JP6032740B2 - アセトキシフェニル化合物の製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、アセチルフェニル化合物を酸化することにより、アセトキシフェニル化合物を製造する方法に関する。具体的には、２−アセチルフルオレン誘導体および４−アセチルフェニル誘導体を酸化することにより、アセトキシフェニル化合物を製造する方法に関する。

２−アセチルフルオレン誘導体（１）の酸化による２−アセトキシフルオレン誘導体（３）の合成に関しては、（ｉ）ハロゲン系溶媒中、硫酸触媒を用いて無水酢酸と過酸化水素水から反応系中で過酢酸を生成させて酸化する方法（例えば特許文献１を参照）、（ｉｉ）ハロゲン系溶媒中、蟻酸存在下、硫酸触媒を用いて無水酢酸と過酸化水素水から反応系中で過酸を生成させて酸化する方法（例えば特許文献２を参照）、（ｉｉｉ）ハロゲン系溶媒中、メタクロロ過安息香酸を酸化剤として用いて酸化する方法が知られている（例えば、非特許文献１〜２）。

一方、４−アセチルフェニル誘導体（２）から４−アセトキシフェニル誘導体（４）の合成に関しても、２−アセチルフルオレン誘導体（１）の酸化と同様な方法で合成されている。（ｉｖ）反応系中で蟻酸と過酸化水素水から過蟻酸を生成させて酸化する方法（例えば特許文献３〜４）、（ｖ）ハロゲン系溶媒中、蟻酸存在下、硫酸触媒を用いて無水酢酸と過酸化水素水から反応系中で過酸を生成させて酸化する方法（例えば特許文献５〜６を参照）、（ｖｉ）ハロゲン系溶媒中、メタクロロ過安息香酸を酸化剤として用いて酸化する方法（例えば特許文献５〜６）、（ｖｉｉ）ジクロロエタン溶媒中、強酸性触媒存在下、過酸化水素水に無水酢酸を加え、反応系中で過酢酸溶液を生成させて酸化する方法（例えば特許文献７）が知られている。

また、過酢酸および過酢酸溶液は、古くから酸化剤として利用されており、これらの製造方法としては、例えばアセトアルデヒドを空気酸化で製造する方法、または過酸化水素水と酢酸を硫酸などの強酸性触媒を用いて過酢酸平衡過酸を製造する方法が知られている。過酢酸平衡過酸は、過酢酸と共に当モル生成する水と、酢酸および未反応の過酸化水素を含む混合物であるが、有機合成用の酸化剤として利用するために、高濃度の過酢酸溶液を生成させ酸化反応に利用するいくつかの方法が知られている。例えば（ｖｉｉｉ）反応蒸留装置を用いて、水分を除去しながら過酸化水素とカルボン酸を反応させ、水分および過酸化水素含有量の少ない平衡過酸を一旦合成した後、環状ケトンを酸化する方法（例えば特許文献８）、（ｉｘ）硫酸、硝酸、過塩素酸などの中性塩の存在下、酢酸と硫酸などの鉱酸と過酸化水素水を添加して、反応系中で過酢酸を生成させオレフィン類をエポキシ化する方法（例えば特許文献９〜１０）が知られている。

また、高濃度の過酢酸を得る方法として、例えば精留塔を用いて蒸留による過酢酸を製造する方法（例えば特許文献１１）、過酢酸を有機溶剤で抽出して過酢酸濃度を高める方法（例えば特許文献１２）が知られている。高濃度過酢酸を用いる方法では、例えば（ｘ）３２重量％の濃度の過酢酸を用いてジクロロメタン溶媒を用いて反応させる方法（例えば特許文献５）が知られている。

また、酢酸の代わりに無水酢酸を用いる平衡過酢酸法によらない方法として、例えば（ｘｉ）無水酢酸と過酸化水素水から有機合成反応に適する高濃度の過酢酸を製造する方法が知られている（例えば特許文献１３）。

しかしながら、上記（ｉ）、（ｖ）、（ｖｉｉ）、（ｉｘ）の方法では高価な無水酢酸を使用する点、（ｉ）、（ｖ）、（ｖｉｉ）の方法では、毒性で問題となるハロゲン系溶剤を使用するなどの点で工業的には改善の余地が残されている。また、上記（ｉｉ）、（ｉｖ）、（ｖ）の方法では、腐食性のある蟻酸を使用し、極めて危険性が高い過蟻酸が生成するなどの点で、スケールアップの上で改善の余地が残されている。さらに、上記（ｉｉｉ）、（ｖｉ）の方法では、高価なメタクロロ過安息香酸を使用し、反応中で生成するメタクロロ安息香酸の除去において、煩雑な後処理操作が必要な上、ハロゲン系溶媒の使用などの問題点がある。上記（ｖｉｉｉ）の方法では、実施にあたっては高い理論段数の反応蒸留塔を必要とする設備的な制約がある。上記（ｉｘ）の方法では、系中で過酢酸を生成させながら、オレフィンのエポキシ化に適用した例が示されるが、本発明のアセチルフェニル化合物の酸化に関連する記述はない。さらにまた、（ｘｉ）の方法では、商用運送規則では公共の道路上を運送する場合の平衡過酢酸の濃度を３５％未満にしているが、製造業者は特別な状況を除いて濃度を１５重量％程度に制限しており利用に関して制約がある。また、ハロゲン系溶剤を使用するという問題点がある。また、過酸の生成に硫酸触媒を用いた（ｉ）、（ｉｉ）、（ｖ）の方法では、反応の進行に伴って、反応液が黒く着色してくるため、収率が低下する他、着色成分を除去するために精製工程を必要とするなどの問題があった。

特開２００３−２３８４９１号公報 特開２００１−２６５８７号公報 特開昭５６−９２２２３号公報 特開昭５６−１２３２２号公報 特開平７−６９９７９号公報 特開平３−１０１６３２号公報 特開平１−１９０６４５号公報 国際公開第１９９９／１４１９０号 特開平６−１７２３３５号公報 特開平６−１０７６５２号公報 特開２０００−１８６０７２号公報 特開平１−１６７６０号公報 特開２００８−９４７６８号公報

Journal of Organic Chemistry Vol.42 No.25 (1977) 4144-4146 Mol. Cryst. Liq Cryst. (1987) Vol.150ｂ 361-378

本発明は、アセチルフェニル化合物の酸化によるアセトキシフェニル化合物の製造において、危険性の高い高濃度の過酢酸および環境問題で敬遠されているハロゲン系溶剤を用いることなしに、高純度のアセトキシフェニル化合物を製造する方法を提供する。

本発明者らは、上記問題を解決すべく鋭意検討を進めた結果、過酢酸、酢酸、過酸化水素、硫酸水素塩および水を含有する過酸組成物を見出し、これを反応系内で生成させることにより、下記一般式（１）のアセチルフェニル化合物からアセトキシフェニル化合物（３）を、また一般式（２）のアセチルフェニル化合物からアセトキシフェニル化合物（４）を夫々高収率で製造する方法を見出し、本発明を完成した。

本発明は以下のとおりである。
［１］ 下記（ａ）〜（ｃ）の少なくとも１種に硫酸水素塩を溶解させ、（ａ）〜（ｃ）を混合することによりアセチルフェニル化合物を酸化する工程を含むアセトキシフェニル化合物の製造方法。
（ａ）アセチルフェニル化合物の芳香族炭化水素溶液
（ｂ）酢酸または酢酸水溶液
（ｃ）過酸化水素水

［２］ 前記工程が、硫酸を用いずに行われる前記［１］記載のアセトキシフェニル化合物の製造方法。
［３］ 混合液中の過酸化水素のモル数とアセチルフェニル化合物のモル数との比が１：１〜５：１であり、混合液中の硫酸水素塩のモル数とアセチルフェニル化合物のモル数との比が１：１〜０．０１：１であることを特徴とする前記［１］記載のアセトキシフェニル化合物の製造方法。

［４］ アセチルフェニル化合物が一般式（１）で示され、アセトキシフェニル化合物が一般式（３）で示される前記［１］〜［３］の何れか一項記載のアセトキシフェニル化合物の製造方法。

（式中、Ｒ¹及びＲ²はそれぞれ水素、フッ素、塩素、臭素又は炭素数１〜２０のアルキルであり、Ｒ³は水素、フッ素、塩素、臭素、炭素数１〜２０のアルキル、アセチル又はアセトキシである。）

［５］ アセチルフェニル化合物が一般式（２）で示され、アセトキシフェニル化合物が一般式（４）で示される前記［１］〜［３］の何れか一項記載のアセトキシフェニル化合物の製造方法。

（式中、Ｒ⁴は水素、炭素数１〜２０のアルキル、ハロゲン、−Ｃ≡Ｎ、カルボキシル、アセチル又はアセトキシであり、このアルキル中の少なくとも１つの−ＣＨ₂−は−Ｏ−又は−ＳＯ₂−で置き換えられてもよく、また少なくとも１つの水素はハロゲンで置き換えられてもよく、Ａ¹、Ａ²及びＡ³はそれぞれ独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル又は１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイルであり、また少なくとも１つの水素はハロゲンで置き換えられてもよく、Ｚ¹、Ｚ²及びＺ³はそれぞれ独立して単結合、−（ＣＨ₂）₂−、−（ＣＨ₂）₄−、−ＣＨ₂Ｏ−又は−ＯＣＨ₂−を表し、ｋ、ｌ及びｎはそれぞれ０又は１を表す。ｋ、ｌ及びｎの合計は１以上の整数である。）

［６］ 芳香族炭化水素がトルエン、キシレン、エチルベンゼン、ベンゼン又は１，２，４−トリメチルベンゼンである、前記［１］〜［５］の何れか一項記載のアセトキシフェニル化合物の製造方法。

［７］ 前記［１］〜［６］の何れか一項記載のアセトキシフェニル化合物の製造方法により得られた混合物から回収した水相に、酢酸又は酢酸水溶液と過酸化水素水とを加えた後、これを用いてアセチルフェニル化合物を酸化する工程を含む再利用方法。

本発明は、反応系内で生成された、過酢酸、酢酸、過酸化水素、硫酸水素塩および水を含有する過酸組成物を用いて、下記式一般式（１）及び（２）のアセチルフェニル化合物から、非ハロゲン系溶媒中で高濃度の過酢酸を使用することなく、アセトキシフェニル化合物（３）及び（４）を高収率で製造できる。また、反応終了後、分液により残存した混合液を回収し、これに酢酸または酢酸水溶液と過酸化水素水とを加えることにより、反応系内で生成される過酸組成物を酸化剤として再利用をすることができるため、工業的な優位性が高い。

本発明に使用する過酸化水素水は、特に限定されるものではないが、２０重量％以上の過酸化水素水が好ましく、取扱いや安全面を考えると実用的には２０〜６０重量％が使用できる。本発明に使用する過酸化水素水は、市販されている過酸化水素水を市販されている濃度、例えば３０重量％、５０重量％、６０重量％のままで使用することもできるが、希釈、濃縮を行い、適宜濃度調整し使用することもできる。

本発明に使用する酢酸としては、氷酢酸又は９０重量％以上の酢酸水溶液が使用できる。酢酸水溶液としては、水含有量の少ないものを利用した方が、酸化反応に有効な濃度の過酢酸を生成させることができるため好ましい。

また、本発明の反応系で生成される過酸組成物（以下、「本発明の過酸組成物」と略記する場合がある。）中の過酸化水素及び過酢酸の安定性を高めるために、従来知られている安定化剤を使用することができる。例えばピロリン酸、ピロリン酸ソーダ、トリポリリン酸ソーダ、エチレンジアミン四酢酸塩、ジエチレントリアミン五酢酸、ロダンカリ、ポリアミノカルボン酸、ピコリン酸、ジピコリン酸、１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸、アミノトリ（メチレンホスホン酸）５ナトリウム塩、エチレンジアミンテトラ（メチレンホスホン酸）、ジエチレントリアミンペンタ（メチレンホスホン酸）７ナトリウム等が挙げられる。安定化剤の添加量は、本発明の過酸組成物に対して濃度が０．０１〜１．５重量％となる量が好ましい。安定化剤は、本発明の過酸組成物の調整前に予め、酢酸もしくは過酸化水素水に添加して使用してもよいし、本発明の過酸組成物の調整後に添加してもよい。

本発明に使用する硫酸水素塩としては、硫酸水素ナトリウム、硫酸水素リチウム、硫酸水素カリウム、これらの水和物（例えば硫酸水素ナトリウム水和物、硫酸水素リチウム水和物、硫酸水素カリウム水和物）が挙げられる。これらの硫酸水素塩のうち、硫酸水素ナトリウム水和物または硫酸水素カリウムが好ましい。各種硫酸水素塩としては、市販品を用いることができる。

次に、本発明の過酸組成物の調製について説明する。上記記載の酢酸もしくは酢酸水溶液と過酸化水素水と硫酸水素塩とを混合することで過酸組成物を調製することができる。混合の順序は何ら限定されない。例えば、酢酸と過酸化水素とのモル比４：１〜０．２：１の混合液に、硫酸水素塩を添加して調製することができる。好ましくは、酢酸と過酸化水素とのモル比３：１〜０．５：１の範囲である。調製した酢酸と過酸化水素水の混合液中に添加する硫酸水素塩量は、生成する過酸組成物に対して濃度が０．１〜１０重量％となる量が好ましい。硫酸水素塩の濃度が０．５重量％以上となる過酸組成物ではアセチルフェニル化合物の酸化反応に対して効果的であり、硫酸水素塩の濃度１０重量％以下であると生産性が悪化しにくく好ましい。

また、本発明の過酸組成物は、硫酸を含まないものが好ましい。硫酸を含有すると反応進行とともに黒色の着色成分が生成し、収率が低下する他、着色成分を除去するために精製工程を必要とする等の問題を有する。これは、硫酸自体が系中に存在する場合は、本発明のように硫酸水素塩を使用する場合と比べて、より酸化反応により生成するアセトキシフェニル化合物の加水分解が促進されやすい、さらに、副生したフェノール体が硫酸により酸化された黒色成分（キノン骨格の化合物となったのち、重合化したと推定）の生成量が増えるからと考えられる。

反応系中で、前記過酸組成物を調製する方法において、反応は、４０℃から１００℃程度に加熱する方法が有効である。８０℃以内で実施することで過酢酸の分解を抑制でき効果的に過酸組成物を調製できる。

基質が存在しない条件下では、過酸組成物の組成比は、過酢酸７〜２０重量％、過酸化水素３〜２０重量％、酢酸１０〜５０重量％、硫酸水素塩０．１〜１０重量％、及び残分として水２０〜５５重量％である。また過酸組成物の重量比は、過酸化水素水の過酸化水素純分として１０〜２５重量部、酢酸水溶液の酢酸純分として１５〜６０重量部、及び硫酸水素塩０．１〜１０重量部である。

本発明のアセトキシフェニル化合物の製造方法に於いて、基質となるアセチルフェニル化合物の一形態は、一般式（１）で表される化合物である。

一般式（１）で表される化合物は、２−アセチルフルオレン誘導体であり、この具体例としては、以下の化合物（１−１）〜（１−３）が挙げられる。

上記一般式（１）で表される化合物を基質として用いて、本発明の製造方法により得られるアセトキシフェニル化合物は、一般式（３）で表される化合物である。

式中Ｒ¹及びＲ²はそれぞれ水素、フッ素、塩素、臭素又は炭素数１〜２０のアルキルであり、Ｒ³は水素、フッ素、塩素、臭素、炭素数１〜２０のアルキル、アセチル又はアセトキシである。

また、一般式（３）で表される化合物の具体例としては、一般式（３−１）〜（３−３）で表される化合物が挙げられる。

式中Ｒ¹及びＲ²はそれぞれ水素、フッ素、塩素、臭素又は炭素数１〜２０のアルキルであり、Ｒ³は水素、フッ素、塩素、臭素、炭素数１〜２０のアルキル、アセチル又はアセトキシである。

Ｒ¹及びＲ²で示される炭素数１〜２０のアルキルは、直鎖状、分枝状或いは環状でもよい。好ましくは炭素数１〜９であり、具体的には、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、へプチル、オクチル、ノニルが挙げられる。

Ｒ¹及びＲ²のより好ましい具体例としては、水素またはメチルが挙げられる。
また、Ｒ³の好ましい例としては、水素、臭素、アセチル又はアセトキシが挙げられる。

前記アセチルフェニル化合物（１−１）〜（１−３）は、従来報告されている方法で合成することができる。例えば２，７−ジアセチルフルオレン（式（１−１）において、Ｒ¹、Ｒ²＝Ｈ）（Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．，１９９７ Ｖｏｌ ３０３， ｐｐ３０５−３１１）、例えば２，７−ジアセチル−９−メチル−フルオレン（式（１−１）において、Ｒ¹＝ＣＨ₃、Ｒ²＝Ｈ）（特開２００３−２３８４９１号公報）、例えば９−メチル−２−アセチルフルオレン（式（１−２）において、Ｒ¹＝ＣＨ₃、Ｒ²＝Ｈ、Ｒ³＝Ｈ）、９−ブロモ−２−アセチルフルオレン（式（１−２）において、Ｒ¹＝Ｂｒ、Ｒ²＝Ｈ、Ｒ³＝Ｈ）、２−アセチル−７−アセトキシフルオレン（（１−３）において、Ｒ³＝ＯＣＯＣＨ₃）、７−ブロモ−２−アセチルフルオレン（式（１−３）において、Ｒ³＝Ｂｒ）（Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．，１９８７ Ｖｏｌ １５０ｂ， ｐｐ３６１−３７８）、例えば２−アセチルフルオレン（式（１−３）において、Ｒ³＝Ｈ）（特開２００３−２３８４９１号公報）、例えば２−アセチル−７−ペンチルフルオレン（式（１−３）において、Ｒ³＝Ｃ₅Ｈ₁₁）（Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．，１９８５ Ｖｏｌ １２９， ｐｐ１７−３５）、例えば９，９−ジエチル−２，７−ジアセチルフルオレン（式（１−１）において、Ｒ¹＝Ｃ₂Ｈ₅、Ｒ²＝Ｃ₂Ｈ₅）（Ｔｈｅ Ｏｈｉｏ Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｓｃｉｅｎｃｅ ７０（６） ３７１（１９７０）ｐｐ３７１−３７８）を参酌できる。

本発明のアセトキシフェニル化合物の製造方法に於いて、基質となるアセチルフェニル化合物の一形態は、一般式（２）で表される化合物である。

一般式（２）で表される化合物は、４−アセチルフェニル誘導体であり、この具体例としては、以下のような化合物（２−１）〜（２−４）が挙げられる。

式中、Ｒ^4'は水素、炭素数１〜２０のアルキル、ハロゲン、−Ｃ≡Ｎ、アセチルまたはアセトキシであり、このアルキル中の少なくとも１つの−ＣＨ₂−は−Ｏ−または−ＳＯ₂−で置き換えられてもよく、また少なくとも１つの水素はハロゲンで置き換えられてもよい。

上記一般式（２）で表される化合物を基質として用いて、本発明の製造方法により得られるアセトキシフェニル化合物は、一般式（４）で表される化合物である。

また、一般式（４）で表される化合物の具体例としては、一般式（４−１）〜（４−４）で表される化合物が挙げられる。

式中、Ｒ^4'は水素、炭素数１〜２０のアルキル、ハロゲン、−Ｃ≡Ｎ、アセチルまたはアセトキシであり、このアルキル中の少なくとも１つの−ＣＨ₂−は−Ｏ−または−ＳＯ₂−で置き換えられてもよく、また少なくとも１つの水素はハロゲンで置き換えられてもよい。

また、一般式（２）及び（４）に於いて、Ｒ⁴及びＲ⁴’で示される炭素数１〜２０のアルキルは、一般式（１）及び（３）に於けるＲ¹及びＲ²で示される炭素数１〜２０のアルキルと同様のものが挙げられる。

Ｒ⁴及びＲ⁴’で示されるアルキル中の−ＣＨ₂−が−Ｏ−で置き換えられた場合としては、炭素数１〜１９のアルコキシ、炭素数１〜１９のアルキルオキシアルキル等が挙げられ、Ｒ⁴及びＲ⁴’で示されるアルキル中の−ＣＨ₂−が−ＳＯ₂−で置き換えられた場合としては、炭素数１〜１９のアルキルスルホニル、炭素数１〜１９のアルキルスルホニルアルキル等が挙げられる。

Ｒ⁴及びＲ⁴’で示されるアルキル中の少なくとも１つの水素がハロゲン（例えばフッ素、塩素、臭素）で置き換えられた場合としては、例えば3-ブロモプロピル、3-クロロプロピル、4-ブロモブチル、４−クロロブチル等が挙げられる。

Ｒ⁴及びＲ⁴’で示されるハロゲンとしては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。
また、Ａ¹〜Ａ³で示される環中の少なくとも１つ以上の水素がハロゲン（例えばフッ素、塩素、臭素等）で置き換えられた場合としては、例えば、２’，４’−ジフルオロビフェニル、４’−ブロモ−２’−フルオロビフェニル、４’−ヨードビフェニル、３，３’−ジフルオロ−４−メトキシ−ｐ−ターフェニル等が挙げられる。

Ａ¹〜Ａ³の好ましい具体例としては、例えば１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、１，４−２−フルオロフェニレン、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイルが挙げられる。

Ｚ¹〜Ｚ³での好ましい例としては、例えば単結合、−（ＣＨ₂）₂−等が挙げられる。
また、ｋ、ｌ及びｎの合計は、通常１以上の整数であり、好ましくは１又は２である。
４−アセチルフェニル誘導体（２−１）〜（２−４）は、従来報告されている方法で合成することができる。例えば４−アセチル−４”−カルボキシル−ｐ−ターフェニルエチルエステル（ＵＳ５，４１７，８８５号明細書）、例えば３−フルオロ−４−アルキルオキシ−４’−アセチルビフェニル、３，３’−ジフルオロ−４−アルキルオキシ−４”−アセチル−ｐ−ターフェニル（特開平３−１９７４３８号公報）、例えば４−（４−ペンチルシクロへキシル）アセトフェノン（式（２−１）において、Ｒ⁴’＝ｎ−ペンチル基）（特開昭６０−１９９８６号公報）、例えば４−（４−ｎ−ペンチルシクロヘキシル）−４’−アセチルビフェニル（式（２−２）において、Ｒ⁴’＝４−ｎ−ペンチルシクロヘキシル基）（特開昭５６−１２３２２号公報）、例えば４−（２，４−ジフルオロフェニル）アセトフェノン（式（２−２）において、水素をフッ素に置き換え）（特開昭５１−３４１３５号公報）、例えば４−アセチル−４”−エトキシカルボニル−ｐ−ターフェニル（式（２−３）において、Ｒ⁴’＝ＣＯ₂Ｃ₂Ｈ₅）（特開平７−２５８２９号公報）、例えば６−（４−アセチルフェニル）−２−プロピル−１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン（式（２−４）において、Ｒ⁴’＝Ｃ₃Ｈ₇）（特開昭５６−９２２３号公報）をそれぞれ合成する方法が報告されている。

酸化反応に使用する反応溶媒としては、例えば芳香族炭化水素又はハロゲン系溶媒が挙げられ、中でも芳香族炭化水素系溶媒が好ましい。芳香族炭化水素系溶媒としては、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、１，２，４−トリメチルベンゼンが好ましい。ハロゲン系溶媒としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン又はクロロホルムが好ましい。有機溶媒の使用量は、特に限定されるものではないが、通常、アセチルフェニル化合物に対して、重量で２〜３０倍程度使用される。

アセチルフェニル化合物からアセトキシフェニル化合物の製造は、以下の方法で行うことができる。即ち、（１）過酢酸、過酸化水素水、酢酸、硫酸水素塩および水を含有する過酸組成物を一旦調製した後、アセチルフェニル化合物の反応溶液と該過酸組成物とを反応させる方法、（２）下記溶液（ａ）〜（ｃ）の少なくとも１種に硫酸水素塩を溶解させ、これら（ａ）アセチルフェニル化合物の反応溶液、（ｂ）酢酸または酢酸水溶液、及び（ｃ）過酸化水素水を混合することにより反応させる方法が挙げられる。特に消防法の危険物に該当しない３５重量％以下の過酸化水素水を使用したアセトキシフェニル化合物を製造する方法は簡便で、危険性リスクを低減できる製造法として有用である。

（１）と（２）のいずれの方法においても、反応は、過酸組成物からなる水相と基質溶液からなる有機相との２相系で進行するため、反応を十分に進行させるため水相と有機相とが十分分散できるような攪拌が有効である。

以下に、本発明の方法（２）の反応に関する詳細を説明する。酸化反応は、常圧でも加圧下でも行うことができるが、通常、反応操作の容易性から常圧での反応が好ましい。本発明で行う酸化反応においては、可燃性物質である芳香族系炭化水素溶媒として使用するため、引火、爆発の危険性があり有機溶媒が爆発範囲に入らないように、窒素、ヘリウムやアルゴンガスなどの不活性ガス置換下で行い、不活性ガスを反応器に供給しながらの実施が必要である。特に、反応温度が８０℃以上に達した場合、反応系中に存在する過酢酸、過酸化水素の分解による酸素が発生するため、仮に着火源が存在しても引火や爆発が起こらないように安全対策として気相部の限界酸素濃度未満になるように不活性ガスをフィードする方法が有効である。

反応器中の酸素濃度を低くするため、予め不活性ガスで置換する方法が好ましい。不活性ガスの置換方法としては、例えば、特開２００６−２３１２７０号公報に記載されている不活性ガス導入配管を反応器上部に接続し、パージ管からパージする方法、反応器上部に接続した不活性導入配管を反応容器の気相部の内部まで挿入し、パージ管からパージする方法、反応容器上部に接続した不活性ガス導入配管を反応容器の液相部の内部まで挿入し、液相内部に不活性ガスを吹き込み、パージ管からパージする方法が挙げられる。

アセチルフェニル化合物の酸化反応温度は、４０℃〜１００℃の範囲がよく、好ましくは５０℃〜８０℃である。１００℃以下とすることで、過酢酸および過酸化水素自身の分解を抑制でき、コスト面でも安全面でも望ましい。反応温度を４０℃以上とすることで、実用的な反応速度を達成することができる。

本発明に使用するアセチルフェニル化合物は室温で固体の化合物が多いため、有機溶媒を用いた溶液としての取り扱いが好ましい。特に本発明に係わる二官能のアセチルフェニル化合物の酸化反応では、一官能のアセチルフェニル化合物に比べ反応熱量が多いため、反応効率や反応装置による除熱能力を考える必要がある。このような観点から、本発明では各種原料を複数分割して仕込む方法やフィードポンプや滴下ロートなどを用いて連続仕込みする方法が望ましい。本発明では、回分式タンク型反応器、タンク型反応器を直列に連結した連続反応装置、マイクロフロー反応器、および上記反応器を組み合わせた反応系式を使用することができる。

次に方法（２）について説明する。即ち、（ａ）アセチルフェニル化合物の芳香族炭化水素の溶液、（ｂ）酢酸または酢酸水溶液、（ｃ）過酸化水素水のいずれか少なくても１種に硫酸水素塩を溶解させた溶液を調製した後、混合し過酢酸を生成させ、酸化反応させる方法であり、先の（１）の方法のように予め過酸組成物を調製することなしに、アセチルフェニル化合物の酸化を行うことができる。

本発明に使用する芳香族炭化水素系の溶媒は、（１）の方法と同じでトルエン、キシレン、エチルベンゼン、１，２，４−トリメチルベンゼンが好ましい。芳香族炭化水素系の溶媒に溶解性が低い基質に対しては、ハロゲン系溶媒（ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム）を適宜添加して使用することができる。有機溶媒使用量は、特に限定されるものではないが、通常、アセチルフェニル化合物に対して、重量で２〜３０倍程度使用される。

過酸化水素水の使用量は、一官能性のアセチルフェニル化合物の反応においては、過酸化水素モル数とアセチルフェニル化合物のモル数との比が１：１〜５：１となる仕込み条件である。特に好ましくは、過酸化水素モル数と一官能性のアセチルフェニル化合物のモル数との比が１．２５：１〜２．５：１である。二官能性のジアセチルフェニル化合物に対しては、過酸化水素１モル当量以下の場合は、分子内の１つのみ酸化されたモノアセトキシ化合物が主に生成し、ジアセトキシフェニル化合物を選択的に得ることが困難となるため、過酸化水素モル数と二官能性のジアセチルフェニル化合物のモル数との比が２：１〜１０：１の仕込み条件であり、特に好ましくは、過酸化水素とモル数と２官能性のジアセチルフェニル化合物のモル数との比が２．５：１〜５．０：１である。過酸組成物中の過酸化水素のモル数をこの範囲で使用することでコスト的にも安全上も有利に合成できる。

酢酸の使用量は、酢酸と過酸化水素とのモル比が４：１〜０．２：１となる範囲が好ましく、モル比３：１〜０．５：１となる範囲がより好ましい。酢酸を過酸化水素１モルに対して、０．２モル以上用いることで、基質を収率よく反応させることが可能となり、４モル以下の酢酸を用いることで、コスト的にも安全上も有利に合成できる。

硫酸水素塩の使用量は、硫酸水素塩とアセチルフェニル化合物のケトンとのモル比が１：１〜１：０．０１となる量である。特に好ましくは、硫酸水素塩とアセチルフェニル化合物のケトンとのモル比が１：０．５〜１：０．０３となる量である。

反応終了後に攪拌を止めることで、過酸化水素、酢酸、過酢酸、硫酸水素塩を含有する水相と生成物であるアセトキシフェニル化合物を含有する芳香族炭化水素相との２相に分離することができる。水相は、通常の分液操作により回収することができる。回収された水相は、硫酸水素塩と未反応の過酸化水素、残存過酢酸および酢酸を含むため、回収した水相に過酸化水素水、酢酸を追加補充することで、酸化剤として再利用することができる。追加する過酸化水素水および酢酸は、初回の反応時の仕込み量に準じた量を用い、反応時間を適宜調整することで収率よく製造することができる。

分液操作で得られた有機相は過酸化水素水、過酢酸、酢酸、微量の過酸化ジアセチルが溶解しているため、中和水洗および環元剤処理を行うことが好ましい。中和水洗、還元剤処理は、有機相に対して中和剤水溶液および環元剤水溶液を加え攪拌することで行われる。

中和水洗では、アセトキシフェニル化合物の加水分解による収率低下を避けるため、中和剤としては弱塩基性塩の水溶液（例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム及び炭酸水素カリウム）か、またはｐＨを８〜１０程度に調整した苛性ソーダ（水酸化ナトリウム）水溶液を使用することができる。

中和剤の使用量は、酸化反応で使用した酢酸に対して約０．０５〜２モル当量、好ましくは０．１〜１モル当量である。処理温度は、通常０℃〜６０℃、好ましくは５℃〜室温であり、処理時間は、数分から数時間、好ましくは１０分から１時間である。

環元剤処理に使用する環元剤としては、亜硫酸ナトリウム、チオ硫酸ナトリウムであり、これらの水溶液として使用することができる。還元剤処理をすることで、有機相中に含まれている過酢酸および微量の過酸化ジアセチルを分解することができる。亜硫酸ナトリウム及びチオ硫酸ナトリウムの水溶液は、１〜１０重量％の濃度で使用される。これら水溶液の使用量は、酸化反応で使用した酢酸に対して約０．０５〜２モル当量、好ましくは０．１〜１モル当量である。処理温度は、通常０℃〜６０℃、好ましくは５℃〜室温である。処理時間は、数分から数時間、好ましくは１０分から１時間である。

水洗処理および還元処理して得られた有機相は、減圧下、反応溶媒を留去して、アセトキシフェニル化合物を含む粗生成物を得ることができる。粗生成物中には、主生成物のアセトキシフェニル化合物以外の未反応の基質や二官能性のアセチルフェニル化合物の場合ではモノアセトキシ体が含まれる。粗生成物は、通常有機化合物の精製で行われる手法、例えば、カラムクロマトグラフィー、再結晶、晶析、ろ過、乾燥等を用いて、高純度のアセトキシフェニル化合物を得ることができる。具体的には、アセトキシフェニル化合物（３）又は（４）は、例えばヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、トルエン等の炭化水素系溶媒、例えばジエチルエーテル、ジブチルエーテル等のエーテル系溶媒、例えば酢酸エチル、酢酸プロピル等のエステル系溶媒、例えばメタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒等の有機溶媒を用いて、クロマトグラフィーや再結晶により精製することができる。

クロマトグラフィーでは、従来公知のシリカ、シリカゲル、アルミナ、フロリジルなどの吸着剤を使用することができる。吸着剤は、平均粒径３〜８０μｍ、好ましくは５〜１０μｍである。本発明で使用される吸着剤は、金属イオンの含有が少ない高純度のシリカゲルが好ましい。

通常、電子材料用途に使用する場合は、微量な不純物を除去するため、上記の精製法を組み合わせるか、同じ精製を繰り返して、より高純度のアセトキシフェニル化合物を得ることができる。

プロトン核磁気共鳴スペクトルは、ＶＡＲＩＡＮ社製ＶＡＲＩＡＮ ＮＭＲ ＳＹＳＴＥＭ（５００ＭＨｚ）を用い、テトラメチルシランを内部標準として測定した。
ガスクロマトグラフィーは株式会社島津製作所 ＧＣ−２０１４ＡＴＦ／ＳＰＬモデル（ＦＩＤ検出器）を用いた。一般財団法人化学物質評価研究機構製の「Ｇ−１００（４０ｍ）」を使用し、カラム温度は９５℃とした。

過酸化水素水および反応終了後の水相中の過酢酸および過酸化水素の分析は、チオ硫酸ナトリウムを用いた分別滴定法（特開平６−１３００５１号公報）により実施した。
酸素濃度計は、株式会社オートマチックシステムリサーチ製のＦＯＭ−１０００／ＷＰＨ−１１０を使用した。

３５重量％の過酸化水素水は和光純薬株式会社から、５０重量％の過酸化水素水はシグマアルドリッチ株式会社からそれぞれ購入した。蒸留水は和光純薬株式会社から購入した。過酸化水素水の濃度調整には、蒸留水を使用した。シリカゲルは、和光純薬株式会社からクロマトグラフィー用シリカゲルを購入した。
以下、実施例により本発明の効果を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

[実施例１] ２，７−ジアセトキシ−９−メチルフルオレン（３−１ａ−１）の合成（過酸組成物を反応系中で調製する方法）
メカニカル式攪拌機、ジムロート冷却管、温度計、滴下漏斗を取り付け５００ｍｌの４つ口フラスコに２，７−ジアセチル−９−メチルフルオレン（１−１ａ）（１５．８６ｇ；６０．０ｍｍｏｌ）、硫酸水素ナトリウム一水和物（４．１５ｇ；３０．０ｍｍｏｌ）、酢酸（３６．０３ｇ；６００ｍｍｏｌ）およびトルエン１５０ｍｌを加え６０℃の恒温槽で、２００ｒｐｍで攪拌した。温度が安定した後、３５重量％の濃度を３０重量％に調整した過酸化水素水（３４．００ｇ；３００ｍｍｏｌ）を３０分かけて滴下した。その後、６０℃で２０時間反応を行った。ガスクロマトグラフィーにて反応中のトルエン溶液の基質、生成物の変化を分析した。ガスクロマトグラフィーにおける面積からの算出で、反応率は９８％で、選択率はジアセトキシ体（３−１ａ−１）９０％、モノアセトキシ体（３−１ａ−２）８％、ジヒドロキシ体（３−１ａ−３）０．５％以下、モノヒドロキシ体（３−１ａ−４）０．５％以下であった。

分液ロートを用いて有機層と水層を分離した後、有機層を１０％亜硫酸ナトリウム水溶液（１５ｍｌ×２）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（１５ｍｌ×２）で洗浄した。有機層は、ロータリーエバポレーターを用いて減圧下、濃縮を行った。得られた濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（容量比で、酢酸エチル：ヘプタン＝１：１０→３：７）で処理してジアセトキシ体の２，７−ジオキシアセチル−９−メチルフルオレン（ジアセトキシ体３−１ａ）を１５．１０ｇ（５１．０ｍｍｏｌ 単離収率８５％）、モノアセトキシ体（３−１ａ−１）を０．８４ｇ；３．０ｍｍｏｌ）を単離収率５％で得た。

[実施例２] ２，７−ジアセトキシ−９−メチルフルオレン（３−１ａ−１）の合成（酢酸量の検討）
実施例１と同じ装置を用いて、使用原料の酢酸の使用量を３６．０３ｇ（６００ｍｍｏｌ）から１８．０２ｇ（３００ｍｍｏｌ）に変更する以外は、実施例１と同様の操作により反応を行った。反応３１時間で、反応率は９３％で、選択率はジアセトキシ体（３−１ａ−１）が８４％、モノアセトキシ体（３−１ａ−２）が１２％、ジヒドロキシ体（３−１ａ−３）０．５％以下、モノヒドロキシ体（３−１ａ−４）０．５％以下であった。であった。実施例１と同様な精製処理で、ジアセトキシ体（３−１ａ−１）、モノアセトキシ体（３−１ａ−２）をそれぞれ８０％、１０％の単離収率で取得した。

[実施例３] ２，７−ジアセトキシ−９−メチルフルオレン（３−１ａ−１）の合成（酢酸量の検討）
実施例１と同じ装置を用いて、使用原料の酢酸の使用量を３６．０３ｇ（６００ｍｍｏｌ）から５４．０４ｇ（９００ｍｍｏｌ）に変更する以外は、実施例１と同様の方法により反応を行った。反応２０時間で、反応率は９９％で、選択率はジアセトキシ体（３−１ａ−１）が９６％、モノアセトキシ体（３−１ａ−２）が３％、ジヒドロキシ体（３−１ａ−３）０．５％以下、モノヒドロキシ体（３−１ａ−４）０．５％以下であった。実施例１と同様な精製処理で、ジアセトキシ体（３−１ａ−１）、モノアセトキシ体（３−１ａ−２）をそれぞれ９３％、２％の単離収率で取得した。

[実施例４] ２，７−ジアセトキシ−９−メチルフルオレン（３−１ａ−１）の合成（硫酸水素塩量の検討）
実施例１と同じ装置を用いて、使用原料の硫酸水素ナトリウム一水和物の使用量を４．１５ｇ（３０．０ｍｍｏｌ）から１．０４ｇ（７．５ｍｍｏｌ）に変更する以外は、実施例１と同様の操作により反応を行った。反応３１時間で反応率は９４％で、選択率は、ジアセトキシ体（３−１ａ−１）が８２％、モノアセトキシ体（３−１ａ−２）が１１％、ジヒドロキシ体（３−１ａ−３）０．５％以下、モノヒドロキシ体（３−１ａ−４）０．５％以下であった。実施例１と同様な精製処理で、ジアセトキシ体（３−１ａ−１）、モノアセトキシ体（３−１ａ−２）をそれぞれ７９％、８％の単離収率で取得した。

[実施例５] ２，７−ジアセトキシ−９−メチルフルオレン（３−１ａ−１）の合成（硫酸水素塩量の検討）
実施例１と同じ装置を用いて、使用原料の硫酸水素ナトリウム一水和物の使用量を（４．１５ｇ；３０．０ｍｍｏｌ）から（８．３０ｇ；６０．０ｍｍｏｌ）に変更する以外は、実施例１と同様の操作により反応を行った。反応時間２６時間で、反応率は９７％で、選択率はジアセトキシ体（３−１ａ−１）が８６％、モノアセトキシ体（３−１ａ−２）が１０％、ジヒドロキシ体（３−１ａ−３）０．５％以下、モノヒドロキシ体（３−１ａ−４）０．５％以下であった。実施例１と同様な精製処理で、ジアセトキシ体（３−１ａ−１）、モノアセトキシ体（３−１ａ−２）をそれぞれ８０％、７％の単離収率で取得した。

[実施例６〜９] 硫酸水素塩として硫酸水素カリウムを使用
還流冷却管、温度計、滴下ロートを取り付け、スターラーバー（攪拌子）を入れた５０ｍｌの四つ口フラスコに２，７−ジアセチル−９−メチルフルオレン（１−１ａ）（１．０６ｇ；４．０ｍｍｏｌ）、トルエン（１０ｍｌ）を加えた。反応フラスコを油浴に浸し、６０℃まで昇温した。温度が安定した後、下記表１に示す条件で、酢酸、硫酸水素カリウム一水和物、３５重量％の濃度を３０重量％に調整した過酸化水素水を加え、６０℃の油浴中で反応した。室温まで冷却し、トルエン（１０ｍｌ）を加えた。分液ロートを用いて有機層と水層を分離した後、有機層を１０％亜硫酸ナトリウム水溶液（５ｍｌ×２）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（５ｍｌ×２）で洗浄した。有機層は、ロータリーエバポレーターを用いて減圧下、濃縮を行った。得られた濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（容量比で、酢酸エチル：ヘプタン＝１：１０→３：７）で処理して、ジアセトキシ体（３−１ａ−１）、モノアセトキシ体（３−１ａ−２）の単離収率を算出した。

[実施例１０] ２−アセトキシフルオレン（３−３ａ）の合成
実施例６と同じ方法で、フラスコに２−アセチルフルオレン（１−３ａ）（１．０４ｇ；５．０ｍｍｏｌ）、硫酸水素ナトリウム一水和物（０．１７ｇ；１．２ｍｍｏｌ）、酢酸（１．５０ｇ；２５．０ｍｍｏｌ）、トルエン（１０ｍｌ）を加えた。反応フラスコを油浴に浸し、６０℃まで昇温した。同温度を維持し、攪拌しながら３５重量％の濃度を３０重量％に調整した過酸化水素水（１．４２ｇ；１２．５ｍｍｏｌ）を滴下した。反応液を６０℃の油浴中で２４時間撹拌した後、室温まで冷却し、トルエン（１０ｍｌ）を加えた。有機層を分取後、１０％亜硫酸ナトリウム水溶液（５ｍｌ×２）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（５ｍｌ×２）で洗浄し、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（容量比で、酢酸エチル：ヘプタン＝１：１０→１：５）処理して２−アセトキシフルオレン（３−３ａ）を１．０２ｇ（収率９１％）得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３） δ（ｐｐｍ） ： ２．３３（ｓ， ３Ｈ）， ３．９０（ｓ， ２Ｈ）， ７．０９（ｄｄ， １Ｈ）， ７．２８（ｄ， １Ｈ）， ７．３０（ｄｄ， １Ｈ）， ７．３７（ｔｄ， １Ｈ）， ７．５３（ｄ， １Ｈ）， ７．７５（ｄ， １Ｈ）， ７．７６（ｄ， １Ｈ）．

[実施例１１] ７−ブロモ−２−アセトキシフルオレン（３−３ｂ）の合成
実施例６と同じ方法で、フラスコに７−ブロモ−２−アセチルフルオレン（１−３ｂ）（１．００ｇ；３．５ｍｍｏｌ）、硫酸水素ナトリウム一水和物（０．２４ｇ；１．７ｍｍｏｌ）、酢酸（２．０９ｇ；３４．８ｍｍｏｌ）、ジクロロエタン（１０ｍｌ）を加えた。反応フラスコを油浴に浸し、６０℃まで昇温した。同温度を維持し、攪拌しながら５０重量％の過酸化水素水（１．１８ｇ；１７．４ｍｍｏｌ）を滴下した。反応液を６０℃の油浴中で１６時間撹拌した後、室温まで冷却し、ジクロロエタン（１０ｍｌ）を加えた。有機層を分取後、水（５ｍｌ×５）で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムを除去後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（容量比で、ジクロロメタン：ヘプタン＝１：１）処理して７−ブロモ−２−アセトキシフルオレン（３−３ｂ）を０．８０ｇ（収率７５％）得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３） δ（ｐｐｍ） ： ２．３３（ｓ， ３Ｈ）， ３．８８（ｓ， ２Ｈ）， ７．０９（ｄｄ， １Ｈ）， ７．２６（ｄ， １Ｈ）， ７．４９（ｄｄ， １Ｈ）， ７．５９（ｄ， １Ｈ）， ７．６６（ｄ， １Ｈ）， ７．７２（ｄ， １Ｈ）．

[実施例１２] ４−（トランス−ｎ−プロピルシクロヘキシル）フェニルアセテート（４−１ａ）の合成
実施例６と同じ方法で、フラスコに４−（トランス−ｎ−プロピルシクロヘキシル）アセトフェノン（２−１ａ）（１．２３ｇ；５．０ｍｍｏｌ）、硫酸水素ナトリウム一水和物（０．３５ｇ；２．５ｍｍｏｌ）、酢酸（３．００ｇ；５０．０ｍｍｏｌ）、トルエン（１２ｍｌ）を加えた。反応フラスコを油浴に浸し、６０℃まで昇温した。同温度を維持し、攪拌しながら５０重量％の過酸化水素水（１．７０ｇ；２５．０ｍｍｏｌ）を滴下した。反応液を６０℃の油浴中で３６時間撹拌した後、室温まで冷却し、トルエン（１２ｍｌ）を加えた。有機層を分取後、１０重量％亜硫酸ナトリウム水溶液（５ｍｌ×２）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（５ｍｌ×２）で洗浄し、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（容量比で、酢酸エチル：ヘプタン＝１：３０→１：２０）処理して４−（トランス−ｎ−プロピルシクロヘキシル）フェニルアセテート（４−１ａ）を０．９６ｇ（収率７４％）得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３） δ（ｐｐｍ）： ０．９０（ｔ， ３Ｈ）， １．０４（ｍ， ２Ｈ）， １．１８−１．４６（ｍ， ７Ｈ）， １．８７（ｍ， ４Ｈ）， ２．２８（ｓ， ３Ｈ）， ２．４６（ｍ， １Ｈ）， ６．９８（ｍ， ２Ｈ）， ７．１９（ｍ， ２Ｈ）．

[実施例１３] ４−（２，４−ジフルオロフェニル）フェニルアセテート（４−２ａ）の合成
実施例６と同じ方法で、フラスコに４−（２，４−ジフルオロフェニル）アセトフェノン（２−２ａ）（１．１６ｇ；５．０ｍｍｏｌ）、硫酸水素ナトリウム一水和物（０．３５ｇ；２．５ｍｍｏｌ）、酢酸（３．００ｇ；５０．０ｍｍｏｌ）、トルエン（１１ｍｌ）を加えた。反応フラスコを油浴に浸し、６０℃まで昇温した。同温度を維持しながら５０重量％の過酸化水素水（１．７０ｇ；２５．０ｍｍｏｌ）を滴下した。反応液を６０℃の油浴中で４８時間撹拌した後、室温まで冷却し、トルエン（１０ｍｌ）を加えた。有機層を分取後、１０％亜硫酸ナトリウム水溶液（５ｍｌ×２）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（５ｍｌ×２）で洗浄し、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（容量比で、酢酸エチル：ヘプタン＝１：２０）処理して、４−（２，４−ジフルオロフェニル）フェニルアセテート（４−２ａ）を０．５３ｇ（収率４３％）得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３） δ（ｐｐｍ） ： ２．３３（ｓ， ３Ｈ）， ６．９３（ｍ， ２Ｈ）， ７．１７（ｍ， ２Ｈ）， ７．３８（ｍ， １Ｈ）， ７．５０（ｍ， ２Ｈ）．

[実施例１４] ４−（カルボエトキシビフェニル）フェニルアセテート（４−３ａ）の合成

実施例６と同じ方法で、フラスコに４−（カルボエトキシビフェニル）アセトフェノン（２−３ａ）（１．０３ｇ；３．０ｍｍｏｌ）、硫酸水素ナトリウム一水和物（０．２１ｇ；１．５ｍｍｏｌ）、酢酸（１．８０ｇ；３０．０ｍｍｏｌ）、ジクロロエタン（１０ｍｌ）を加えた。反応フラスコを油浴に浸し、６０℃まで昇温した。同温度を維持し、攪拌しながら５０重量％の過酸化水素水（１．００ｇ；１４．７ｍｍｏｌ）を滴下した。反応液を６０℃の油浴中で２８時間撹拌した後、室温まで冷却し、ジクロロメタン（２０ｍｌ）を加えた。有機層を分取後、水（１０ｍｌ×４）、１重量％炭酸水素ナトリウム溶液（１０ｍｌ）で洗浄し、硫酸マグネシウムを加えて乾燥した。硫酸マグネシウムを除去後、減圧濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー処理（容量比で、ジクロロメタン：ヘプタン＝１：１）して４−（カルボエトキシビフェニル）フェニルアセテート（４−３ａ）を０．７３ｇ（収率６５％）得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３） δ（ｐｐｍ）： １．４２（ｔ， ３Ｈ）， ２．３４（ｓ， ３Ｈ）， ４．４１（ｑ， ２Ｈ）， ７．１９（ｍ， ２Ｈ）， ７．６２−７．７２（ｍ， ８Ｈ）， ８．１４（ｍ， ２Ｈ）．

[実施例１５] 排ガス中の酸素濃度の分析、過酸化ジアセチルの分析（¹³Ｃ−ＮＭＲ）、再結晶による精製
メカニカル式撹拌機、ジムロート冷却管、ガス導入管、温度計、滴下ロートを取り付けた５００ｍｌの五つ口ジャケト型フラスコに窒素ガス流量計、酸素濃度計を付けた反応器を使用した。窒素ガス流量計は、ガス導入管の前に連結して一定量で窒素ガスが反応器に導入できるように調整を行った。反応器に導入した窒素ガスは、ジムロート冷却管口より排気し、酸素濃度計はジムロート冷却管口に繋いだチューブと連結して、廃棄窒素ガス中の酸素濃度を測定できるようにした。反応器に、２，７−ジアセチル−９−メチルフルオレン（１−１ａ）（１５．８６ｇ；６０．０ｍｍｏｌ）、硫酸水素ナトリウム一水和物（４．１５ｇ；３０．０ｍｍｏｌ）、酢酸（３６．０３ｇ；６００ｍｍｏｌ）、トルエン（１６０ｍｌ）を加えた。反応器に窒素ガスを１分間当たり１００ｍｌで流し、フラスコ内を窒素ガス置換し、酸素濃度が０．３％以下にした。反応器のジャケットに予め加温していた温水を循環させフラスコ内部の温度を６０℃まで昇温させた。同温度を維持しながら３５重量％の濃度を３０重量％に調整した過酸化水素水（３４．００ｇ；３００ｍｍｏｌ）を１５分かけて滴下し、６０℃で２４時間撹拌した。酸素濃度は反応開始とともに徐々に上がり、反応２４時間後で約３％程度まで上昇した。反応率は９８％、選択率は、ジアセトキシ体（３−１ａ−１）が９２％、モノアセトキシ体（３−１ａ−２）６％、ジヒドロキシ体（３−１ａ−３）０．５％以下、モノヒドロキシ体（３−１ａ−４）０．５％以下であった。

反応液にトルエン５０ｍｌを追加しジャケットの温水を室温まで冷却した後、分液ロートを用いて反応液を有機層と水層に分離した。有機層は、１０％亜硫酸ナトリウム水溶液（２０ｍｌ×２）、飽和炭酸水素ナトリウム水（２０ｍｌ×２）で洗浄した。還元剤処理および中和処理した有機層を¹³Ｃ−ＮＭＲ分析を行なったところ、過酸化ジアセチルのメチル炭素に由来するピークが検出されなかった。

得られた有機層をジーンスタークにジムロート冷却管を付けた攪拌器付きフラスコ（５００ｍｌ）に仕込み、加熱還流させた。有機層に含有していた水をトルエンと共沸させ、ジンスタークトラップより５０ｍｌの流出分を抜き出した。得られた粗液を１００ｍｌ三角フラスコに入れ、−５℃の冷蔵庫に１２時間静置した。純度９７％ジアセトキシ体（３−１ａ−１）の一番晶が収率６２％で得られ、ジアセトキシ体を８１％含む一次母液を回収した。一次母液からトルエン溶媒を用いた再結晶により、純度９５％ジアセトキシ体（３−１ａ−１）の二番晶を収率１５％で得た。

[実施例１６] 分割仕込み法
実施例１５と同じ装置を用いて、反応器に２，７−ジアセチル−９−メチルフルオレン（１−１ａ）（１５．９０ｇ；６０．１ｍｍｏｌ）、硫酸水素ナトリウム一水和物（４．１５ｇ；３０．０ｍｍｏｌ）、酢酸（２１．６２ｇ；３６０ｍｍｏｌ）、トルエン（１６０ｍｌ）を加えた。反応器に窒素ガスを１分間当たり１００ｍｌで流し、フラスコ内を窒素ガス置換し、酸素濃度が０．３％以下にした。反応器のジャケットに予め加温していた温水を循環させフラスコ内部の温度を６０℃まで昇温させた。同温度を維持しながら３５重量％の濃度を３０重量％に調整した過酸化水素水（２０．４０ｇ；１８０ｍｍｏｌ）を滴下し、６０℃で１０時間撹拌した。

同温度を維持しながらさらに、３５重量％の濃度を３０重量％に調整した過酸化水素水（１３．６０ｇ；１２０ｍｍｏｌ）、酢酸（１４．４１ｇ；２４０ｍｍｏｌ）を滴下し、１４時間撹拌した。酸素濃度は反応開始とともに徐々に上昇したが最大２％を超えることはなかった。

反応率は９７％、選択率は、ジアセトキシ体（３−１ａ−１）が９０％、モノアセトキシ体（３−１ａ−２）７％、ジヒドロキシ体（３−１ａ−３）０．５％以下、モノヒドロキシ体（３−１ａ−４）０．５％以下であった。反応液を冷却後、実施例１５と同様な処理および精製を行い、再結晶により、純度９７％ジアセトキシ体（３−１ａ−１）の収率７６％で得た。

[実施例１７] 回収過酢酸組成物を使用
実施例６と同じ反応装置を使用した。フラスコに２，７−ジアセチル−９−メチルフルオレン（１−１ａ）（１．５９ｇ；６．０ｍｍｏｌ）、硫酸水素ナトリウム一水和物０．４２ｇ（３．０ｍｍｏｌ）、酢酸３．６０ｇ（６０．０ｍｍｏｌ）およびトルエン１５ｍｌを加え６０℃の恒温槽で加熱した。５０重量％の過酸化水素水２．０５ｇ（３０．０ｍｍｏｌ）を滴下した。その後、６０℃で２４時間反応を行った。トルエン層のガスクロマトグラフィー分析により、反応率は９８％で、選択率はジアセトキシ体（３−１ａ−１）９５％、モノアセトキシ体（３−１ａ−２）３％、ジヒドロキシ体（３−１ａ−３）０．１％、モノヒドロキシ体（３−１ａ−４）０．１％であった。反応終了後、水層部分は分液ロートを用いて抜き出し、３．４６ｇを回収した。回収した水層中の過酢酸および過酸化水素含有量は、滴定は、１Ｍヨウ化カリウム、０．１Ｎチオ硫酸ナトリム標準溶液、硫酸、５重量％モリブデン酸水溶液を用いた滴定法で行い、下記式により算出し各成分の濃度を求めた。
過酢酸重量％＝０．３８×ｆ×Ａ／Ｓ
過酸化水素重量％＝０．１７×ｆ×Ｂ／Ｓ
ｆ：０．１Ｎチオ硫酸ナトリウム標準液のファクター
Ｓ：試料採取量（ｇ）
Ａ：１Ｍヨウ化カリウム溶液を加え、遊離したヨードを０．１Ｎチオ硫酸ナト
リウム標準液の滴定した量（ｍｌ）
Ｂ：硫酸、１Ｍヨウ化カリウム溶液、モリブデンサンアンモニウム溶液、でん
ぷん溶液を加え０．１Ｎチオ硫酸ナトリウム標準液で滴定した量（ｍｌ）

一回目の回収した水層は、過酢酸４．５重量％、過酸化水素２．５重量％含まれていることを確認した。

実施例６と同じ反応装置を使用し、２，７−ジアセチル−９−メチルフルオレン（１−１ａ）（１．５９ｇ；６．０ｍｍｏｌ）、酢酸２．２０ｇ（３６．７ｍｍｏｌ）およびトルエン１５ｍｌを加え６０℃の恒温槽で加熱した。そこに、回収した水層３．２９ｇと、５０重量％の過酸化水素水（１．７４ｇ；２５．０ｍｍｏｌ）を加え、３５時間反応を行った。反応率９６％であり、選択率は、ジアセトキシ体（３−１ａ−１）８６％、モノアセトキシ体（３−１ａ−２）１１％、ジヒドロキシ体（３−１ａ−３）０．１％、モノヒドロキシ体（３−１ａ−４）０．１％であった。

また、同様な操作により、水層４．５０ｇを回収した。回収した水層は、一回目の回収した水層と同様の滴定分析を行い、過酢酸１．５重量％、過酸化水素１．４重量％含まれていることを確認した。

[比較例１] 硫酸を触媒として使用
実施例６と同じ反応装置を用いて、２，７−ジアセチル−９−メチルフルオレン（１−１ａ）（１．０４ｇ；３．９ｍｍｏｌ）、９５％硫酸（０．２０ｇ；１．９ｍｍｏｌ）、酢酸（２．３６ｇ；３９．３ｍｍｏｌ）、トルエン（１０ｍｌ）を加えた。反応フラスコを油浴に浸し、６０℃まで昇温した。同温度を維持しながら３５重量％の濃度を３０％に調整した過酸化水素水（２．２３ｇ；１９．７ｍｍｏｌ）を滴下した。反応液を６０℃の油浴中で３０時間撹拌した。反応液は、時間とともに黒色に変化した。室温まで冷却し、トルエン（１０ｍｌ）を加えた。有機層を分取後、１０％亜硫酸ナトリウム水溶液（５ｍｌ×２）、飽和重曹水（５ｍｌ×２）で洗浄し、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（容量比で、酢酸エチル：ヘプタン＝１：１０→３：７）処理して、ジアセトキシ体（３−１ａ−１）、モノアセトキシ体（３−１ａ−２）をそれぞれ６０％、１０％の単離収率で取得した。

[比較例２] 酢酸ブチルを溶媒として使用
実施例６と同じ反応器を用いて、２，７−ジアセチル−９−メチルフルオレン（１−１ａ）（１．０４ｇ；３．９ｍｍｏｌ）、硫酸水素ナトリウム一水和物（０．２７ｇ；２．０ｍｍｏｌ）、酢酸（２．３６ｇ；３９．３ｍｍｏｌ）、酢酸ブチル（１０ｍｌ）を加えた。反応フラスコを油浴に浸し、６０℃まで昇温した。同温度を維持しながら３５重量％の濃度を３０％に調整した過酸化水素水（２．２３ｇ；１９．７ｍｍｏｌ）を滴下した。反応液を６０℃の油浴中で３０時間撹拌した。反応後処理、精製法は、比較例１と同様に行った。ジアセトキシ体（３−１ａ−１）、モノアセトキシ体（３−１ａ−２）をそれぞれ４７％、２７％の単離収率で取得した。

実施例に示した方法に準じて、２−アセチルフルオレン誘導体（１−１）〜（１−３）、４−アセチルフェニル誘導体（２−１）〜（２−４）から、対応する２−アセトキシフルオレン誘導体（３−１）〜（３−３）、４−アセトキシフェニル誘導体（４−１）〜（４−４）を容易に合成できる。

（式中、Ｒ¹〜Ｒ³およびＲ^4'は前記に同じ。）

本発明によれば、２−アセチルフルオレン誘導体や４−アセトキシフェニル誘導体のアセトキシフェニル化合物を効率よく製造することができる。アセトキシフェニル化合物は、機能性材料、医薬品、電子材料等の合成中間体としての利用が期待される。

Claims (7)

1. 下記（ａ）〜（ｃ）の少なくとも１種に硫酸水素塩を溶解させ、（ａ）〜（ｃ）を混合することによりアセチルフェニル化合物を酸化する工程を含むアセトキシフェニル化合物の製造方法。
   （ａ）アセチルフェニル化合物の芳香族炭化水素溶液
   （ｂ）酢酸または酢酸水溶液
   （ｃ）過酸化水素水
2. 前記工程が、硫酸を用いずに行われる請求項１記載のアセトキシフェニル化合物の製造方法。
3. 混合液中の過酸化水素のモル数とアセチルフェニル化合物のモル数との比が１：１〜５：１であり、混合液中の硫酸水素塩のモル数とアセチルフェニル化合物のモル数との比が１：１〜０．０１：１であることを特徴とする請求項１記載のアセトキシフェニル化合物の製造方法。
4. アセチルフェニル化合物が一般式（１）で示され、アセトキシフェニル化合物が一般式（３）で示される請求項１〜３の何れか一項記載のアセトキシフェニル化合物の製造方法。
   

   

   （式中、Ｒ¹及びＲ²はそれぞれ水素、フッ素、塩素、臭素又は炭素数１〜２０のアルキルであり、Ｒ³は水素、フッ素、塩素、臭素、炭素数１〜２０のアルキル、アセチル又はアセトキシである。）
5. アセチルフェニル化合物が一般式（２）で示され、アセトキシフェニル化合物が一般式（４）で示される請求項１〜３の何れか一項記載のアセトキシフェニル化合物の製造方法。
   

   

   （式中、Ｒ⁴は水素、炭素数１〜２０のアルキル、ハロゲン、−Ｃ≡Ｎ、カルボキシル、アセチル又はアセトキシであり、このアルキル中の少なくとも１つの−ＣＨ₂−は−Ｏ−又は−ＳＯ₂−で置き換えられてもよく、また少なくとも１つの水素はハロゲンで置き換えられてもよく、Ａ¹、Ａ²及びＡ³はそれぞれ独立して１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル又は１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイルであり、また少なくとも１つの水素はハロゲンで置き換えられてもよく、Ｚ¹、Ｚ²及びＺ³はそれぞれ独立して単結合、−（ＣＨ₂）₂−、−（ＣＨ₂）₄−、−ＣＨ₂Ｏ−又は−ＯＣＨ₂−を表し、ｋ、ｌ及びｎはそれぞれ０又は１を表す。ｋ、ｌ及びｎの合計は１以上の整数である。）
6. 芳香族炭化水素がトルエン、キシレン、エチルベンゼン、ベンゼン又は１，２，４−トリメチルベンゼンである、請求項１〜５の何れか一項記載のアセトキシフェニル化合物の製造方法。
7. 請求項１〜６の何れか一項記載のアセトキシフェニル化合物の製造方法により得られた混合物から回収した水相に、酢酸又は酢酸水溶液と過酸化水素水とを加えた後、この水相を酸化剤として再利用してアセチルフェニル化合物を酸化する工程を含むアセトキシフェニル化合物の製造方法。