JP5313849B2 - 光導波路装置及びその製造方法 - Google Patents

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Description

本発明は光導波路装置及びその製造方法に係り、さらに詳しくは、光を伝播する光導波路を備えた光導波路装置及びその製造方法に関する。
近年、光ファイバ通信技術を中心に基幹系の通信回線の整備が着々と進行する中でボトルネックとなりつつあるのが情報端末内の電気的配線である。このような背景から、すべての信号伝達を電気信号によって行う従来の電気回路基板に代わって、電気信号の伝達速度の限界を補うために、高速部分を光信号で伝達するタイプの光電気複合基板(光導波路装置)が提案されている。
表面実装型の発光素子及び受光素子を光導波路に接続する場合は、光導波路の両端に光伝播方向に対して角度:45°で交差して傾斜する光路変換傾斜面を形成し、光路変換傾斜面に接するように光路変換ミラーを構成することにより、光路変換が行われる。
特許文献1には、光導波路の光路変換傾斜面と基板とによって囲まれた閉じた空間(空気など)を光路変換ミラーとして使用することが記載されている。
また、特許文献2には、光導波路の光路変換傾斜面に蒸着などで金属膜を形成することにより、光路変換ミラーとして使用することが記載されている。
特許文献3には、プリント配線板の上に白色の光硬化性熱硬化性樹脂組成物を用いて高反射率のソルダレジスト膜を形成することが記載されている。
特開2002−365457号公報 特開2008−250007号公報 特開2008−134621号公報
空間(空気など)を利用して光反射させる場合(特許文献1)では、光導波路の光路変換傾斜面に接する空間を設ける必要があるため、基板構造が複雑になってコスト上昇を招くおそれがある。
また、光導波路の光路変換傾斜面に金属膜を形成して光反射させる場合(特許文献2)では、真空蒸着やスパッタ法によって金属膜を形成する必要がるので、実装ラインに新たな製造設備を導入する必要があり、コスト的に不利になるおそれがある。
本発明は以上の課題を鑑みて創作されたものであり、構造が簡易で低コストで製造できる光導波路装置及びその製造方法を提供することを目的とする。
上記課題を解決するため、本発明は光導波路装置に係り、配線基板と、前記配線基板の上に接着され、両端に光路変換傾斜面を備えた光導波路と、前記光導波路の前記光路変換傾斜面に接して形成され、光反射性樹脂層又は金属ペースト層から形成された光路変換ミラーとを有し、前記光導波路は、前記光反射性樹脂層又は金属ペースト層によって前記配線基板に接着されており、前記光路変換傾斜面と接する前記光反射性樹脂層又は金属ペースト層が前記光路変換ミラーとして機能し、かつ、前記光反射性樹脂層又は金属ペースト層は、前記光導波路の前記光路変換傾斜面の側方のみに部分的に形成されていることを特徴とする。
本発明の光導波路装置では、光導波路の両端の光路変換傾斜面に光路を変換するための光路変換ミラーが接して設けられており、光路変換ミラーは光反射性樹脂層又は金属ペースト層から形成されている。
光反射性樹脂層を光路変換ミラーとして使用する場合は、光路変換傾斜面の側方のみに部分的に光反射性樹脂層が形成されていてもよいし、あるいは、配線基板の全体に光導波路を被覆する光反射性樹脂層が形成されていてもよい。
また、光反射性樹脂層又は金属ペースト層を光導波路の下側から光路変換傾斜面の側方まで延在させて形成してもよい。この態様の場合は、光反射性樹脂層又は金属ペースト層が光変換ミラーとして機能するばかりではなく、光導波路を配線基板に接着する接着剤としても機能する。
このように、本発明の光導波路装置では、光導波路の光路変換傾斜面に接して設けられる光路変換ミラーMを光反射性樹脂層又は金属ペースト層から形成している。光反射性樹脂層は、一般的な実装ラインに既設されている樹脂を形成するための製造装置(ディスペンサやスクリーン印刷装置)を使用して容易に形成することができる。
また、金属ペースト層は、一般的な実装ラインに既設されている実装用の銀ペーストなどを形成する製造装置(ディスペンサやスクリーン印刷装置)を使用して容易に形成することができる。
従って、金属膜を光路変換ミラーとして使用する場合と違って、真空蒸着装置やスパッタ装置などを特別に導入する必要がないので、製造コストの低減を図ることができる。また、光路変換傾斜面のみに金属膜を形成したり、空間(空気、不活性ガス又は真空など)を設けたりする必要がないので、基板構造が簡易になって工程/工数を削減することができる。
以上説明したように、本発明の光導波路装置は、構造が簡易で低コストで製造することができる。
図1は本発明の第1実施形態の光導波路装置の製造方法を示す断面図(その1)である。 図2は本発明の第1実施形態の光導波路装置の製造方法を示す断面図(その2)である。 図3は本発明の第1実施形態の光導波路装置を示す断面図である。 図4(a)及び(b)は図3の発光素子及び受光素子の近傍を拡大した部分拡大図であり、発光素子から光導波路を介して受光素子に光が伝播する様子を示す図である。 図5(a)〜(c)は本発明の第2実施形態の光導波路装置の製造方法を示す断面図(その1)である。 図6(a)〜(c)は本発明の第2実施形態の光導波路装置の製造方法を示す断面図(その2)である。 図7は本発明の第2実施形態の光導波路装置を示す断面図である。 図8は本発明の第2実施形態の別の光導波路装置を示す断面図である。 図9(a)〜(c)は本発明の第3実施形態の光導波路装置の製造方法を示す断面図である。 図10は本発明の第3実施形態の光導波路装置を示す断面図である。 図11(a)〜(c)は本発明の第4実施形態の光導波路装置の製造方法を示す断面図である。 図12は本発明の第4実施形態の光導波路装置を示す断面図である。
以下、本発明の実施の形態について、添付の図面を参照して説明する。
(第1の実施の形態)
図1〜図3は本発明の第1実施形態の光導波路装置の製造方法を示す断面図である。
第1実施形態の光導波路装置の製造方法では、図1(a)に示すように、まず、配線基板10と、光導波路20とを用意する。配線基板10では、樹脂などからなる絶縁基板12に厚み方向に貫通するスルーホールTHが設けられており、スルーホールTH内に貫通電極14が充填されている。
絶縁基板12の上面側には貫通電極14に接続される上側接続パッドC1が形成されている。絶縁基板12の下面側には貫通電極14に接続される下側接続パッドC2が形成されている。このようにして、絶縁基板12の両面側の上側接続パッドC1及び下側接続パッドC2は貫通電極14を介して相互接続されている。上側接続パッドC1、下側接続パッドC2及び貫通電極14は銅などの金属層から形成される。
上側接続パッドC1及び下側接続パッドC2は配線層に繋がってその一端に配置されていてもよいし、島状に配置されていてもよい。また、配線基板10の内部に内部配線層が形成されていてもよく、配線基板10の配線層の積層数は任意に設定することができる。
さらに、絶縁基板12の下面側には、下側接続パッドC2の上に開口部16aが設けられたソルダレジスト16が形成されている。
光導波路20は、コア部22とそれを囲んで形成されたクラッド部24とにより構成される(図1(a)の部分断面図)。コア部22はその屈折率がクラッド部24の屈折率よりも高くなるように設定されている。コア部22及びクラッド部24の材料としては、フッ素系ポリイミド樹脂、UV硬化型エポキシ樹脂又はシリコーン樹脂などが好適に使用される。
また、光導波路20の両端には、上面端部から内側に向けて傾斜する光路変換傾斜面Sがそれぞれ設けられており、光路変換傾斜面Sは光伝搬方向A(光導波路20の延在方向)と角度:45°で交差して傾斜している。
次いで、図1(b)に示すように、光導波路20の下側のクラッド部24を接着剤18によって配線基板10の上に接着して固定する。接着剤18としてはUV硬化樹脂などが使用される。
続いて、図1(c)に示すように、配線基板10及び光導波路20の上に、感光性を有する液状の光反射性樹脂材をスクリーン印刷などによって形成する。その後に、光反射性樹脂材を150℃程度の温度雰囲気でプレキュア(予備加熱処理)を行うことにより半硬化状態の光反射性樹脂層30を得る。
このとき、光導波路20の光路変換傾斜面Sと光反射性樹脂層30との間に隙間が発生しないように光反射性樹脂層30が形成され、光路変換傾斜面Sの全体に光反射性樹脂層30が接して形成される。
次いで、図2(a)に示すように、フォトリソグラフィに基づいて感光性の光反射性樹脂層30に対して露光・現像を行う。これにより、光反射性樹脂層30に配線基板10の両端側の上側接続パッドC1に到達するビアホールVHが形成される。これと同時に、光導波路20の両端の光路変換傾斜面Sの上の光反射性樹脂層30に光透過用開口部30aが形成されて上側のクラッド部24が露出する。
さらに、光反射性樹脂層30を150℃程度の温度雰囲気で本キュア(加熱処理)を行うことにより硬化させる。光反射性樹脂層30は、酸化チタン(TiO2)などの白色顔料をエポキシなどの樹脂に含侵させた白色樹脂からなり、高い光反射性を有する。例えば、波長:850nmの光の場合は、90%以上の反射率を得ることができる。
これにより、光導波路20の光路変換傾斜面Sに接する光反射性樹脂層30が光路変換ミラーMとして機能する。つまり、本実施形態では、光反射性樹脂層30を光路変換ミラーMとして利用することにより、光導波路20のコア部22を伝搬する光を光路変換傾斜面Sで90°変換させることができる。
次いで、図2(b)に示すように、上側接続パッドC1に接続されためっき給電層(不図示)をめっき給電経路に利用する電解めっきにより、ビアホールVHの底部から上部にかけて銅めっき層を形成する。これにより、ビアホールVH内に上側接続パッドC1に接続される柱状の電極パッドPが充填される。
このとき、光反射性樹脂層30の光透過用開口部30aの下にはめっき給電層が存在しないので、光透過用開口部30aには銅めっきは施されず、そのままの状態となる。上側接続パッドC1に接続されためっき給電層(不図示)は、後に上側接続パッドC1から切断される。
続いて、図2(c)に示すように、発光素子40及び受光素子42を用意する。発光素子40としては、面発光レーザ(VCSEL:Vertical Cavity Surface Emitting Laser)が好適に使用される。また、受光素子42としては、フォトダイオードが好適に使用される。
発光素子40はその下面側に発光部40aと接続端子40bとを備えている。そして、発光素子40の発光部40aを下側に向けた状態で、発光素子40の接続端子40bを配線基板10の一端側の電極パッドPに接続して実装する。このとき、発光素子40の発光部40aが光導波路20の光路変換傾斜面Sの真上に配置される。これにより、発光素子40が光導波路20の一端側の光路変換傾斜面S(コア部22)に光結合される。
また、受光素子42はその下面側に受光部42aと接続端子42bとを備えている。そして、受光素子42の受光部42aを下側に向けた状態で、受光素子42の接続端子42bを配線基板10の他端側の電極パッドPに接続して実装する。
このとき、受光素子42の受光部42aが光導波路20の光路変換傾斜面Sの真上に配置される。これにより、受光素子42が光導波路20の他端側の光路変換傾斜面S(コア部22)に光結合される。
特に図示しないが、発光素子40及び受光素子42の所要の端部にはダミー端子が設けられており、ダミー端子が配線基板10上の光反射性樹脂層30に配置されることで、発光素子40及び受光素子42が傾くことなく実装される。
次いで、図3に示すように、発光素子40の下側の隙間にアンダーフィル樹脂44を充填する。発光素子40と光反射性樹脂層30の光透過用開口部30aの底面との隙間、及び発光素子40と光反射性樹脂層30の上面との隙間にアンダーフィル樹脂44が充填される。
さらに、受光素子42の下側の隙間にアンダーフィル樹脂44を充填する。受光素子42と光反射性樹脂層30の光透過用開口部30aの底面との隙間、及び受光素子42と光反射性樹脂層30の上面との隙間にアンダーフィル樹脂44が充填される。
アンダーフィル樹脂44としては、前述したコア部22又はクラッド部24の樹脂材料と同一樹脂が使用される。
以上により、第1実施形態の光導波路装置1が得られる。
図3に示すように、第1実施形態の光導波路装置1では、前述した構造の配線基板10の上に光導波路20が接着剤18によって接着されて固定されている。光導波路20はコア部22がクラッド部24で囲まれて構成される。光導波路20の両端には、光伝播方向A(図1(a))と角度:45°で交差して傾斜する光路変換傾斜面Sがそれぞれ設けられている。
光導波路20の側方及び上側には光反射性樹脂層30が形成されており、光導波路20が光反射性樹脂層30に埋設されている。そして、光導波路20の両端の光路変換傾斜面Sに接する光反射性樹脂層30が光路変換ミラーMとしてそれぞれ機能する。つまり、光路変換ミラーMは光反射性樹脂層30から形成される。
光反射性樹脂層30には、配線基板10の両端側の上側接続パッドC1にそれぞれ到達するビアホールVHが設けられている。ビアホールVH内には銅めっき層からなる電極パッドPが充填されている。
また、光導波路20の両端の光路変換傾斜面Sの上の光反射性樹脂層30に光透過用開口部30aがそれぞれ設けられている。
配線基板10上の一端側の電極パッドPには、発光素子40の発光部40aが下側を向いた状態で、発光素子40の接続端子40bが接続されて実装されている。発光素子40は、その発光部40aが光導波路20の一端側の光路変換傾斜面Sの真上に配置されて、光路変換傾斜面S(コア部22)に光結合されている。
また、配線基板10上の他端側の電極パッドPには、受光素子42の受光部42aが下側を向いた状態で、受光素子42の接続端子42bが接続されて実装されている。受光素子42は、その受光部42aが光導波路20の他端側の光路変換傾斜面Sの真上に配置されて、光路変換傾斜面S(コア部22)に光結合されている。
さらに、発光素子40及び受光素子42の下側の隙間にアンダーフィル樹脂44が充填されている。
図4(a)及び(b)には、図3の発光素子40及び受光素子42の近傍部の部分拡大図が示されている。図3、図4(a)及び(b)を参照しながら、発光素子40から光導波路20を通して受光素子42に光が伝播される様子を説明する。
図4(a)に示すように、配線基板10に実装された不図示の第1LSIチップ(CPUなど)から出力される電気信号が発光素子40に供給され、発光素子40の発光部40aから下側に光Lが出射される。発光素子40から出射された光Lは、発光素子40の下(光反射性樹脂層30の光透過用開口部30a)に形成されたアンダーフィル樹脂44を透過して光導波路20の一端側の光路変換傾斜面Sに到達する。さらに、光路変換傾斜面Sに到達した光Lは、光路変換傾斜面Sに接する光反射性樹脂層30(光路変換ミラーM)で反射され、光路が90°変換されてコア部22に入射する。
このとき、アンダーフィル樹脂44はコア部22又はクラッド部24と同一樹脂から形成されるので、光導波路20との界面での光反射が極力抑えられる。
次いで、図4(b)に示すように、コア部22に入射した光Lは、コア部22内で全反射を繰り返して伝播し、他端側の光路変換傾斜面Sに到達する。そして、他端側の光路変換傾斜面Sに接する光反射性樹脂層30(光路変換ミラーM)で光Lが反射されて光路が90°変換され、アンダーフィル樹脂44を透過して受光素子42の受光部42aに光Lが入射される。
受光素子42は光信号を電気信号に変換し、配線基板10に実装された不図示の第2LSIチップ(メモリなど)に電気信号が供給される。
以上説明したように、本実施形態の光導波路装置1では、光導波路20の光路変換傾斜面Sに接して設けられる光路変換ミラーMを光反射性樹脂層30から形成している。光反射性樹脂層30は、一般的な実装ラインに既設されている、樹脂(ソルダレジストなど)を形成するためのスクリーン印刷装置を使用して容易に形成することができる。
従って、金属膜を光路変換ミラーとして使用する場合と違って、真空蒸着装置やスパッタ装置などを特別に導入する必要がないので、製造コストの低減を図ることができる。また、光路変換傾斜面のみに金属膜を形成したり、空間(空気、不活性ガス又は真空など)を設けたりする必要がないので、基板構造が簡易になって工程/工数を削減することができる。
しかも、光反射性樹脂層30は十分な光反射特性を有するので、高性能な光導波路装置を構成することができる。
(第2の実施の形態)
図5及び図6は本発明の第2実施形態の光導波路装置の製造方法を示す断面図である。
第2実施形態の特徴は、光反射性樹脂層を光導波路20の光路変換側面Sの側方のみに樹脂層部として部分的に形成することにある。第2実施形態では、第1実施形態と同一工程及び同一要素については同一符号を付してその説明を省略する。
図5(a)に示すように、前述した第1実施形態の図1(b)と同様に、配線基板10の上に接着剤18によって光導波路20を接着して固定する。
次いで、図5(b)の上図に示すように、光導波路20の両端の光路変換側面Sの側方にディスペンサなどによって液状の光反射性樹脂材を部分的に形成し、本キュア(加熱処理)することにより硬化させる。これにより、光導波路20の両端の光路変換傾斜面Sに接する光反射性樹脂層部30xが部分的に形成され、光路変換ミラーMとして機能する。第2実施形態の光反射性樹脂層部30xは、第1実施形態の光反射性樹脂層30と同一の白色樹脂から形成される。
光反射性樹脂層部30xは、一般的な実装ラインに既設されている樹脂のディスペンサによって容易に形成することができる。
あるいは、図5(b)の下図に示すように、光反射性樹脂層部30xの代わりに銀ペーストなどの金属ペースト材から形成される金属ペースト層32を使用してもよい。つまり、光導波路20の両端の光路変換傾斜面Sの側方にディスペンサによって金属ペースト材を部分的に塗布し、焼成することにより金属ペースト層32を形成し、これを光路変換ミラーMとして利用してもよい。
金属ペースト材はエポキシなどの樹脂に金属粒子を分散したものであり、金属ペースト材を焼成することにより金属粒子が相互接触して金属層からなる金属ペースト層32が得られる。銀ペースト層、ニッケルペースト層、パラジウムペースト層などの灰色/白色系の金属ペースト層32は高い光反射率を有し、光路変換ミラーMとして好適に利用することができる。
金属ペースト層32は、一般的な実装ラインに既設されている実装用の銀ペーストなどを塗布するディスペンサを使用して容易に形成することができる。
以下の工程では、図5(b)の上図のように光路変換ミラーMとして光反射性樹脂層部30xを使用する例について説明する。
次いで、図5(c)に示すように、配線基板10及び光導波路20の上に感光性のソルダレジスト26(絶縁樹脂層)を形成する。さらに、図6(a)に示すように、ソルダレジスト26に対して露光・現像を行うことにより、配線基板10の両端側の上側接続パッドC1に到達するビアホールVHを形成する。
このとき同時に、光導波路20の光路変換傾斜面Sの上のソルダレジスト26に光透過用開口部26aが形成される。絶縁樹脂層としてソルダレジスト26を例示するが各種の樹脂層を使用することができる。
次いで、図6(b)に示すように、第1実施形態と同様な方法によって、ソルダレジスト26のビアホールVH内に銅めっき層を形成することにより上側接続パッドC1に接続される柱状の電極パッドPを得る。
続いて、図6(c)に示すように、第1実施形態と同様に、光導波路20の一端側の光路変換傾斜面Sに光結合される発光素子40の接続端子40bを配線基板10の一端側の電極パッドPに接続する。
さらに、第1実施形態と同様に、光導波路20の他端側の光路変換傾斜面Sに光結合される受光素子42の接続端子42bを配線基板10の他端側の電極パッドPに接続する。
その後に、図7に示すように、第1実施形態と同様に、発光素子40及び受光素子42の下側の隙間にアンダーフィル樹脂44を充填する。アンダーフィル樹脂44は、コア部22又はクラッド部24の樹脂材料と同一樹脂から形成される。
以上により、第2実施形態の光導波路装置2が得られる。
図7に示すように、第2実施形態の光導波路装置2では、光導波路20の光路変換傾斜面Sの側方のみに部分的に光反射性樹脂層部30xが光路変換傾斜面Sに接して形成されている。さらに、配線基板10及び光導波路20の上にソルダレジスト26(絶縁樹脂層)が形成されている。
ソルダレジスト26には配線基板10の両端側の上側接続パッドC1に到達するビアホールVHがそれぞれ設けられている。ビアホールVHには電極パッドPが充填されている。また、光導波路20の両端の光路変換傾斜面Sの上のソルダレジスト26に光透過用開口部26aがそれぞれ設けられている。
さらに、光導波路20の一端側の光路変換傾斜面Sに光結合される発光素子40の接続端子40bが配線基板10の一端側の電極パッドPに接続されて実装されている。また、光導波路20の他端側の光路変換傾斜面Sに光結合される受光素子42の接続端子42bが配線基板10の他端側の電極パッドPに接続されて実装されている。発光素子40及び受光素子42の下側の隙間にはアンダーフィル樹脂44が充填されている。
図8には、前述した図5(b)の下図のように光路変換ミラーMとして金属ペースト層32を使用した別の光導波路装置2aが示されている。
図8に示すように、光導波路装置2aでは、図7の光導波路装置2において光反射性樹脂層部30xの代わりに金属ペースト層32が形成されている。光導波路20の両端の光路変換傾斜面Sの側方のみに部分的に金属ペースト層32が光路変換傾斜面Sに接して形成されている。図8のその他の要素は図7の光導波路装置2と同一である。
第2実施形態の光導波路装置2,2aは、第1実施形態の光導波路装置1と同様な効果を奏する。これに加えて、第2実施形態では、光導波路20の両端の光路変換傾斜面Sの側方のみに光反射性樹脂層部30x又は金属ペースト層32を部分的に形成して光路変換ミラーMを構成している。
これにより、光反射性樹脂が高価な場合であっても、他の部分に比較的安価なソルダレジスト26を使用できるので、配線基板10の全体にわたって光反射性樹脂層を形成する場合より低コスト化を図ることができる。また、金属ペースト層32を使用する場合も、光路変換ミラーMが配置される部分のみに金属ペースト層32を形成すればよいので、低コスト化を図ることができる。
(第3の実施の形態)
図9及び図10は本発明の第3実施形態の光導波路装置の製造方法を示す断面図である。第3実施形態の特徴は、光反射性樹脂層を光路変換ミラーとして利用するばかりではなく、光導波路を配線基板に接着する接着剤として兼用することにある。
第3実施形態では、第1実施形態と同一工程及び同一要素には同一符号を付してその説明を省略する。
図9(a)に示すように、第1実施形態の図1(a)と同様に、光導波路20が接着される配線基板10を用意する。そして、配線基板10の光導波路20の全体に対応する領域に液状の光反射性樹脂材30yをスクリーン印刷などによって形成する。さらに、光反射性樹脂材30yをプレキュアすることにより半硬化状態とする。
続いて、図9(b)に示すように、光導波路20の両端の光路変換傾斜面Sに半硬化状態の光反射性樹脂材30yが接するように、光導波路20を光反射性樹脂材30yに押し込む。さらに、半硬化状態の光反射性樹脂材30yを本キュアして硬化させることにより光反射性樹脂層30を得る。
このとき、光導波路20の下側の光反射性樹脂層30は、硬化する際に光導波路20を配線基板10に接着させる接着剤として機能する。そして、光導波路20の両端の光路変換傾斜面Sに接する光反射性樹脂層30が光路変換ミラーMとしてそれぞれ機能する。
第3実施形態においても、一般的な実装ラインに既設されている樹脂のスクリーン印刷装置などによって容易に光反射性樹脂層30を形成することができる。
次いで、図9(c)に示すように、第2実施形態と同様な方法により、配線基板10の両端側の上側接続パッドC1に到達するビアボールVHと、光路変換傾斜面Sの上に配置される光透過用開口部26aとが設けられたソルダレジスト26(絶縁樹脂層)を形成する。さらに、第1実施形態と同様な方法により、ソルダレジスト26のビアホールVH内に柱状の電極パッドPを形成する。
その後に、図10に示すように、第1実施形態と同様に、光導波路20の一端側の光路変換傾斜面Sに光結合される発光素子40の接続端子40bを配線基板10の一端側の電極パッドPに接続する。また、光導波路20の他端側の光路変換傾斜面Sに光結合される受光素子42の接続端子42bを配線基板10の他端側の電極パッドPに接続する。
さらに、発光素子40及び受光素子42の下側の隙間にアンダーフィル樹脂44が充填される。
以上により、第3実施形態の光導波路装置3が得られる。
図10に示すように、第3実施形態の光導波路装置3では、接着剤として機能する光反射性樹脂層30によって配線基板10の上に光導波路20が接着されている。光反射性樹脂層30は光導波路20の下側から両端の光路変換傾斜面Sの側方まで延在して形成されている。光導波路20の両端に形成された光反射性樹脂層30は光導波路20の光路変換傾斜面Sに接しており、光路変換ミラーMとしてそれぞれ機能する。
図10の他の構成は、第2実施形態の光導波路装置2(図7)と同一である。
第3実施形態の光導波路装置3は、第1、第2実施形態の光導波路装置1,2と同様な効果を奏する。また、第3実施形態では、光導波路20を配線基板10に接着するための接着剤18を使用せずに、光反射性樹脂層30を接着剤として兼用するので、第1、第2実施形態より工程が簡易となり低コスト化を図ることができる。
(第4の実施の形態)
図11及び図12は本発明の第4実施形態の光導波路装置の製造方法を示す断面図である。第4実施形態の特徴は、金属ペースト層を光路変換ミラーとして利用するばかりではなく、光導波路を配線基板に接着する接着剤として兼用することにある。第4実施形態では、第1実施形態と同一工程及び同一要素には同一符号を付してその説明を省略する。
図11(a)に示すように、第1実施形態の図1(b)と同様に、光導波路20が接着される配線基板10を用意する。そして、配線基板10の光導波路20の全体に対応する領域に銀ペーストなどの金属ペースト材32aをスクリーン印刷などによって形成する。
続いて、図11(b)に示すように、光導波路20の光路変換傾斜面Sに金属ペースト材32aが接するように、光導波路20を金属ペースト材32aに押し込む。さらに、金属ペースト材32aを焼成して硬化させることにより金属ペースト層32を得る。
このとき、光導波路20の下側の金属ペースト材32aは、硬化する際に光導波路20を配線基板10に接着させる接着剤として機能する。そして、光導波路20の両側の光路変換傾斜面Sに接する金属ペースト層32が光路変換ミラーMとしてそれぞれ機能する。
第4実施形態においても、一般的な実装ラインに既設されている、銀ペーストなどを形成するためのスクリーン印刷装置などで金属ペースト層32を容易に形成することができる。
次いで、図11(c)に示すように、第2実施形態と同様な方法により、配線基板10の上側接続パッドC1に到達するビアホールVHと、光路変換傾斜面Sの上に光透過用開口部26aが設けられたソルダレジスト26(絶縁樹脂層)を形成する。
続いて、第1実施形態と同様な方法により、ソルダレジスト26のビアホールVH内に柱状の電極パッドPを形成する。
その後に、図12に示すように、第1実施形態と同様に、光導波路20の一端側の光路変換傾斜面Sに光結合される発光素子40の接続端子40bを配線基板10の一端側の電極パッドPに接続する。また、光導波路20の他端側の光路変換傾斜面Sに光結合される受光素子42の接続端子42bを配線基板10の他端側の電極パッドPに接続する。
さらに、発光素子40及び受光素子42の下側にアンダーフィル樹脂44が充填される。
以上により、第4実施形態の光導波路装置4が得られる。
図12に示すように、第4実施形態の光導波路装置4では、接着剤として機能する金属ペースト層32によって配線基板10の上に光導波路20が接着されている。金属ペースト層32は光導波路20の下側から両端の光路変換傾斜面Sの側方まで延在して形成されている。そして、光導波路20の光路変換傾斜面Sに接する金属ペースト層32が光路変換ミラーMとして機能する。
図12のその他の要素は第2実施形態の光導波路装置2(図7)と同一である。
第4実施形態の光導波路装置3は、第1、第2実施形態の光導波路装置1,2と同様な効果を奏する。また、第4実施形態では、光導波路20を配線基板10に接着するための接着剤18を使用せずに、金属ペースト層32を接着剤として兼用するので、第2実施形態の光導波路装置2a(図8)より工程が簡易となり低コスト化を図ることができる。
1,2,2a,3,4…光導波路装置、10…配線基板、12…絶縁基板、14…貫通電極、16,26…ソルダレジスト、20…光導波路、22…コア部、24…クラッド部、26a,30a…光透過用開口部、30…光反射性樹脂層、30a…光反射性樹脂材、30x…光反射性樹脂層部、32a…金属ペースト材、32…金属ペースト層、40…発光素子、40a…発光部、40b,42b…接続端子、42…受光素子、42a…受光部、TH…スルーホール、C1…上側接続パッド、C2…下側接続パッド、M…光路変換ミラー、P…電極パッド、S…光路変換傾斜面、VH…ビアホール。

Claims (6)

  1. 配線基板と、
    前記配線基板の上に接着され、両端に光路変換傾斜面を備えた光導波路と、
    前記光導波路の前記光路変換傾斜面に接して形成され、光反射性樹脂層又は金属ペースト層から形成された光路変換ミラーとを有し、
    前記光導波路は、前記光反射性樹脂層又は金属ペースト層によって前記配線基板に接着されており、前記光路変換傾斜面と接する前記光反射性樹脂層又は金属ペースト層が前記光路変換ミラーとして機能し、かつ、
    前記光反射性樹脂層又は金属ペースト層は、前記光導波路の前記光路変換傾斜面の側方のみに部分的に形成されていることを特徴とする光導波路装置。
  2. 前記配線基板及び前記光導波路の上に形成され、前記配線基板の両端側の接続パッドに到達するビアボールと、前記光路変換傾斜面の上に配置された光透過用開口部とが設けられた絶縁樹脂層と、
    前記ビアホールに充填された電極パッドと、
    前記光導波路の一端側の前記光路変換傾斜面に光結合され、前記配線基板の一端側の前記電極パッドに接続された発光素子と、
    前記光導波路の他端側の前記光路変換傾斜面に光結合され、前記配線基板の他端側の前記電極パッドに接続された受光素子とをさらに有することを特徴とする請求項1に記載の光導波路装置。
  3. 前記光反射性樹脂層は白色樹脂からなることを特徴とする請求項1又は2に記載の光導波路装置。
  4. 配線基板の上に、両端に光路変換傾斜面を備える光導波路を接着する工程と、
    前記光導波路の前記光路変換傾斜面に接するように、光反射性樹脂層又は金属ペースト層を、前記光導波路の前記光路変換傾斜面の側方のみに部分的に形成する工程と、
    前記光反射性樹脂材又は金属ペースト材を硬化させることにより、前記光導波路の前記光路変換傾斜面に接する光路変換ミラーを得ると共に、前記光導波路を前記配線基板に接着する工程とを有し、
    前記光路変換傾斜面と接する前記光反射性樹脂層又は金属ペースト層が前記光路変換ミラーとして機能することを特徴とする光導波路装置の製造方法。
  5. 前記光路変換ミラーを得る工程の後に、
    前記配線基板及び前記光導波路の上に、前記配線基板の両端側の接続パッドに到達するビアボールと、前記光路変換傾斜面上に配置された光透過用開口部とが設けられた絶縁樹脂層を形成する工程と、
    前記ビアホール内に電解めっきにより電極パッドを充填する工程と、
    前記光導波路の一端側の前記光路変換傾斜面に光結合される発光素子を前記配線基板の一端側の前記電極パッドに接続すると共に、前記光導波路の他端側の前記光路変換傾斜面に光結合される受光素子を前記配線基板の他端側の前記電極パッドに接続する工程とをさらに有することを特徴とする請求項4に記載の光導波路装置の製造方法。
  6. 前記光反射性樹脂層は白色樹脂からなることを特徴とする請求項4又は5に記載の光導波路装置の製造方法。
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