JP5803424B2 - ビニル酢酸の製造方法、ビニル酢酸誘導体及びその製造方法 - Google Patents
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上記(1)の手法では、高価な塩基、脱水溶媒が必要なだけでなく、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等の引火性の高い溶媒を使用する点で問題がある。
ール系の溶媒やアセトンを増感剤として共存した反応系中での高い選択率で目的化合物を得る方法が知られている。しかしながら、アルコール部分が異なる2−ブテン酸エステルの一般的な合成法でなく、また、引火性の高い有機化合物を使用する点で問題がある。
方法(6)では、工業的に入手が困難な原料を使用している。
方法(7)では、高価な原料を出発原料としている。
方法(8)では、高価な2−ブテン酸ハライドや、3級アミンを必要とする他、生成物中に、トランス−2−ブテン酸エステルやシス−2−ブテン酸エステルが数%含まれる問題がある。
てもよい炭素数1〜8のアルキレン基を表し、R2は炭素数1〜10のアルキル基を表し
、nは1〜10の整数を示す。式(2−2)及び式(1−8)中、R3は炭素数1〜20
のアルキル基、炭素数6〜22のアリール基、炭素数1〜15のハロゲン化アルキル基又は二重結合、酸素原子及び窒素原子の一以上を含む炭素数1〜22の炭化水素基を表す。
2〜8のアルキレン基を表し、R2は炭素数1〜10のアルキル基を表し、nは1〜10
の整数を表す。
0の整数を表す。
ビニル酢酸を製造する。
Ultraviolet Company 製)等を使用することができる。光の照射方法は特に制限されないが、例えばランプを反応溶液中に設置する内部照射式や、反応溶液の外側に設置する外部照射式等が知られており、これらを利用することができる。
反応の進行が遅くなる場合がある。
ていてもよい炭素数1〜8のアルキレン基を表し、R2は炭素数1〜10のアルキル基を
表し、nは1〜10の整数を示す。式(2−2)及び式(1−8)中、R3は炭素数1〜
20のアルキル基、炭素数6〜22のアリール基、炭素数1〜15のハロゲン化アルキル基、又は、二重結合、酸素原子及び窒素原子の一以上を含む炭素数1〜22の炭化水素基を表す。
た、環状のシクロアルキル基もアルキル基に含める。アルキレン基は、直鎖状及び分枝状のいずれであってもよい。直鎖状のアルキレン基にアルキル基が置換した分枝状アルキレン基の場合、分枝状アルキレン基の炭素数は、置換アルキル基と直鎖状アルキレン基の炭素数の合計とする。また、「二重結合、酸素原子、及び窒素原子の一以上を含む炭素数1〜22の炭化水素基(二重結合、酸素原子、及び窒素原子を2以上含む場合、二重結合、酸素原子、及び窒素原子のうち、同種が2以上含まれてもよいし、異種が2以上含まれてもよい)」としては、例えばシアノ基を含む炭化水素基、アセトキシ基を含む炭化水素基、ラクトンを含む炭化水素基、一以上の二重結合を含む鎖状及び環状の炭化水素基が挙げられ、より具体的には、シアノエチル基、アセトキシエチル基、γ−ブチロラクトニルオキシ基、プロペニル基、ブテニル基、シクロアルキルアルケニル基、ビシクロアルキルアルケニル基、等が挙げられる。
少なくできる薄膜蒸留は有効である。
(d)工程は、ビニル酢酸と前記式(2−1)又は(2−2)で表されるアルコール化合物との脱水反応により前記式(1)又は(1−8)で表されるビニル酢酸誘導体を製造する。(d)工程は、原料にビニル酢酸を用いる以外は、重合性二重結合を有するカルボン酸系化合物とアルコール化合物とを脱水縮合させ、また反応系内で共沸剤を用いて生じた水を除きながら行う通常のエステル化反応によって行うことができる。このような(d)工程は、通常のエステル化反応と同様に、酸触媒の存在下で行うことができる。
ステル、n−ヘキシルエステル、シクロへキシルエステル、シクロヘキシルメチルエステル、n−オクチルエステル、ペンタデシルエステル、ヘキサデシルエステル、ビシクロ[3.3.1]ノナン−9−イル エステル、2−メチルトリシクロ[3.3.1.13,7]デク−2−イル エステル、3a,4,5,6,7,7a−ヘキサヒドロ−4,7−メタノ−1H−インデン−6−イル エステル、3−(t−ブチル)シクロヘキシルエステル、1,2−プロピレングリコールジエステル、1,2−エチレングリコールジエステル及びトリメチロールブタントリエステルが挙げられる。
るビニル酢酸エステルは、本発明のビニル酢酸誘導体である。このようなビニル酢酸エステルとしては、例えば下記式(1−1)〜(1−7)で表される誘導体が挙げられる。
0の整数を表す。なお、式(1−1)及び(1−3)において、括弧は、式中のメチル基が結合する炭素原子を括るものであり、メチル基は括弧内の炭素原子のいずれかに結合していることを示す。
−1)又は(1−2)が挙げられる。R1が炭素数4のアルキレン基である化合物(1)
としては、例えば、前記式(1−3)又は(1−4)で表される化合物が挙げられる。R1が炭素数5のアルキレン基である化合物(1)としては、前記式(1−5)で表される
化合物が挙げられる。R1が炭素数6のアルキレン基である化合物(1)としては、前記
式(1−6)で表される化合物が挙げられる。また、R1が炭素数7のアルキレン基であ
る化合物(1)としては、前記式(1−7)で表される化合物が挙げられる。
記載された事項に本発明が限定されるものではない。
・日本電子(株)製の核磁気共鳴装置「Delta ECA 500 (500MHz)」を用い、テトラメチルシランを内部標準として、1H−NMR(プロトン核磁気共鳴ス
ペクトル)を測定した。
・ガスクロマトグラフィー((株)島津製作所製GC−2014ガスクロマトグラフ)を用い、反応の追跡を行った。(株)島津ジーエルシー製キャピラリーカラム「CBP−10(25m)」を使用し、カラム温度は95℃とした。なお、ガスクロマトグラフィーで測定した純度(%)や含有率(%)は、特に断らない限り、クロマトチャートの面積の百分率である。
・光反応装置として、Southern New England Ultraviolet Company製Rayonet Photochemical Reactor
型番RPR−2547A(254nmランプ)又は石井400W 高圧水銀灯(石英水冷管)を用いた。
・沸点(bp)は、減圧蒸留において温度計によって測定した、蒸留器の流出部分の温度である。なお減圧蒸留における減圧度はマノメーターで測定した。
以下、実施例により本発明の効果を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。実施例では、和光純薬工業株式会社製の蒸留水を使用した。
ビニル酢酸の合成
スターラーバー(攪拌子)を入れた500mLの三角フラスコに蒸留水300mL、トランス−2−ブテン酸(4.33g、50mmol)を投入し、マグネチックスターラーで攪拌しながらアルゴンガスで20分間バブリングを行い、脱気を行った。アルゴンガスを充填したテトラーバックで密封した400W高圧水銀灯(石井)に脱気したトランス−2−ブテン酸の水溶液を仕込み、冷却水で反応器内の温度を25℃以下に保ちながら、光を照射した。ガスクロマトグラフィーの分析で8時間の照射によりトランス−2−ブテン酸は完全に消失し、ビニル酢酸が生成していた。光反応装置のランプ水冷管の外壁には、重合物の付着は見られず、反応液の着色はなかった。
1−メトキシ−2−プロピル−3−ブテノエートの合成
ジムロート型還流冷却管、Dean−Starkトラップ管、窒素導入管を取り付けた100mLの二口フラスコに実施例1で合成したビニル酢酸(式(1−0)、7.75g、90mmol)、1−メトキシ−2−プロパノール(9.74g、108mmol)、p−トルエンスルホン酸一水和物(0.86g、4.5mmol)及びトルエン(35mL)を加えた。前記二口フラスコを油浴に浸し、油浴の温度を130℃まで昇温させた。同温度を維持しながら窒素気流下で4時間撹拌して副生した水を留去した。二口フラスコを室温(25℃)まで冷却し、飽和重曹水(10mL)で3回洗浄し、さらに蒸留水(10mL)で2回洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムを除去後、減圧濃縮した。得られた濃縮残渣を日本理化学機械(株)製のセミミクロ分留装置を用いて減圧蒸留して化合物(1−1a)(1−メトキシ−2−プロピル−3−ブテノエート)を単離した(10.40g、収率73%)。得られた化合物(1−1a)の物性を以下に示す。
bp:38〜39℃/3mmHg
1H NMR(CDCl3)δ(ppm):1.24(3H,d)、3.10(2H,td)、3.37(3H,s)、3.43(2H,dq)、5.10(1H,m)、5.15−5.19(2H,m)、5.93(1H,m)
3−メトキシ−1−ブチル−3−ブテノエートの合成
ジムロート型還流冷却管、Dean−Starkトラップ管、窒素導入管を取り付けた100mLの二口フラスコに実施例1で合成したビニル酢酸(式(1−0)、7.75g、90mmol)、3−メトキシ−1−ブタノール(9.37g、90mmol)、p−トルエンスルホン酸一水和物(0.86g、4.5mmol)及びトルエン(35mL)を加えた。前記二口フラスコを油浴に浸し、油浴の温度を130℃まで昇温した。同温度を維持しながら窒素気流下で4時間撹拌して副生した水を留去した。二口フラスコを室温(25℃)まで冷却し、飽和重曹水(10mL)で3回洗浄し、さらに蒸留水(10mL)で2回洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムを除去後、減圧濃縮した。得られた濃縮残渣を実施例2と同様に減圧蒸留して化合物(1−2a)(3−メトキシ−1−ブチル−3−ブテノエート)を単離した(12.33g、収率80%)。得られた化合物(1−2a)の物性を以下に示す。
bp:53〜54℃/3mmHg
1H NMR(CDCl3)δ(ppm):1.17(3H,d)、1.79(2H,m)、3.09(2H,td)、3.32(3H,s)、3.41(1H,m)、4.19(2H,t)、5.15−5.19(2H,m)、5.93(1H,m)
ジプロピレングリコールモノメチルエーテルの3−ブテン酸エスエルの合成
ジムロート型還流冷却管、Dean−Starkトラップ管、窒素導入管を取り付けた100mLの二口フラスコに、下記式(20)で表されるジプロピレングリコールモノメチルエーテル(異性体あり)(7.41g、50mmol)、実施例1で合成したビニル酢酸(式(1−0)、4.74g、55mmol)、p−トルエンスルホン酸一水和物(0.48g、2.5mmol)及びトルエン(35mL)を加えた。前記二口フラスコを油浴に浸し、油浴の温度を130℃まで昇温した。同温度を維持しながら窒素気流下で4時間撹拌して副生した水を留去した。二口フラスコを室温(25℃)まで冷却し、5重量%炭酸水素ナトリウム水溶液(10mL)で2回洗浄し、さらに蒸留水(10mL)で2回洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムを除去後、実施例2と同様に減圧濃縮した。得られた濃縮残渣を減圧蒸留精製し、化合物(1−1b)を単離した(10.57g、収率98%)。得られた化合物(1−1b)の物性を以下に示す。
bp:84〜86℃/4mmHg
1H NMR(CDCl3)δ(ppm):1.13(3H,m)、1.23(3H,m)、3.09(2H,m)、3.29−3.46(9H)、5.06(1H)、5.15−5.18(2H)、5.93(1H,m)
ベンジル−3−ブテノエートの合成
ジムロート型還流冷却管、Dean−Starkトラップ管、窒素導入管を取り付けた100mLの二口フラスコに実施例1で合成したビニル酢酸(式(1−0)、7.75g、90mmol)、ベンジルアルコール(8.11g、75mmol)、p−トルエンスルホン酸一水和物(0.71g、3.7mmol)及びトルエン(32mL)を加えた。前記二口フラスコを油浴に浸し、油浴の温度を130℃まで昇温した。同温度を維持しながら窒素気流下で4時間撹拌して副生した水を留去した。二口フラスコを室温(25℃)まで冷却し、飽和重曹水(10mL)で4回洗浄し、さらに蒸留水(10mL)で2回洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムを除去後、減圧濃縮した。得られた濃縮残渣を実施例2と同様に減圧蒸留して化合物(1−7a)(ベンジル−3−ブテノエート)を単離した(10.12g、収率77%)。得られた化合物(1−7a)の物性を以下に示す。
bp:88〜89℃/4mmHg
1H NMR(CDCl3)δ(ppm):3.15(2H,td)、5.14(2H,s)、5.15−5.20(2H,m)、5.94(1H,m)、7.30−7.38(5H,m)
石英試験管(2.2×25cm)中にトランス−2−ブテン酸(4.3g、50mmol)の酢酸エチル(60mL)溶液にアルゴンガスを15分間導通し、その後シリコンゴム栓で密栓し、光反応装置(Southern New England Ultraviolet Company製Rayonet Photochemical Reactor 型番RPR−2547A(254nmランプ))で66時間照射した。常圧下、溶媒である酢酸エチルを留去し、黄色く着色した粗ビニル酢酸を得た。ガスクロマトグラフィーで分析したところ、96%がビニル酢酸であり、トランス−2−ブテン酸が1%、シス−2−ブテン酸が2%含有されていた。粗ビニル酢酸を減圧下で蒸留し、ビニル酢酸(3.3g、収率76%)を無色油状物(bp:100℃(bath temp.)/20mmHg)として得た。同時に、淡褐色粘稠な油状残査1.2gを得た。
Claims (6)
- 2−ブテン酸を水中で光異性化させてビニル酢酸を製造する方法。
- (a)工程:2−ブテン酸を水中で光異性化させてビニル酢酸を生成する工程、及び、(d)工程:得られたビニル酢酸と下記式(2−1)又は(2−2)で表されるアルコール化合物との脱水反応により下記式(1)又は(1−8)で表されるビニル酢酸誘導体を製造する工程、を含むビニル酢酸誘導体の製造方法。
てもよい炭素数1〜8のアルキレン基を表し、R2は炭素数1〜10のアルキル基を表し
、nは1〜10の整数を示す。式(2−2)及び式(1−8)中、R3は炭素数1〜20
のアルキル基、炭素数6〜22のアリール基、炭素数1〜15のハロゲン化アルキル基、又は、二重結合、酸素原子、及び窒素原子の一以上を含む炭素数1〜22の炭化水素基を
表す。) - (b)工程:(a)工程で得られた反応液から生成物を有機溶媒で抽出する工程、及び、(c)工程:(b)工程で得られた抽出液から有機溶媒を留去して生成物を濃縮する工程、を(a)工程と(d)工程との間にさらに含むことを特徴とする請求項2に記載のビニル酢酸誘導体の製造方法。
- 前記有機溶媒として、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n−プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸n−ブチル又は酢酸イソブチルを使用することを特徴とする請求項3に記載のビニル酢酸誘導体の製造方法。
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