした。 ○：指紋の付着が少なく、付いた指紋が目立たない。 ×：指紋が付着が明確に認識できる。 （７）指紋の拭き取り性；付着した指紋をセルロース製
不織布で拭き取り、指紋のとれ易さを目視判定した。判
定基準は以下の通りとした。 ○：指紋を完全に拭き取ることができる。 △：指紋の拭き取り跡が残る。 ×：指紋を抜き取り跡が広がり、除去することが困難で
ある。
するが、本発明は実施例に限定されるものではない。な
お、実施例において各種の物性の評価試験方法は以下の
通りである。 （１）全光線透過率、曇価（Ｈａｚｅ）；ＪＩＳ Ｋ
７１０５に準拠して測定した。 （２）水に対する接触角；接触角計（CA-A型：協和界面
科学（株））を使用し、室温下で直径1.０ｍｍの水滴を
針先につくり、これを基材の表面に触れさせて液滴を作
った。このときに生ずる液滴と面との角度を測定し接触
角とした。 （３）鉛筆硬度；ＪＩＳ Ｋ ５４００に準拠して測定
した。 （４）マジックインキはじき性；試料表面にマジックイ
ンキ（マッキー：ゼブラ社製）で長さ５ｃｍ、幅２ｃｍ
の螺旋状の模様を描き、そのはじき性を目視判定した。
判定基準は次の通りとした。 ○：マジックインキをよくはじき、模様をほとんど描け
ない。 ×：マジックインキをはじかず、通常に模様を描くこと
ができる。 （５）マジックインキ拭き取り性；上記（４）で描いた
模様をセルロース製不織布で拭き取り、その様子を目視
判定した。判定基準は次の通りとした。 ○：きれいに拭き取ることができる。 △：ある程度拭き取れるが、拭き取り跡が残る。 ×：模様を除去することができない。 （６）指紋の付着性；試料表面に右手親指を３秒間押し
つけて、指紋を付着させ、そのつき易さあるいは目立ち
易さを目視判定した。判定基準は次の通りとした。 ○：指紋の付着が少なく、付いた指紋が目立たない。 ×：指紋が付着が明確に認識できる。 （７）指紋の拭き取り性；付着した指紋をセルロース製
不織布で拭き取り、指紋のとれ易さを目視判定した。判
定基準は以下の通りとした。 ○：指紋を完全に拭き取ることができる。 △：指紋の拭き取り跡が残る。 ×：指紋を抜き取り跡が広がり、除去することが困難で
ある。
【００３４】実施例１ （１）汚染防止液の調製 特開平１−２９４７０９号公報の実施例６の原料の下記
の式 化５で示されるフッ素含有ポリエーテルを使用
し、同公報実施例４に従って、CH2 =CHSiCl3で示される
ビニルトリクロルシランを反応させ、得られたヨウ素含
有シラン化合物を亜鉛粉末とメタノールで処理し、下記
の式 化６で示される数平均分子量が約５０００のシラ
ン化合物を得た。
の式 化５で示されるフッ素含有ポリエーテルを使用
し、同公報実施例４に従って、CH2 =CHSiCl3で示される
ビニルトリクロルシランを反応させ、得られたヨウ素含
有シラン化合物を亜鉛粉末とメタノールで処理し、下記
の式 化６で示される数平均分子量が約５０００のシラ
ン化合物を得た。
【００３５】
【化５】C3F7-(OCF2CF2CF2)24-O(CF2)2I
【００３６】
【化６】
【００３７】具体的には、攪拌機、滴下ロート、還流冷
却器及び温度計を備えた２００ｍｌの４つ口フラスコ中
に、化５で示されるω−フルオロポリパーフルオロオキ
セタンヨウ素化合物４０ｇをヘキサフルオロテトラクロ
ロブタン８０ｇに溶解したもの、及び、ジ−ｔ−ブチル
パーオキシド１．５ｇ（１×１０-2モル）を仕込み、充
分に系内を窒素置換したのち、窒素気流下滴下ロートよ
りビニルトリクロロシラン１６．１ｇ（０．１モル）を
滴下した。滴下終了後、系内の温度を１２０℃に昇温さ
せ、４時間反応させた。反応終了後、減圧下で揮発分を
完全に留去することによって末端にヨウ素を有するシラ
ン化合物３８．７ｇを得た。次いで、前記と同様のフラ
スコ中に、前記シラン化合物３４．４ｇをパーフルオロ
ヘキサン５０ｇに溶解したものを仕込み、亜鉛２．１ｇ
（３．２×１０-2モル）を強攪拌分散させた。氷水浴で
系を冷却し、窒素気流下無水メタノール１０ｇを滴下し
た。滴下終了後、氷水浴を取り除き、加熱還流下２時間
反応させた。反応終了後、不溶物を濾別し、２層に分離
した液相から分液ロートを用いて下層を分取した。得ら
れた溶液を無水メタノールを用いて３回洗浄したのち、
減圧下揮発分を完全に留去することによって、化６で示
される末端が水素化されたシラン化合物３１．６ｇを得
た。
却器及び温度計を備えた２００ｍｌの４つ口フラスコ中
に、化５で示されるω−フルオロポリパーフルオロオキ
セタンヨウ素化合物４０ｇをヘキサフルオロテトラクロ
ロブタン８０ｇに溶解したもの、及び、ジ−ｔ−ブチル
パーオキシド１．５ｇ（１×１０-2モル）を仕込み、充
分に系内を窒素置換したのち、窒素気流下滴下ロートよ
りビニルトリクロロシラン１６．１ｇ（０．１モル）を
滴下した。滴下終了後、系内の温度を１２０℃に昇温さ
せ、４時間反応させた。反応終了後、減圧下で揮発分を
完全に留去することによって末端にヨウ素を有するシラ
ン化合物３８．７ｇを得た。次いで、前記と同様のフラ
スコ中に、前記シラン化合物３４．４ｇをパーフルオロ
ヘキサン５０ｇに溶解したものを仕込み、亜鉛２．１ｇ
（３．２×１０-2モル）を強攪拌分散させた。氷水浴で
系を冷却し、窒素気流下無水メタノール１０ｇを滴下し
た。滴下終了後、氷水浴を取り除き、加熱還流下２時間
反応させた。反応終了後、不溶物を濾別し、２層に分離
した液相から分液ロートを用いて下層を分取した。得ら
れた溶液を無水メタノールを用いて３回洗浄したのち、
減圧下揮発分を完全に留去することによって、化６で示
される末端が水素化されたシラン化合物３１．６ｇを得
た。
【００３８】1Ｈ−ＮＭＲより、１．２〜３．０ｐｐｍ
に下記の式 化７の各水素原子に由来する幅広い吸収体
が現れた。内部標準としてω−フルオロポリパーフルオ
ロオキセタン水素化物５．０モル％を添加し、下記の式
数１から重合度Ｐ（化４におけるｐの平均値）を計算
すると２．０となった。
に下記の式 化７の各水素原子に由来する幅広い吸収体
が現れた。内部標準としてω−フルオロポリパーフルオ
ロオキセタン水素化物５．０モル％を添加し、下記の式
数１から重合度Ｐ（化４におけるｐの平均値）を計算
すると２．０となった。
【００３９】
【化７】
【００４０】
【数１】 Ｉ／Ｉs ＝〔０．９５（３Ｐ＋１）〕／０．０５ Ｉ ： １．２〜３．０ｐｐｍの積分吸収強度 Ｉs ： 内部標準物質の積分吸収強度 Ｐ ： 重合度（化４におけるｐの平均値）
【００４１】次いで、得られたシラン化合物を、テトラ
デカフルオロヘキサンで希釈し、０．１重量％となした
汚染防止液を調整した。
デカフルオロヘキサンで希釈し、０．１重量％となした
汚染防止液を調整した。
【００４２】（２）防汚性ディスプレイ用透明板の作製 熱硬化型ハードコート剤（日本エーアールシー（株）製
商品名クリスタルコートＣ−２２０）中に１００×１
００×２ｍｍのアクリル樹脂板（住友化学工業（株）製
商品名スミペックスＥ）を浸漬し、３０ｃｍ／分の速
さで引き上げて塗布し、８０℃で４時間加熱硬化した。
この樹脂板を上記（１）で調製した汚染防止液に浸漬
し、１５ｃｍ／分の速度で引き上げて塗布した。塗布後
は室温条件下で一昼夜放置して溶剤を揮散させ、含フッ
素シラン化合物層を形成した防汚性ディスプレイ用アク
リル樹脂板を得た。各種物性を評価した結果を表１に示
した。
商品名クリスタルコートＣ−２２０）中に１００×１
００×２ｍｍのアクリル樹脂板（住友化学工業（株）製
商品名スミペックスＥ）を浸漬し、３０ｃｍ／分の速
さで引き上げて塗布し、８０℃で４時間加熱硬化した。
この樹脂板を上記（１）で調製した汚染防止液に浸漬
し、１５ｃｍ／分の速度で引き上げて塗布した。塗布後
は室温条件下で一昼夜放置して溶剤を揮散させ、含フッ
素シラン化合物層を形成した防汚性ディスプレイ用アク
リル樹脂板を得た。各種物性を評価した結果を表１に示
した。
【００４３】実施例２ 固形分が４０％となるようにキシレン、酢酸エチル、エ
チレングリコールモノブチルエーテルの混合溶媒（混合
比３：１：１）で希釈したウレタンアクリレート系ハー
ドコート剤（コーエイＭ１０１：広栄化学工業（株）
製）に、ハードコート固形分１００部に対しテトラメト
キシシランとγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシ
ランとの３：１の混合物を１５部添加した。この溶液に
１００×１００×２ｍｍのアクリル樹脂板（住友化学工
業（株）製商品名スミペックスＥ）を浸漬し、３０ｃｍ
／分の速さで引き上げて塗布し、溶剤を揮散させた後に
１２０Ｗのメタルハライドランプ（ＵＢ０４５１：アイ
グラフィック社製）を２０ｃｍの距離から１０秒間照射
することにより硬化被膜を形成させた。この樹脂板を実
施例１で用いたのと同じ汚染防止液に浸漬し、１５ｃｍ
／分の速度で引き上げて塗布した。塗布後は室温条件下
で一昼夜放置して溶剤を揮散させ、含フッ素シラン化合
物層を形成した防汚性ディスプレイ用アクリル樹脂板を
得た。各種物性を評価した結果を表１に示した。
チレングリコールモノブチルエーテルの混合溶媒（混合
比３：１：１）で希釈したウレタンアクリレート系ハー
ドコート剤（コーエイＭ１０１：広栄化学工業（株）
製）に、ハードコート固形分１００部に対しテトラメト
キシシランとγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシ
ランとの３：１の混合物を１５部添加した。この溶液に
１００×１００×２ｍｍのアクリル樹脂板（住友化学工
業（株）製商品名スミペックスＥ）を浸漬し、３０ｃｍ
／分の速さで引き上げて塗布し、溶剤を揮散させた後に
１２０Ｗのメタルハライドランプ（ＵＢ０４５１：アイ
グラフィック社製）を２０ｃｍの距離から１０秒間照射
することにより硬化被膜を形成させた。この樹脂板を実
施例１で用いたのと同じ汚染防止液に浸漬し、１５ｃｍ
／分の速度で引き上げて塗布した。塗布後は室温条件下
で一昼夜放置して溶剤を揮散させ、含フッ素シラン化合
物層を形成した防汚性ディスプレイ用アクリル樹脂板を
得た。各種物性を評価した結果を表１に示した。
【００４４】実施例３ １００×１００×１ｍｍのガラス板を、実施例１で用い
たのと同じ汚染防止液に浸漬し、１５ｃｍ／分の速度で
引き上げて塗布した。塗布後は室温条件下で一昼夜放置
して溶剤を揮散させ、含フッ素シラン化合物層を形成し
た防汚性ディスプレイ用ガラス板を得た。各種物性を評
価した結果を表１に示した。
たのと同じ汚染防止液に浸漬し、１５ｃｍ／分の速度で
引き上げて塗布した。塗布後は室温条件下で一昼夜放置
して溶剤を揮散させ、含フッ素シラン化合物層を形成し
た防汚性ディスプレイ用ガラス板を得た。各種物性を評
価した結果を表１に示した。
【００４５】実施例４ １００×１００×１ｍｍのガラス板を、真空蒸着装置
（（株）シンクロン製ＢＭＣ７００）の真空蒸着槽に入
れ、真空度を２×１０-5Ｔｏｒｒにした後、二酸化珪
素、二酸化チタン、二酸化珪素、二酸化チタン、二酸化
珪素の順序でＥＢ（電子線）により、各層の厚みが順に
１５、１５、２８、１０７、９０ｎｍとなるように蒸着
し、反射防止層付きガラス板を得た。得られた反射防止
層付きガラス板を、実施例１で用いたのと同じ汚染防止
液に浸漬し、１５ｃｍ／分の速度で引き上げて塗布し
た。塗布後は室温条件下で一昼夜放置して溶剤を揮散さ
せ、含フッ素シラン化合物層を形成した防汚性ディスプ
レイ用ガラス板を得た。各種物性を評価した結果を表１
に示した。
（（株）シンクロン製ＢＭＣ７００）の真空蒸着槽に入
れ、真空度を２×１０-5Ｔｏｒｒにした後、二酸化珪
素、二酸化チタン、二酸化珪素、二酸化チタン、二酸化
珪素の順序でＥＢ（電子線）により、各層の厚みが順に
１５、１５、２８、１０７、９０ｎｍとなるように蒸着
し、反射防止層付きガラス板を得た。得られた反射防止
層付きガラス板を、実施例１で用いたのと同じ汚染防止
液に浸漬し、１５ｃｍ／分の速度で引き上げて塗布し
た。塗布後は室温条件下で一昼夜放置して溶剤を揮散さ
せ、含フッ素シラン化合物層を形成した防汚性ディスプ
レイ用ガラス板を得た。各種物性を評価した結果を表１
に示した。
【００４６】実施例５ 固形分が４０％となるようにキシレン、酢酸エチル、エ
チレングリコールモノブチルエーテルの混合溶媒（混合
比３：１：１）で希釈したウレタンアクリレート系ハー
ドコート剤（コーエイＭ１０１：広栄化学工業（株）
製）に、１００×１００×２ｍｍのアクリル樹脂板（住
友化学工業（株）製 商品名スミペックスＥ）を浸漬
し、３０ｃｍ／分の速さで引き上げて塗布し、溶剤を揮
散させた後に１２０Ｗのメタルハライドランプ（ＵＢ０
４５１：アイグラフィック社製）を２０ｃｍの距離から
１０秒間照射することにより樹脂板上にハードコート層
を形成させた。このハードコート層を形成した樹脂板を
実施例４と同様の方法により、ハードコート層上に反射
防止層を形成した。得られた反射防止層付きアクリル板
を、実施例１で用いたのと同じ汚染防止液に浸漬し、１
５ｃｍ／分の速度で引き上げて塗布した。塗布後は室温
条件下で一昼夜放置して溶剤を揮散させ、含フッ素シラ
ン化合物層を形成した防汚性ディスプレイ用アクリル樹
脂板を得た。各種物性を評価した結果を表１に示した。
チレングリコールモノブチルエーテルの混合溶媒（混合
比３：１：１）で希釈したウレタンアクリレート系ハー
ドコート剤（コーエイＭ１０１：広栄化学工業（株）
製）に、１００×１００×２ｍｍのアクリル樹脂板（住
友化学工業（株）製 商品名スミペックスＥ）を浸漬
し、３０ｃｍ／分の速さで引き上げて塗布し、溶剤を揮
散させた後に１２０Ｗのメタルハライドランプ（ＵＢ０
４５１：アイグラフィック社製）を２０ｃｍの距離から
１０秒間照射することにより樹脂板上にハードコート層
を形成させた。このハードコート層を形成した樹脂板を
実施例４と同様の方法により、ハードコート層上に反射
防止層を形成した。得られた反射防止層付きアクリル板
を、実施例１で用いたのと同じ汚染防止液に浸漬し、１
５ｃｍ／分の速度で引き上げて塗布した。塗布後は室温
条件下で一昼夜放置して溶剤を揮散させ、含フッ素シラ
ン化合物層を形成した防汚性ディスプレイ用アクリル樹
脂板を得た。各種物性を評価した結果を表１に示した。
【００４７】比較例１ １００×１００×２ｍｍのアクリル樹脂板（住友化学工
業（株）製 商品名スミペックスＥ）をそのまま各種物
性の評価を行った。結果を表１に示した。
業（株）製 商品名スミペックスＥ）をそのまま各種物
性の評価を行った。結果を表１に示した。
【００４８】比較例２ 含フッ素シラン化合物で処理しない以外は実施例１と同
様にして試料を作成し、各種物性評価を行った。結果を
表１に示した。
様にして試料を作成し、各種物性評価を行った。結果を
表１に示した。
【００４９】比較例３ 含フッ素シラン化合物で処理しない以外は実施例２と同
様にして試料を作成し、各種物性評価を行った。結果を
表１に示した。
様にして試料を作成し、各種物性評価を行った。結果を
表１に示した。
【００５０】比較例４ １００×１００×１ｍｍのガラス板をそのまま各種物性
の評価を行った。結果を表１に示した。
の評価を行った。結果を表１に示した。
【００５１】比較例５ 含フッ素シラン化合物で処理しない以外は実施例４と同
様にして試料を作成し、各種物性評価を行った。結果を
表１に示した。
様にして試料を作成し、各種物性評価を行った。結果を
表１に示した。
【００５２】比較例６ 含フッ素シラン化合物で処理しない以外は実施例５と同
様にして試料を作成し、各種物性評価を行った。結果を
表１に示した。
様にして試料を作成し、各種物性評価を行った。結果を
表１に示した。
【００５３】比較例７ 含フッ素シラン化合物としてCF3(CF2)7CH2CH2Si(OCH3)3
(XC98-A5382：東芝シリコーン（株）製）をイソプロピ
ルアルコールで２．０ｇ／Ｌとしたものを使用した以外
は実施例１と同様にして試料を作成し、各種物性評価を
行った。結果を表１に示した。
(XC98-A5382：東芝シリコーン（株）製）をイソプロピ
ルアルコールで２．０ｇ／Ｌとしたものを使用した以外
は実施例１と同様にして試料を作成し、各種物性評価を
行った。結果を表１に示した。
【００５４】
【表１】
Claims (8)
- 【請求項１】透明板の少なくとも片面に、下記の一般式
化１で示される数平均分子量５×１０2 〜１×１０5
の含フッ素シラン化合物からなる層が形成された防汚性
ディスプレイ用透明板。 【化１】 （式中、Ｒf は炭素数１〜１６の直鎖状または分岐状パ
ーフルオロアルキル基、Ｘはヨウ素原子または水素原
子、Ｙは水素原子または低級アルキル基、Ｚはフッ素原
子またはトリフルオロメチル基、Ｒ1 は加水分解可能な
基、Ｒ2 は水素または不活性な一価の有機基、ａ、ｂ、
ｃ、ｄは０〜２００の整数、ｅは０または１、ｍおよび
ｎは０〜２の整数、及びｐは１〜１０の整数を表す。） - 【請求項２】該含フッ素シラン化合物が、下記の一般式
化２で示される化合物である請求項１記載の防汚性デ
ィスプレイ用透明板。 【化２】 （式中、Ｙは水素原子または低級アルキル基、Ｒ1 は加
水分解可能な基、ｑは１〜５０の整数を、ｍは０〜２の
整数、ｐは１〜１０の整数を表す。） - 【請求項３】透明板と含フッ素シラン化合物からなる層
との間にハードコート層が形成された請求項１記載の防
汚性ディスプレイ用透明板。 - 【請求項４】透明板と含フッ素シラン化合物からなる層
との間に一層以上の無機化合物層からなる反射防止層が
形成された請求項１記載の防汚性ディスプレイ用透明
板。 - 【請求項５】透明板がアクリル系樹脂である請求項１記
載の防汚性ディスプレイ用透明板。 - 【請求項６】含フッ素シラン化合物の層の厚さが０．０
０１〜０．５μｍである請求項１記載の防汚性ディスプ
レイ用透明板。 - 【請求項７】 請求項１記載の防汚性ディスプレイ用透
明板を成形してなる成形品。 - 【請求項８】 成形品がショーケースである請求項７記
載の成形品。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19451896A JPH1033321A (ja) | 1996-07-24 | 1996-07-24 | 防汚性ディスプレイ用透明板及びその成形品 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19451896A JPH1033321A (ja) | 1996-07-24 | 1996-07-24 | 防汚性ディスプレイ用透明板及びその成形品 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1033321A true JPH1033321A (ja) | 1998-02-10 |
Family
ID=16325875
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19451896A Withdrawn JPH1033321A (ja) | 1996-07-24 | 1996-07-24 | 防汚性ディスプレイ用透明板及びその成形品 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1033321A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11258405A (ja) * | 1998-03-12 | 1999-09-24 | Toppan Printing Co Ltd | 反射防止フィルム |
| WO2003081296A1 (fr) * | 2002-03-26 | 2003-10-02 | Tdk Corporation | Article a couche de revetement dur composite et procede de formation de cette couche |
| WO2004002734A1 (ja) * | 2002-06-27 | 2004-01-08 | Tdk Corporation | 複合ハードコート層付き物体及び複合ハードコート層の形成方法 |
| WO2004002735A1 (ja) * | 2002-06-27 | 2004-01-08 | Tdk Corporation | 複合ハードコート層付き物体及び複合ハードコート層の形成方法 |
| US8324314B2 (en) | 2009-10-12 | 2012-12-04 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Fluoropolymer compositions and treated substrates |
| WO2016208587A1 (ja) * | 2015-06-25 | 2016-12-29 | ダイキン工業株式会社 | パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物を含む表面処理剤 |
| WO2024143479A1 (ja) * | 2022-12-28 | 2024-07-04 | モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社 | 防汚部材、及び、これを用いたディスプレイ、タッチパネル並びにセンサー、及び、防汚部材の製造方法 |
-
1996
- 1996-07-24 JP JP19451896A patent/JPH1033321A/ja not_active Withdrawn
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11258405A (ja) * | 1998-03-12 | 1999-09-24 | Toppan Printing Co Ltd | 反射防止フィルム |
| WO2003081296A1 (fr) * | 2002-03-26 | 2003-10-02 | Tdk Corporation | Article a couche de revetement dur composite et procede de formation de cette couche |
| JP4525805B2 (ja) * | 2002-03-26 | 2010-08-18 | Ｔｄｋ株式会社 | 複合ハードコート層付き物体及び複合ハードコート層の形成方法 |
| JP2008264783A (ja) * | 2002-03-26 | 2008-11-06 | Tdk Corp | 複合ハードコート層付き物体及び複合ハードコート層の形成方法 |
| US7226651B2 (en) | 2002-03-26 | 2007-06-05 | Tdk Corporation | Article with composite hardcoat layer and method for forming composite hardcoat layer |
| CN100392432C (zh) * | 2002-03-26 | 2008-06-04 | Tdk株式会社 | 具有复合硬质涂层的物体及复合硬质涂层的形成方法 |
| US7399530B2 (en) | 2002-06-27 | 2008-07-15 | Tdk Corporation | Object with composite hard coating layer and method of forming composite hard coating layer |
| WO2004002735A1 (ja) * | 2002-06-27 | 2004-01-08 | Tdk Corporation | 複合ハードコート層付き物体及び複合ハードコート層の形成方法 |
| WO2004002734A1 (ja) * | 2002-06-27 | 2004-01-08 | Tdk Corporation | 複合ハードコート層付き物体及び複合ハードコート層の形成方法 |
| US8324314B2 (en) | 2009-10-12 | 2012-12-04 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Fluoropolymer compositions and treated substrates |
| WO2016208587A1 (ja) * | 2015-06-25 | 2016-12-29 | ダイキン工業株式会社 | パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物を含む表面処理剤 |
| JP2017008268A (ja) * | 2015-06-25 | 2017-01-12 | ダイキン工業株式会社 | パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物を含む表面処理剤 |
| US10781222B2 (en) | 2015-06-25 | 2020-09-22 | Daikin Industries, Ltd. | Surface treating agent including perfluoro(poly)ether-group-containing silane compound |
| EP3315579B1 (en) * | 2015-06-25 | 2024-05-01 | Daikin Industries, Ltd. | Surface treatment agent including perfluoro(poly)ether group-containing silane compound |
| WO2024143479A1 (ja) * | 2022-12-28 | 2024-07-04 | モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社 | 防汚部材、及び、これを用いたディスプレイ、タッチパネル並びにセンサー、及び、防汚部材の製造方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100413714B1 (ko) | 반사방지필터및이의얼룩을방지하는방법 | |
| JP3912288B2 (ja) | 無機・有機複合材料からなる表面処理剤 | |
| JP4733798B2 (ja) | 防汚剤、防汚層の形成方法、光学部材、反射防止光学部材、光学機能性部材及び表示装置 | |
| TWI421283B (zh) | 表面修飾劑及其用途 | |
| KR100557257B1 (ko) | 반사 방지 표면용 얼룩 방지 코팅 및 이것의 제조 방법 | |
| JP3184220B2 (ja) | 弗素化高分子組成物 | |
| JP4801263B2 (ja) | プラスチック積層体および画像表示保護フイルム | |
| TWI541301B (zh) | 含氟高分支聚合物之包覆用硬化性組成物 | |
| US10858478B2 (en) | Perfluoro(poly)ether group containing silane compound | |
| JPH09258003A (ja) | 防汚性レンズ | |
| JP3494195B2 (ja) | 反射防止フィルター | |
| TW201341483A (zh) | 抗指紋附著劑及其製造方法、硬塗膜用組成物、具有硬塗膜層之基材以及觸控面板 | |
| WO2018047695A1 (ja) | パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物を含む組成物 | |
| JPH1033321A (ja) | 防汚性ディスプレイ用透明板及びその成形品 | |
| JP3449070B2 (ja) | 汚れ防止処理方法 | |
| JP2003064345A (ja) | 表面改質材、表面改質膜用組成物、表面改質膜、光学部品及び表示装置 | |
| JPH107950A (ja) | 防汚性サニタリー用樹脂板及びその成形品 | |
| JPH09127305A (ja) | 耐汚染性に優れた防眩性フィルムまたはシート | |
| JPH10195417A (ja) | 防汚膜形成用組成物及び表示素子用フィルター | |
| JP4042196B2 (ja) | 防汚剤及び防汚層の形成方法 | |
| JP3857359B2 (ja) | 反射防止フィルター | |
| JP4396232B2 (ja) | 防汚性光学物品の製造方法 | |
| JP2000009906A (ja) | 反射防止光学部材、防汚層の形成方法、光学機能性部材および表示装置 | |
| WO2005037901A1 (ja) | 防汚膜被覆樹脂物品の製造方法 | |
| JP7096517B2 (ja) | 表面処理剤 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20040809 |