JP2001049236A - 防汚材およびこれを用いた反射防止フィルター - Google Patents
防汚材およびこれを用いた反射防止フィルターInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】優れた防汚性かつその永続性を有する防汚層が
形成可能な防汚材およびこれを用いた反射防止フィルタ
ーを提供することを目的とする。 【解決手段】下記（Ａ），（Ｂ），（Ｃ）成分のうち少
なくとも一種と、一般式Ｒ’Ｏ（Ｃ2 Ｈ4 Ｏ）a （Ｃ3
Ｈ6 Ｏ）b −［−Ｒ−ＳｉＯ（ＣＨ3 ）2 −Ｓｉ（ＣＨ
3 ）2 −ＲＯ（Ｃ2 Ｈ4 Ｏ）a （Ｃ3 Ｈ6 Ｏ）b −］n
−Ｒ’（ａ, ｂ,ｍ, ｎは正の整数であり、分子量は１
０００〜１０００００、Ｓｉ含有量は１０〜９０％であ
る）で示されるジメチルポリシロキサンとポリアルキレ
ンオキサイドが結合しており、結合したジメチルポリシ
ロキサンとポリアルキレンオキサイド全体のうち９０％
以上の結合場所で交互に繰り返し結合した直鎖状シリコ
ーンを含有することを特徴とする防汚材。
形成可能な防汚材およびこれを用いた反射防止フィルタ
ーを提供することを目的とする。 【解決手段】下記（Ａ），（Ｂ），（Ｃ）成分のうち少
なくとも一種と、一般式Ｒ’Ｏ（Ｃ2 Ｈ4 Ｏ）a （Ｃ3
Ｈ6 Ｏ）b −［−Ｒ−ＳｉＯ（ＣＨ3 ）2 −Ｓｉ（ＣＨ
3 ）2 −ＲＯ（Ｃ2 Ｈ4 Ｏ）a （Ｃ3 Ｈ6 Ｏ）b −］n
−Ｒ’（ａ, ｂ,ｍ, ｎは正の整数であり、分子量は１
０００〜１０００００、Ｓｉ含有量は１０〜９０％であ
る）で示されるジメチルポリシロキサンとポリアルキレ
ンオキサイドが結合しており、結合したジメチルポリシ
ロキサンとポリアルキレンオキサイド全体のうち９０％
以上の結合場所で交互に繰り返し結合した直鎖状シリコ
ーンを含有することを特徴とする防汚材。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、防汚材およびこれ
を用いた反射防止フィルターに関するものであり、さら
に詳しくは形成される塗膜が防汚性能の永続性を有する
防汚材、および防汚性能の永続性と低屈折率性を有す
る、コーティング等に用いられる防汚材およびこれを用
いた反射防止フィルターに関する。
を用いた反射防止フィルターに関するものであり、さら
に詳しくは形成される塗膜が防汚性能の永続性を有する
防汚材、および防汚性能の永続性と低屈折率性を有す
る、コーティング等に用いられる防汚材およびこれを用
いた反射防止フィルターに関する。
【０００２】
【従来の技術】表示装置などに用いられる反射防止フィ
ルターなどの反射防止物品は、基板に屈折率の異なる光
学薄膜を一層以上積層したものが多く、屈折率がより低
い層を最表層とした層構成をとる場合が多い。
ルターなどの反射防止物品は、基板に屈折率の異なる光
学薄膜を一層以上積層したものが多く、屈折率がより低
い層を最表層とした層構成をとる場合が多い。
【０００３】一般に、上記反射防止層の最表層は大きな
表面エネルギーと微細な表面凹凸を有するため、汚れの
成分である種々の化合物が付着しやすく除去することが
容易ではない。さらに、汚れが付着した部分は、反射干
渉色の変化により一層汚れが目立つため、汚れの付着し
にくい表面が嘱望されている。
表面エネルギーと微細な表面凹凸を有するため、汚れの
成分である種々の化合物が付着しやすく除去することが
容易ではない。さらに、汚れが付着した部分は、反射干
渉色の変化により一層汚れが目立つため、汚れの付着し
にくい表面が嘱望されている。
【０００４】これに対し、汚れが付着しにくく、付着し
ても拭き取りやすい性質を持つ防汚層を反射防止層の表
面に設ける工夫が考案されている。例えば、特開昭６４
−８６１０１号公報には、基材の表面に、主として二酸
化ケイ素からなる反射防止膜を設け、更にその表面に有
機ケイ素置換基を含む化合物で処理した耐汚染性、耐擦
傷性の反射防止膜物品が提案されている。特開平４−３
３８９０１号公報には、同様に基材表面に末端シラノー
ル有機ポリシロキサンを皮膜した耐汚染性、耐擦傷性の
ＣＲＴフィルターが提案されている。
ても拭き取りやすい性質を持つ防汚層を反射防止層の表
面に設ける工夫が考案されている。例えば、特開昭６４
−８６１０１号公報には、基材の表面に、主として二酸
化ケイ素からなる反射防止膜を設け、更にその表面に有
機ケイ素置換基を含む化合物で処理した耐汚染性、耐擦
傷性の反射防止膜物品が提案されている。特開平４−３
３８９０１号公報には、同様に基材表面に末端シラノー
ル有機ポリシロキサンを皮膜した耐汚染性、耐擦傷性の
ＣＲＴフィルターが提案されている。
【０００５】また、特公平６−２９３３２号公報には、
プラスチック表面にパーフルオロアルキル基を含むモノ
及びジシラン化合物およびハロゲン、アルキルまたはア
ルコキシのシラン化合物とからなる反射防止膜を有する
低反射率および防汚性のプラスチックが提案されてい
る。
プラスチック表面にパーフルオロアルキル基を含むモノ
及びジシラン化合物およびハロゲン、アルキルまたはア
ルコキシのシラン化合物とからなる反射防止膜を有する
低反射率および防汚性のプラスチックが提案されてい
る。
【０００６】更に、特開平７−１６９４０号公報には、
パーフルオロアルキル（メタ）アクリレートとアルコキ
シシラン基を有する単量体との共重合体を二酸化ケイ素
を主とする光学薄膜上に形成した光学物品が提案されて
いる。
パーフルオロアルキル（メタ）アクリレートとアルコキ
シシラン基を有する単量体との共重合体を二酸化ケイ素
を主とする光学薄膜上に形成した光学物品が提案されて
いる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
防汚層における防汚材およびこれを用いた反射防止フィ
ルターは、付着した汚染物質を除去するために力強く拭
き取ったり水や有機溶剤などを用いて拭き取ると、防汚
性を発現する物質が除かれやすく、防汚性の永続性に乏
しい。本発明は以上のような従来技術の課題を解決しよ
うとするものであり、優れた防汚性かつその永続性を有
する防汚層が形成可能な防汚材およびこれを用いた反射
防止フィルターを提供する。
防汚層における防汚材およびこれを用いた反射防止フィ
ルターは、付着した汚染物質を除去するために力強く拭
き取ったり水や有機溶剤などを用いて拭き取ると、防汚
性を発現する物質が除かれやすく、防汚性の永続性に乏
しい。本発明は以上のような従来技術の課題を解決しよ
うとするものであり、優れた防汚性かつその永続性を有
する防汚層が形成可能な防汚材およびこれを用いた反射
防止フィルターを提供する。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、優れた防
汚性のみならず、防汚性の永続性を有する防汚層につい
て鋭意検討を行った結果、シラン化合物、アクリルモノ
マ等、ジメチルポリシロキサンとポリアルキレンオキサ
イドが交互に繰り返し結合した直鎖状シリコーンおよび
パーフルオロアルキルシラザンを含んだコーテイング材
料を用いることで、防汚性とその永続性に優れた塗膜が
得られることを見いだした。
汚性のみならず、防汚性の永続性を有する防汚層につい
て鋭意検討を行った結果、シラン化合物、アクリルモノ
マ等、ジメチルポリシロキサンとポリアルキレンオキサ
イドが交互に繰り返し結合した直鎖状シリコーンおよび
パーフルオロアルキルシラザンを含んだコーテイング材
料を用いることで、防汚性とその永続性に優れた塗膜が
得られることを見いだした。
【０００９】また、本発明の防汚材は、屈折率が低くな
るように組成を選定することで、上記防汚特性を備えた
反射防止層の低屈折率最表層として利用可能であること
を見いだした。
るように組成を選定することで、上記防汚特性を備えた
反射防止層の低屈折率最表層として利用可能であること
を見いだした。
【００１０】具体的には、請求項１に関する発明は、下
記（Ａ），（Ｂ），（Ｃ）成分のうち少なくとも一種
と、一般式Ｒ’Ｏ（Ｃ2 Ｈ4 Ｏ）a （Ｃ3 Ｈ6 Ｏ）b −
［−Ｒ−ＳｉＯ（ＣＨ3 ）2 −Ｓｉ（ＣＨ3 ）2 −ＲＯ
（Ｃ2 Ｈ4 Ｏ）a （Ｃ3 Ｈ6 Ｏ）b −］n −Ｒ’（ａ,
ｂ, ｍ, ｎは正の整数であり、分子量は１０００〜１０
００００、Ｓｉ含有量は１０〜９０％である）で示され
るジメチルポリシロキサンとポリアルキレンオキサイド
が結合しており、結合したジメチルポリシロキサンとポ
リアルキレンオキサイド全体のうち９０％以上の結合場
所で交互に繰り返し結合した直鎖状シリコーンを含有す
ることを特徴とする防汚材を提供するものである。 （Ａ）一般式Ｒ1 a ＳｉＸ4-a （Ｒ1 は、アルキル基、
アルケニル基、アリル基、またはハロゲン、エポキシ、
アミノ、メルカプト、メタクリロイルないしシアノで置
換された炭化水素基から選ばれた官能基を示し、Ｘは、
アルコキシル基、アルコキシルアルコキシ基、ハロゲン
原子ないしアシルオキシ基から選ばれた加水分解可能な
基を示す。ａは０〜２の整数。）で示されるシラン化合
物およびその加水分解物のうち少なくとも一種 （Ｂ）コロイダルシリカ （Ｃ）分子構造中にビニル基、アリル基及び（メタ）ア
クリル基のうちいずれかを２個以上含有するモノマー、
オリゴマーおよびポリマーのうち少なくとも一種
記（Ａ），（Ｂ），（Ｃ）成分のうち少なくとも一種
と、一般式Ｒ’Ｏ（Ｃ2 Ｈ4 Ｏ）a （Ｃ3 Ｈ6 Ｏ）b −
［−Ｒ−ＳｉＯ（ＣＨ3 ）2 −Ｓｉ（ＣＨ3 ）2 −ＲＯ
（Ｃ2 Ｈ4 Ｏ）a （Ｃ3 Ｈ6 Ｏ）b −］n −Ｒ’（ａ,
ｂ, ｍ, ｎは正の整数であり、分子量は１０００〜１０
００００、Ｓｉ含有量は１０〜９０％である）で示され
るジメチルポリシロキサンとポリアルキレンオキサイド
が結合しており、結合したジメチルポリシロキサンとポ
リアルキレンオキサイド全体のうち９０％以上の結合場
所で交互に繰り返し結合した直鎖状シリコーンを含有す
ることを特徴とする防汚材を提供するものである。 （Ａ）一般式Ｒ1 a ＳｉＸ4-a （Ｒ1 は、アルキル基、
アルケニル基、アリル基、またはハロゲン、エポキシ、
アミノ、メルカプト、メタクリロイルないしシアノで置
換された炭化水素基から選ばれた官能基を示し、Ｘは、
アルコキシル基、アルコキシルアルコキシ基、ハロゲン
原子ないしアシルオキシ基から選ばれた加水分解可能な
基を示す。ａは０〜２の整数。）で示されるシラン化合
物およびその加水分解物のうち少なくとも一種 （Ｂ）コロイダルシリカ （Ｃ）分子構造中にビニル基、アリル基及び（メタ）ア
クリル基のうちいずれかを２個以上含有するモノマー、
オリゴマーおよびポリマーのうち少なくとも一種
【００１１】また、請求項２に関する発明は、一般式Ｒ
ｆ−Ｒ2 Ｓｉ（ＮＨ）3/2 （式中Ｒｆは炭素数１〜１０
のパーフルオロアルキル基、Ｒ2 は炭素数２〜１０の２
価炭化水素基である。）で示されるフッ素シラン化合物
を含むことを特徴とする請求項１記載の防汚材を提供す
るものである。
ｆ−Ｒ2 Ｓｉ（ＮＨ）3/2 （式中Ｒｆは炭素数１〜１０
のパーフルオロアルキル基、Ｒ2 は炭素数２〜１０の２
価炭化水素基である。）で示されるフッ素シラン化合物
を含むことを特徴とする請求項１記載の防汚材を提供す
るものである。
【００１２】また、請求項３に関する発明は、請求項１
記載の成分（Ｂ）を含み、硬化膜の屈折率が１．４９以
下であることを特徴とする請求項１または２記載の防汚
材を提供するものである。
記載の成分（Ｂ）を含み、硬化膜の屈折率が１．４９以
下であることを特徴とする請求項１または２記載の防汚
材を提供するものである。
【００１３】また、請求項４に関する発明は、基材、反
射防止層（単層もしくは複層よりなる）、請求項１〜３
何れか記載の防汚材が表面に層として形成されているこ
とを特徴とする反射防止フィルターを提供するものであ
る。
射防止層（単層もしくは複層よりなる）、請求項１〜３
何れか記載の防汚材が表面に層として形成されているこ
とを特徴とする反射防止フィルターを提供するものであ
る。
【００１４】また、請求項５に関する発明は、基材、最
表層が請求項１〜３何れか記載の防汚材により形成され
ている反射防止層からなる反射防止フィルターを提供す
るものである。
表層が請求項１〜３何れか記載の防汚材により形成され
ている反射防止層からなる反射防止フィルターを提供す
るものである。
【００１５】
【発明の実施の形態】以下に本発明の詳細を示す。
【００１６】本発明は、防汚性とその永続性に優れた防
汚材の組成およびそれを用いたに反射防止フィルター関
するものである。この防汚材の膜組成の大半を占める基
質を形成する成分、および防汚性を担う成分より構成さ
れる。
汚材の組成およびそれを用いたに反射防止フィルター関
するものである。この防汚材の膜組成の大半を占める基
質を形成する成分、および防汚性を担う成分より構成さ
れる。
【００１７】防汚材は、成膜方法を問うものではない
が、成膜方法としてはコーティングが代表的なものであ
る。以下、コーティングの場合を代表させて説明する。
が、成膜方法としてはコーティングが代表的なものであ
る。以下、コーティングの場合を代表させて説明する。
【００１８】基質を形成する成分としては、請求項１記
載の重合性シラン化合物、コロイダルシリカおよび重合
性不飽和結合を有する有機化合物のうち少なくとも１種
類が用いられる。一般式Ｒ1 a ＳｉＸ4-a （Ｒ1 は、ア
ルキル基、アルケニル基、アリル基、またはハロゲン、
エポキシ、アミノ、メルカプト、メタクリロイルないし
シアノで置換された炭化水素基から選ばれた官能基を示
し、Ｘは、アルコキシル基、アルコキシルアルコキシ
基、ハロゲン原子ないしアシルオキシ基から選ばれた加
水分解可能な基を示す。ａは０〜２の整数。）で示され
る加水分解可能な重合性シラン化合物は、塗膜と基材と
の密着性を高めたり、塗膜構成要素中の有機成分と無機
成分をカップリングすることで、塗膜の機械的強度を向
上させることを主目的として用いられる。
載の重合性シラン化合物、コロイダルシリカおよび重合
性不飽和結合を有する有機化合物のうち少なくとも１種
類が用いられる。一般式Ｒ1 a ＳｉＸ4-a （Ｒ1 は、ア
ルキル基、アルケニル基、アリル基、またはハロゲン、
エポキシ、アミノ、メルカプト、メタクリロイルないし
シアノで置換された炭化水素基から選ばれた官能基を示
し、Ｘは、アルコキシル基、アルコキシルアルコキシ
基、ハロゲン原子ないしアシルオキシ基から選ばれた加
水分解可能な基を示す。ａは０〜２の整数。）で示され
る加水分解可能な重合性シラン化合物は、塗膜と基材と
の密着性を高めたり、塗膜構成要素中の有機成分と無機
成分をカップリングすることで、塗膜の機械的強度を向
上させることを主目的として用いられる。
【００１９】重合性シラン化合物としては、例えば、ビ
ニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、
ビニルジメトキシメチルシラン、ビニルメトキシジメチ
ルシラン、γ−（メタ）アクリロイルプロピルトリメト
キシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）
エチルトリメトキシシランが挙げられる。この重合性シ
ラン化合物は組成中、２〜３０％、好ましくは５〜２０
％である。２％未満であると十分な効果が得られず、３
０％以上添加しても効果が変わらない。
ニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、
ビニルジメトキシメチルシラン、ビニルメトキシジメチ
ルシラン、γ−（メタ）アクリロイルプロピルトリメト
キシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）
エチルトリメトキシシランが挙げられる。この重合性シ
ラン化合物は組成中、２〜３０％、好ましくは５〜２０
％である。２％未満であると十分な効果が得られず、３
０％以上添加しても効果が変わらない。
【００２０】コロイダルシリカは塗膜に低屈折率性を付
与するために用いることが可能である。コロイダルシリ
カを用いる場合、組成物中５０％以下が好ましい。５０
％以上では、塗膜の機械的強度の著しい低下が生じる。
与するために用いることが可能である。コロイダルシリ
カを用いる場合、組成物中５０％以下が好ましい。５０
％以上では、塗膜の機械的強度の著しい低下が生じる。
【００２１】重合性不飽和結合を有する有機化合物は、
塗膜に機械的強度を付与するために用いられる。例とし
てペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエ
リスリトールペンタアクリレート、ジペンタエレリスリ
トールヘキサアクリレート、ペンタエリエリスリトール
テトラアクリレート、トリメチロールプロパントリアク
リレート等が挙げられる。
塗膜に機械的強度を付与するために用いられる。例とし
てペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエ
リスリトールペンタアクリレート、ジペンタエレリスリ
トールヘキサアクリレート、ペンタエリエリスリトール
テトラアクリレート、トリメチロールプロパントリアク
リレート等が挙げられる。
【００２２】防汚性を担う成分として請求項１，２記載
のシリコーンおよび含フッ素化合物が用いられる。
のシリコーンおよび含フッ素化合物が用いられる。
【００２３】一般式Ｒ’Ｏ（Ｃ2 Ｈ4 Ｏ）a （Ｃ3 Ｈ6
Ｏ）b −［−Ｒ−ＳｉＯ（ＣＨ3 ） 2 −Ｓｉ（ＣＨ3 ）
2 −ＲＯ（Ｃ2 Ｈ4 Ｏ）a （Ｃ3 Ｈ6 Ｏ）b −］n −
Ｒ’（ａ, ｂ, ｍ, ｎは正の整数であり、分子量は１０
００〜１０００００、Ｓｉ含有量は１０〜９０％であ
る）で示される分子構造中にビニル基、アリル基及び
（メタ）アクリル基のうちいずれかを２個以上含有する
モノマー、オリゴマーおよびポリマーのうち少なくとも
一種）のポリアルキレンオキサイド基含有シリコーン
は、塗膜に優れた撥水性、撥油性を付与するために用い
られる。
Ｏ）b −［−Ｒ−ＳｉＯ（ＣＨ3 ） 2 −Ｓｉ（ＣＨ3 ）
2 −ＲＯ（Ｃ2 Ｈ4 Ｏ）a （Ｃ3 Ｈ6 Ｏ）b −］n −
Ｒ’（ａ, ｂ, ｍ, ｎは正の整数であり、分子量は１０
００〜１０００００、Ｓｉ含有量は１０〜９０％であ
る）で示される分子構造中にビニル基、アリル基及び
（メタ）アクリル基のうちいずれかを２個以上含有する
モノマー、オリゴマーおよびポリマーのうち少なくとも
一種）のポリアルキレンオキサイド基含有シリコーン
は、塗膜に優れた撥水性、撥油性を付与するために用い
られる。
【００２４】組成物中の該シリコーン量は１重量％から
１０重量％、好ましくは２重量％から５重量％である。
１重量％未満であると十分な防汚性が発現せず、１０重
量％を越えると、塗膜の機械的強度が低下する。
１０重量％、好ましくは２重量％から５重量％である。
１重量％未満であると十分な防汚性が発現せず、１０重
量％を越えると、塗膜の機械的強度が低下する。
【００２５】一般式一般式Ｒｆ−Ｒ2 Ｓｉ（ＮＨ）3/2
（式中Ｒｆは炭素数１〜１０のパーフルオロアルキル
基、Ｒ2 は炭素数２〜１０の２価炭化水素基である。）
で示されるパーフルオロアルキルシラザンは指紋拭き取
り性を向上させるために用いられる。
（式中Ｒｆは炭素数１〜１０のパーフルオロアルキル
基、Ｒ2 は炭素数２〜１０の２価炭化水素基である。）
で示されるパーフルオロアルキルシラザンは指紋拭き取
り性を向上させるために用いられる。
【００２６】なお、上式中Ｒｆは炭素数１〜１０、好ま
しくは炭素数１〜４のパーフルオロアルキル基である。
しくは炭素数１〜４のパーフルオロアルキル基である。
【００２７】Ｒ2 は炭素数２〜１０の２価炭化水素基で
あり、特にエチレン基、プロピレン基、フェニレン基が
好ましい。
あり、特にエチレン基、プロピレン基、フェニレン基が
好ましい。
【００２８】上記コーティング材料硬化させる方法とし
ては、紫外線などの光線照射または熱反応などの公知の
方法が挙げられ、そのための光反応開始剤や熱重合開始
剤が添加されてもよい。
ては、紫外線などの光線照射または熱反応などの公知の
方法が挙げられ、そのための光反応開始剤や熱重合開始
剤が添加されてもよい。
【００２９】上記光反応開始剤としては、例えば、１−
ヒドロキシシクロフェニルケトン、２−メチル−１−
［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロ
パノン−１等のアセトフェノン系化合物が使用され、熱
重合開始剤としては、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチ
ルヘキサノエート等のパーオキサイド系化合物；２−
２' −アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ系化合物が
使用される。光重合開始剤の添加量は、硬化物組成全体
の０．１〜２０重量％、好ましくは０．１〜１０重量％
である。
ヒドロキシシクロフェニルケトン、２−メチル−１−
［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロ
パノン−１等のアセトフェノン系化合物が使用され、熱
重合開始剤としては、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチ
ルヘキサノエート等のパーオキサイド系化合物；２−
２' −アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ系化合物が
使用される。光重合開始剤の添加量は、硬化物組成全体
の０．１〜２０重量％、好ましくは０．１〜１０重量％
である。
【００３０】上記コーティング液を塗工する方法として
は、工業的に使用されている通常の塗布方法を用いるこ
とができる。塗布方法としては、例えば、スピン塗装、
浸漬塗装、ロールコート塗装、グラビアコート塗装、カ
ーテンフロー塗装等が挙げられる。
は、工業的に使用されている通常の塗布方法を用いるこ
とができる。塗布方法としては、例えば、スピン塗装、
浸漬塗装、ロールコート塗装、グラビアコート塗装、カ
ーテンフロー塗装等が挙げられる。
【００３１】該コーティング材料の硬化膜の厚さは、１
〜１０ｎｍが好ましい。１ｎｍ未満では、十分な防汚性
は発現せず、１０ｎｍを越えると反射防止効果が低下す
るため好ましくない。但し、硬化膜を反射防止層の低屈
折率最表層として用いる場合は、９０〜１１０ｎｍが好
ましく、膜厚がこの範囲から外れるほど、反射防止効果
が低下する。
〜１０ｎｍが好ましい。１ｎｍ未満では、十分な防汚性
は発現せず、１０ｎｍを越えると反射防止効果が低下す
るため好ましくない。但し、硬化膜を反射防止層の低屈
折率最表層として用いる場合は、９０〜１１０ｎｍが好
ましく、膜厚がこの範囲から外れるほど、反射防止効果
が低下する。
【００３２】該コーティング材料の硬化膜の厚さは、１
〜１０ｎｍが好ましい。１ｎｍ未満では、十分な防汚性
は発現せず、１０ｎｍを越えると反射防止効果が低下す
るため好ましくない。但し、硬化膜を反射防止層の低屈
折率最表層として用いる場合は、９０〜１１０ｎｍが好
ましく、膜厚がこの範囲から外れるほど、反射防止効果
が低下する。
〜１０ｎｍが好ましい。１ｎｍ未満では、十分な防汚性
は発現せず、１０ｎｍを越えると反射防止効果が低下す
るため好ましくない。但し、硬化膜を反射防止層の低屈
折率最表層として用いる場合は、９０〜１１０ｎｍが好
ましく、膜厚がこの範囲から外れるほど、反射防止効果
が低下する。
【００３３】反射防止フィルターの防汚材として用いる
場合は、反射防止層と別途設けられる反射防止層上の防
汚層という構成を採る事も可能だが、反射防止層の一部
としての低屈折率最表層として用いる事も可能である。
場合は、反射防止層と別途設けられる反射防止層上の防
汚層という構成を採る事も可能だが、反射防止層の一部
としての低屈折率最表層として用いる事も可能である。
【００３４】なお、この場合の反射防止フィルターの基
材としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、
トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等が代表的なもので
あるが、これに限られない。また、反射防止層として
は、ＴｉＯ2 、ＳｉＯ2 等の酸化セラミックス薄膜積層
体等が代表的なものであるが、これに限られない。
材としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、
トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等が代表的なもので
あるが、これに限られない。また、反射防止層として
は、ＴｉＯ2 、ＳｉＯ2 等の酸化セラミックス薄膜積層
体等が代表的なものであるが、これに限られない。
【００３５】
【実施例】以下、実施例と比較例を示し、本発明を具体
的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるも
のではない。
的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるも
のではない。
【００３６】［実施例１］下記の材料を混合攪拌し、コ
ーテイング組成物（１）を調整した。その組成物（１）
をハードコートしたトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）
基材にバーコータ（＃３）を用いて塗工した後、高圧水
銀灯を用いてＵＶ照射し硬化塗膜を得た。
ーテイング組成物（１）を調整した。その組成物（１）
をハードコートしたトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）
基材にバーコータ（＃３）を用いて塗工した後、高圧水
銀灯を用いてＵＶ照射し硬化塗膜を得た。
【００３７】・コロイダルシリカ（ＩＰＡ−ＳＴ：日産
化学工業） ５０重量部 ・３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（Ｓ
−７１０：チッソ）１０重量部 ・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（アロニ
ックス４５０：東亞合成） ４０重量部 ・Ｒ’Ｏ（Ｃ2 Ｈ4 Ｏ）a −［−Ｒ−［−ＳｉＯ（ＣＨ
3 ）2 −］m −Ｓｉ（ＣＨ3 ）2 −ＲＯ（Ｃ2 Ｈ4 Ｏ）
a −Ｏ−］n −Ｒ（Ｓｉ含有量８０％、ａ，ｂ，ｍは正
の整数である）（ＦＺ−２２０７：日本ユニカー株式会
社（製品名））５重量部 ・光重合開始剤（チバーガイギー：イルガキュア１８
４） ２重量部 ・イソプロピルアルコール ３０００重量部
化学工業） ５０重量部 ・３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（Ｓ
−７１０：チッソ）１０重量部 ・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（アロニ
ックス４５０：東亞合成） ４０重量部 ・Ｒ’Ｏ（Ｃ2 Ｈ4 Ｏ）a −［−Ｒ−［−ＳｉＯ（ＣＨ
3 ）2 −］m −Ｓｉ（ＣＨ3 ）2 −ＲＯ（Ｃ2 Ｈ4 Ｏ）
a −Ｏ−］n −Ｒ（Ｓｉ含有量８０％、ａ，ｂ，ｍは正
の整数である）（ＦＺ−２２０７：日本ユニカー株式会
社（製品名））５重量部 ・光重合開始剤（チバーガイギー：イルガキュア１８
４） ２重量部 ・イソプロピルアルコール ３０００重量部
【００３８】［実施例２］実施例１で調整したコーテイ
ング組成物（１）にＣ8 Ｆ17Ｃ2 Ｈ4 Ｓｉ（ＮＨ）3/2
（ＫＰ８０１Ｍ：信越化学）を５重量部加えコーテイン
グ組成物（２）を調整後、実施例１と同様の手順で硬化
させ塗膜を得た。
ング組成物（１）にＣ8 Ｆ17Ｃ2 Ｈ4 Ｓｉ（ＮＨ）3/2
（ＫＰ８０１Ｍ：信越化学）を５重量部加えコーテイン
グ組成物（２）を調整後、実施例１と同様の手順で硬化
させ塗膜を得た。
【００３９】［比較例１］実施例１で調整したコーテイ
ング組成物（２）に含まれるシリコーンに替えて、Ｓｉ
（ＣＨ3 ）3 Ｏ−［−Ｓｉ（ＣＨ3 ）2 −Ｏ−］m −
［−Ｓｉ（ＣＨ3 ）｛Ｃ3 Ｈ6 Ｏ（Ｃ2 Ｈ4 Ｏ）a （Ｃ
3 Ｈ6 Ｏ）b Ｒ−Ｏ−］n −Ｓｉ（ＣＨ3 ） 3 （ａ，
ｂ，ｍ，ｎは正の整数である）（Ｌ−７６０４：日本ユ
ニカー）を５重量部加え、コーテイング組成物（３）を
調整後、実施例１と同様の手順で硬化させ塗膜を得た。
ング組成物（２）に含まれるシリコーンに替えて、Ｓｉ
（ＣＨ3 ）3 Ｏ−［−Ｓｉ（ＣＨ3 ）2 −Ｏ−］m −
［−Ｓｉ（ＣＨ3 ）｛Ｃ3 Ｈ6 Ｏ（Ｃ2 Ｈ4 Ｏ）a （Ｃ
3 Ｈ6 Ｏ）b Ｒ−Ｏ−］n −Ｓｉ（ＣＨ3 ） 3 （ａ，
ｂ，ｍ，ｎは正の整数である）（Ｌ−７６０４：日本ユ
ニカー）を５重量部加え、コーテイング組成物（３）を
調整後、実施例１と同様の手順で硬化させ塗膜を得た。
【００４０】［比較例２］実施例２で調整したコーテイ
ング組成物（２）に含まれるシリコーンに替えて、ＨＯ
Ｃ2 Ｈ4 ＯＣ3 Ｈ6 −ＳｉＭｅ2 −［−Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ
3 ）2 −］n −Ｃ 3 Ｈ6 ＯＣ2 Ｈ4 ＯＨ（平均分子量は
１０００である）（サイラプレーンＦＭ４４１１：チッ
ソ株式会社（製品名））を５重量部加え、コーテイング
組成物（４）を調整後、実施例１と同様の手順で硬化さ
せ塗膜を得た。上記の実施例、比較例において、各種物
性評価方法と結果を表１に示す。
ング組成物（２）に含まれるシリコーンに替えて、ＨＯ
Ｃ2 Ｈ4 ＯＣ3 Ｈ6 −ＳｉＭｅ2 −［−Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ
3 ）2 −］n −Ｃ 3 Ｈ6 ＯＣ2 Ｈ4 ＯＨ（平均分子量は
１０００である）（サイラプレーンＦＭ４４１１：チッ
ソ株式会社（製品名））を５重量部加え、コーテイング
組成物（４）を調整後、実施例１と同様の手順で硬化さ
せ塗膜を得た。上記の実施例、比較例において、各種物
性評価方法と結果を表１に示す。
【００４１】
【表１】
【００４２】（ａ） 水に対する接触角：接触角計（Ｃ
Ａ−Ｘ型：協和界面科学）を用いて、室温下で直径１．
０ｍｍの液滴を針先に作り、これを塗膜表面に接触させ
て液滴を作った。このときに生ずる液滴と面との角度を
測定し接触角とした。
Ａ−Ｘ型：協和界面科学）を用いて、室温下で直径１．
０ｍｍの液滴を針先に作り、これを塗膜表面に接触させ
て液滴を作った。このときに生ずる液滴と面との角度を
測定し接触角とした。
【００４３】（ｂ） 油性ペン拭き取り性：塗膜表面に
付着した油性ペン（Ｎｏ．５００：マジックインキ）を
セルロース製不織布（ベンコットＭ−３：旭化成）で拭
き取り、その取れ易さを目視判定を行った。
付着した油性ペン（Ｎｏ．５００：マジックインキ）を
セルロース製不織布（ベンコットＭ−３：旭化成）で拭
き取り、その取れ易さを目視判定を行った。
【００４４】判定基準を以下に示す。 ○：油性ペンを完全に拭き取ることが出来る。 △：油性ペンの拭き取り跡が残る。 ×：油性ペンを拭き取ることが出来ない。
【００４５】また、塗膜の同じ部分に対してこの評価を
繰り返し行い（５回および２０回）防汚性の永続性につ
いて調べた。
繰り返し行い（５回および２０回）防汚性の永続性につ
いて調べた。
【００４６】（ｃ）指紋拭き取り性：塗膜表面に指紋を
付着させ、セルロース製不織布（ベンコットＭ−３：旭
化成）で拭き取り、その取れ易さを目視判定を行った。
付着させ、セルロース製不織布（ベンコットＭ−３：旭
化成）で拭き取り、その取れ易さを目視判定を行った。
【００４７】判定基準を以下に示す。 ○：指紋を完全に拭き取ることが出来る。 △：指紋の拭き取り跡が残る。 ×：指紋の拭き取り跡が拡がり、拭き取ることが出来な
い。
い。
【００４８】
【発明の効果】本発明の防汚材により、防汚性とその永
続性に優れた防汚層が形成される。また、本発明の防汚
材は、屈折率が低くなるように組成を選定することで、
上記防汚特性を備えた反射防止フィルター等では、低屈
折率層として反射防止層の最表層に用いることも可能で
ある。
続性に優れた防汚層が形成される。また、本発明の防汚
材は、屈折率が低くなるように組成を選定することで、
上記防汚特性を備えた反射防止フィルター等では、低屈
折率層として反射防止層の最表層に用いることも可能で
ある。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4J002 BG04Y CP05W CP08W CP09W CP10W CP12W CP16W CP18X DJ016 GH00 4J038 DL021 DL031 DL032 DL152 FA012 FA222 HA446 JC31 JC32 JC35 MA14 NA05
Claims (5)
- 【請求項１】下記（Ａ），（Ｂ），（Ｃ）成分のうち少
なくとも一種と、一般式Ｒ’Ｏ（Ｃ 2 Ｈ4 Ｏ）a （Ｃ3
Ｈ6 Ｏ）b −［−Ｒ−ＳｉＯ（ＣＨ3 ）2 −Ｓｉ（ＣＨ
3 ） 2 −ＲＯ（Ｃ2 Ｈ4 Ｏ）a （Ｃ3 Ｈ6 Ｏ）b −］n
−Ｒ’（ａ, ｂ, ｍ, ｎは正の整数であり、分子量は１
０００〜１０００００、Ｓｉ含有量は１０〜９０％であ
る）で示されるジメチルポリシロキサンとポリアルキレ
ンオキサイドが結合しており、結合したジメチルポリシ
ロキサンとポリアルキレンオキサイド全体のうち９０％
以上の結合場所で交互に繰り返し結合した直鎖状シリコ
ーンを含有することを特徴とする防汚材。 （Ａ）一般式Ｒ1 a ＳｉＸ4-a （Ｒ1 は、アルキル基、
アルケニル基、アリル基、またはハロゲン、エポキシ、
アミノ、メルカプト、メタクリロイルないしシアノで置
換された炭化水素基から選ばれた官能基を示し、Ｘは、
アルコキシル基、アルコキシルアルコキシ基、ハロゲン
原子ないしアシルオキシ基から選ばれた加水分解可能な
基を示す。ａは０〜２の整数。）で示されるシラン化合
物およびその加水分解物のうち少なくとも一種 （Ｂ）コロイダルシリカ （Ｃ）分子構造中にビニル基、アリル基及び（メタ）ア
クリル基のうちいずれかを２個以上含有するモノマー、
オリゴマーおよびポリマーのうち少なくとも一種 - 【請求項２】一般式Ｒｆ−Ｒ2 Ｓｉ（ＮＨ）3/2 （式中
Ｒｆは炭素数１〜１０のパーフルオロアルキル基、Ｒ2
は炭素数２〜１０の２価炭化水素基である。）で示され
るフッ素シラン化合物を含むことを特徴とする請求項１
記載の防汚材。 - 【請求項３】請求項１記載の成分（Ｂ）を含み、硬化膜
の屈折率が１．４９以下であることを特徴とする請求項
１または２記載の防汚材。 - 【請求項４】基材、反射防止層（単層もしくは複層より
なる）、請求項１〜３何れか記載の防汚材が表面に層と
して形成されていることを特徴とする反射防止フィルタ
ー。 - 【請求項５】基材、最表層が請求項１〜３何れか記載の
防汚材により形成されている反射防止層からなる反射防
止フィルター。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11226400A JP2001049236A (ja) | 1999-08-10 | 1999-08-10 | 防汚材およびこれを用いた反射防止フィルター |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11226400A JP2001049236A (ja) | 1999-08-10 | 1999-08-10 | 防汚材およびこれを用いた反射防止フィルター |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001049236A true JP2001049236A (ja) | 2001-02-20 |
Family
ID=16844541
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11226400A Pending JP2001049236A (ja) | 1999-08-10 | 1999-08-10 | 防汚材およびこれを用いた反射防止フィルター |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001049236A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006186295A (ja) * | 2004-11-30 | 2006-07-13 | Dainippon Printing Co Ltd | 固体撮像素子用レンズ、固体撮像素子レンズ用撥水コーティング材料及び固体撮像素子 |
| JP2009091448A (ja) * | 2007-10-09 | 2009-04-30 | Momentive Performance Materials Japan Kk | ハードコート用樹脂組成物 |
| JPWO2011013611A1 (ja) * | 2009-07-29 | 2013-01-07 | 日本化薬株式会社 | 感光性樹脂組成物、それを用いた反射防止フィルム及び反射防止ハードコートフィルム |
| JP2020122036A (ja) * | 2019-01-29 | 2020-08-13 | 三菱マテリアル電子化成株式会社 | 防汚性膜及び防汚性膜形成用液組成物 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000034310A (ja) * | 1998-07-17 | 2000-02-02 | Toagosei Co Ltd | エマルションの製造方法 |
-
1999
- 1999-08-10 JP JP11226400A patent/JP2001049236A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000034310A (ja) * | 1998-07-17 | 2000-02-02 | Toagosei Co Ltd | エマルションの製造方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2006186295A (ja) * | 2004-11-30 | 2006-07-13 | Dainippon Printing Co Ltd | 固体撮像素子用レンズ、固体撮像素子レンズ用撥水コーティング材料及び固体撮像素子 |
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| JP5767583B2 (ja) * | 2009-07-29 | 2015-08-19 | 日本化薬株式会社 | 感光性樹脂組成物、それを用いた反射防止フィルム及び反射防止ハードコートフィルム |
| JP2020122036A (ja) * | 2019-01-29 | 2020-08-13 | 三菱マテリアル電子化成株式会社 | 防汚性膜及び防汚性膜形成用液組成物 |
| JP7231422B2 (ja) | 2019-01-29 | 2023-03-01 | 三菱マテリアル電子化成株式会社 | 防汚性膜 |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100203 |
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