JP5326211B2 - ケージ状シクロブタン酸二無水物の製造法 - Google Patents

ケージ状シクロブタン酸二無水物の製造法 Download PDF

Info

Publication number
JP5326211B2
JP5326211B2 JP2006542980A JP2006542980A JP5326211B2 JP 5326211 B2 JP5326211 B2 JP 5326211B2 JP 2006542980 A JP2006542980 A JP 2006542980A JP 2006542980 A JP2006542980 A JP 2006542980A JP 5326211 B2 JP5326211 B2 JP 5326211B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
formula
trans
cis
compound represented
carbon atoms
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2006542980A
Other languages
English (en)
Other versions
JPWO2006043519A1 (ja
Inventor
秀雄 鈴木
隆行 田村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nissan Chemical Corp
Original Assignee
Nissan Chemical Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nissan Chemical Corp filed Critical Nissan Chemical Corp
Priority to JP2006542980A priority Critical patent/JP5326211B2/ja
Publication of JPWO2006043519A1 publication Critical patent/JPWO2006043519A1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5326211B2 publication Critical patent/JP5326211B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C67/00Preparation of carboxylic acid esters
    • C07C67/10Preparation of carboxylic acid esters by reacting carboxylic acids or symmetrical anhydrides with ester groups or with a carbon-halogen bond
    • C07C67/11Preparation of carboxylic acid esters by reacting carboxylic acids or symmetrical anhydrides with ester groups or with a carbon-halogen bond being mineral ester groups
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C51/00Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
    • C07C51/09Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides from carboxylic acid esters or lactones
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C51/00Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
    • C07C51/54Preparation of carboxylic acid anhydrides
    • C07C51/56Preparation of carboxylic acid anhydrides from organic acids, their salts, their esters or their halides, e.g. by carboxylation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C61/00Compounds having carboxyl groups bound to carbon atoms of rings other than six-membered aromatic rings
    • C07C61/04Saturated compounds having a carboxyl group bound to a three or four-membered ring
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C67/00Preparation of carboxylic acid esters
    • C07C67/08Preparation of carboxylic acid esters by reacting carboxylic acids or symmetrical anhydrides with the hydroxy or O-metal group of organic compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C67/00Preparation of carboxylic acid esters
    • C07C67/12Preparation of carboxylic acid esters from asymmetrical anhydrides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C67/00Preparation of carboxylic acid esters
    • C07C67/30Preparation of carboxylic acid esters by modifying the acid moiety of the ester, such modification not being an introduction of an ester group
    • C07C67/333Preparation of carboxylic acid esters by modifying the acid moiety of the ester, such modification not being an introduction of an ester group by isomerisation; by change of size of the carbon skeleton
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C69/00Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
    • C07C69/74Esters of carboxylic acids having an esterified carboxyl group bound to a carbon atom of a ring other than a six-membered aromatic ring
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D493/00Heterocyclic compounds containing oxygen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system
    • C07D493/02Heterocyclic compounds containing oxygen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system in which the condensed system contains two hetero rings
    • C07D493/04Ortho-condensed systems
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D493/00Heterocyclic compounds containing oxygen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system
    • C07D493/02Heterocyclic compounds containing oxygen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system in which the condensed system contains two hetero rings
    • C07D493/08Bridged systems
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C2601/00Systems containing only non-condensed rings
    • C07C2601/04Systems containing only non-condensed rings with a four-membered ring

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Description

本発明は、ケージ状シクロブタン酸二無水物及びその製造法に関し、例えば、光学材料用ポリイミドの原料モノマーとなり得るケージ状シクロブタン酸二無水物及びその製造法に関する。
一般に、ポリイミド樹脂は、その特徴である高い機械的強度、耐熱性、絶縁性、耐溶剤性のために、液晶表示素子や半導体における保護材料、絶縁材料などの電子材料として広く用いられている。また、最近では光導波路用材料等の光通信用材料としての用途も期待されている。
近年、この分野の発展は目覚ましく、それに対応して、用いられる材料に対しても益々高度な特性が要求されるようになっている。すなわち、単に耐熱性、耐溶剤性に優れるだけでなく、用途に応じた性能を多数併せ持つことが期待されている。
特に重要な特性として、高い透明性が挙げられる。この透明性を実現する一つの方法として、脂環式テトラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミンとの重縮合反応によりポリイミド前駆体を得て、この前駆体をイミド化し、ポリイミドを製造することで、比較的着色が少なく、高い透明性を有するポリイミドが得られることが既に報告されている(特許文献1,2参照)。
脂環式テトラカルボン酸二無水物の一種である1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸−1,3:2,4−二無水物の合成法としては、下記の各スキームで表されるように、式(A)で表されるジメチルフマレートから、式(D)で表されるトランス,トランス,トランス−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸を得る方法(非特許文献1参照)と、式(D)で表されるトランス,トランス,トランス−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸から式(E)で表される1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸−1,3:2,4−二無水物を得る方法(非特許文献2参照)とを組み合わせる手法が知られている。
Figure 0005326211
Figure 0005326211
しかし、非特許文献1に記載の方法の各工程には、下記のような問題点がある。
(1)第1工程の光反応では反応時間が1〜5日間と非常に長い。
(2)第2工程の異性化反応では、300℃という高温を要する。
(3)第2工程の別法では、6当量の塩基を必要とし、収率も非常に低い。
(4)第3工程の加水分解反応では、濃塩酸を使用し、収率が不明である。
一方、非特許文献2に記載の方法では、目的物の式(E)で表される1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸−1,3:2,4−二無水物が着色した固体として析出するという問題がある。また、非特許文献2では、目的物の化学構造決定はIRのみから行われており、単結晶X線による絶対構造決定法ではなく、実際に目的とする環状構造を有する化合物が得られているか否かは定かではない。
さらに、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸−1,3:2,4−二無水物のシクロブタン環にアルキル基が置換した化合物は未だ知られていない。
特開昭60−188427号公報 特開昭58−208322号公報 ジャーナル オブ アメリカン ケミカル ソサイエティー、第83巻、2725〜2728頁(1961年)[J.Am.Chem.Soc.,83,2725−8(1961)] ジャーナル オブ オーガニック ケミストリー、第3巻、1018〜1021頁(1968年)[J.Org.Chem.,33(3),1018−1021(1968)]
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、紫外線領域に吸収がなく、かつ、光透過性が高く、さらに耐熱性が改善された、液晶配向膜や光通信用光導波路等の光学材料用ポリイミドの原料モノマーとなり得るケージ状シクロブタン酸二無水物化合物及びその製造法を提供することを目的とする。
本発明者らは、ポリイミド構造の主鎖をより直線性にするとともに、重合度を上げることで、ポリイミドの透明性と耐熱性とを高める手法に着目し、その原料モノマーとして、直線性に優れ、高重合度及び高耐熱性、並びにアルキル基の導入による有機溶媒溶解性向上が期待される対称性を有するケージ状のシクロブタン酸二無水物化合物である1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸−1,3:2,4−二無水物化合物を採用することにし、その効率的な製造法について鋭意検討した結果、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸−1,2:3,4−二無水物化合物を出発原料とする、実用的な1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸−1,3:2,4−二無水物化合物の製造法を確立し、本発明を完成した。
したがって、本発明は、下記(1)〜(13)を提供する。
(1) 式[1]
Figure 0005326211
(式中、R1及びR2は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のハロゲン化アルキル基、炭素数3〜8のシクロアルキル基、フェニル基又はシアノ基を表す。)で表される1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸−1,2:3,4−二無水物化合物と、式[2]
Figure 0005326211
(式中、R3は、炭素数1〜10のアルキル基を表す。)で表されるアルコール化合物と、を酸触媒の存在下で反応させることを特徴とする式[3]
Figure 0005326211
(式中、R1、R2及びR3は、前記と同じ意味を表す。)で表されるシス,トランス,シス−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸テトラエステル化合物の製造法。
(2) 前記酸触媒が、硫酸である(1)のシス,トランス,シス−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸テトラエステル化合物の製造法。
(3) 式[1]
Figure 0005326211
(式中、R1及びR2は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のハロゲン化アルキル基、炭素数3〜8のシクロアルキル基、フェニル基又はシアノ基を表す。)で表される1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸−1,2:3,4−二無水物化合物と、式[7]
Figure 0005326211
(式中、R3は、炭素数1〜10のアルキル基を表す。)で表されるジアルキル硫酸化合物とを、塩基触媒の存在下で反応させることを特徴とする式[3]
Figure 0005326211
(式中、R1、R2及びR3は、前記と同じ意味を表す。)で表されるシス,トランス,シス−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸テトラエステル化合物の製造法。
(4) 前記式[7]で表されるジアルキル硫酸化合物が、ジメチル硫酸である(3)のシス,トランス,シス−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸テトラエステル化合物の製造法。
(5) 前記塩基触媒が、脂肪族アミンである(3)のシス,トランス,シス−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸テトラエステル化合物の製造法。
(6) 式[1]
Figure 0005326211
(式中、R1及びR2は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のハロゲン化アルキル基、炭素数3〜8のシクロアルキル基、フェニル基又はシアノ基を表す。)で表される1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸−1,2:3,4−二無水物化合物と、式[2]
Figure 0005326211
(式中、R3は、炭素数1〜10のアルキル基を表す。)で表されるアルコール化合物と、を酸触媒の存在下で反応させて式[3]
Figure 0005326211
(式中、R1、R2及びR3は、前記と同じ意味を表す。)で表されるシス,トランス,シス−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸テトラエステル化合物を得、この式[3]で示される化合物を塩基触媒で異性化させて式[4]
Figure 0005326211
(式中、R1、R2及びR3は、前記と同じ意味を表す。)で表されるトランス,トランス,トランス−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸テトラエステル化合物を得、この式[4]で示される化合物を有機酸と反応させて式[5]
Figure 0005326211
(式中、R1及びR2は、前記と同じ意味を表す。)で表されるトランス,トランス,トランス−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸化合物を得、さらにこの式[5]で示される化合物を脱水剤と反応させる、式[6]
Figure 0005326211
(式中、R1及びR2は、前記と同じ意味を表す。)で表される1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸−1,3:2,4−二無水物化合物の製造法。
(7) 式[1]
Figure 0005326211
(式中、R1及びR2は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のハロゲン化アルキル基、炭素数3〜8のシクロアルキル基、フェニル基又はシアノ基を表す。)で表される1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸−1,2:3,4−二無水物化合物と、式[7]
Figure 0005326211
(式中、R3は、炭素数1〜10のアルキル基を表す。)で表されるジアルキル硫酸化合物とを、塩基触媒の存在下で反応させて式[3]
Figure 0005326211
(式中、R1、R2及びR3は、前記と同じ意味を表す。)で表されるシス,トランス,シス−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸テトラエステル化合物を得、この式[3]で示される化合物を塩基触媒で異性化させて式[4]
Figure 0005326211
(式中、R1、R2及びR3は、前記と同じ意味を表す。)で表されるトランス,トランス,トランス−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸テトラエステル化合物を得、この式[4]で示される化合物を無機酸と反応させて式[5]
Figure 0005326211
(式中、R1及びR2は、前記と同じ意味を表す。)で表されるトランス,トランス,トランス−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸化合物を得、さらにこの式[5]で示される化合物を脱水剤と反応させる、式[6]
Figure 0005326211
(式中、R1及びR2は、前記と同じ意味を表す。)で表される1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸−1,3:2,4−二無水物化合物の製造法。
(8) 前記R1及びR2が、水素原子である(1)又は(2)のシス,トランス,シス−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸テトラエステル化合物の製造法。
(9) 前記R1及びR2が、水素原子である(6)の1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸−1,3:2,4−二無水物化合物の製造法。
(10) 前記R1及びR2が、それぞれ独立に炭素数1〜10のアルキル基である(3)〜(5)のいずれかのシス,トランス,シス−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸テトラエステル化合物の製造法。
(11) 前記R1及びR2が、それぞれ独立に炭素数1〜10のアルキル基である(7)の1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸−1,3:2,4−二無水物化合物の製造法。
(12) 前記R1及びR2が、メチル基である(3)〜(5)のいずれかのシス,トランス,シス−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸テトラエステル化合物の製造法。
(13) 前記R1及びR2が、メチル基である(7)の1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸−1,3:2,4−二無水物化合物の製造法。
本発明によれば、紫外線領域に吸収がなく、かつ、光透過性が高く、さらに耐熱性が改善された、液晶表示素子や半導体における保護材料、絶縁材料などの電子材料、更に光導波路等の光通信用材料としての用途が期待される光学材料用ポリイミドの原料モノマーとなり得るケージ状シクロブタン酸二無水物化合物及びその実用的製造法を提供できる。
実施例1で得られたシス,トランス,シス−テトラメチル1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボキシレートの単結晶X線チャートである。 実施例9で得られた1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸−1,3:2,4−二無水物の単結晶X線チャートである。 実施例13で得られた1,2−ジメチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸−1,3:2,4−二無水物の単結晶X線チャートである。
以下、本発明についてさらに詳しく説明する。なお、以下の説明において、「n」はノルマルを、「i」はイソを、「s」はセカンダリーを、「t]はターシャリーを、それぞれ表す。
上記式[6]で表される1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸−1,3:2,4−二無水物化合物(以下、ケージ状CBDA化合物と略記する)は、下記の第1工程、第2工程、第3工程及び第4工程を含む製造法により製造することができる。ここで別法として、第1工程は第1’工程とすることもでき、第3工程は第3’工程とすることもできる。なお、各工程は、第1工程、第2工程、第3工程、第4工程の順序で行われる。
Figure 0005326211
(各式中、R1及びR2は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のハロゲン化アルキル基、炭素数3〜8のシクロアルキル基、フェニル基又はシアノ基を表し、R3は、それぞれ独立に炭素数1〜10のアルキル基を表す。)
まず、R1及びR2の具体例を記す。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子が挙げられる。
炭素数1〜10のアルキル基としては、直鎖、分岐のいずれでもよく、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−オクチル基、n−デシル基等が挙げられる。中でも、炭素数1〜5のアルキル基であるメチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基等が好ましく、立体障害の影響が小さいという点で、特に、炭素数1〜3のアルキル基であるメチル基、エチル基、n−プロピル基等がより好ましい。
炭素数1〜10のハロゲン化アルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ペルフルオロオクチル基、ペルフルオロデシル基等が挙げられる。この場合も、立体障害の影響が小さいという点で、炭素数1〜3のハロゲン化アルキル基であるトリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基が好ましい。
炭素数3〜8のシクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等が挙げられる。この場合も、立体障害の影響が小さいという点で、炭素数3〜4のシクロアルキル基であるシクロプロピル基、シクロブチル基が好ましい
次にR3の具体例を記す。
炭素数1〜10のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、オクチル基、デシル基等が挙げられる。中でも、炭素数1〜5のアルキル基であるメチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基等が好ましく、立体障害の影響が小さいという点で、特に炭素数1〜3のアルキル基であるメチル基、エチル基、n−プロピル基等がより好ましい。
上記の各工程について具体的に説明する。
[1]第1工程
この工程は、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸1,2:3,4−二無水物化合物(CBDA化合物と略記する。)と、式[2]で表されるアルコール化合物とを、酸触媒の存在下で反応させて式[3]で表されるシス,トランス,シス−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸テトラエステル化合物(cis,trans,cis−TMCB化合物と略記する。)を製造する工程である。
原料である式[1]で表されるCBDA化合物は、置換無水マレイン酸の光二量化反応等で製造することができる。光二量化反応の代表的製造例は、特開昭59−212495号公報に記載されている。
式[2]で示されるアルコール化合物としては、メタノール、エタノール、n−プロパノール、i−プロパノール、n−オクタノール、n−デカノール等に代表される炭素数1〜10のアルキル基を有するアルコール類が挙げられる。これらの中でも経済的なメタノールが好ましい。
アルコール化合物の使用量は、基質に対して4モル倍〜100モル倍が好ましく、特に10モル倍〜50モル倍が適当である。
酸触媒としては、塩酸や硫酸等の無機酸、ヘテロポリ酸や陽イオン交換樹脂等の固体酸等が使用できるが、硫酸が好ましい。
酸触媒の使用量は、基質に対して0.1重量%〜20重量%が好ましく、特に1重量%〜10重量%が適当である。
反応温度は、通常、アルコール化合物の沸点程度の温度が採用されるが、20〜200℃が好ましく、特に50〜150℃が好ましい。
反応の進行は、ガスクロマトグラフィー分析により確認することができる。
反応終了後の操作は特に限定されず、例えば、以下の方法が挙げられる。
原料の消失を確認した後、酸触媒として硫酸を用いる場合は、反応後、室温に戻して析出する結晶を濾取し、用いたアルコール化合物でこの結晶を洗浄した後、乾燥して目的のcis,trans,cis−TMCB化合物が得られる。
なお、本工程は、R1及びR2が、それぞれ水素原子の場合に適している。
[2]第1’工程
この工程は、CBDA化合物と、式[7]で表されるジアルキル硫酸とを、塩基触媒の存在下で反応させてcis,trans,cis−TMCB化合物を製造する工程である。
ジアルキル硫酸としては、ジメチル硫酸、ジエチル硫酸、ジn−プロピル硫酸、ジi−プロピル硫酸,ジn−ブチル硫酸、ジi−ブチル硫酸、ジs−ブチル硫酸、ジn−アミル硫酸、ジn−ヘキシル硫酸、ジn−ヘプチル硫酸、ジn−オクチル硫酸、ジn−ノニル硫酸、ジn−デシル硫酸等に代表される炭素数1〜10のジアルキル硫酸類が挙げられる。中でも経済的なジメチル硫酸が好ましい。
ジアルキル硫酸の使用量は、基質に対して2モル倍〜10モル倍が好ましく、特に2モル倍〜4モル倍が適当である。
本工程では、塩基触媒の存在が重要である。その種類としては、ジエチルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルアミン、ジn−ブチルアミン等のアルキルアミン類や、ピリジン、ピコリン等の芳香族アミン類が挙げられ、中でもジイソプロピルアミンが好ましい。塩基触媒の使用量は、基質に対して2モル倍〜10モル倍が好ましく、特に2モル倍〜4モル倍が適当である。
本工程は、無溶媒で行うこともできるが、溶媒を用いて行うこともできる。
溶媒としてはアルコール化合物が好ましい。その種類としては、ジアルキル硫酸に対応したアルキル基を有するアルコール化合物が好ましい。すなわち、例えばジメチル硫酸の場合は、メタノールが、ジエチル硫酸の場合は、エタノールが好適である。
溶媒の使用量は、基質に対して1質量倍〜20質量倍が好ましく、特に2質量倍〜10質量倍が適当である。
反応温度は、通常、アルコール化合物の沸点程度の温度が採用されるが、20〜200℃が好ましく、特に50〜150℃が好ましい。
反応の進行は、ガスクロマトグラフィー分析により確認することができる。
反応終了後の操作は特に限定されず、例えば、以下の方法が挙げられる。
原料の消失を確認した後、濃縮して得られた残渣に、トルエンと希塩酸とを加えてこれを溶解した後、有機層を重曹水及び水で洗浄して目的物の粗結晶を得る。この粗結晶をトルエン及びn−ヘプタンに溶かして再結晶し、高純度のcis,trans,cis−TMCB化合物が得られる。
本工程は、R1及びR2が、それぞれ独立に、炭素数1〜10のアルキル基、例えば共にメチル基の場合に適している。
[3]第2工程
この工程は、cis,trans,cis−TMCB化合物を塩基触媒で異性化させ、式[4]で表されるトランス、トランス,トランス−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸テトラエステル化合物(“all trans”−TMCB化合物と略記する。)を製造する工程である。
塩基触媒としては、アルカリ金属又はアルカリ土類金属のアルコラート、炭酸塩、水酸化物又は酸化物などが挙げられる。アルカリ金属としては、リチウム、ナトリウム、カリウム等、アルカリ土類金属としては、マグネシウム、カルシウム、バリウム等が挙げられる。
これらの中でも、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムt−ブトキシド、カリウムメトキシド、カリウムエトキシド、カリウムt−ブトキシド等のアルコラートが好適であり、ナトリウムメトキシド、カリウムt−ブトキシドがより好ましく、カリウムt−ブトキシドが最適である。
塩基触媒の使用量は、基質に対して0.1モル%〜100モル%が好ましく、特に0.5モル%〜20モル%が適当である。
溶媒としては、各種の溶媒類が使用できるが、テトラヒドロフラン(THF)、1,4−ジオキサン、1,2−ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル化合物類;メタノール、エタノール、n−プロパノール、i−プロパノール、n−ブタノール、i−ブタノール、s−ブタノール等のアルコール化合物類が好ましい。中でも、エーテル化合物類は、反応進行を促進させるうえに、低温域でも使用可能であることから好適に用いられる。
溶媒の使用量は、基質に対して1〜50質量倍が好ましく、特に2〜10質量倍が適当である。
反応温度は、−100〜200℃が好ましく、特に−50〜100℃が好ましい。エーテル化合物類を溶媒にした場合は、20℃以下でも可能である。
反応の進行は、ガスクロマトグラフィー分析により確認することができる。
反応終了後の操作としては、特に限定されないが、例えば以下の方法が挙げられる。
反応終了後、濃縮して得られた残渣を1,2−ジクロロエタン(EDC)と水で抽出し、35%塩酸で酸性にしてからEDC層を分離し、濃縮すると白色結晶が得られる。この白色結晶をメタノールに溶解させた後、やや濃縮してから氷冷すると結晶が析出する。この結晶を濾取し、メタノール洗浄してから減圧乾燥することにより、単一の“all trans”−TMCB化合物が得られる。この操作は、R1及びR2が、水素原子の場合に適している。
また、反応終了後、濃縮して得られた残渣をトルエン及び水で抽出し、有機層を分離し、濃縮すると白色結晶が得られる。この白色結晶を、トルエン及びn−ヘプタンに溶解し、再結晶させることで、ガスクロマトグラフィーで単一の“all trans”−TMCB化合物が得られる。この操作は、R1及びR2が、それぞれ独立に炭素数1〜10のアルキル基、例えば、共にメチル基の場合に適している。
[4]第3工程
この工程は、“all trans”−TMCB化合物を有機酸と反応させ、式[5]で表されるトランス,トランス,トランス−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸化合物(“all trans”−CBTC化合物と略記する。)を製造する工程である。
酸の種類としては、蟻酸、酢酸、プロピオン酸等の脂肪酸類;メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等のスルホン酸類が挙げられる。中でも、反応操作が簡便になるという点から、蟻酸が好適である。
酸の使用量は、基質に対して4モル当量以上が好ましい。なお、副生する酸エステルを、酸の一部と共に留出させると、反応が促進されることから、酸は10〜100モル当量の過剰量存在させることが好ましい。
さらに、本工程では、ベンゼンスルホン酸やp−トルエンスルホン酸を添加することが好ましく、特にp−トルエンスルホン酸を添加することが好適である。
これらの添加量は、基質に対して0.1〜10重量%が好ましく、特に0.5〜5重量%が好ましい。
1H−NMRで原料が消失するまで副生する酸エステルを留去していると、酸エステルを留去するにつれて白色の結晶が析出し、その量が増加する。原料消失後、室温まで冷却して析出した結晶を濾取し、これを酢酸エチルで洗浄してから減圧乾燥し、“all trans”−CBTC化合物の白色結晶が得られる。
本工程は、R1及びR2が、水素原子の場合に適している。
第3’工程について説明する。
この工程は、“all trans”−TMCB化合物を無機酸と反応させて、“all trans”−CBTC化合物を製造する工程である。
無機酸の種類としては、塩酸、臭化水素酸、硫酸、燐酸等が挙げられる。これらの中で、塩酸による方法が簡便である。
無機酸の使用量は、基質に対して4〜50モル当量の過剰量存在させることが好ましい。
この場合、副生するアルコールを留去すると、反応が促進されることから、当該反応は、副生するアルコールを留去しながら行うことが好ましい。
反応温度は、50〜200℃が好ましく、特に60〜150℃が好ましい。
反応液は、1H−NMRで原料が消失するまで留去した後、トルエンを加えて共沸脱水・乾固した後、酢酸エチルで再結晶することにより、“all trans”−CBTC化合物の白色結晶が得られる。
本工程は、R1及びR2が、それぞれ独立に、炭素数1〜10のアルキル基の場合、例えば、共にメチル基の場合に適している。
[5]第4工程
この工程は、“all trans”−CBTC化合物を脱水剤と反応させて、ケージ状CBDA化合物を製造する工程である。
脱水剤としては、例えば、脂肪族カルボン酸無水物、1,3−ジシクロヘキシルカルボジイミド(DCCと略記)、2−クロロ−1,3−ジメチルイミダゾリニウムクロライド(DMCと略記)等が用いられるが、好ましくは安価な脂肪族カルボン酸無水物、特に無水酢酸が用いられる。
脱水剤の使用量は、基質に対して2〜50当量、好ましくは2〜10当量である。
溶媒は、脱水剤自身を過剰量加えて使用することもできるが、反応に直接関与しない有機溶媒を用いることもできる。このような有機溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;1,2−ジクロロエタン、1,2−ジクロロプロパン等のハロゲン化炭化水素類;1,4−ジオキサン等が挙げられる。中でも、着色のないケージ状CBDA化合物が得られる点から、芳香族炭化水素類が好適に用いられる。
有機溶媒の使用量は、基質に対して1〜20質量倍、好ましくは1〜10質量倍である。
反応温度は、一般的に脱水剤又は溶媒の沸点付近が採用されるが、好ましくは50〜200℃、より好ましくは、60〜150℃である。
反応時間は、反応温度によって変動するものであるため一概には規定できないが、実用的には、1〜20時間、より好ましくは2〜10時間である。
反応後、脱水剤及び必要に応じて用いられる溶媒を留去すると、目的物であるケージ状CBDA化合物が得られる。なお、得られた化合物は、そのままでも十分な純度を有しているが、必要に応じて再結晶法により精製してもよい。
また、前述のように第3工程で蟻酸を用いる場合は、その反応混合物を、第4工程の脱水反応に供し、蟻酸や副生する酢酸(脱水剤として無水酢酸を用いた場合)を、必要に応じて使用される有機溶媒と共に留去させながら転化率を上げて、目的とするケージ状CBDA化合物を得ることもできる(第3工程・第4工程ワンポット法)。
なお、上述した各工程の反応は、バッチ式又は流通式で行うことができ、また常圧下でも加圧下でも行うことができる。
また、本発明は、式[8]で表される1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸−1,3:2,4−二無水物化合物を提供する。
Figure 0005326211
(式中、R5及びR6は、それぞれ独立にハロゲン原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のアルコキシ基、炭素数1〜10のハロゲン化アルキル基、炭素数3〜8のシクロアルキル基、フェニル基又はシアノ基を表す。)
ここで、R5及びR6の具体例としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子のハロゲン原子;メチル基、エチル基、プロピル基、オクチル基、デシル基等の炭素数1〜10のアルキル基;トリフルオロメトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、ヘプタフルオロプロポキシ基、ペルフルオロオクチルオキシ基、ペルフルオロデシルオキシ基等の炭素数1〜10のハロゲン化アルキル基;シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等の炭素数3〜8のシクロアルキル基;フェニル基;シアノ基等が挙げられる。
また、本発明は、上述した式[8]で表される化合物の製造中間体として、式[9]で表されるシス,トランス,シス−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸テトラエステル化合物、式[10]で表されるトランス,トランス,トランス−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸テトラエステル化合物、及び式[11]で表されるトランス,トランス,トランス−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸化合物を提供する。
Figure 0005326211
(式中、R3、R5及びR6は、上記と同じ意味を表す。)
式[8]〜[11]において、特にR5及びR6が炭素数1〜10のアルキル基である場合は、対応する原料である1,2−ジアルキル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸−1,2:3,4−二無水物化合物の入手が容易である。
例えば、1,4−ジメチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸1,2:3,4−二無水物は、特開平4−106127号公報に記載の方法で得られる。
以下、実施例を挙げて、本発明をより具体的に説明するが、本発明は、下記の実施例に限定されるものではない。なお、実施例における各物性の分析法、及びガスクロマトグラフィーでの分析条件は、以下のとおりである。
[1] ガスクロマトグラフィー(GC)
機種: Shimadzu GC−17A,Column:キャピラリカラム CBP1−W25−100(25m×0.53mmφ×1μm),カラム温度:100℃(保持 2min.)〜290℃(保持 10min.),8℃/min.(昇温速度),注入口温度:290℃,検出器温度:290℃,キャリアガス:ヘリウム,検出法:FID法
[2] 質量分析(MASS)
機種:LX−1000(JEOL Ltd.),検出法:FAB法
[3] 1H NMR
機種:ECP500 (JEOL),測定溶媒:DMSO−d6
[4] 13C NMR
機種: ECP500(JEOL),測定溶媒:DMSO−d6
[5] 融点(mp.)
測定機器:自動融点測定装置、FP62(METTLER TOLEDO)
[6] 液体クロマトグラフィー (LC)
機種: Shimadzu LC−10A,Column:Inertsil ODS−3(5μm,250mm×4.6mmφ), カラム温度:40℃,検出器:RI, 溶離液:H2O/CH3CN=4/6,流速:1ml/min.
[7] [X線結晶解析]
装置: DIP2030K(マックサイエンス製)
X線:MoKα(45kV,200mA)
測定温度:室温
結晶:板状結晶(0.2×0.1×0.1mm)
[実施例1]シス,トランス,シス−テトラメチル1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボキシレートの合成
Figure 0005326211
内容積200mlパイレックス(登録商標)ガラス製四つ口反応フラスコに、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸−1,2:3,4−二無水物16.4g(83.6mmol)、95%硫酸1.64g、及びメタノール98.4gを仕込み、80℃の油浴で4時間還流した。反応の進行に伴い結晶が析出した。
反応終了後、室温に戻してから析出した結晶を濾取し、水及びメタノールで洗浄した後、減圧乾燥し、ガスクロマトグラフィー(GC)で単一ピークの白色結晶23.5g(収率97.5%)を得た。
この結晶は、以下の単結晶X線解析により、シス,トランス,シス−テトラメチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボキシレートであることが確認された。また、MASS、1H−NMR、13C−NMRのデータからもこの構造が支持された。
MASS(FAB,m/e(%)):289([M+H]+,47),257(100),154(66)
1H−NMR(DMSO−d6,δppm):3.6778(s,4H),3.6039(s,12H)
13C−NMR(DMSO−d6,δppm):40.0868,52.1500,170.8977(各4個の炭素分を表す)
mp.:146.5〜147.5℃
シス,トランス,シス−テトラメチル1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボキシレートの単結晶X線測定結果
シス,トランス,シス−テトラメチル1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボキシレートを、アセトニトリルに溶解させ、自然濃縮により単結晶を作成してX線測定を行ったところ、下記の結果が得られた。図1にこの単結晶X線のチャートを示す。
分子式 C12168
分子量 288.25
色相,形状 colorless, plate
晶系 triclinic
空間群 P−1
結晶系 plane
格子定数 a=5.971(1)Å
b=6.461(1)Å
c=8.949(1)Å
α=98.534(8)°
β=101.277(6)°
γ=95.189(7)°
V=332.29(8)Å3
Z値=1
Dx=1.441Mg/m3
Mo K<α> radiation
λ(MoKa)=0.70926Å, μ(MoKa)0.12mm-1
No. of measured reflections=1414
No. of observed reflections=1386
R(gt)=0.09
wR(gt)=0.37
Temp.=298K
[実施例2]トランス,トランス,トランス−テトラメチル1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボキシレートの合成
Figure 0005326211
内容積100mlパイレックス(登録商標)ガラス製四つ口反応フラスコに、シス,トランス,シス−テトラメチル1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボキシレート2.88g(10.0mmol)、t−ブトキシカリウム(純度95%)0.23g(20mol%)、及びメタノール28.8gを仕込み、80℃の油浴で8時間還流した。反応終了後、濃縮して得られた残渣を1,2−ジクロロエタン(EDC)及び水で抽出し、35%塩酸で酸性にしてからEDC層を分離し、ガスクロマトグラフィーで分析した結果、生成物のGC面積%は95.0%であった。
分離したEDC層を濃縮すると、白色結晶2.7gが得られた。さらに、この白色結晶をメタノールに溶解し、やや濃縮してから氷冷すると結晶が析出した。この結晶を濾取し、メタノール洗浄してから減圧乾燥し、ガスクロマトグラフィー(GC)で単一ピークの白色結晶2.0gを得た。
この結晶は、MASS、1H−NMR、及び13C−NMR解析によってトランス,トランス,トランス−テトラメチル1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボキシレートであることが確認された。
MASS(FAB,m/e(%)):289([M+H]+,100),257(92),154(92)
1H−NMR(DMSO−d6,δppm):3.4217(s,4H),3.6428(s,12H)
13C−NMR(DMSO−d6,δppm):39.3470,52.2496,171.0202(各4個の炭素分を表す)
mp.:127.5〜128.0℃
[実施例3〜6]トランス,トランス,トランス−テトラメチル1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボキシレートの合成
Figure 0005326211
実施例2の反応において、内容積50mlパイレックス(登録商標)ガラス製四つ口反応フラスコに、シス,トランス,シス−テトラメチル1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボキシレート0.864g(3.0mmol)、メタノール14.4g、及び表1に示される種類及び量の塩基を仕込み、表1に示される反応温度及び時間で反応を行い、反応液をガスクロマトグラフィーで分析した結果を表1に示す。
Figure 0005326211
[実施例7]トランス,トランス,トランス−テトラメチル1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボキシレートの合成
内容積300mlパイレックス(登録商標)ガラス製四つ口反応フラスコに、シス,トランス,シス−テトラメチル1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボキシレート35g(121.4mmol)、t−ブトキシカリウム(純度95%)2.72g(20mol%)、及びメタノール175gを仕込み、62℃で2時間還流した。反応終了後、52℃まで冷却し、種晶“all trans”−TMCBを投入すると、白色結晶が析出した。この状態で2時間攪拌した後、40℃まで冷却して2時間攪拌し、さらに25〜30℃まで冷却して2時間攪拌した。析出した結晶を濾過し、メタノール洗浄した後に減圧乾燥し、ガスクロマトグラフィー(GC)で単一ピークの白色結晶26.9g(収率76.9%)を得た。
この結晶は、MASS、1H−NMR、及び13C−NMR解析によってトランス,トランス,トランス−テトラメチル1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボキシレートであることが確認された。
[実施例8]トランス,トランス,トランス−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸の合成
Figure 0005326211
内容積500mlパイレックス(登録商標)ガラス製四つ口反応フラスコに、トランス,トランス,トランス−テトラメチル1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボキシレート30g、p−トルエンスルホン酸一水和物(p−TSと略記する。)0.9g(3質量%)、及び蟻酸300gを仕込み、攪拌しながら100℃に昇温して還流し、4時間反応させた。
この際、副生した蟻酸メチルを蟻酸とともに留去しながら1H−NMRで原料が消失するまで反応を行った。なお、留去した蟻酸メチルの量は180gであった。留去するにつれて白色結晶が析出した。
反応終了後、室温まで冷却した後、析出した結晶を濾取し、酢酸エチルで洗浄してから減圧乾燥し、白色結晶22.7g(収率93.9%)を得た。
この結晶は、MASS、1H−NMR、及び13C−NMR解析によってトランス,トランス,トランス−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸であることが確認された。
MASS(FAB,m/e(%)):233([M+H]+,100)
1H−NMR(DMSO−d6,δppm):3.1351(s,4H),12.7567(s,4H)
13C−NMR(DMSO−d6,δppm):40.3808,172.8627(各4個の炭素分を表す)
mp.:280.0℃
[実施例9]1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸−1,3:2,4−二無水物の合成
Figure 0005326211
内容積100mlパイレックス(登録商標)ガラス製四つ口反応フラスコに、トランス,トランス,トランス−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸24g、無水酢酸120g(5質量倍)、及びトルエン120g(5質量倍)を仕込み、攪拌しながら110℃に昇温した。攪拌を続けているうちに白色の結晶が生成してきたが、そのまま24時間攪拌を継続して反応を終了させた。
続いて、室温まで冷却した後、析出した結晶を濾取し、酢酸エチルで洗浄してから減圧乾燥し、白色結晶15.1g(収率74.5%)を得た。
この結晶は、MASS、1H−NMR、及び13C−NMR解析によって、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸−1,3:2,4−二無水物であることが確認された。
MASS(FAB,m/e(%)):197([M+H]+,100)
1H−NMR(DMSO−d6,δppm):4.2455(s,4H),12.7714(s,4H)
13C−NMR(DMSO−d6,δppm):43.3971,163.5640(各4個の炭素分を表す)
mp.:258.0℃
1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸−1,3:2,4−二無水物の単結晶X線測定結果
1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸−1,3:2,4−二無水物の単結晶は、上記反応で得られた白色結晶をそのまま使用してX線測定をしたところ、下記の結果が得られた。図2にこの単結晶X線のチャートを示す。
分子式 C846
分子量 196.114
色相, 形状 colorless, plate
晶系 triclinic
空間群 P−1
結晶系 plane
格子定数 a=9.0610(10)Å
b=8.3480(10)Å
c=9.6980(10)Å
α=90.00°
β=90.00°
γ=90.00°
V=733.57(14)Å3
Z値=4
Dx=1.776Mg/m3
Mo K<α> radiation
λ(MoKa)=0.70926Å, μ(MoKa)=0.16mm-1
No. of measured reflections=950
No. of observed reflections=885
R(gt)=0.034
wR(gt)=0.075
Temp.=130K
[実施例10]シス,トランス,シス−テトラメチル1,4−ジメチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボキシレートの合成
Figure 0005326211
内容積200mlパイレックス(登録商標)ガラス製四つ口反応フラスコに、1,4−ジメチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸−1,2:3,4−二無水物14.0g(純度93%、58.08mmol)、及びメタノール70g(5質量倍)を仕込み、60℃の油浴で加温した状態でジイソプロピルアミン18.6g(144mmol)を滴下し、30分間攪拌した。
続いて、ジメチル硫酸16.5g(131mmol、2.1モル当量)を滴下した後、60℃で1時間半還流した。反応終了後、濃縮乾固して粗物52.9gを得た。この粗物にトルエン70g及び2%塩酸水70gを滴下し、粗物を溶解させてから分液した。分液した有機層に、5%重曹水42gを加えて洗浄した後、さらに水42gで洗浄した。洗浄後の有機層を濃縮して粗結晶19.2gを得た。この粗結晶に、トルエン9.6g及びヘプタン38.4gを加えて加温して粗結晶を溶解させた後、冷却しながら52℃で目的物の種晶を加え、20℃で30分間静置した。析出した結晶を濾取し、減圧乾燥して、ガスクロマトグラフィー(GC)で単一ピークの白色結晶14.9g(収率81.1%)を得た。
この結晶は、1H−NMR及び13C−NMRからシス,トランス,シス−テトラメチル1,4−ジメチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボキシレートであることが確認された。
1H−NMR(DMSO−d6,δppm):1.2664(s,6H),3.3011(s,2H),3.6189(s,6H),3.6820(s,6H)
13C−NMR(DMSO−d6,δppm):19.9048(2),45.0419(2),51.5986(2),52.2327(4),170.9263(2),171.8576(2)(かっこ内の数字は炭素数を表す)
mp.:86.1℃
[実施例11]トランス,トランス,トランス−テトラメチル1,2−ジメチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボキシレートの合成
Figure 0005326211
内容積100mlパイレックス(登録商標)ガラス製四つ口反応フラスコに、シス,トランス,シス−テトラメチル1,4−ジメチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボキシレート26.7g(84.4mmol)、及びテトラヒドロフラン(THF)134g(5質量倍)を仕込み、5℃で攪拌下、t−ブトキシカリウム(純度95%)0.474g(4.74mmol;5mol%)を添加し、5℃でさらに1時間攪拌した。
その後、溶媒を濃縮除去し、その残渣にトルエン134g(5質量倍)を添加し、これを濃縮留去した。この残渣に、さらにトルエン134g(5質量倍)と水134g(5質量倍)を添加し、これを溶解させて分液した後、有機層を濃縮し、粗結晶26.8gを得た。この粗結晶に、トルエン26.7g及びヘプタン48gを加えて加温溶解後、冷却しながら35〜40℃で目的物の種晶を加え、さらに20〜25℃に冷却して30分間攪拌した。析出した結晶を濾取した後、減圧乾燥し、ガスクロマトグラフィー(GC)で単一ピークの白色結晶16.7g(収率62.5%)を得た。また、濾液を濃縮すると結晶8.6gが得られた。
得られた白色結晶は、1H−NMR及び13C−NMR解析によってトランス,トランス,トランス−テトラメチル1,2−ジメチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボキシレートであることが確認された。
1H−NMR(DMSO−d6,δppm):1.1248(s,6H),3.6436(s,6H),3.7169(s,6H),3.8995(s,2H).
13C−NMR(DMSO−d6,δppm):15.3129(2),39.7827(2),49.2593(2),51.9986(2),52.4945(2),170.2656(2),171.3643(2)(かっこ内の数字は炭素数を表す)
mp.:82.4℃
[実施例12]トランス,トランス,トランス−1,2−ジメチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸の合成
Figure 0005326211
内容積500mlパイレックス(登録商標)ガラス製四つ口反応フラスコに、トランス,トランス,トランス−テトラメチル1,2−ジメチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボキシレート15g(47.4mmol)、及び2N−塩酸水150g(274mmol;5.78mol当量)を仕込み、攪拌しながら100℃に昇温し、30分毎に副生したアルコール7gを抜き取りながら還流し、9時間反応させた後、濃縮乾固して残渣16.4gを得た。
この残渣にトルエン75gを加えて加熱共沸脱水し、固形物11.6gを得た。さらに、この固形物に酢酸エチル45gを加えて30分加熱還流した後、冷却し、20〜25℃で30分攪拌して結晶を析出させた。得られた結晶を濾取し、トルエンで洗浄した後、酢酸エチルで洗浄して減圧乾燥し、白色結晶11.1g(収率89.7%)を得た。
この結晶は、1H−NMR及び13C−NMR解析によってトランス,トランス,トランス−1,2−ジメチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸であることが確認された。
1H−NMR(DMSO−d6,δppm):1.1833(s,6H),3.7137(s,2H),12.6874(s,4H)
13C−NMR(DMSO−d6,δppm):15.5255(2),39.8732(2),40.0030(2),48.4648(2),172.2102(2),173.0419(2)(かっこ内の数は炭素数を表す)
mp.:280.4℃
[実施例13]
Figure 0005326211
内容積200mlパイレックス(登録商標)ガラス製四つ口反応フラスコに、トランス,トランス,トランス−1,2−ジメチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸14.6g、無水酢酸43.8g(3質量倍)、及びトルエン43.8g(3質量倍)を仕込み、攪拌しながら107℃に昇温して5時間還流した。3時間攪拌を続けた後に白色の結晶がわずかに生成してきた。
反応終了後、20℃まで冷却し、析出した結晶を濾取し、トルエンで洗浄してから40℃以下で減圧乾燥し、白色結晶10.9g(収率86.3%)を得た。
この結晶は、MASS、1H−NMR及び13C−NMR解析によって、1,2−ジメチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸−1,3:2,4−二無水物であることが確認された。
MASS(FAB,m/e(%)):225.08([M+H]+,18),79.06(100)
1H−NMR(DMSO−d6,δppm):1.3162(s,6H),4.4171(s,2H)
13C−NMR(DMSO−d6,δppm):12.6168(4),45.8766(4),52.7284(2),162.9991(2),165.1050(2)(かっこ内は炭素数を表す)
mp.:234.1℃
1,2−ジメチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸−1,3:2,4−二無水物の単結晶X線測定結果
1,2−ジメチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸−1,3:2,4−二無水物として、上記反応で得られた白色結晶を70℃の無水酢酸・トルエン混合溶液に溶解させた後、ゆっくりと室温まで冷却して得られた無色柱状の単結晶を用いてX線測定をしたところ、下記の結果が得られた。図3にこの単結晶X線のチャートを示す。
分子式 C1086
分子量 224.168
色相,形状 colorless,柱状
晶系 Orthorhombic
空間群 Pbcn
格子定数 a=9.902(1)Å
b=9.000(1)Å
c=11.096(1)Å
α=90.00°
β=90.00°
γ=90.00°
V=988.9(2)Å3
Z値=4
Dx=1.506Mg/m3
Mo K<α> radiation
λ(MoKa)=0.70926Å, μ(MoKa)=0.13mm-1
No. of measured reflections=1282
No. of observed reflections = 1081
R(gt)=0.067
wR(gt)=0.145
Temp.=298K

Claims (13)

  1. 式[1]
    Figure 0005326211
    (式中、R1及びR2は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のハロゲン化アルキル基、炭素数3〜8のシクロアルキル基、フェニル基又はシアノ基を表す。)
    で表される1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸−1,2:3,4−二無水物化合物と、式[2]
    Figure 0005326211
    (式中、R3は、炭素数1〜10のアルキル基を表す。)
    で表されるアルコール化合物と、を酸触媒の存在下で反応させることを特徴とする式[3]
    Figure 0005326211
    (式中、R1、R2及びR3は、前記と同じ意味を表す。)
    で表されるシス,トランス,シス−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸テトラエステル化合物の製造法。
  2. 前記酸触媒が、硫酸である請求項1記載のシス,トランス,シス−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸テトラエステル化合物の製造法。
  3. 式[1]
    Figure 0005326211
    (式中、R1及びR2は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のハロゲン化アルキル基、炭素数3〜8のシクロアルキル基、フェニル基又はシアノ基を表す。)
    で表される1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸−1,2:3,4−二無水物化合物と、式[7]
    Figure 0005326211
    (式中、R3は、炭素数1〜10のアルキル基を表す。)
    で表されるジアルキル硫酸化合物とを、塩基触媒の存在下で反応させることを特徴とする式[3]
    Figure 0005326211
    (式中、R1、R2及びR3は、前記と同じ意味を表す。)
    で表されるシス,トランス,シス−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸テトラエステル化合物の製造法。
  4. 前記式[7]で表されるジアルキル硫酸化合物が、ジメチル硫酸である請求項3記載のシス,トランス,シス−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸テトラエステル化合物の製造法。
  5. 前記塩基触媒が、脂肪族アミンである請求項3記載のシス,トランス,シス−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸テトラエステル化合物の製造法。
  6. 式[1]
    Figure 0005326211
    (式中、R1及びR2は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のハロゲン化アルキル基、炭素数3〜8のシクロアルキル基、フェニル基又はシアノ基を表す。)
    で表される1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸−1,2:3,4−二無水物化合物と、式[2]
    Figure 0005326211
    (式中、R3は、炭素数1〜10のアルキル基を表す。)
    で表されるアルコール化合物と、を酸触媒の存在下で反応させて式[3]
    Figure 0005326211
    (式中、R1、R2及びR3は、前記と同じ意味を表す。)
    で表されるシス,トランス,シス−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸テトラエステル化合物を得、この式[3]で示される化合物を塩基触媒で異性化させて式[4]
    Figure 0005326211
    (式中、R1、R2及びR3は、前記と同じ意味を表す。)
    で表されるトランス,トランス,トランス−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸テトラエステル化合物を得、この式[4]で示される化合物を有機酸と反応させて式[5]
    Figure 0005326211
    (式中、R1及びR2は、前記と同じ意味を表す。)
    で表されるトランス,トランス,トランス−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸化合物を得、さらにこの式[5]で示される化合物を脱水剤と反応させる、式[6]
    Figure 0005326211
    (式中、R1及びR2は、前記と同じ意味を表す。)
    で表される1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸−1,3:2,4−二無水物化合物の製造法。
  7. 式[1]
    Figure 0005326211
    (式中、R1及びR2は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のハロゲン化アルキル基、炭素数3〜8のシクロアルキル基、フェニル基又はシアノ基を表す。)
    で表される1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸−1,2:3,4−二無水物化合物と、式[7]
    Figure 0005326211
    (式中、R3は、炭素数1〜10のアルキル基を表す。)
    で表されるジアルキル硫酸化合物とを、塩基触媒の存在下で反応させて式[3]
    Figure 0005326211
    (式中、R1、R2及びR3は、前記と同じ意味を表す。)
    で表されるシス,トランス,シス−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸テトラエステル化合物を得、この式[3]で示される化合物を塩基触媒で異性化させて式[4]
    Figure 0005326211
    (式中、R1、R2及びR3は、前記と同じ意味を表す。)
    で表されるトランス,トランス,トランス−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸テトラエステル化合物を得、この式[4]で示される化合物を無機酸と反応させて式[5]
    Figure 0005326211
    (式中、R1及びR2は、前記と同じ意味を表す。)
    で表されるトランス,トランス,トランス−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸化合物を得、さらにこの式[5]で示される化合物を脱水剤と反応させる、式[6]
    Figure 0005326211
    (式中、R1及びR2は、前記と同じ意味を表す。)
    で表される1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸−1,3:2,4−二無水物化合物の製造法。
  8. 前記R1及びR2が、水素原子である請求項1又は2記載のシス,トランス,シス−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸テトラエステル化合物の製造法。
  9. 前記R1及びR2が、水素原子である請求項6記載の1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸−1,3:2,4−二無水物化合物の製造法。
  10. 前記R1及びR2が、それぞれ独立に炭素数1〜10のアルキル基である請求項3〜5のいずれか1項記載のシス,トランス,シス−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸テトラエステル化合物の製造法。
  11. 前記R1及びR2が、それぞれ独立に炭素数1〜10のアルキル基である請求項7記載の1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸−1,3:2,4−二無水物化合物の製造法。
  12. 前記R1及びR2が、メチル基である請求項3〜5のいずれか1項記載のシス,トランス,シス−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸テトラエステル化合物の製造法。
  13. 前記R1及びR2が、メチル基である請求項7記載の1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸−1,3:2,4−二無水物化合物の製造法。
JP2006542980A 2004-10-20 2005-10-18 ケージ状シクロブタン酸二無水物の製造法 Active JP5326211B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006542980A JP5326211B2 (ja) 2004-10-20 2005-10-18 ケージ状シクロブタン酸二無水物の製造法

Applications Claiming Priority (8)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004305384 2004-10-20
JP2004305384 2004-10-20
JP2004319740 2004-11-02
JP2004319740 2004-11-02
JP2005085162 2005-03-24
JP2005085162 2005-03-24
JP2006542980A JP5326211B2 (ja) 2004-10-20 2005-10-18 ケージ状シクロブタン酸二無水物の製造法
PCT/JP2005/019071 WO2006043519A1 (ja) 2004-10-20 2005-10-18 ケージ状シクロブタン酸二無水物及びその製造法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2006043519A1 JPWO2006043519A1 (ja) 2008-05-22
JP5326211B2 true JP5326211B2 (ja) 2013-10-30

Family

ID=36202934

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006542980A Active JP5326211B2 (ja) 2004-10-20 2005-10-18 ケージ状シクロブタン酸二無水物の製造法

Country Status (7)

Country Link
US (1) US7872148B2 (ja)
EP (1) EP1813592B1 (ja)
JP (1) JP5326211B2 (ja)
KR (1) KR101286228B1 (ja)
CN (1) CN101044108B (ja)
TW (1) TW200621705A (ja)
WO (1) WO2006043519A1 (ja)

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20070116228A (ko) * 2005-03-29 2007-12-07 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤 폴리아믹산, 폴리이미드 및 그 제조 방법
JP5609651B2 (ja) * 2009-02-12 2014-10-22 日産化学工業株式会社 テトラカルボン酸誘導体、その製造方法、及び液晶配向剤
JP5376165B2 (ja) * 2009-04-08 2013-12-25 Jsr株式会社 液晶配向剤および液晶表示素子
US8658743B2 (en) 2009-04-10 2014-02-25 Nissan Chemical Industries, Ltd. Cage-shaped cyclopentanoic dianhydride, method for production thereof, and polyimide
CN105916833A (zh) * 2014-01-17 2016-08-31 日产化学工业株式会社 环丁烷四羧酸及其酸酐的制造方法
US20180348658A1 (en) * 2017-05-31 2018-12-06 Canon Kabushiki Kaisha Curable liquid developer and method for producing curable liquid developer
US20220380292A1 (en) * 2019-10-25 2022-12-01 Jilin Asymchem Pharmaceuticals Co., Ltd. Preparation method for trans-cyclobutane-o-dicarboxylic acid ester and derivative thereof
CN110724058A (zh) * 2019-10-25 2020-01-24 吉林凯莱英制药有限公司 反式环丁烷邻二羧酸酯及其衍生物的制备方法
CN111413440A (zh) * 2020-05-06 2020-07-14 上海臣邦医药科技股份有限公司 帕瑞昔布钠硫酸酯类基因毒性杂质的检测方法
JP6865489B1 (ja) * 2020-10-20 2021-04-28 株式会社エス・ディー・エス バイオテック 2,3,5,6−テトラクロロ−1,4−ベンゼンジカルボン酸ジメチルの製造方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3139395A (en) * 1961-01-09 1964-06-30 American Cyanamid Co Photodimerization of fumaric acid derivatives
JPS58208322A (ja) 1982-05-31 1983-12-05 Japan Synthetic Rubber Co Ltd ポリイミド化合物の製造方法
US4454310A (en) 1981-12-21 1984-06-12 Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. Polyamide acid, process for producing same and polyimide obtained therefrom
JPS60188427A (ja) 1984-03-09 1985-09-25 Nissan Chem Ind Ltd 新規なポリイミド樹脂及びその製造方法
JP4868104B2 (ja) * 2001-08-30 2012-02-01 日産化学工業株式会社 シクロブタンテトラカルボン酸の(メタ)アクリレート化合物及びその製造法

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
JPN6011057717; Chem. Ber. (1993), Vol.126, p.1827-1833 *
JPN6011057719; Chem. Ber. (1962), Vol.95, p.1642-1647 *

Also Published As

Publication number Publication date
TWI368610B (ja) 2012-07-21
KR101286228B1 (ko) 2013-07-15
TW200621705A (en) 2006-07-01
CN101044108A (zh) 2007-09-26
CN101044108B (zh) 2012-05-23
US7872148B2 (en) 2011-01-18
KR20070067132A (ko) 2007-06-27
EP1813592B1 (en) 2012-10-10
EP1813592A1 (en) 2007-08-01
EP1813592A4 (en) 2009-11-11
WO2006043519A1 (ja) 2006-04-27
US20090012318A1 (en) 2009-01-08
JPWO2006043519A1 (ja) 2008-05-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5326211B2 (ja) ケージ状シクロブタン酸二無水物の製造法
JP2014201545A (ja) 2−ヒドロキシメチル−2,3−ジヒドロ−チエノ[3,4−b][1,4]ジオキシン−5,7−ジカルボン酸ジアルキルエステルの製造方法
JP5340726B2 (ja) 環状オレフィン化合物の製造方法
KR20220108034A (ko) 비나프틸카르복실산류의 제조방법
KR101728443B1 (ko) 2-아미노니코틴산벤질에스테르 유도체의 제조 방법
WO2014061571A1 (ja) 新規脂環式ジカルボン酸エステル化合物、及びその製造方法
JP5408821B2 (ja) ナフタロシアニン化合物及びその製造方法
US8658743B2 (en) Cage-shaped cyclopentanoic dianhydride, method for production thereof, and polyimide
JP5408822B2 (ja) 5,6,7,8−テトラ置換−1,4−ジアルコキシ−5,8−エポキシ−2,3−ジシアノ−5,8−ジヒドロナフタレン誘導体及びその製造方法
JP5408820B2 (ja) 5,6,7,8−テトラ置換−1,4−ジアルコキシ−2,3−ジシアノ−ナフタレン誘導体
JP5273392B2 (ja) クマリン二量体化合物の製造法
JP2020079247A (ja) シクロブタンテトラカルボン酸及びその無水物の製造方法
JP7109000B2 (ja) カルボン酸プレニル類及びプレノール類の製造方法
JP2808788B2 (ja) α―ペルフルオロアルキルアクリロニトリルの製造方法
JP4125263B2 (ja) トリスフェノール類のトリオキシメチルカルボン酸及びそれらの3級シクロペンチルエステル
EP2848612B1 (en) Method for producing a substituted benzoic acid compound
US7649107B2 (en) Process for the preparation of cyclopentanone derivatives
JP2009256306A (ja) 重合性不飽和基を有するアダマンタン誘導体とその製造法
JPH1149724A (ja) 脂環式ジカルボン酸ジアリル誘導体及びその製造法
JP2013035854A (ja) テトラヒドロピラン化合物の製造方法
JP2002097186A (ja) テトラカルボン酸二無水物および前駆体並びにそれらの製造法
JP2020063223A (ja) 芳香族テトラカルボン酸化合物
WO2016058532A1 (zh) 制备异苯并呋喃-1(3h)-酮系化合物的方法
JP2004339074A (ja) 新規な2,6−デカヒドロナフタレンジカルボン酸ジエステル類とその製造方法
JP2002105070A (ja) 新規酸二無水物及び前駆体並びにそれらの製法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20081016

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20111109

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120106

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120912

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20121108

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20130625

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130708

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 5326211

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350