JPH0716940A - 防汚性を有する光学物品 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】長期にわたって防汚性を維持し、反射防止特性
などの光学特性の優れた光学物品を提供する。 【構成】パーフルオロアルキル（メタ）アクリレートと
アルコキシシラン基を有する単量体との共重合体を二酸
化硅素を主とする光学薄膜上に形成した、プラスチック
性の光学物品で、表面反射特性が３％以下で、水の接触
角が１０５度以上の表面を有する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、防汚性を有する光学物
品に関し、耐久性に優れた汚れの付着防止性を有する。
特に、プラスチックレンズ、オプチカルフィルター、プ
ラスチックミラーあるいはプラスチックハーフミラーな
どに利用される。

【０００２】

【従来の技術】一般に二酸化硅素やフッ化マグネシウム
のような無機薄膜表面は、ガラスと同様に高エネルギー
表面であり、汚れの成分である種々の化合物が付着しや
すい。また、一旦付着した汚れが除きにくいという欠点
も有している。真空蒸着あるいはスパッタリングでＳｉ
ＯｘまたはＭｇＦｘを膜付けしたものは、一般に数ｎｍ
から十数ｎｍの範囲で、凹凸あるいはポーラスであり、
このことが汚れの除きにくさの原因にもなっている。指
紋などの汚れは、反射防止された物品の上では反射干渉
色が変化するため透明基板に比較し一層目立ち易く、汚
れの付着しにくい表面が嘱望されている。そこで、ガラ
スあるいは二酸化硅素を膜付けした表面の、指紋などの
汚れによる透明性や反射性の低下を防止するために、表
面に撥水・撥油性の塗膜を形成させる方法で改善する試
みがなされている。例えば、特公平２−３６９２１号公
報では、末端シラノールの有機ポリシロキサンを被覆し
た光学物品、また、特公平４−６１３２５号公報におい
ては、有機シラン化合物で基材表面を処理する方法が知
られている。さらに、撥水・撥油性の効果を高めた組成
物として、特開平２−８２８５で長鎖のフルオロアルキ
ル基を有する（メタ）アクリレートとシリコン含有の重
合性不飽和単量体の共重合体に平均粒子径が５μｍ以下
の粒状物を含有せしめた塗料組成物、あるいは特開平４
−３１４７７１で長鎖のパーフルオロオロアルキル基ま
たはパーフルオロアルキルエーテル基を有する有機シラ
ザン共重合体からなる被膜形成組成物が知られている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
特公平２−３６９２１号などに示された技術において
は、その防汚性が不充分であり、さらに耐久性に優れた
防汚性を有する光学物品が望まれている。

【０００４】本発明は、かかる従来技術の欠点を解消し
ようとするものであり、優れた防汚性を有する光学物品
を提供することを目的とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明は下記の構成を有する。

【０００６】「プラスチック基材上に設けられた、表層
膜の主成分が二酸化硅素あるいはフッ化マグネシウムで
ある単層または多層の反射防止膜の表面に、下記一般式
（１）または（２）で示されるフルオロアルキル（メ
タ）アクリル系単量体および、下記一般式（３）で示さ
れる基を有する、該フルオロアルキル（メタ）アクリル
系単量体と共重合可能な二重結合を有する単量体とを重
合成分として有する共重合体からなる１ｎｍ以上、２０
ｎｍ以下の厚みの被膜を有し、表面反射率が３％以下、
かつ水に対する静止接触角が１０５度以上であることを
特徴とする光学物品。

【０００７】

【化３】 （式中Ｒ₁ はＨ，ＣＨ₃ およびＦから選ばれ、ａは２か
ら４までの整数、ｂは３から１４までの整数、ｃは０ま
たは１、ｄは１または２を表す。ｄ＝２−ｃである。）

【化４】 （式中Ｒ₁ は、Ｈ、ＣＨ₃ およびＦから選ばれ、ｅは２
から４までの整数、Ｒ₂はＨ，メチル基およびエチル基
から選ばれ、ｆは２または３の整数、ｇ＝３−ｆであ
る。）」 一般式（１）で表される、フルオロアルキル（メタ）ア
クリル系単量体のエステル残基のメチレンの個数（ａ）
は、エステルの化学安定性の点から２以上が必要であ
る。５以上になると理由は不明であるが、被覆表面を斜
めから見た場合に白濁がかかり使用できない。パーフル
オロメチレンの個数（ｂ）としては３から１４個が必要
である。２以下では、撥水・撥油効果は充分ではない。
１５以上では、溶剤への溶解性が極端に低下し、実用的
な溶剤が得られないことおよび被覆表面を斜めから見た
場合に白濁がかかることから使用できない。好ましくは
ｂは１０以下である。

【０００８】具体的には、２−（パーフルオロブチル）
エチル（メタ）クリレート、２−（パーフルオロペンチ
ル）エチル（メタ）クリレート、２−（パーフルオロペ
ンチル）プロピル（メタ）クリレート、２−（パーフル
オロペンチル）ブチル（メタ）クリレート、２−（パー
フルオロヘキシル）エチル（メタ）クリレート、２−
（パーフルオロオクチル）エチル（メタ）アクリレー
ト、２−（パーフルオロオクチル）ブチル（メタ）アク
リレート、２−（パーフルオロデシル）エチル（メタ）
アクリレート、２−（パーフルオロ−５−メチルヘキシ
ル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロ
−７−メチルオクチル）エチル（メタ）アクリレート、
２−（パーフルオロ−９−メチルデシル）エチル（メ
タ）アクリレートおよびそれらのα−フルオロアクリレ
ート体または２−（パーフルオロブチル）ヒドロキシプ
ロピル（メタ）クリレート、２−（パーフルオロペンチ
ル）ヒドロキシプロピル（メタ）クリレート、２−（パ
ーフルオロヘキシル）ヒドロキシプロピル（メタ）クリ
レート、２−（パーフルオロオクチル）ヒドロキシプロ
ピル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロデシ
ル）ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−
（パーフルオロ−５−メチルヘキシル）ヒドロキシプロ
ピル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロ−７−
メチルオクチル）ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレ
ート、２−（パーフルオロ−９−メチルデシル）ヒドロ
キシプロピル（メタ）アクリレートおよびそれらのα−
フルオロアクリレート体が例示される。これら単独もし
くは複数の組み合わせで使用することができる。フルオ
ロアルキル（メタ）アクリル系単量体成分は満足する防
汚性をだすためには共重合体中で５０モル％以上である
ことが好ましい。好ましくは７５モル％以上である。膜
の耐久性を出すために、一般式（２）で示される基を有
しかつ重合性の不飽和基を有する単量体が必要である。
具体的にはビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエト
キシシシラン、ビニルジメトキシメチルシラン、ビニル
メトキシジメチルシラン、γ−（メタ）アクリロイルプ
ロピルトリメトキシシラン、γ−（メタ）アクリロイル
プロピルジメトキシメチルシランなどのシリコン含有単
量体が例示される。

【０００９】このシリコン含有単量体は１モル％以上５
０モル％以下で共重合体の構成成分として含まれること
が好ましい。さらに好ましくは５モル％以上、２５モル
％以下の範囲である。

【００１０】他の共重合成分として、アルキル（メタ）
クリレート類、スチレン誘導体類、も添加することがで
きる。

【００１１】フルオロアルキル（メタ）アクリル系単量
体は、ラジカル開始剤の存在下で、溶液重合法、懸濁重
合法、乳化重合法等の一般的な重合法によって製造する
ことができる。重合にあたっては、シリコン含有単量体
はアルコキシ体になっているのが好ましい。Ｓｉ−ＯＨ
の状態で重合を進行せしめた場合には、重合中に重合体
がゲル化を起こし易くなるからである。

【００１２】重合体の製造にあたっては、分子量を調節
するために、連鎖移動剤としてメルカプタン類を使用す
ることができる。好ましいメルカプタンとして、アルコ
キシシラン基を有するメルカプタンで、例えばγ−メル
カプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプ
ロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルジ
メトキシメチルシラン、γ−メルカプトエチルトリメト
キシシランなどが挙げられる。

【００１３】フルオロアルキル（メタ）アクリル系共重
合体の膜厚みは１ｎｍ以上２０ｎｍ以下が必要である。
１ｎｍ未満ではＳｉＯｘの表面がポーラスあるいは凹凸
のある表面であり、均一に被覆することは困難である。
またヒートサイクル等の熱刺激により、機能の劣化が生
じやすくなり使用することはできない。好ましくは２ｎ
ｍ以上である。２０ｎｍを越えると、基板にほどこした
光学機能を著しく損なうため使用することはできない。
さらに、２０ｎｍを越える膜厚では、被覆層に擦過きず
が認められるため使用することはできない。好ましくは
１０ｎｍ以下である。

【００１４】次に、塗布方法としてはスピンコート、デ
ィプコート、カーテンフローコート法を使用することが
できる。さらに、印刷法によっても塗布可能である。塗
布後は、常温および加熱乾燥をおこない、また必要に応
じて、シラノールの脱水縮合触媒、あるいは縮合助剤を
使用することができる。例えば、アルミニウムアセチル
アアセトナート、オクチル酸スズ化合物、有機カルボン
酸アルカリ塩類があげられる。

【００１５】被膜の塗布状態は、接触角、反射干渉色に
よる間接的測定の他に、透過型電子顕微鏡による断面の
観察や、Ｘ線電子分光法（ＥＳＣＡ，ＸＰＳ）で表面の
元素分析を行うことにより確認できる。Ｘ線電子分光法
では、表面近傍を構成する原子の種類、濃度および結合
状態を分析することができる。Ｘ線を試料表面にあてる
角度により、１０ｎｍまでの深さの化学構造を知ること
ができる。有機物の場合は、９０度で約１０ｎｍまで６
０度で約５ｎｍまでの深さまで分析できる。

【００１６】本発明におけるプラスチック基材とは、有
機高分子からなる光学部品であればとくに限定されな
い。具体例としては、ポリカーボネート、ポリメチルメ
タクリレートおよびその共重合体、ジエチレングリコー
ルビスアリルカーボネート重合体およびその共重合体、
（臭素化）ビスフェノールＡのジ（メタ）アクリレート
のウレタン変成モノマーの重合体およびその共重合体、
ポリエチレンテレフタレート、ポリアリレート、不飽和
ポリエステル、ＡＢＳ樹脂、ポリ４−メチルペンテン−
１、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニール、ポリスルホ
ン、ポリイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエ
ーテルスルホン、ポリパラキシリレン、ポリメチルメタ
クイレートのグルタールイミド化物、Ｎ置換のマレイミ
ド類を共重合体成分とする重合体、ポリウレタンおよび
エポキシ樹脂などが例示される。これらの表面にハード
コートの被膜を設けたものを基板として用いることもで
きる。これら基板のうえに、真空蒸着法、イオンプレー
ティング法あるいはスパッタリング法などの各種のＰＶ
Ｄ法あるいは、溶液コート法で多層膜を被覆することが
できる。

【００１７】静止接触角は１０５度以上あることが必要
である。ポリアルキルシロキサンの接触角は１００〜１
０５度であり、これでは防汚性が不十分であった。この
理由として、指紋汚れには脂質が含まれており、水の接
触角が１０５度でも、油分の接触角は６０度以下であ
り、十分な撥油性を示さないからである。すなわち、防
汚には、高い撥水性と撥油性が必要であり、少なくとも
水の接触角が１０５度以上ないと十分な撥油性が発揮さ
れないからである。表面に凹凸を付与することにより、
接触角は高くすることができる。例えば、二酸化硅素、
フッ化マグネシウムの表面を数ｎｍから数十ｎｍで凹凸
をつける事も可能である。また、フルオロアルキル（メ
タ）アクリレート共重合体のコーティング組成物中に数
ｎｍから数十ｎｍの疎水性の微粒子を混合することも可
能である。光の波長レベルの凹凸は、反射干渉色やモワ
レ模様を発現させ、光学物品の機能を著しく低下させ
る。

【００１８】反射率は３％以下であることが必要であ
る。反射率が３％を越えると、ＣＲＴフィルターの場合
には、画面が光学物品の表面反射のために見えにくくな
るからである。

【００１９】また、これらのコーティング膜は低屈折で
あり、基板の上に直接塗布しても高反射防止が可能であ
る。さらに、このコーティング膜と無機薄膜を組み合わ
せ、光学膜厚を設計すれば高機能の光学特性を基材に付
与することが可能である。

【００２０】次に、本発明を実施例を用いてより詳細に
説明する。

【００２１】

【実施例】

実施例１ （１）プラスチック基板 シリカゾル（１３５重量部）、γ−グリシドキシプロピ
ルメチルジメトキシシラン（１２９重量部）の加水分解
物、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン（７０重量
部）のの加水分解物を主としてなるエタノール溶液をポ
リメチルメタクリレートのキャスト成型板（２ｍｍ厚）
の両面に塗布硬化したものを用いた。

【００２２】（２）光学薄膜 前記コーティング基板に無機物質のＺｒＯ₂ ／ＴｉＯ₂
／Ｙ₂ Ｏ₃ 、Ｔａ₂ Ｏ₅ ／ＳｉＯ₂ を真空蒸着法でこの
順序にそれぞれλ／４（λ＝５４０ｎｍ）の膜厚に設定
し、（１）の基板の両面に多層被覆した。全光線透過率
は９８．１８％であり、反射率は５４０ｎｍで０．２２
％であった。

【００２３】（３）フルオロアルキル（メタ）アクリル
系共重合体の調製 下記混合物を調製し ２−（パーフルオロオクチル）エチルメタアクリレート（９０モル％） ５０ｇ γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン （１０モル％ ２．５９ｇ アゾビスイソブチロニトリル ０．１７ｇ γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン ０．４１ｇ メチルイソブチルケトン ４２ｇ ヘキサフルオロイソプロパノール １０．５ｇ ガラス製のアンプルに入れ、ラジカル重合の定法に従い
凍結脱気操作を３回行なって溶存酸素を除去した。次い
でガラスアンプルを溶封し、７５℃で２０時間重合を行
った。透明粘調な液が得られた。この反応液を大量のメ
タノールに投入し、沈殿物をロ過により回収し、メタノ
ール次いでｎ−ヘキサンで洗浄後４０℃にて２４時間真
空乾燥を行い、コーティング用の共重合体を得た。乾燥
後の重量から求めた重合率は９６％であった。

【００２４】得られた重合体を、パーフルオロ２−ブチ
ルテトラヒドロフランに重量比で５％となるように溶解
し、１／１０規定の塩酸水溶液を微量添加し、液滴が完
全に消失するまで攪拌した。フィルターでロ過した後、
パーフルオロ２−ブチルテトラヒドロフランで０．２重
量％まで希釈しコーティング液とした。

【００２５】（４）コーティング （３）で得らたコーティング液を、（２）で得た反射防
止処理板に、２０ｃｍ／ｍｉｎの速度でディップコート
でコーティングを行った。室温で３０分乾燥後７０℃の
オーブン中で１時間キュアを行い光学物品を得た。

【００２６】（５）特性評価 （反射スペクトルの測定）光学物品の片面をサンドペー
パーでこすり、艶消しの黒色塗料を塗布したのち片面の
反射スペクトルを測定した。５４０ｎｍで０．７８％と
優れた反射特性が得られた。

【００２７】（静止接触角）水およびｎ−ヘキサデカン
の液滴を光学物品表面に乗せ、液滴と表面の接触角（静
止接触角）を測定した。水で１１９度、ヘキサデカンで
７３度の接触角を示した。

【００２８】（被膜の元素分析）Ｘ線光電子分光法で元
素分析を行った。ＭｇｋαをＸ線源に用い、出力は１０
ｋｖ（２０ｍＡ）であった。光電子の検出角度は６０
度、および９０度について行った。検出角度６０度で５
ｎｍ，９０度で１０ｎｍである。検出角度６０度の元素
分析値でＣを１とした時の、Ｆ元素の比は１．１３，Ｓ
ｉの比は０．０５，酸素の比は０．２１であり、検出角
度９０度の元素分析値でＣを１とした時の、Ｆ元素の比
は１．１３，Ｓｉの比は０．８９、酸素の比は１．９３
であった。

【００２９】（膜厚み）光学物品の厚み方向の超薄切片
を作成に透過型電子顕微鏡にて断面写真をとり、膜厚み
を求めた。反射防止膜上に、３．５ｎｍの均一な膜が確
認できた。

【００３０】（耐久性）光学物品表面を人工汗液を染み
込ませた布で５００ｇ荷重下で２００回擦った後に静止
接触角を測定した。水で１１５度、ヘキサデカンで７２
度を示し優れた耐久性を示した。これらの結果を表１に
示す。

【００３１】比較例１ 実施例１で得たフルオロアルキル（メタ）アクリル系共
重合体の０．５％溶液を実施例１と同様に、ディップコ
ートした。膜厚みは２２ｎｍであった。反射特性は５４
０ｎｍで３．２％と大きく、表面の反射干渉色は、緑色
が紫色に変化した。

【００３２】Ｘ線光電子分光法による、元素分析では９
０度の検出角度で、Ｃを１とした時の、Ｆ元素の比は
１．１３，Ｓｉの比は０．００７，酸素の比は０．１７
であった。

【００３３】比較例２ 実施例１で得たフルオロアルキル（メタ）アクリル系共
重合体の０．０５％溶液を実施例１と同様に、ディップ
コートした。断面の電子顕微鏡写真では、微小範囲で膜
のある部分と無い部分が認められ、平均すると１ｎｍ以
下であった。接触角は、水で６８度、ｎ−ヘキサデカン
で４２度であり、満足する特性を示さなかった。

【００３４】実施例２ 実施例１で、フルオロアルキル（メタ）アクリル系共重
合体の組成を次ぎのように変更した以外は、実施例と同
様に共重合体を作成した。重合率は９５％であった。

【００３５】 2-（パ−フルオロ−7-メチルオクチル）エチルメタクリレ−ト（７５モル％） ５０ｇ γ−メタクリロキシプロピルジメトキシメチルシラン（２５モル％）６．５１ｇ γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン ０．４０ｇ アゾビスイソブチロニトリル ０．１７ｇ メチルイソブチルケトン ４２ｇ ヘキサフルオロイソプロパノール １０．５ｇ 得られた共重合体をパーフルオロ２−ブチルテトラヒド
ロフランで０．１５％に希釈しコーティング液とし、実
施例１と同様にディップコートを行った。

【００３６】表１に示したとおり優れた特性を示した。

【００３７】表２にＸ線光電子分光法で求めた、元素組
成比を示す。

【００３８】実施例３ 攪拌機、コンデンサー、滴下ロート、温度計および窒素
吹込管を備えた０．５ｌのガラス製４つ口フラスコに、
重合溶媒としてメチルイソブチルケトン１００ｇ、ｎ−
ブタノール５ｇを仕込み、窒素雰囲気下で３０分還流さ
せた。その後、浴温度を９０℃に保ち、その中に下記組
成の単量体混合物を攪拌下で３時間かけ滴下した。

【００３９】 ２−（パ−フルオロオクチル）エチルメタアクリレート（５５モル％） ５０ｇ γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン （４５モル％） ２．５９ｇ アゾビスイソブチロニトリル １．００ｇ γ−メルカプトプロピルジメトキシメチルシラン ０．４１ｇ 滴下終了後、２時間攪拌を続け、さらにアゾビスイソブ
チロニトリル０．５ｇを３０分おきに６回追加したの
ち、２時間攪拌し重合を終えた。

【００４０】重合率は９７％であった。重合液を、メチ
ルイソブチルケトンで０．２％に希釈しコーティング液
とし、実施例と同様に、ディプコートし光学物品を作成
した。得られた特性を表１に示すが、優れた特性を示し
た。

【００４１】実施例４ ２−（パ−フルオロオクチル）エチルメタアクリレート
（４５モル％）、ｎ−オクチルメタクリレート（１０モ
ル％）、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラ
ン（４５モル％）とした以外は、実施例３と同様に共重
合体を作成した。重合率は９８％であった。重合液を、
メチルイソブチルケトンで０．２％に希釈してコーティ
ング液とし、実施例３と同様に、ディップコートし光学
物品を作成した。

【００４２】接触角は、水で１０５度、ｎ−ヘキサデカ
ンで５７度を示した。

【００４３】実施例５ 下記組成にて実施例１と同様に重合体を作成した。

【００４４】 ２−（パーフルオロオクチル）エチルメタアクリレート ５０ｇ アゾビスイソブチロニトリル ０．１２ｇ γ−メルカプトプロピルジメトキシメチルシラン ０．４１ｇ パーフルオロ２−ブチルテトラヒドロフラン ５０ｇ 精製した重合体の０．２％の溶液を、実施例１と同様に
ディップコートし光学物品を作成した。

【００４５】接触角は表１のとおり、耐久性がやや悪か
ったが、優れたものであり実用性のあるものであった。

【００４６】比較例３ 下記組成にて実施例１と同様に重合体を作成した。

【００４７】 ２−（パーフルオロプロピル）エチルメタアクリレート（９４モル％） ５０ｇ γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン （６モル％） ２．５９ｇ アゾビスイソブチロニトリル １．００ｇ γ−メルカプトプロピルジメトキシメチルシラン ０．４１ｇ メチルイソブチルケトン ５０ｇ 重合率は９６％であった。精製共重合体をメチルイソブ
チルケトンで０．３％に希釈し、実施例１と同様に光学
物品を作成した。

【００４８】接触角は、水で１０２度、ｎ−ヘキサデカ
ンで５３度であり満足するものでは無かった。

【００４９】実施例６ （１）プラスチック基板 イソプロピルマレイミド２６．５ｇ，スチレン１８．５
ｇ，ジビニルベンゼン５．０ｇ，アゾビスイソブチロニ
トリル０．０５ｇを混合し、ガスケットを介して組み立
てたガラスセル中に密閉し、注型重合法により、厚さ
１．５ｍｍの板を作成した。この板のガラス転移温度は
１９０℃を示した。γ−グリシドキシプロピルトリメト
キシシラン１６０ｇに０．０１規定の塩酸水溶液３６．
６ｇを１０℃に保ちつつ攪拌しながら徐々に滴下した。
次にこの溶液にメタノ−ル１０５．８ｇ，ジメチルホル
ムアミド５２．９ｇ，シリコーン界面活性剤０．５を添
加混合し、さらにコロイド状五酸化アンチモンゾル（日
産化学社製、平均粒子径５０ｍμ）８３．３ｇ，アルミ
ニウムアセチルアセトネート５．０ｇを添加し、ハード
コート用のコーティング液とした。先に得られた基板を
８０℃の１０％ＮａＯＨ水溶液で３分処理した後、ハ−
ドコート用のコーティング液をディップコートしプラス
チック基板とした。

【００５０】（２）光学薄膜 前記コーティング基板に無機物質のＹ₂ ０₃ 、Ｔｉ
Ｏ₂ 、ＭｇＦ₂ をこの順序でそれぞれλ／４，λ／２、
λ／４（λ＝５２１ｎｍ）の膜厚みで真空蒸着し、光学
薄膜を作成した。

【００５１】反射率は５２１ｎｍで０．１３％を示し、
反射干渉色は紫色であった。

【００５２】（３）コーティング用フルオロアルキルメ
タクリレート共重合体の調整は実施例１と同様に行っ
た。

【００５３】（４）コーティング （３）で得らたポリマーを実施例１と同様にコーティン
グおよびキュアを行い光学物品を得た。

【００５４】結果を表１に示すが、優れた光学特性と防
汚性を示した。表２に表面の元素分析値を示した。

【００５５】

【表１】

【表２】

【００５６】

【発明の効果】本発明によれば次の効果が得られる。

【００５７】（１）指紋、水垢などの汚れが付着しにく
く、かつ付着しても洗浄あるいは払拭することが容易で
ある。

【００５８】（２）反射防止効果など優れた光学特性を
有する光学物品が得られる。

【００５９】（３）防汚特性の耐久性に優れる。

【００６０】（４）実用上問題のない表面硬度を有し、
擦過きずができにくい。

【００６１】（５）極寒地においても、凍り、雪が付着
しない。

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】プラスチック基材上に設けられた、表層膜
   の主成分が二酸化硅素あるいはフッ化マグネシウムであ
   る単層または多層の反射防止膜の表面に、下記一般式
   （１）または（２）で示されるフルオロアルキル（メ
   タ）アクリル系単量体および、下記一般式（３）で示さ
   れる基を有する、該フルオロアルキル（メタ）アクリル
   系単量体と共重合可能な二重結合を有する単量体とを重
   合成分として有する共重合体からなる１ｎｍ以上、２０
   ｎｍ以下の厚みの被膜を有し、表面反射率が３％以下、
   かつ水に対する静止接触角が１０５度以上であることを
   特徴とする光学物品。 【化１】 （式中Ｒ₁ はＨ，ＣＨ₃ およびＦから選ばれ、ａは２か
   ら４までの整数、ｂは３から１４までの整数、ｃは０ま
   たは１、ｄは１または２を表す。ｄ＝２−ｃである。） 【化２】 （式中Ｒ₁ は、Ｈ、ＣＨ₃ およびＦから選ばれ、ｅは２
   から４までの整数、Ｒ₂はＨ，メチル基およびエチル基
   から選ばれ、ｆは２または３の整数、ｇ＝３−ｆであ
   る。）
2. 【請求項２】該共重合体において、該フルオロアルキル
   （メタ）アクリル系単量体が５０モル％〜９９モル％、
   該フルオロアルキル（メタ）アクリル系単量体と共重合
   可能な二重結合を有する単量体が１モル％〜５０モル％
   含有されることを特徴とする請求項１記載の光学物品。
3. 【請求項３】該一般式（３）で表わされる基を有する、
   フルオロアルキル（メタ）アクリル系単量体と共重合可
   能な二重結合を有する単量体が（メタ）アクリロイルで
   あることを特徴とする請求項１記載の光学物品。
4. 【請求項４】請求項１および２に記載の共重合体は、下
   記一般式（３）で示される化合物が単量体に対し０．５
   から１０重量％の範囲で添加された系で重合されたこと
   を特徴とする光学物品およびその製造方法
5. 【請求項５】光学物品の表面をＸ線光電子分光法で測定
   し、表面からの光電子脱出角度が９０度のときの分析値
   で、炭素数を１としたときの原子割合が、フッ素が０．
   ６５から２．５の範囲、酸素原子が０．０１から８．５
   の範囲、硅素原子が０から４．３の範囲になり、表面か
   らの光電子脱出角度が６０度のときの分析値で炭素数を
   １としたときの原子割合が、フッ素が０．６５から２．
   ８の範囲、酸素原子が０．０１から４．３の範囲、硅素
   原子が０から２．２の範囲であることを特徴とする請求
   項１記載の光学物品。
6. 【請求項６】光学物品がオプチカルフィルターであるこ
   とを特徴とする請求項１記載の光学物品。