JP5593548B2 - ポリイミド系重合体とこれらの共重合体、並びにこれを含むポジ型感光性樹脂組成物 - Google Patents
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Description
本発明の感光性ポリイミド系重合体およびこれらの共重合体は、ポリイミド共重合体、ポリアミック酸、ポリアミック酸エステルおよび/またはこれらの共重合体から選択されるものである。
の中から選択されるものであり、Y2は2価の脂肪族または芳香族有機基である。
の中から選択される置換基であることが好ましい。
本発明に係るポジ型感光性樹脂組成物は、前記一般式1〜3で表される化合物から選択された1種以上の感光性ポリイミド系重合体および/またはこれらの共重合体樹脂を単独で、または前記感光性ポリイミド系重合体および/またはこれらの共重合体1〜99重量部と次の一般式7で表されるポリアミック酸1〜70重量部を混合させたバインダー樹脂100重量部に対し光活性化合物および溶媒を含む。
からなる群より選択される1種以上を(1〜100モル%)含有し、Y7はジアミンを構成する2価の有機基であり, iは5〜200である。
1,6-ヘキサンジアミン、1,4-シクロヘキサンジアミン、1,3-シクロヘキサンジアミン、1,4-ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、1,3-ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、4,4'-ジアミノジシクロヘキシルメタン、および4,4'-ジアミノ-3,3'-ジメチルジシクロヘキシルメタンからなる群より選択される1種以上の脂肪族ジアミンが挙げられ、前記芳香族ジアミンまたは脂肪族ジアミンの中から選択された1種以上を混合して用いることもできる。
である。
100mLの丸底フラスコに2,2-ビス(3-アミノ-4-ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン11.0gとγ-ブチロラクトン40gを順次投入しゆっくり撹拌して完全に溶解させた後、前記フラスコを水浴(water bath)で室温に維持しながら、3,4-ジカルボキシ-1,2,3,4-テトラヒドロ-6-t-ブチル-1-ナフタレンコハク酸二無水物(DTBDA)10.7gをゆっくり添加した。前記混合溶液を16時間室温で撹拌した後、7gのトルエンを入れてディーン-スターク蒸留装置(dean-stark distillation)により水を除去できるように設けてから140℃で3時間還流させた。この溶液を室温に冷却させメタノール:水= 1:4の混合液にゆっくり注いで固形化させた後、40℃の真空乾燥オーブンで一日間乾燥させて16gの溶解性ポリイミド樹脂を得た。
100mLの丸底フラスコに4,4'-オキシジアニリン6gおよびγ-ブチロラクトン40gを順次投入しゆっくり撹拌して完全に溶解させた後、反応器のジャケット温度を20℃に維持しながら、3,4-ジカルボキシ-1,2,3,4-テトラヒドロ-6-t-ブチル-1-ナフタレンコハク酸二無水物(DTBDA)10.7gをゆっくり添加して撹拌させた。前記混合溶液を2時間撹拌して十分反応させた後、16時間室温でさらに撹拌させてポリアミック酸を製造した。
100mLの丸底フラスコにN,N'-ビストリメチルシリルベンゼン-1,4-ジアミン7.5gおよびγ-ブチロラクトン40gを順次投入しゆっくり撹拌して完全に溶解させた後、反応器のジャケット温度を20℃に維持しながら、3,4-ジカルボキシ-1,2,3,4-テトラヒドロ-6-t-ブチル-1-ナフタレンコハク酸二無水物(DTBDA)10.7gをゆっくり添加して撹拌させた。前記混合溶液を2時間撹拌して十分反応させた後、20時間室温でさらに撹拌させてポリアミック酸エステルを製造した。
1Lの丸底ジャケット反応器に4,4'-オキシジアニリン73.3gおよびγ-ブチロラクトン300gを順次投入しゆっくり撹拌して完全に溶解させた後、反応器のジャケット温度を20℃に維持しながら、3,3',4,4'-ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物55.8gをゆっくり添加して撹拌させた。前記混合溶液を2時間撹拌して十分反応させた後、16時間室温でさらに撹拌させてポリアミック酸を製造した。
前記実施例1で合成した溶解性ポリイミド1.6gに光活性化合物としてジアゾナフトキノンエステル化合物(TPPA 320:OD/(OD+OH)=2/3の比率によりOHおよびODのうち選択的に与えられる。)0.5g、溶媒γ-ブチロラクトン(GBL)4gを加えて室温で1時間撹拌させた後、これを細孔の大きさ1μmのフィルタでろ過して感光性組成物を製造した。
前記実施例1で合成した溶解性ポリイミド8.2gと実施例4で合成したポリアミック酸27.5gを混合して混合物溶液を製造した。続いて、前記混合物溶液に光活性化合物としてジアゾナフトキノンエステル化合物(TPPA 320:OD/(OD+OH)=2/3の比率によりOHおよびODのうち選択的に与えられる。)4.7g、溶媒γ-ブチロラクトン(GBL)18gを加えて室温で1時間撹拌させた後、これを細孔の大きさ1μmのフィルタでろ過して感光性組成物を製造した。
100mLの丸底フラスコに2,2-ビス(3-アミノ-4-ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン11.0gとγ-ブチロラクトン40gを順次投入しゆっくり撹拌して完全に溶解させた後、前記フラスコを水浴で室温に維持しながら、4-(2,5-ジオキソテトラヒドロフラン-3-イル)-1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-1,2-ジカルボン酸無水物(4-(2,5-dioxotetrahydrofurane-3-yl)-1,2,3,4-tetrahydronaphthalene-1,2-dicarboxylic anhydride、THNDA)9.0gをゆっくり添加した。前記混合溶液を16時間室温で撹拌した後、7gのトルエンを入れてディーン-スターク蒸留装置(dean-stark distillation)により水を除去できるように設置してから140℃で3時間還流させた。この溶液を室温に冷却させメタノール:水= 1:4の混合液にゆっくり注いで固形化させた後、40℃の真空乾燥オーブンで一日間乾燥させて16gの溶解性ポリイミド樹脂を得た。
前記比較例1で合成した溶解性ポリイミド1.6gに光活性化合物としてジアゾナフトキノンエステル化合物(TPPA 320:OD/(OD+OH)=2/3の比率によりOHおよびODのうち選択的に与えられる。)0.5g、溶媒γ-ブチロラクトン(GBL)4gを加えて室温で1時間撹拌させた後、これを細孔の大きさ1μmのフィルタでろ過して感光性組成物を製造した。
1.フィルム物性の評価
前記実施例4〜6で製造された感光性組成物をガラス板上にスピンコーティングし、窒素気流雰囲気のホットプレート上で180℃で60分、300℃で60分間順次熱処理を施して厚さ10μmのポリイミドフィルムを形成した後、オートクレーブで125℃、2.3atmの条件下で30分間加圧蒸気処理(pressure cooking treatment:PCT)工程を行って前記フィルムをガラス板から剥離させた。剥離されたポリイミドフィルムを幅1cm、長さ8cmの試験片の大きさに切断し、引張特性を測定してその結果を次の表1に示す。
4インチのシリコンウェハーに 前記比較例2,実施例5,6の感光性組成物をスピン コーティングし、ホットプレート上で120℃で2分間加熱して15μm厚の感光性フィルムを形成させた。フォトマスクに前記前熱処理を完了したシリコンウェハーを真空密着させた後、I-lineステッパーで100mJ/cm2から5mJ/cm2間隔で600mJ/cm2まで順次露光させた。2.38wt%水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液に23℃で80秒間現像した後、超純水で60秒間洗浄および乾燥して非露光部が鮮明に残っているパターンを得た。このようにパターン化されたシリコンウェハーを窒素気流下、ホット プレート上で室温から始まって180℃になるまで約30分間徐々に加熱し、続いて180℃で60分間維持した後、300℃になるまで30分間徐々に加熱してから、300℃で60分間維持して熱処理を行った。
[項目1]
次の一般式1〜3で表される化合物からなる群より選択される1種以上である感光性ポリイミド系重合体。
[化1]
…(1)
[化2]
…(2)
[化3]
…(3)
式1〜3の中、Zはそれぞれ3,4-ジカルボキシ-1,2,3,4-テトラヒドロ-6-t-ブチル-1-ナフタレンコハク酸二無水物(DTBDA)を含むテトラカルボン酸およびその誘導体を構成する4価の有機基であり、繰り返し単位aは1〜150、bは1〜400であり、Y 1 、Y 2 、Y 3 はそれぞれジアミンを構成する2価の有機基であって、Y 1 は、
の中から選択されるものであり、Y 2 は2価の脂肪族または芳香族有機基であり、Y 3 は上記Y 1 及びY 2 の中から選択されるものであり、Rはアルキル基およびシリルアルキル基(silyl alkyl)からなる群より選択されるものであり、繰り返し単位cとdはそれぞれ5〜200である。
[項目2]
Zは、1〜100モル%の3,4-ジカルボキシ-1,2,3,4-テトラヒドロ-6-tブチル-1-ナフタレンコハク酸二無水物(DTBDA)を含むテトラカルボン酸およびその誘導体を構成する4価の有機基であることを特徴とする項目1に記載の感光性ポリイミド系重合体。
[項目3]
上記一般式1で表される化合物の重量平均分子量は1,000〜100,000であることを特徴とする項目1に記載の感光性ポリイミド系重合体。
[項目4]
上記一般式1で表される化合物のガラス転移温度は200〜400℃であることを特徴とする項目1に記載の感光性ポリイミド系重合体。
[項目5]
上記一般式2で表される化合物と上記一般式3で表される化合物の重量平均分子量は1,000〜200,000であることを特徴とする項目1に記載の感光性ポリイミド系重合体。
[項目6]
上記一般式2で表されるポリアミック酸共重合体と上記一般式3で表されるポリアミック酸エステルのガラス転移温度は100〜300℃であることを特徴とする項目1に記載の感光性ポリイミド系重合体。
[項目7]
次の一般式4〜6で表される化合物からなる群より選択される1種以上である感光性ポリイミド系重合体。
[化4]
…(4)
[化5]
…(5)
[化6]
…(6)
式4〜6の中、Y 4 、Y 5 、Y 6 はそれぞれジアミンを構成する2価の有機基であって、Y 4 は、
の中から選択されるものであり、Y 5 は2価の脂肪族または芳香族有機基であり、繰り返し単位eは1〜150、fは1〜400であり、一般式5の繰り返し単位gは5〜200であり、Rはアルキル基およびシリルアルキル基(silyl alkyl)からなる群より選択されるものであり、一般式6の繰り返し単位hは5〜200である。
[項目8]
項目1〜7のいずれか一項によるポリイミド系重合体を含む共重合体。
[項目9]
バインダー樹脂、光活性化合物および溶媒を含むポジ型感光性樹脂組成物において、
上記バインダー樹脂は項目1に記載の上記一般式1〜3で表される化合物および項目7に記載の上記一般式4〜6で表される化合物からなる群より選択される1種以上である感光性ポリイミド系重合体および/またはこれらの共重合体であることを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。
[項目10]
上記バインダー樹脂は次の一般式7で表されるポリアミック酸を含むことを特徴とする項目9に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
[化7]
…(7)
式中、Wはテトラカルボン酸およびその誘導体を構成する4価の有機基であって、
からなる群より選択される1種以上を含有し、Y 7 はジアミンを構成する2価の有機基であり、iは5〜200である。
[項目11]
上記Wは、テトラカルボン酸およびその誘導体を構成する4価の有機基であって、
からなる群より選択される1種以上を1〜100モル%含有することを特徴とする項目10に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
[項目12]
上記の一般式7で表されるポリアミック酸は全バインダー樹脂に1〜70重量部で含むことを特徴とする項目10に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
[項目13]
上記ポジ型感光性樹脂組成物は、バインダー樹脂100重量部に対し光活性化合物1〜50重量部、および溶媒30〜90重量部で含まれることを特徴とする項目9に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
[項目14]
上記バインダー樹脂のi-線透過率が50%以上であることを特徴とする項目9に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
[項目15]
上記一般式7で表されるポリアミック酸化合物は伸び率が40%以上であることを特徴とする項目10に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
[項目16]
上記光活性化合物は次の一般式から選択される1種以上の化合物を含むことを特徴とする項目9に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
[化8]
…(8)
[化9]
…(9)
[化10]
…(10)
[化11]
…(11)
上記一般式8〜11中、ODは、
…(12)
である。
[項目17]
上記溶媒は、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン、N-ビニルピロリドン、N-メチルカプロラクタム、ジメチルスルホキシド、テトラメチルヨウ素、ピリジン、ジメチルスルホン、ヘキサメチルスルホキシド、m-クレゾール、γ-ブチロラクトン、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、エチレングリコール、乳酸エチル、乳酸ブチル、シクロヘキサノン、およびシクロペンタノンからなる群より選択される1種以上であることを特徴とする項目9に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
Claims (17)
- 次の一般式1及び一般式3で表される化合物からなる群より選択される1種以上からなる感光性ポリイミド系重合体。
[化1]
…(1)
[化3]
…(3)
一般式1及び3の中、Zはそれぞれ3,4-ジカルボキシ-1,2,3,4-テトラヒドロ-6-t-ブチル-1-ナフタレンコハク酸二無水物(DTBDA)を含むテトラカルボン酸およびその誘導体を構成する4価の有機基であり、繰り返し単位aは1〜150、bは1〜400であり、Y1、Y2、Y3はそれぞれジアミンを構成する2価の有機基であって、Y1は、
の中から選択されるものであり、Y2は2価の脂肪族または芳香族有機基であり、Y3はY1及びY2の中から選択されるものであり、Rはアルキル基およびシリルアルキル基(silyl alkyl)からなる群より選択されるものであり、繰り返し単位dは5〜200である。 - Zは、1〜100モル%の3,4-ジカルボキシ-1,2,3,4-テトラヒドロ-6-tブチル-1-ナフタレンコハク酸二無水物(DTBDA)を含むテトラカルボン酸およびその誘導体を構成する4価の有機基であることを特徴とする請求項1に記載の感光性ポリイミド系重合体。
- 前記一般式1で表される化合物の重量平均分子量は1,000〜100,000であることを特徴とする請求項1に記載の感光性ポリイミド系重合体。
- 前記一般式1で表される化合物のガラス転移温度は200〜400℃であることを特徴とする請求項1に記載の感光性ポリイミド系重合体。
- 前記一般式3で表される化合物の重量平均分子量は1,000〜200,000であることを特徴とする請求項1に記載の感光性ポリイミド系重合体。
- 前記一般式3で表されるポリアミック酸エステルのガラス転移温度は100〜300℃であることを特徴とする請求項1に記載の感光性ポリイミド系重合体。
- 次の一般式4及び一般式6で表される化合物からなる群より選択される1種以上からなる感光性ポリイミド系重合体。
[化4]
…(4)
[化6]
…(6)
一般式4及び一般式6の中、Y4、Y5、Y6はそれぞれジアミンを構成する2価の有機基であって、Y4は、
の中から選択されるものであり、Y5は2価の脂肪族または芳香族有機基であり、繰り返し単位eは1〜150、fは1〜400であり、Rはアルキル基およびシリルアルキル基(silyl alkyl)からなる群より選択されるものであり、一般式6の繰り返し単位hは5〜200である。 - 請求項1〜7のいずれか一項に記載の感光性ポリイミド系重合体を含む共重合体。
- バインダー樹脂、光活性化合物および溶媒を含むポジ型感光性樹脂組成物において、
前記バインダー樹脂は請求項1に記載の一般式1及び一般式3で表される化合物並びに請求項7に記載の一般式4及び一般式6で表される化合物からなる群より選択される1種以上である感光性ポリイミド系重合体および/またはこれらの共重合体であることを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。 - 前記バインダー樹脂は次の一般式7で表されるポリアミック酸を含むことを特徴とする請求項9に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
[化7]
…(7)
式中、Wはテトラカルボン酸およびその誘導体を構成する4価の有機基であって、
からなる群より選択される1種以上を含有し、Y7はジアミンを構成する2価の有機基であり、iは5〜200である。 - 前記Wは、テトラカルボン酸およびその誘導体を構成する4価の有機基であって、
からなる群より選択される1種以上を1〜100モル%含有することを特徴とする請求項10に記載のポジ型感光性樹脂組成物。 - 前記一般式7で表されるポリアミック酸は全バインダー樹脂に1〜70重量部で含むことを特徴とする請求項10に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
- 前記ポジ型感光性樹脂組成物は、バインダー樹脂100重量部に対し光活性化合物1〜50重量部、および溶媒30〜90重量部で含まれることを特徴とする請求項9に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
- 前記バインダー樹脂のi−線透過率が50%以上であることを特徴とする請求項9に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
- 前記一般式7で表されるポリアミック酸化合物は伸び率が40%以上であることを特徴とする請求項10に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
- 前記光活性化合物は次の一般式8〜11から選択される1種以上の化合物を含むことを特徴とする請求項9に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
[化8]
…(8)
[化9]
…(9)
[化10]
…(10)
[化11]
…(11)
一般式8〜11中、ODは
である。 - 前記溶媒は、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン、N-ビニルピロリドン、N-メチルカプロラクタム、ジメチルスルホキシド、テトラメチルヨウ素、ピリジン、ジメチルスルホン、ヘキサメチルスルホキシド、m-クレゾール、γ-ブチロラクトン、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、エチレングリコール、乳酸エチル、乳酸ブチル、シクロヘキサノン、およびシクロペンタノンからなる群より選択される1種以上であることを特徴とする請求項9に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR20090020384 | 2009-03-10 | ||
KR10-2009-0020384 | 2009-03-10 | ||
KR10-2010-0020703 | 2010-03-09 | ||
KR1020100020703A KR101056962B1 (ko) | 2009-03-10 | 2010-03-09 | 폴리이미드계 중합체와 이들의 공중합체 혼합물 및 이들을 포함하는 포지티브형 감광성 수지 조성물 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010209334A JP2010209334A (ja) | 2010-09-24 |
JP5593548B2 true JP5593548B2 (ja) | 2014-09-24 |
Family
ID=42730995
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010053492A Active JP5593548B2 (ja) | 2009-03-10 | 2010-03-10 | ポリイミド系重合体とこれらの共重合体、並びにこれを含むポジ型感光性樹脂組成物 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US8257901B2 (ja) |
JP (1) | JP5593548B2 (ja) |
Families Citing this family (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5515394B2 (ja) * | 2009-04-30 | 2014-06-11 | 株式会社ピーアイ技術研究所 | 感光性変性ポリイミド樹脂組成物及びその用途 |
TWI417318B (zh) * | 2011-07-28 | 2013-12-01 | Ind Tech Res Inst | 聚亞醯胺共聚物及圖案化金屬氧化物層之製造方法 |
KR102198316B1 (ko) * | 2012-06-19 | 2021-01-04 | 닛테츠 케미컬 앤드 머티리얼 가부시키가이샤 | 표시장치 및 그 제조방법, 그리고 표시장치 지지기재용 폴리이미드 필름 및 그 제조방법 |
PT2902847T (pt) * | 2012-09-25 | 2019-08-06 | Toray Industries | Composição positiva da resina fotosensível e método para produção de dispositivo semicondutor contendo uma película curada utilizando a referida composição |
TWI583773B (zh) | 2012-12-18 | 2017-05-21 | 財團法人工業技術研究院 | 有機發光二極體 |
KR101441344B1 (ko) * | 2013-01-15 | 2014-09-18 | 애경유화주식회사 | 고투과 고선택성 공중합체 폴리이미드 소재 및 그의 합성 방법 |
JP5966972B2 (ja) * | 2013-03-01 | 2016-08-10 | Jsr株式会社 | 感放射線性樹脂組成物、絶縁膜および有機el素子 |
US9017934B2 (en) | 2013-03-08 | 2015-04-28 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Photoresist defect reduction system and method |
US9502231B2 (en) | 2013-03-12 | 2016-11-22 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Photoresist layer and method |
US8932799B2 (en) | 2013-03-12 | 2015-01-13 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Photoresist system and method |
US9256128B2 (en) | 2013-03-12 | 2016-02-09 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Method for manufacturing semiconductor device |
US9245751B2 (en) | 2013-03-12 | 2016-01-26 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Anti-reflective layer and method |
US9110376B2 (en) | 2013-03-12 | 2015-08-18 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Photoresist system and method |
US9543147B2 (en) | 2013-03-12 | 2017-01-10 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Photoresist and method of manufacture |
US9175173B2 (en) | 2013-03-12 | 2015-11-03 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Unlocking layer and method |
US9354521B2 (en) | 2013-03-12 | 2016-05-31 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Photoresist system and method |
US9117881B2 (en) | 2013-03-15 | 2015-08-25 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Conductive line system and process |
TW201446083A (zh) | 2013-05-17 | 2014-12-01 | Microcosm Technology Co Ltd | 垂直導電單元及其製造方法 |
US9341945B2 (en) | 2013-08-22 | 2016-05-17 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Photoresist and method of formation and use |
US10036953B2 (en) | 2013-11-08 | 2018-07-31 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company | Photoresist system and method |
KR102074955B1 (ko) * | 2013-11-29 | 2020-02-07 | 삼성전자주식회사 | 광학필름용 고분자 및 이를 포함하는 광학필름 |
US10095113B2 (en) | 2013-12-06 | 2018-10-09 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company | Photoresist and method |
US9761449B2 (en) | 2013-12-30 | 2017-09-12 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Gap filling materials and methods |
US9599896B2 (en) | 2014-03-14 | 2017-03-21 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Photoresist system and method |
JP6447242B2 (ja) * | 2014-05-15 | 2019-01-09 | Jsr株式会社 | 感放射線性樹脂組成物、絶縁膜及びその製造方法、並びに有機el素子 |
US9581908B2 (en) | 2014-05-16 | 2017-02-28 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Photoresist and method |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3574160A (en) * | 1967-12-07 | 1971-04-06 | American Cyanamid Co | Processing aids |
EP0540508B1 (en) * | 1985-07-31 | 1996-03-06 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Imide hardeners and their preparation |
JP3932543B2 (ja) | 1998-08-21 | 2007-06-20 | Jsr株式会社 | ポリアミック酸、ポリイミドおよび液晶配向剤 |
JP4390028B2 (ja) * | 2000-10-04 | 2009-12-24 | 日産化学工業株式会社 | ポジ型感光性ポリイミド樹脂組成物 |
TW574620B (en) * | 2001-02-26 | 2004-02-01 | Toray Industries | Precursor composition of positive photosensitive resin and display device using it |
KR100905682B1 (ko) | 2001-09-26 | 2009-07-03 | 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤 | 포지티브형 감광성 폴리이미드 수지 조성물 |
JP3849138B2 (ja) * | 2002-02-18 | 2006-11-22 | Jsr株式会社 | 液晶配向剤、液晶配向膜の形成方法および液晶表示素子 |
JP3736494B2 (ja) | 2002-04-30 | 2006-01-18 | Jsr株式会社 | ポリアミック酸およびポリイミド |
CN101010634A (zh) | 2004-09-03 | 2007-08-01 | 日产化学工业株式会社 | 含聚酰胺酸的形成下层防反射膜的组合物 |
JP4530284B2 (ja) * | 2004-10-07 | 2010-08-25 | 信越化学工業株式会社 | ポリイミド系光硬化性樹脂組成物並びにパターン形成方法及び基板保護用皮膜 |
WO2008072914A1 (en) * | 2006-12-15 | 2008-06-19 | Kolon Industries, Inc. | Polyimide resin and liquid crystal alignment layer and polyimide film using the same |
KR101167483B1 (ko) * | 2006-12-15 | 2012-07-27 | 코오롱인더스트리 주식회사 | 무색투명한 폴리이미드 수지와 이를 이용한 액정 배향막 및필름 |
JP4403174B2 (ja) | 2006-12-25 | 2010-01-20 | Azエレクトロニックマテリアルズ株式会社 | パターン形成方法およびそれに用いる感光性樹脂組成物 |
JP4931634B2 (ja) * | 2007-02-22 | 2012-05-16 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | ポジ型感光性樹脂組成物 |
KR100851787B1 (ko) | 2007-04-11 | 2008-08-13 | 제일모직주식회사 | 3,4-디카르복시-1,2,3,4-테트라하이드로-6-터셔리부틸-1-나프탈렌숙신산이무수물 및 그를 이용하여 제조한 폴리이미드중합체를 포함하는 액정 배향제 |
-
2010
- 2010-03-09 US US12/720,364 patent/US8257901B2/en active Active
- 2010-03-10 JP JP2010053492A patent/JP5593548B2/ja active Active
-
2012
- 2012-08-07 US US13/568,911 patent/US8669038B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2010209334A (ja) | 2010-09-24 |
US20100233618A1 (en) | 2010-09-16 |
US8257901B2 (en) | 2012-09-04 |
US20120301826A1 (en) | 2012-11-29 |
US8669038B2 (en) | 2014-03-11 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100621 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120627 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A601 | Written request for extension of time |
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|
A602 | Written permission of extension of time |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Request for written amendment filed |
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A02 | Decision of refusal |
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|
A521 | Request for written amendment filed |
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|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140716 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
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R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |