JP5397641B2 - 高純度トリアルキルインジウム及びその製法 - Google Patents

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH0639477B2 (ja) * 1986-04-30 1994-05-25 信越化学工業株式会社 エピタキシャル成長用有機金属化合物の精製方法
JPH0267230A (ja) * 1988-09-02 1990-03-07 Toyo Stauffer Chem Co 有機金属化合物の精製法
JP3215195B2 (ja) * 1992-11-09 2001-10-02 東ソー・ファインケム株式会社 有機金属化合物の精製法
JP3525371B2 (ja) * 1996-06-25 2004-05-10 信越化学工業株式会社 有機金属化合物の精製方法
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