JP7109000B2 - カルボン酸プレニル類及びプレノール類の製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、カルボン酸プレニル類及びプレノール類の製造方法に関する。

ゲラニオール、ファルネソール、ゲラニルゲラニオール、ゲラニルファルネソール及びその類縁化合物などのプレノール類は、テルペン類、カロチノイド類、ステロイド類等の生合成中間体として中心的な化合物であるだけでなく、医薬品、農薬、香料等の原料又は合成中間体として極めて有用である。例えば（２Ｅ，６Ｅ）－ファルネソールから誘導される（２Ｅ，６Ｅ）－ファルネサールは、抗癌剤などとして有用であるポリイソプレノイド誘導体の製造中間体となりうる。そのため、環境に優しく、簡便、安全かつ安価な合成法の開発が求められている。

上記のようなプレノール類の製造方法としては、これまでに水酸基の１，３－転位反応を利用した反応が種々報告されている。例えば、リナロールやネロリドール等の第３級アリルアルコール類をバナジウム触媒存在下１５０℃前後で反応させ、ゲラニオールやファルネソール等のプレノール類を得る方法が知られている（例えば、特許文献１参照）。しかしながらこの方法は、１５０℃前後と高温条件下で反応させることを必要としているうえ、収率も５～３０％程度と低く、工業的な製造に不利である。

プレノール類はカルボン酸プレニル類の加溶媒分解反応により容易に製造できることから、カルボン酸プレニル類はプレノール類の合成中間体として有用である。カルボン酸プレニル類の製造方法として、プレニルアミン類のアシルオキシ化反応が報告されている。例えば、Ｎ，Ｎ－ジエチル（ゲラニルゲラニル）アミンをクロロギ酸エチルと反応させて塩化ゲラニルゲラニルに変換したのち、１８－crown－６存在下で酢酸カリウムと反応させ、酢酸ゲラニルゲラニルを得る方法が知られている（例えば、非特許文献１参照）。しかしながらこの方法は、触媒として高価な１８－crown－６を使用するうえ、反応が２工程であり時間を要することから、工業的な製造に不利である。

無水酢酸と触媒量の酢酸塩を用いて、Ｎ，Ｎ－ジエチル（プレニル）アミンやＮ，Ｎ－ジエチル（ゲラニル）アミンから酢酸プレニルや酢酸ゲラニルを合成する方法が報告されている（例えば、非特許文献２参照）。しかしながらこの方法もまた、１３９℃と高温条件下で反応させることを必要としているうえ、収率が２６～５９％と低く、さらに構造異性体が生成するため、工業的な製造に不利である。

特開昭４８－９２３１４号公報

Synthetic Communications, 36巻, 1671-1677ページ；2006年 Australian Journal of Chemistry, 27巻, 531-535ページ；1974年

本発明の目的はカルボン酸プレニル類及びプレノール類を、高収率で工業的及び経済的に有利な方法にて製造することにある。

本発明者らは、上記課題を鑑み鋭意検討を重ねた結果、一般式（１）で表されるプレニルアミン類をハロゲン化物の存在下、一般式（２）で表されるカルボン酸無水物と反応させることにより、一般式（３）で表されるカルボン酸プレニル類を工業的及び経済的に有利な方法で高収率に得られることを見出した。さらに、得られたカルボン酸プレニル類を加溶媒分解することにより一般式（６）で表されるプレノール類が収率良く得られることを見出し、本発明を完成するに至った。

すなわち、本発明は、一般式（１）：

（式中、Ｒ^１及びＲ^２は、各々独立に、炭素数１から４のアルキル基を表すか、あるいは、Ｒ^１及びＲ^２は、それらが結合する窒素原子と一体となって５から７員環の複素環を形成し、このとき、該複素環の炭素原子は、窒素原子及び酸素原子からなる群より選ばれる少なくとも１個のヘテロ原子で置き換えられていてもよく、また、該複素環上に炭素数１から４のアルキル基が置換していてもよく、ｎは、０から４の整数を表す）で表されるプレニルアミン類を、ハロゲン化第４級アンモニウム及びハロゲン化金属からなる群より選択されるハロゲン化物の存在下、一般式（２）：

（式中、Ｒ^３は、炭素数１から４のアルキル基又は炭素数１から４のハロアルキル基を表す）で表されるカルボン酸無水物と反応させることを特徴とする、一般式（３）：

（式中、Ｒ^３及びｎは、前記と同じ意味を表す）で表されるカルボン酸プレニル類の製造方法に関する。

さらに本発明は、（工程１）一般式（１）：

（式中、Ｒ^１及びＲ^２は、各々独立に、炭素数１から４のアルキル基を表すか、あるいは、Ｒ^１及びＲ^２は、それらが結合する窒素原子と一体となって５から７員環の複素環を形成し、このとき、該複素環の炭素原子は、窒素原子及び酸素原子からなる群より選ばれる少なくとも１個のヘテロ原子で置き換えられていてもよく、また、該複素環上に炭素数１から４のアルキル基が置換していてもよく、ｎは、０から４の整数を表す）で表されるプレニルアミン類を、ハロゲン化第４級アンモニウム及びハロゲン化金属からなる群より選択されるハロゲン化物の存在下、一般式（２）：

（式中、Ｒ^３は、炭素数１から４のアルキル基又は炭素数１から４のハロアルキル基を表す）で表されるカルボン酸無水物と反応させることを特徴とする、一般式（３）：

（式中、Ｒ^３及びｎは、前記と同じ意味を表す）で表されるカルボン酸プレニル類を得る工程；及び
（工程２）一般式（３）：

（式中、Ｒ^３及びｎは前記と同じ意味を表す）で表されるカルボン酸プレニル類を、加溶媒分解することを特徴とする、一般式（６）：

（式中、ｎは、前記と同じ意味を表す）で表されるプレノール類を得る工程、を含むことを特徴とする、一般式（６）で表されるプレノール類の製造方法に関する。

本発明によれば、医薬品、農薬、香料等の原料又は合成中間体として有用なカルボン酸プレニル類について、より高効率かつ高収率で製造できる。さらに、これを加溶媒分解することによりプレノール類を得ることができる。本発明の製造方法は、容易にかつ極めて効率的に実施できることから、工業的及び経済的に有利なものとなっている。

以下に本発明の実施の形態について詳細に説明する。
［用語の意義］
先ず、本明細書及び特許請求の範囲において用いられる用語について説明する。各用語は、他に断りのない限り、以下の意義を有する。

用語「炭素数１から４のアルキル基」は、炭素数１から４の、直鎖状、分岐状又は環状の脂肪族飽和炭化水素の基を意味し、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、シクロブチル基等を例示できる。
用語「炭素数１から１０のアルキル基」は、炭素数１から１０の、直鎖状、分岐状又は環状の脂肪族飽和炭化水素の基を意味し、前記「炭素数１から４のアルキル基」の例に加え、ペンチル基、へキシル基、オクチル基、デシル基等を例示できる。

用語「炭素数１から４のハロアルキル基」は、１個以上のハロゲン原子で置換された、前記「炭素数１から４のアルキル基」を意味し、フルオロメチル基、２－フルオロエチル基、３－フルオロプロピル基、４－フルオロブチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロブチル基、クロロメチル基、２－クロロエチル基、３－クロロプロピル基、４－クロロブチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、ブロモメチル基、２－ブロモエチル基、３－ブロモプロピル基、４－ブロモブチル基、ジブロモメチル基、トリブロモメチル基、ヨードメチル基、２－ヨードエチル基、３－ヨードプロピル基、４－ヨードブチル基、ジヨードメチル基、トリヨードメチル基等を例示できる。

用語「アリール基」は、炭素数６から１０の、単環式若しくは多環式の、芳香族炭化水素の１価の基を意味し、例えば、フェニル基、ナフチル基等を例示できる。

用語「炭素数７から１４のアラルキル基」は、炭素数７から１４の、前記「アリール基」で置換された、前記「炭素数１から４のアルキル基」を意味し、ベンジル基、α－フェネチル基、β－フェネチル基、（１－ナフチル）メチル基、（２－ナフチル）メチル基等を例示できる。

用語「ハロゲン化第４級アンモニウム」は、第４級アンモニウムイオンとハロゲン化物イオンの塩を意味する。

用語「第４級アンモニウムイオン」は、同一又は相異なった炭素数１から１０のアルキル基、炭素数７から１４のアラルキル基又はアリール基が置換したアンモニウムイオンを意味し、テトラメチルアンモニウム、テトラエチルアンモニウム、テトラプロピルアンモニウム、テトラブチルアンモニウム、テトラペンチルアンモニウム、テトラへキシルアンモニウム、ベンジルトリメチルアンモニウム、ベンジルトリエチルアンモニウム、ベンジルジメチルフェニルアンモニウム、トリメチルフェニルアンモニウム、トリエチルフェニルアンモニウム等を例示できる。

用語「ハロゲン化物イオン」は、ヨウ化物イオン、臭化物イオン、塩化物イオン又はフッ化物イオンを意味する。

用語「ハロゲン化金属」は、金属元素のハロゲン化物を意味し、金属元素イオンとハロゲン化物イオンの塩である。金属元素イオンとしては、第１族の金属元素イオン、第２族の金属元素イオン、第１０族の金属元素イオン、第１２族の金属元素イオン等を例示できる。

用語「第１族の金属元素イオン」は、周期表の第１族の金属元素の１価のカチオンを意味し、リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン、ルビジウムイオン及びセシウムイオンを例示できる。

用語「第２族の金属元素イオン」は、周期表の第２族の金属元素の２価のカチオンを意味し、マグネシウムイオン、カルシウムイオン、ストロンチウムイオン、バリウムイオン及びラジウムイオンを例示できる。

用語「第１０族の金属元素イオン」は、周期表の第１０族の金属元素の２価のカチオンを意味し、ニッケルイオン、パラジウムイオン又は白金イオンを例示できる。

用語「第１２族の金属元素イオン」は、周期表の第１２族の金属元素の２価のカチオンを意味し、亜鉛イオン又はカドミウムイオンを例示できる。

本発明において、Ｒ^１及びＲ^２は、それらが結合する窒素原子と一体となって５から７員環の複素環を形成してもよく、このとき、該複素環の炭素原子は、窒素原子及び酸素原子からなる群より選ばれる少なくとも１個のヘテロ原子で置き換えられていてもよい。また、該複素環上に炭素数１から４のアルキル基が置換していてもよい。炭素原子が窒素原子及び酸素原子からなる群より選ばれる少なくとも１個のヘテロ原子で置き換えられていてもよい「複素環」は、５から７員環の、飽和又は不飽和の複素環を意味し、ピロール、ピロリジン、イミダゾリン、イミダゾール、ピラゾリン、ピラゾール、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン等を例示できる。該複素環上に置換していてもよい炭素数１から４のアルキル基としては、直鎖状、分岐状又は環状のいずれであってもよく、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、シクロブチル基等を例示できる。これらの－ＮＲ^１Ｒ^２基としては、１－ピロリジニル基、ピペリジノ基、２，６－ジメチルピペリジン－１－イル基、４－メチルピペラジン－１－イル基、モルホリノ基等を例示できる。

［カルボン酸プレニル類の製造方法］
本発明の一般式（３）で表されるカルボン酸プレニル類の製造方法は、下記スキームに示すとおりである。

（式中、ｎ、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３は、前記と同じ意味を表す）

工程１は一般式（１）で表されるプレニルアミン類を、ハロゲン化物の存在下に、一般式（２）で表されるカルボン酸無水物と反応させ、一般式（３）で表されるカルボン酸プレニル類を製造する工程である。

出発原料である一般式（１）で表されるプレニルアミン類の中でも、入手容易性等の観点から、Ｒ^１及びＲ^２が、メチル基又はエチル基である化合物が好ましく、エチル基である化合物が特に好ましい。そのようなプレニルアミン類としては、Ｎ，Ｎ－ジメチル－Ｎ－（３－メチルブタ－２－エニル）アミン（ｎ＝０、Ｒ^１＝Ｒ^２＝ＣＨ_３、ジメチル（プレニル）アミン）、Ｎ，Ｎ－ジエチル－Ｎ－（３－メチルブタ－２－エニル）アミン（ｎ＝０、Ｒ^１＝Ｒ^２＝Ｃ_２Ｈ_５、ジエチル（プレニル）アミン）、Ｎ，Ｎ－ジエチル－Ｎ－（３，７－ジメチルオクタ－２，６－ジエニル）アミン（ｎ＝１、Ｒ^１＝Ｒ^２＝Ｃ_２Ｈ_５、ジエチル（ゲラニル）アミン）、Ｎ，Ｎ－ジエチル－Ｎ－（３，７，１１－トリメチルドデカ－２，６，１０－トリエニル）アミン（ｎ＝２、Ｒ^１＝Ｒ^２＝Ｃ_２Ｈ_５、ジエチル（ファルネシル）アミン）、Ｎ，Ｎ－ジエチル－Ｎ－（３，７，１１，１５－テトラメチルヘキサデカ－２，６，１０，１４－テトラエニル）アミン（ｎ＝３、Ｒ^１＝Ｒ^２＝Ｃ_２Ｈ_５、ジエチル（ゲラニルゲラニル）アミン）、Ｎ，Ｎ－ジエチル－Ｎ－（３，７，１１，１５，１９－ペンタメチルイコサ－２，６，１０，１４，１８－ペンタエニル）アミン（ｎ＝４、Ｒ^１＝Ｒ^２＝Ｃ_２Ｈ_５、ジエチル（ゲラニルファルネシル）アミン）等を例示できる。これらは公知の方法（例えば、Australian Journal of Chemistry, 27巻, 531-535ページ；1974年；特開２０１４－５１４６１号公報に記載の方法）に準じて合成できる。

工程１において使用されるハロゲン化物としては、ハロゲン化第４級アンモニウム又はハロゲン化金属が挙げられる。ハロゲン化物は、各々単独で用いても、２種以上適宜組み合わせて用いてもよい。ハロゲン化物の中でも、臭化物又はヨウ化物が好ましく、ヨウ化物が特に好ましい。

ハロゲン化第４級アンモニウムとしては、特に限定はないが、一般式（４）：

（式中、Ｒ^４は、各々独立に、炭素数１から１０のアルキル基、炭素数７から１４のアラルキル基又はアリール基を表し、（Ｘ^１）^－は、ハロゲン化物イオンを表す）
で表されるハロゲン化第４級アンモニウムを用いることが好ましい。ここで、ハロゲン化第４級アンモニウムの４つのＲ^４は、同一でも異なっていてもよく、特にアルキル基は直鎖状でも分岐鎖状でもよい。ハロゲン化第４級アンモニウムを構成するハロゲン化物イオン（Ｘ^１）^－としては、フッ化物イオン、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオンが挙げられるが、中でも臭化物イオン、ヨウ化物イオンが好ましく、ヨウ化物イオンが特に好ましい。具体的にハロゲン化第４級アンモニウムとしては、フッ化テトラメチルアンモニウム、塩化テトラメチルアンモニウム、臭化テトラメチルアンモニウム、ヨウ化テトラメチルアンモニウム、フッ化テトラエチルアンモニウム、塩化テトラエチルアンモニウム、臭化テトラエチルアンモニウム、ヨウ化テトラエチルアンモニウム、フッ化テトラプロピルアンモニウム、塩化テトラプロピルアンモニウム、臭化テトラプロピルアンモニウム、ヨウ化テトラプロピルアンモニウム、フッ化テトラブチルアンモニウム、塩化テトラブチルアンモニウム、臭化テトラブチルアンモニウム、ヨウ化テトラブチルアンモニウム、フッ化テトラペンチルアンモニウム、塩化テトラペンチルアンモニウム、臭化テトラペンチルアンモニウム、ヨウ化テトラペンチルアンモニウム、フッ化テトラへキシルアンモニウム、塩化テトラへキシルアンモニウム、臭化テトラへキシルアンモニウム、ヨウ化テトラへキシルアンモニウム、臭化ベンジルトリメチルアンモニウム、ヨウ化ベンジルトリメチルアンモニウム、臭化ベンジルトリエチルアンモニウム、ヨウ化ベンジルトリエチルアンモニウム、臭化ベンジルジメチルフェニルアンモニウム、ヨウ化ベンジルジメチルフェニルアンモニウム、臭化トリメチルフェニルアンモニウム、ヨウ化トリメチルフェニルアンモニウム、臭化トリエチルフェニルアンモニウム、ヨウ化トリエチルフェニルアンモニウム等が挙げられる。これらの中でも、ヨウ化テトラメチルアンモニウム、ヨウ化テトラエチルアンモニウム、ヨウ化テトラプロピルアンモニウム、ヨウ化テトラブチルアンモニウム、ヨウ化テトラペンチルアンモニウム、ヨウ化テトラへキシルアンモニウムが好ましく、ヨウ化テトラブチルアンモニウムが特に好ましい。

ハロゲン化金属としては、特に限定はないが、一般式（５）：

（式中、Ｍ^ｑ＋は、第１族、第２族、第１０族又は第１２族の金属元素イオンを表し、（Ｘ^２）^－はハロゲン化物イオンを表し、Ｍ^ｑ＋が、第１族の金属元素イオンの場合、ｑは１を表し、Ｍ^ｑ＋が、第２族、第１０族又は第１２族の金属元素イオンの場合、ｑは２を表す）
で表されるハロゲン化金属を用いることが好ましい。ハロゲン化金属を構成するハロゲン化物イオン（Ｘ^２）^－としては、フッ化物イオン、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオンが挙げられるが、中でも臭化物イオン、ヨウ化物イオンが好ましく、ヨウ化物イオンが特に好ましい。

上記ハロゲン化金属の中でも、第１族の金属元素のハロゲン化物としては、フッ化リチウム、塩化リチウム、臭化リチウム、ヨウ化リチウム、フッ化ナトリウム、塩化ナトリウム、臭化ナトリウム、ヨウ化ナトリウム、フッ化カリウム、塩化カリウム、臭化カリウム、ヨウ化カリウム、フッ化ルビジウム、塩化ルビジウム、臭化ルビジウム、ヨウ化ルビジウム、フッ化セシウム、塩化セシウム、臭化セシウム、ヨウ化セシウム等が挙げられる。これらの中でもヨウ化リチウム、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウム、ヨウ化セシウムが好ましく、ヨウ化ナトリウムが特に好ましい。

上記ハロゲン化金属の中でも、第２族の金属元素のハロゲン化物としては、フッ化マグネシウム、塩化マグネシウム、臭化マグネシウム、ヨウ化マグネシウム、フッ化カルシウム、塩化カルシウム、臭化カルシウム、ヨウ化カルシウム、フッ化ストロンチウム、塩化ストロンチウム、臭化ストロンチウム、ヨウ化ストロンチウム、フッ化バリウム、塩化バリウム、臭化バリウム、ヨウ化バリウム等が挙げられる。これらの中でもヨウ化カルシウム、ヨウ化ストロンチウム、ヨウ化バリウムが好ましい。

上記ハロゲン化金属の中でも、第１０族の金属元素のハロゲン化物としては、フッ化ニッケル（II）、塩化ニッケル（II）、臭化ニッケル（II）、ヨウ化ニッケル（II）、フッ化パラジウム（II）、塩化パラジウム（II）、臭化パラジウム（II）、ヨウ化パラジウム（II）、塩化白金（II）、臭化白金（II）、ヨウ化白金（II）等が挙げられる。これらの中でもヨウ化パラジウム（II）が好ましい。

上記ハロゲン化金属の中でも、第１２族の金属元素のハロゲン化物としては、フッ化亜鉛、塩化亜鉛、臭化亜鉛、ヨウ化亜鉛、臭化カドミウム、ヨウ化カドミウム等が挙げられる。これらの中でもヨウ化亜鉛が好ましい。

工程１において使用される、ハロゲン化物の使用量は特に制限はないが、一般式（１）で表されるプレニルアミン類１モルに対して、０.０１～１０モルが好ましく、０．０１～５モルがさらに好ましく、０.０１～１モルが特に好ましい。

工程１において使用される、一般式（２）で表されるカルボン酸無水物は、Ｒ^３が、炭素数１から４のアルキル基又は炭素数１から４のハロアルキル基であるものである。具体的には、無水酢酸、トリフルオロ酢酸無水物、プロピオン酸無水物、ピバル酸無水物等を挙げることができる。収率及び反応速度の観点から、無水酢酸を用いることが好ましい。

工程１において使用される、一般式（２）で表されるカルボン酸無水物の使用量は、特に制限はないが、一般式（１）で表されるプレニルアミン類１モルに対して、１～５０モルが好ましく、１～１０モルがさらに好ましい。

工程１は、さらにカルボン酸塩の存在下で行ってもよい。カルボン酸塩としては、用いるカルボン酸無水物（２）に対応する一般式Ｒ^３ＣＯ_２Ｈ（Ｒ^３は前記と同じ意味を表す。）で表されるカルボン酸のアルカリ金属塩が好ましく、カルボン酸セシウム、カルボン酸カリウム、カルボン酸ナトリウム及びカルボン酸リチウムがより好ましい。具体的には、酢酸セシウム、酢酸カリウム、酢酸ナトリウム、酢酸リチウム、プロピオン酸カリウム、プロピオン酸ナトリウム、プロピオン酸リチウム、ピバル酸リチウム等を挙げることができる。収率が良い点で、カルボン酸無水物（２）として無水酢酸を用いる場合は、酢酸リチウム又は酢酸ナトリウムを用いることが好ましい。カルボン酸塩の使用量は、特に制限はないが、一般式（１）で表されるプレニルアミン類１モルに対して、０～１０モルが好ましく、０～５モルがさらに好ましい。

工程１は、溶媒中で行ってもよく、用いることのできる溶媒としては、反応に不活性な溶媒であれば特に限定されず、所望する反応温度に応じて適宜選択される。例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピオン酸エチル等のエステル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素系溶媒、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族ハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２－ジクロロエタン等の脂肪族ハロゲン系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル系溶媒などを使用できる。また、反応に用いるカルボン酸無水物（２）を溶媒として用いてもよい。用いることのできる溶媒は、これに限定されるものではない。これらの溶媒は、各々単独で用いても、２種類以上を混合して使用してもよい。

工程１において使用される、溶媒の使用量は、特に制限はないが、一般式（１）で表されるプレニルアミン類に対して、０～５０倍量（重量基準）が好ましく、０～１０倍量（重量基準）がさらに好ましい。

工程１の反応は、０℃から１８０℃の範囲から適宜選ばれた温度で行うことができる。反応速度と収率の観点から、５０～１４０℃が好ましく、１００～１３０℃がさらに好ましい。反応時間は、使用される基質、ハロゲン化物及び溶媒の量や種類、反応温度等の条件に応じて適宜設定され、特に制限はないが、反応速度と収率の観点から４～２４時間が好ましい。反応圧力は、加圧、減圧、大気圧のいずれでもよいが、大気圧が好ましい。反応雰囲気は、空気中又は不活性ガス雰囲気下のいずれでもよいが、窒素又はアルゴン等の不活性ガス雰囲気下が好ましい。

上記で述べた工程１において使用される必須成分（一般式（１）で表されるプレニルアミン類、一般式（２）で表されるカルボン酸無水物及びハロゲン化物）や、必要に応じて使用される任意成分（カルボン酸塩、溶媒）の添加順序等に特に制限はなく、任意の順序で、適切な反応容器に添加し、反応を開始すればよい。反応終了後、必要に応じて反応液から一般式（３）で表されるカルボン酸プレニル類を単離・精製できる。単離・精製する方法に特に限定はなく、当業者に公知の方法、例えば、溶媒抽出、蒸留、シリカゲルカラムクロマトグラフィー、分取薄層クロマトグラフィー、分取液体クロマトグラフィー等の汎用的な方法で、一般式（３）で表されるカルボン酸プレニル類を単離・精製できる。また一般式（３）で表されるカルボン酸プレニル類は、単離・精製せずに続く工程２に付してもよい。

以上の工程１により、一般式（１）で表されるプレニルアミン類から一般式（３）で表されるカルボン酸プレニル類を得ることができる。例えば、一般式（２）で表されるカルボン酸無水物として無水酢酸を用いた場合、工程１により（３－メチルブタ－２－エニル）アセテート（ｎ＝０、Ｒ^３＝ＣＨ_３、酢酸プレニル）、（３，７－ジメチルオクタ－２，６－ジエニル）アセテート（ｎ＝１、Ｒ^３＝ＣＨ_３、酢酸ゲラニル）、（３，７，１１－トリメチルドデカ－２，６，１０－トリエニル）アセテート（ｎ＝２、Ｒ^３＝ＣＨ_３、酢酸ファルネシル）、（３，７，１１，１５－テトラメチルヘキサデカ－２，６，１０，１４－テトラエニル）アセテート（ｎ＝３、Ｒ^３＝ＣＨ_３、酢酸ゲラニルゲラニル）及び（３，７，１１，１５，１９－ペンタメチルイコサ－２，６，１０，１４，１８－ペンタエニル）アセテート（ｎ＝４、Ｒ^３＝ＣＨ_３、酢酸ゲラニルファルネシル）等を製造できる。

［プレノール類の製造方法］
一般式（６）で表されるプレノール類の製造方法は、下記スキームに示すとおりである。

（式中、ｎ及びＲ^３は、前記と同じ意味を表す）

工程２は、一般式（３）で表されるカルボン酸プレニル類の加溶媒分解を行うことにより、一般式（４）で表されるプレノール類を製造する工程である。エステルを加溶媒分解する方法は、「Protective Groups in Organic Synthesis」（T.W.Greene et.al, John Wiley & Sons, inc.）等の有機合成化学における参考書により当業者には公知である。

工程２は、溶媒中で行う。用いることのできる溶媒としては、エステルをカルボン酸に加溶媒分解できる溶媒であれば特に限定されず、所望する反応温度に応じて適宜選択される。本加溶媒分解反応において用いられる溶媒の具体例としては、水、アンモニア水、リン酸緩衝液等の緩衝液、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、２－エトキシエタノール、ベンジルアルコール等のアルコール系溶媒及びこれらの混合溶媒が挙げられる。さらに必要に応じて助溶媒を使用してもよい。助溶媒としては、反応に不活性な溶媒であれば特に限定されず、所望する反応温度に応じて適宜選択される。助溶媒の具体例としては、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、１，２－ジクロロエタン、クロロホルム等の脂肪族ハロゲン系溶媒、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族ハロゲン系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ｔｅｒｔ－ブチルメチルエーテル、ジメトキシエタン、エチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４－ジオキサン等のエーテル系溶媒、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，２－プロパンジオール、グリセリン等の多価アルコール系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン等のアミド系溶媒、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系溶媒等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。

工程２における溶媒の使用量は特に制限はないが、一般式（３）で表されるカルボン酸プレニル類１モルに対して０．９～１００モルが好ましく、１～５０モルがさらに好ましい。工程２における助溶媒の使用量は特に制限はないが、一般式（３）で表されるカルボン酸プレニル類に対して０～１００倍量（重量基準）が好ましく、１～３０倍量（重量基準）がさらに好ましい。

工程２は、酸を使用してもよく、使用する酸としては、硫酸、塩酸などの鉱酸、酢酸、ギ酸などの有機カルボン酸、パラトルエンスルホン酸などの有機スルホン酸が挙げられる。これらの酸は、各々単独で用いても、２種以上適宜組み合わせて用いてもよい。酸の使用量は、特に制限はないが、一般式（３）で表されるカルボン酸プレニル類１モルに対して、０．１～１０モルであることが好ましい。

工程２は、塩基を使用してもよく、使用する塩基としては、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどのアルカリ金属の水酸化物や炭酸塩などが挙げられる。これらの塩基は、各々単独で用いても、２種以上適宜組み合わせて用いてもよい。塩基の使用量は、特に制限はないが、一般式（３）で表されるカルボン酸プレニル類１モルに対して、１～１０モルであることが好ましい。

工程２の反応温度は、カルボン酸プレニル類の量、溶媒の種類によって異なり、溶媒の沸点近くまで加熱する場合があるが、０～１００℃の範囲から適宜選択される。また、反応時間は、反応温度や反応剤の特性や量により異なり、一概に定めることはできないが、通常１～２４時間である。反応圧力は、加圧、減圧、大気圧のいずれでもよいが、大気圧が好ましい。反応雰囲気は、空気中又は不活性ガス雰囲気下のいずれでもよい。

上記で述べた工程２において使用される必須成分（一般式（３）で表されるカルボン酸プレニル類、溶媒）や、必要に応じて使用される任意成分（酸又は塩基）の添加順序等に特に制限はなく、任意の順序で、適切な反応容器に添加し、反応を開始すればよい。反応終了後、必要に応じて一般式（６）で表されるプレノール類を単離・精製できる。単離・精製する方法に特に限定はなく、当業者に公知の方法、例えば、溶媒抽出、蒸留、シリカゲルカラムクロマトグラフィー、分取薄層クロマトグラフィー、分取液体クロマトグラフィー等の汎用的な方法で、一般式（６）で表されるプレノール類を単離・精製できる。

本発明によれば、工程１と工程２を含む製造方法によって、一般式（６）で表されるプレノール類、具体的には、プレノール（ｎ＝０）、ゲラニオール（ｎ＝１）、ファルネソール（ｎ＝２）、ゲラニルゲラニオール（ｎ＝３）及びゲラニルファルネソール（ｎ＝４）等を製造できる。

以下に本発明の態様を明らかにするために実施例を示すが、本発明はここに示す実施例のみに限定されるわけではない。

実施例及び比較例で得られた反応溶液は、ガスクロマトグラフィー分析を行い、目的物の生成率又は純度を面積百分率にて算出した。測定条件は以下の通りである。

装置：ＧＣ－１４Ａ（島津製作所）
カラム：ＨＰ－ＵＬＴＲＡ１（Ａｇｉｌｅｎｔ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ）
２５ｍ×Ｉ．Ｄ．０．３２ｍｍ、０．５２μｍｄｆ
カラム温度：８０℃→［１０℃／ｍｉｎ］→２８０℃
インジェクション温度：２５０℃
キャリヤーガス：ヘリウムガス
検出器：水素炎イオン化検出器（ＦＩＤ）

実施例、参考例及び比較例で得られた化合物は、^１Ｈ ＮＭＲ分析を行い、得られた核磁気共鳴スペクトルにより構造を同定した。測定条件は以下の通りである。

測定装置は、Ａｖａｎｃｅ ＩＩＩ ４００ＭＨｚ（ブルカーバイオスピン（株）社製）を用いた。測定は、実施例等で製造したサンプルを、ＣＤＣｌ_３に溶解し、室温で、４００ＭＨｚ、積算回数１６回の条件で行った。化学シフトδ値のゼロ点の基準物質としてはテトラメチルシラン（ＴＭＳ）を用いた。

＜参考例１＞

アルゴン雰囲気下、ｔｒａｎｓ－β－ファルネセン（１２７ｍＬ，５００ｍｍｏｌ）とジエチルアミン（９８．２ｍＬ，９４７ｍｍｏｌ）との混合液を０℃に冷却し、ｎ－ブチルリチウム（２．６７Ｍ－ヘキサン溶液，１０．０ｍＬ，２６．７ｍｍｏｌ）を加え、室温で３０分間攪拌した。その後反応液を７０℃で３時間反応させた。原料の消費をＧＣにて確認後、０℃に冷却した蒸留水に反応液をゆっくりと滴下し、反応を停止した。得られた混合液をヘキサン（５００ｍＬ）で抽出し、有機層を蒸留水（２０ｍＬ）で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、Ｎ，Ｎ－ジエチル－Ｎ－（３，７，１１－トリメチルドデカ－２，６，１０－トリエニル）アミン（１４１ｇ，定量的）を（２Ｅ，６Ｅ）－体：（２Ｚ，６Ｅ）－体＝９８：２の比（ＧＣ比）の混合物として、黄色粘性液体で得た。

^１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）δ５．２６（ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，１Ｈ），５．１１（ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，１Ｈ），５．０９（ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，１Ｈ），３．０６（ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，２Ｈ），２．５１（ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，４Ｈ），２．１２－１．９５（ｍ，８Ｈ），１．６８（ｓ，３Ｈ），１．６４（ｓ，３Ｈ），１．６０（ｓ，３Ｈ），１．６０（ｓ，３Ｈ），１．０３（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，６Ｈ）．

＜実施例１＞

Ｎ，Ｎ－ジエチル－Ｎ－（３，７，１１－トリメチルドデカ－２，６，１０－トリエニル）アミン［５５５ｍｇ，２．０ｍｍｏｌ，（２Ｅ，６Ｅ）－体：（２Ｚ，６Ｅ）－体＝９８：２］と無水酢酸（３７８μＬ，４．０ｍｍｏｌ）の混合液に、ヨウ化テトラブチルアンモニウム（７４．０ｍｇ，０．２０ｍｍｏｌ）を加えて、アルゴン雰囲気下１２０℃で１０時間反応させた。反応液を室温に冷却したのち酢酸エチルで希釈し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝９０：１０）により精製することで、酢酸ファルネシル（４０７ｍｇ，７７％）を（２Ｅ，６Ｅ）－体：（２Ｚ，６Ｅ）－体＝９４：６の比（ＧＣ比）の混合物として、無色粘性液体で得た。また構造異性体である酢酸ネロリジルの生成率は、反応粗生成物のガスクロマトグラフィー分析より、０．７％であった。

（２Ｅ，６Ｅ）－体：^１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）δ５．３４（ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，１Ｈ），５．１０（ｍ，２Ｈ），４．５８（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ），２．１２－１．９６（ｍ，８Ｈ），２．０５（ｓ，３Ｈ），１．７０（ｓ，３Ｈ），１．６８（ｓ，３Ｈ），１．６０（ｓ，３Ｈ），１．６０（ｓ，３Ｈ）．

（２Ｚ，６Ｅ）－体：^１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）δ５．３６（ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，１Ｈ），５．１０（ｍ，２Ｈ），４．５６（ｍ，２Ｈ），２．１２－１．９６（ｍ，８Ｈ），２．０５（ｓ，３Ｈ），１．７０（ｓ，３Ｈ），１．６８（ｓ，３Ｈ），１．６０（ｓ，３Ｈ），１．６０（ｓ，３Ｈ）．

＜実施例２＞

Ｎ，Ｎ－ジエチル－Ｎ－（３，７，１１－トリメチルドデカ－２，６，１０－トリエニル）アミン［５５５ｍｇ，２．０ｍｍｏｌ，（２Ｅ，６Ｅ）－体：（２Ｚ，６Ｅ）－体＝９８：２］と無水酢酸（３７８μＬ，４．０ｍｍｏｌ）の混合液に、酢酸リチウム（１４５ｍｇ，２．２ｍｍｏｌ）及びヨウ化テトラブチルアンモニウム（７４．０ｍｇ，０．２０ｍｍｏｌ）を加えて、アルゴン雰囲気下１２０℃で８時間反応させた。反応液を室温に冷却したのち酢酸エチルで希釈し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝９５：５）により精製することで、酢酸ファルネシル（４１８ｍｇ，７９％）を（２Ｅ，６Ｅ）－体：（２Ｚ，６Ｅ）－体＝９２：８の比（ＧＣ比）の混合物として、色粘性液体で得た。また構造異性体である酢酸ネロリジルの生成率は、反応粗生成物のガスクロマトグラフィー分析より、１．４％であった。

＜実施例３＞

Ｎ，Ｎ－ジエチル－Ｎ－（３，７，１１－トリメチルドデカ－２，６，１０－トリエニル）アミン［５５５ｍｇ，２．０ｍｍｏｌ，（２Ｅ，６Ｅ）－体：（２Ｚ，６Ｅ）－体＝９８：２］と無水酢酸（３７８μＬ，４．０ｍｍｏｌ）の混合液に、酢酸リチウム（１４５ｍｇ，２．２ｍｍｏｌ）及びヨウ化テトラブチルアンモニウム（３０．０ｍｇ，８０μｍｏｌ）を加えて、アルゴン雰囲気下１２０℃で１３時間反応させた。反応液を室温に冷却したのち酢酸エチルで希釈し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝９５：５）により精製することで、酢酸ファルネシル（４０９ｍｇ，７７％）を（２Ｅ，６Ｅ）－体：（２Ｚ，６Ｅ）－体＝９４：６の比（ＧＣ比）の混合物として、無色粘性液体で得た。また構造異性体である酢酸ネロリジルの生成率は、反応粗生成物のガスクロマトグラフィー分析より、２．４％であった。

＜実施例４＞

Ｎ，Ｎ－ジエチル－Ｎ－（３，７，１１－トリメチルドデカ－２，６，１０－トリエニル）アミン［２７９ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ，（２Ｅ，６Ｅ）－体：（２Ｚ，６Ｅ）－体＝９８：２］と無水酢酸（１８９μＬ，２．０ｍｍｏｌ）の混合液に酢酸リチウム（８２．０ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）及びヨウ化ナトリウム（１５．０ｍｇ，０．１０ｍｍｏｌ）を加えて、アルゴン雰囲気下１２０℃で３時間反応させた。反応液を室温に冷却したのち飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に加えた。得られた混合液を酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝９５：５）により精製することで、酢酸ファルネシル（１６９ｍｇ，６４％）を（２Ｅ，６Ｅ）－体：（２Ｚ，６Ｅ）－体＝９２：８の比（ＧＣ比）の混合物として、無色粘性液体で得た。また構造異性体である酢酸ネロリジルの生成率は、反応粗生成物のガスクロマトグラフィー分析より、０．４％であった。

＜実施例５＞

Ｎ，Ｎ－ジエチル－Ｎ－（３，７，１１－トリメチルドデカ－２，６，１０－トリエニル）アミン［５５５ｍｇ，２．０ｍｍｏｌ，（２Ｅ，６Ｅ）－体：（２Ｚ，６Ｅ）－体＝９８：２］と無水酢酸（３７８μＬ，４．０ｍｍｏｌ）の混合液に、酢酸リチウム（１４５ｍｇ，２．２ｍｍｏｌ）及び臭化テトラブチルアンモニウム（６５．１ｍｇ，０．２０ｍｍｏｌ）を加えて、アルゴン雰囲気下１２０℃で２７時間反応させた。反応液を室温に冷却したのち酢酸エチルで希釈し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝９０：１０）により精製することで、酢酸ファルネシル（３６９ｍｇ，７０％）を（２Ｅ，６Ｅ）－体：（２Ｚ，６Ｅ）－体＝９３：７の比（ＧＣ比）の混合物として、無色粘性液体で得た。また構造異性体である酢酸ネロリジルの生成率は、反応粗生成物のガスクロマトグラフィー分析より、３．０％であった。

＜実施例６＞

Ｎ，Ｎ－ジエチル－Ｎ－（３，７，１１－トリメチルドデカ－２，６，１０－トリエニル）アミン［５５５ｍｇ，２．０ｍｍｏｌ，（２Ｅ，６Ｅ）－体：（２Ｚ，６Ｅ）－体＝９８：２］と無水酢酸（３７８μＬ，４．０ｍｍｏｌ）の混合液に、酢酸リチウム（１４５ｍｇ，２．２ｍｍｏｌ）及びヨウ化パラジウム（II）（７２．０ｍｇ，０．２０ｍｍｏｌ）を加えて、アルゴン雰囲気下１２０℃で４時間反応させた。反応液を室温に冷却したのち酢酸エチルで希釈し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝９０：１０）により精製することで、酢酸ファルネシル（２８９ｍｇ，５５％）を（２Ｅ，６Ｅ）－体：（２Ｚ，６Ｅ）－体＝８７：１３の比（ＧＣ比）の混合物として、無色粘性液体で得た。また構造異性体である酢酸ネロリジルの生成は、反応粗生成物のガスクロマトグラフィー分析より確認されなかった。

＜実施例７＞

Ｎ，Ｎ－ジエチル－Ｎ－（３，７，１１－トリメチルドデカ－２，６，１０－トリエニル）アミン［５５５ｍｇ，２．０ｍｍｏｌ，（２Ｅ，６Ｅ）－体：（２Ｚ，６Ｅ）－体＝９８：２］と無水酢酸（３７８μＬ，４．０ｍｍｏｌ）の混合液に、ヨウ化亜鉛（II）（６４．０ｍｇ，０．２０ｍｍｏｌ）を加えて、アルゴン雰囲気下１２０℃で１２時間反応させた。反応液を室温に冷却したのち酢酸エチルで希釈し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝９０：１０）により精製することで、酢酸ファルネシル（３５５ｍｇ，６７％）を（２Ｅ，６Ｅ）－体：（２Ｚ，６Ｅ）－体＝９３：７の比（ＧＣ比）の混合物として、無色粘性液体で得た。また構造異性体である酢酸ネロリジルの生成率は、反応粗生成物のガスクロマトグラフィー分析より、０．８％であった。

＜実施例８＞

実施例４と同様にして得られた酢酸ファルネシル［２６４ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ，（２Ｅ，６Ｅ）－体：（２Ｚ，６Ｅ）－体＝９２：８］をメタノール（０．８ｍＬ）に溶解し、１０Ｍ水酸化ナトリウム水溶液（０．２５ｍＬ，２．５ｍｍｏｌ）を加えて室温で３０分間反応させた。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて反応を停止し、得られた混合液をヘキサンで抽出した。得られた有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥したのち溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝８０：２０）により精製することで、ファルネソール（２０９ｍｇ，９４％）を（２Ｅ，６Ｅ）－体：（２Ｚ，６Ｅ）－体＝９２：８の比（ＧＣ比）の混合物として、無色粘性液体で得た。

（２Ｅ，６Ｅ）－体：^１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）δ５．４２（ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，１Ｈ），５．１０（ｍ，２Ｈ），４．１５（ｍ，２Ｈ），２．１５－１．９６（ｍ，８Ｈ），１．６８（ｓ，３Ｈ），１．６８（ｓ，３Ｈ），１．６０（ｓ，３Ｈ），１．６０（ｓ，３Ｈ）．

（２Ｚ，６Ｅ）－体：^１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）δ５．４４（ｍ，１Ｈ），５．１０（ｍ，２Ｈ），４．１０（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），２．１５－１．９６（ｍ，８Ｈ），１．６８（ｓ，３Ｈ），１．６８（ｓ，３Ｈ），１．６０（ｓ，３Ｈ），１．６０（ｓ，３Ｈ）．

＜実施例９＞

Ｎ，Ｎ－ジエチル－Ｎ－（３，７，１１－トリメチルドデカ－２，６，１０－トリエニル）アミン［２７８ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ，（２Ｅ，６Ｅ）－体：（２Ｚ，６Ｅ）－体＝９８：２］と無水酢酸（１８９μＬ，２．０ｍｍｏｌ）の混合液に、酢酸リチウム（６６．０ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）及びヨウ化ナトリウム（１５．０ｍｇ，０．１０ｍｍｏｌ）を加えて、アルゴン雰囲気下１２０℃で４時間反応させた。反応液を室温に冷却したのちメタノール（１．３ｍＬ）、水酸化ナトリウム（２４４ｍｇ，６．１ｍｍｏｌ）を加えて、室温で２０時間反応させた。反応液をヘキサンで希釈し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝８０：２０）により精製することで、ファルネソール（１２４ｍｇ，５６％）を（２Ｅ，６Ｅ）－体：（２Ｚ，６Ｅ）－体＝９１：９の比（ＧＣ比）の混合物として、無色粘性液体で得た。

＜実施例１０＞

Ｎ，Ｎ－ジエチル－Ｎ－（３，７，１１－トリメチルドデカ－２，６，１０－トリエニル）アミン［５５５ｍｇ，２．０ｍｍｏｌ，（２Ｅ，６Ｅ）－体：（２Ｚ，６Ｅ）－体＝９８：２］と無水酢酸（３７８μＬ，４．０ｍｍｏｌ）の混合液に、酢酸リチウム（１４５ｍｇ，２．２ｍｍｏｌ）及びヨウ化テトラブチルアンモニウム（７４．０ｍｇ，０．２０ｍｍｏｌ）を加えて、アルゴン雰囲気下１２０℃で９時間反応させた。反応液を室温に冷却したのちメタノール（２．０ｍＬ）、水酸化カリウム（６５０ｍｇ，１２ｍｍｏｌ）を加えて、室温で４８時間反応させた。反応液をジエチルエーテルで希釈し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝８０：２０）により精製することで、ファルネソール（３１３ｍｇ，７０％）を（２Ｅ，６Ｅ）－体：（２Ｚ，６Ｅ）－体＝９５：５の比（ＧＣ比）の混合物として、無色粘性液体で得た。

＜実施例１１＞

Ｎ，Ｎ－ジエチル－Ｎ－（３，７，１１－トリメチルドデカ－２，６，１０－トリエニル）アミン［５５５ｍｇ，２．０ｍｍｏｌ，（２Ｅ，６Ｅ）－体：（２Ｚ，６Ｅ）－体＝９８：２］と無水酢酸（３７８μＬ，４．０ｍｍｏｌ）の混合液に、ヨウ化テトラブチルアンモニウム（７４．０ｍｇ，０．２０ｍｍｏｌ）を加えて、アルゴン雰囲気下１２０℃で１２時間反応させた。反応液を室温に冷却したのちメタノール（２．０ｍＬ）、水酸化カリウム（６４４ｍｇ，１１ｍｍｏｌ）を加えて、室温で４０時間反応させた。反応液をジエチルエーテルで希釈し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝８０：２０）により精製することで、ファルネソール（３１０ｍｇ，７０％）を（２Ｅ，６Ｅ）－体：（２Ｚ，６Ｅ）－体＝９３：７の比（ＧＣ比）の混合物として、無色粘性液体で得た。

＜実施例１２＞

Ｎ，Ｎ－ジエチル－Ｎ－（３，７，１１－トリメチルドデカ－２，６，１０－トリエニル）アミン［５５５ｍｇ，２．０ｍｍｏｌ，（２Ｅ，６Ｅ）－体：（２Ｚ，６Ｅ）－体＝９８：２］と無水酢酸（３７８μＬ，４．０ｍｍｏｌ）の混合液に、ヨウ化テトラブチルアンモニウム（３０．０ｍｇ，８０μｍｏｌ）を加えて、アルゴン雰囲気下１２０℃で１４時間反応させた。反応液を室温に冷却したのちメタノール（２．０ｍＬ）、水酸化カリウム（３５２ｍｇ，６．４ｍｍｏｌ）を加えて、室温で２０時間反応させた。反応液をジエチルエーテルで希釈し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機相を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝８０：２０）により精製することで、ファルネソール（２８０ｍｇ，６３％）を（２Ｅ，６Ｅ）－体：（２Ｚ，６Ｅ）－体＝９４：６の比（ＧＣ比）の混合物として、無色粘性液体で得た。

ヨウ化テトラブチルアンモニウムの添加効果を検証するために、実施例２をヨウ化テトラブチルアンモニウムを加えずに行った。

＜比較例１＞

Ｎ，Ｎ－ジエチル－Ｎ－（３，７，１１－トリメチルドデカ－２，６，１０－トリエニル）アミン［２７９ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ，（２Ｅ，６Ｅ）－体：（２Ｚ，６Ｅ）－体＝９８：２］に無水酢酸（１８９μＬ，２．０ｍｍｏｌ）、酢酸ナトリウム（８２．０ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）を加えて１４０℃で２４．５時間反応させた。反応液を室温に冷却したのち、酢酸エチルで希釈し飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝９０：１０）により精製し、酢酸ファルネシル（１１２ｍｇ，４２％）を（２Ｅ，６Ｅ）－体：（２Ｚ，６Ｅ）－体＝９０：１０の比（ＧＣ比）の混合物として、無色粘性液体で得た。また構造異性体である酢酸ネロリジルの生成率は、反応粗生成物のガスクロマトグラフィー分析より、５．２％であった。

比較例１の結果が示すように、ヨウ化テトラブチルアンモニウムを加えずに反応を行った場合、得られる酢酸ファルネシルの収率が低く、かつ副生物（酢酸ネロリジル）の生成率が高いものであった。このことから、ヨウ化テトラブチルアンモニウムの添加が有効であることが示された。

Claims (10)

1. 一般式（１）：
   

   

   
   （式中、
   Ｒ^１及びＲ^２は、各々独立に、炭素数１から４のアルキル基を表すか、あるいは、Ｒ^１及びＲ^２は、それらが結合する窒素原子と一体となって５から７員環の複素環を形成し、このとき、該複素環の炭素原子は、窒素原子及び酸素原子からなる群より選ばれる少なくとも１個のヘテロ原子で置き換えられていてもよく、また、該複素環上に炭素数１から４のアルキル基が置換していてもよく、
   ｎは、０から４の整数を表す）
   で表されるプレニルアミン類を、ハロゲン化第４級アンモニウム及びハロゲン化金属からなる群より選択されるハロゲン化物の存在下、一般式（２）：
   

   

   
   （式中、
   Ｒ^３は、炭素数１から４のアルキル基又は炭素数１から４のハロアルキル基を表す）
   で表されるカルボン酸無水物と反応させることを特徴とする、一般式（３）：
   

   

   
   （式中、
   Ｒ^３及びｎは、前記と同じ意味を表す）
   で表されるカルボン酸プレニル類の製造方法であって、ハロゲン化金属が、一般式（５）：
   

   

   
   （式中、
   Ｍ ^ｑ＋ は、第１族、第２族、第１０族又は第１２族の金属元素イオンを表し、
   （Ｘ ^２ ） ^－ は、ヨウ化物イオンを表し、Ｍ ^ｑ＋ が、第１族の金属元素イオンの場合、ｑは１を表し、Ｍ ^ｑ＋ が、第２族、第１０族又は第１２族の金属元素イオンの場合、ｑは２を表す）
   で表されるハロゲン化金属である、製造方法。
2. ハロゲン化物が、一般式（４）：
   

   

   
   （式中、
   Ｒ^４は、各々独立に、炭素数１から１０のアルキル基、炭素数７から１４のアラルキル基又はアリール基を表し、
   （Ｘ^１）^－は、ハロゲン化物イオンを表す）
   で表されるハロゲン化第４級アンモニウムであることを特徴とする、請求項１に記載の製造方法。
3. Ｒ^４が、ブチル基であることを特徴とする、請求項２に記載の製造方法。
4. （Ｘ^１）^－が、ヨウ化物イオン又は臭化物イオンであることを特徴とする、請求項２又は３に記載の製造方法。
5. Ｒ^１及びＲ^２が、エチル基であり、Ｒ^３がメチル基である、請求項１から４のいずれかに記載の製造方法。
6. 下記の工程：
   （工程１）一般式（１）：
   

   

   
   （式中、
   Ｒ^１及びＲ^２は、各々独立に、炭素数１から４のアルキル基を表すか、あるいは、Ｒ^１及びＲ^２は、それらが結合する窒素原子と一体となって５から７員環の複素環を形成し、このとき、該複素環の炭素原子は、窒素原子及び酸素原子からなる群より選ばれる少なくとも１個のヘテロ原子で置き換えられていてもよく、また、該複素環上に炭素数１から４のアルキル基が置換していてもよく、
   ｎは、０から４の整数を表す）
   で表されるプレニルアミン類を、ハロゲン化第４級アンモニウム及びハロゲン化金属からなる群より選択されるハロゲン化物の存在下、一般式（２）：
   

   

   
   （式中、
   Ｒ^３は、炭素数１から４のアルキル基又は炭素数１から４のハロアルキル基を表す）
   で表されるカルボン酸無水物と反応させることを特徴とする、一般式（３）：
   

   

   
   （式中、
   Ｒ^３及びｎは、前記と同じ意味を表す）
   で表されるカルボン酸プレニル類を得る工程；及び
   （工程２）一般式（３）：
   

   

   
   （式中、
   Ｒ^３及びｎは、前記と同じ意味を表す）
   で表されるカルボン酸プレニル類を、加溶媒分解することを特徴とする、下記一般式（６）：
   

   

   
   （式中、
   ｎは、前記と同じ意味を表す）
   で表されるプレノール類を得る工程、
   を含むことを特徴とする、一般式（６）で表されるプレノール類の製造方法であって、ハロゲン化金属が、一般式（５）：
   

   

   
   （式中、
   Ｍ ^ｑ＋ は、第１族、第２族、第１０族又は第１２族の金属元素イオンを表し、
   （Ｘ ^２ ） ^－ は、ヨウ化物イオンを表し、Ｍ ^ｑ＋ が、第１族の金属元素イオンの場合、ｑは１を表し、Ｍ ^ｑ＋ が、第２族、第１０族又は第１２族の金属元素イオンの場合、ｑは２を表す）
   で表されるハロゲン化金属である、製造方法。
7. ハロゲン化物が、一般式（４）：
   

   

   
   （式中、
   ４つのＲ^４は、各々独立に、炭素数１から１０のアルキル基、炭素数７から１４のアラルキル基又はアリール基を表し、
   （Ｘ^１）^－は、ハロゲン化物イオンを表す）
   で表されるハロゲン化第４級アンモニウムであることを特徴とする、請求項６に記載の製造方法。
8. Ｒ^４が、ブチル基であることを特徴とする、請求項７に記載の製造方法。
9. （Ｘ^１）^－が、ヨウ化物イオン又は臭化物イオンであることを特徴とする、請求項７又は８に記載の製造方法。
10. Ｒ^１及びＲ^２が、エチル基であり、Ｒ^３がメチル基である、請求項６から９のいずれかに記載の製造方法。