JP5296405B2 - 光学シート、光学シートの製造方法、成形体ならびに成形体の製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、導光板等に用いられる光学シート及び光学シートの製造方法、ならびに光学シートの表面に凹凸を形成した成形体及び同成形体の製造方法に関する。さらに、詳しくは、特定の熱可塑性樹脂を特定の条件下で押出成形し、シートの固体構造における高次構造を制御することにより得られる透明性、導光性に優れた光学シート、同光学シートの製造方法、成形体ならびに成形体の製造方法に関する。

近年、携帯電話、携帯音楽プレイヤー、ノートパソコンなどモバイル電子機器の普及に伴い、これら製品機器の薄型化・画面拡大化が図られてきている。ＬＥＤ光源の薄型化技術の発展と共にこれに搭載される液晶ディスプレイ用バックライトもまた薄型化・画面拡大化の検討が活発に行われている。バックライトを構成する部材の中でも導光板が製品サイズを支配することから、導光板の薄型化と画面拡大化の検討が重視されてきている。
具体的には、既に厚さ０．８ｍｍであったものが０．６〜０．４ｍｍに薄肉化され、最近では０．３ｍｍ以下である０．２ｍｍへとさらなる薄肉化が進められている。これら薄肉化はＬＥＤ光源の薄肉化に伴うものである。一方、画面サイズは１．８〜２．８インチ程度であったものが、近々３〜３．５インチへと拡大しつつある。さらには、ノートパソコンにおいてもＣＣＦＬ光源からのＬＥＤ光源化が進み、１２インチクラスの画面サイズについても厚さ０．４〜０．６ｍｍの導光板採用への検討が試みられている。
モバイル機器用のバックライトに用いられ導光板はポリカーボネイト樹脂製のものが主流である。これらは主として射出成形法によりポリカーボネイト樹脂を板状に成形すると同時にその表面にバックライトを均一発光させる目的で光学設計された微細な凹凸が形成される。
ここで用いられるポリカーボネイト樹脂の中でも、とりわけ、射出成形用導光板用途向けに導光性の改良がなされた樹脂組成物が多用されている（特許文献１、２）。しかしながら、これらの樹脂組成物は射出成形法においては導光板の肉厚、画面サイズによって限定される上に、射出成形時の剪断配向により複屈折（リタデーション）が生じ、発光時に色ズレが生じやすいという問題がある。
また、該樹脂組成物については、例え射出成形法を押出成形法に換えて、シート成形を行ったとしても、押出成形時にシートが白濁し、取り分け、肉厚が２ｍｍを越えると白濁が顕著となり、輝度特性が低下するという問題点があった。押出成形法による該樹脂組成物での導光板用の原反シートを得ることは困難であった。

翻って、該樹脂組成物の射出成形時の流動性を改善したとしても（特許文献３）、射出成形法では２．６インチクラス以上、厚さ０．２５ｍｍ以下の導光板は成形不可能な限界領域であり、導光板としての輝度性能を発現する製品を得ることは極めて困難であった。
また、ノートパソコン用のような大画面のものについては、従来ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）製の導光板が使われてきたが、薄肉化に伴い、衝撃強度が不足する上に、反り（寸法安定性の不足）によりモアレ縞の発生や光源からの位置ずれによる輝度低下などの問題があった。
こうした背景から、これらの薄肉導光板にポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）製シートを適用する試みもなされているが、ＰＥＴシートは複屈折（リタデーション）が極端に大きく、導光板にしたときに色ずれが生じやすいという欠点がある。
また、ポリカーボネイト樹脂１００重量部に対し、リン系および/またはフェノール系酸化防止剤０．０２〜２重量部を配合してなる導光板用ポリカーボネイト樹脂組成物が開示（特許文献４）されているが、青色系染料等を用いていることと、成形温度が高いため全光線透過率が９０％台止まりであり、さらなる改良が望まれている。

特開平１０-７３７２５号（特許３３３０４９８号）公報 特開２００２−６０６０９号（特許３５１６９０８号）公報 特開２００５−２４７９４７号公報 特開２００８−２４９１１号公報

本発明の目的は、薄肉・大画面化が図られた導光板等の成形体への加工が容易で、光線透過率の高い光学シートおよびそれらの製造方法を提供することである。

本発明者らは、前記目的を達成するために鋭意研究を重ねた結果、特定の分子量の芳香族ポリカーボネイトと酸化防止剤を用い、かつ、特定の温度で成形することにより、上記課題を達成し得ることを見出した。本発明は、かかる知見に基づいて完成したものである。
すなわち、本発明は、
（1）（Ａ）粘度平均分子量２２０００以下の芳香族ポリカーボネイト１００質量部および（Ｂ）酸化防止剤０．０１〜1質量部を含有し、青色系色素または顔料を含まない芳香族ポリカーボネイト樹脂組成物が押出機から押し出された後、ガラス転移温度以下で冷却された光学シートであって、該光学シートの厚み０．１〜１ｍｍにおける全光線透過率が９１％以上であることを特徴とする光学シート、
（2）複屈折（位相差；波長５５０ｎｍにおけるリタデーション値）が１５０ｎｍ以下で、且つシート面内の任意箇所でのリタデーション値の標準偏差値が１０以下である上記（1）に記載の光学シート、
（3）前記光学シートに用いられる芳香族ポリカーボネイト樹脂組成物から調製された試料板厚みが０．４ｍｍで測定した可視−ＵＶ分光スペクトルにおいて、波長３００ｎｍにおける分光光線透過率７０％以上または芳香族ポリカーボネイトを良溶媒に溶解して測定した分光光線透過率（溶液法による測定：溶液セルの導光長が５ｃｍ、試料溶液濃度１２g／ｄｌ、溶媒ジクロロメタン、波長４５０ｎｍ）が９４％以上である上記（1）または（2）に記載の光学シート、
（4）前記（Ａ）成分１００質量部に対して（Ｃ）熱可塑性ポリアクリル系樹脂０．０１〜１質量部を含む上記（1）〜（3）のいずれかに記載の光学シート、
（5）前記（Ｂ）成分の酸化防止剤がリン系酸化防止剤及び/又はフェノール系酸化防止剤である上記（1）〜（4）のいずれかに記載の光学シート、
（6）前記芳香族ポリカーボネイト樹脂組成物をシート状に溶融押し出しする成形工程、溶融押し出しされたシート状成形体をガラス転移温度以下に急冷する冷却工程、および冷却されたシート状成形体を、５０℃以上、前記芳香族ポリカーボネイト樹脂組成物のガラス転移温度以下で熱処理する熱処理工程からなることを特徴とする上記（1）〜（5）のいずれかに記載の光学シートの製造方法、
（7）上記（1）〜（5）のいずれかに記載の光学シートの表面に凹凸パターンを形成させてなる成形体、
（8）導光板、拡散シート、再帰性反射板、プリズムシートおよびフレネルレンズシートのいずれかである上記（7）に記載の成形体、
（9）上記（1）〜（5）のいずれかに記載の光学シートの表面に凹凸パターンを形成させることを特徴とする成形体の製造方法を提供するものである。

本発明により、射出成形法では不可能な厚みと面積の導光板等の成形体の製造に適した、転写性および高い透明性、低い複屈折性など光学特性（導光性、色調）に優れる光学シートおよび導光板等が提供される。

本発明の光学シートは、（Ａ）粘度平均分子量２２０００以下の芳香族ポリカーボネイトに（Ｂ）酸化防止剤を含有し、青色系色素または顔料を含まない芳香族ポリカーボネイト樹脂組成物が押出機から押し出された後、ガラス転移温度以下で冷却された光学シートであって、該光学シートの厚み０．１〜１ｍｍにおける全光線透過率は９１％以上である。
複屈折（位相差；波長５５０ｎｍにおけるリタデーション値）は１５０ｎｍ以下で、且つシート面内の任意箇所で測定したリタデーション値の標準偏差値は１０以下であることが好ましい。
本発明の光学シートは、青色系色素または顔料を含んでいないので、導光板等に加工した場合、輝度特性の低下がない。ちなみに、青色系色素または顔料を含有させた場合、その配合量にもよるが、輝度数が１０％のオーダーで低下する。
また、（Ａ）芳香族ポリカーボネイトをベース樹脂に、（Ｂ）酸化防止剤を含有する芳香族ポリカーボネイト系樹脂組成物からなる光学シートとしたので、シートに成形加工する際の黄変の低減が図られ、このシートを導光板等に加工した際の輝度の低下が図られる。

（Ａ）成分である芳香族ポリカーボネイトとしては、光学透明性、機械強度、耐熱性の観点から、ビスフェノールＡタイプのポリカーボネイトが好ましい。
芳香族ポリカーボネイトは、通常、二価フェノールとホスゲンまたは炭酸エステル化合物等のポリカーボネイト前駆体とを反応させることにより、製造することが出来る。例えば、塩化メチレンなどの溶媒中において、公知の酸受容体や分子量調節剤の存在下、更に、必要により分岐剤を添加し、二価フェノールとホスゲンのようなカーボネイト前駆体との反応により、あるいは二価フェノールとジフェニールカーボネイトのようなカーボネイト前駆体とのエステル交換反応などによって製造される。
二価フェノールとしては、様々なものがあるが、特に、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン〔通称：ビスフェノールＡ〕が好適である。ビスフェノールＡ以外のビスフェノールとしては、例えば、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン；１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン；２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン；２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）オクタン；２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フェニルメタン；２，２−ビス（４−ヒドロキシ−１−メチルフェニル）プロパン；ビス（４−ヒドロキシフェニル）ナフチルメタン；１，１−ビス（４−ヒドロキシ−ｔ−ブチルフェニル）プロパン；２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−ブロモフェニル）プロパン；２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−テトラメチルフェニル）プロパン；２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−クロロフェニル）プロパン；２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−テトラクロロフェニル）プロパン；２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−テトラブロモフェニル）プロパン等のビス（ヒドロキシアリール）アルカン類、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン；１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン；１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，５，５−トリメチルシクロヘキサン等のビス（ヒドロキシアリール）シクロアルカン類、４，４'−ジヒドロキシフェニルエーテル；４，４'−ジヒドロキシ−３，３'−ジメチルフェニルエーテル等のジヒドロキシアリールエーテル類、４，４'−ジヒドロキシジフェニルスルフィド；４，４'−ジヒドロキシ−３，３'−ジメチルジフェニルスルフィド等のジヒドロキシジアリールスルフィド類、４，４'−ジヒドロキシジフェニルスルホキシド；４，４'−ジヒドロキシ−３，３'−ジメチルジフェニルスルホキシド等のジヒドロキシジアリールスルホキシド類、４，４'−ジヒドロキシジフェニルスルホン；４，４'−ジヒドロキシ−３，３'−ジメチルジフェニルスルホン等のジヒドロキシジアリールスルホン類、４，４'−ジヒロキシジフェニルなどのジヒドロキシジフェニル類などが挙げられる。これらの二価フェノールは、それぞれ単独で用いてもよいし、２種以上を混合して用いてもよい。

また、炭酸エステル化合物としては、ジフェニールカーボネイト等のジアリールカーボネイトやジメチルカーボネイト、ジエチルカーボ等のジアルキルカーボネイト等が挙げられる。そして分子量調整剤としては通常、ポリカーボネイトの重合に用いられるものでよく、各種のものを用いることができる。具体的には、一価フェノールとして、例えば、フェノール，ｏ−ｎ−ブチルフェノール，ｍ−ｎ−ブチルフェノール，ｐ−ｎ−ブチルフェノール，ｏ−イソブチルフェノール，ｍ−イソブチルフェノール，ｐ−イソブチルフェノール，ｏ−ｔ−ブチルフェノール，ｍ−ｔ−ブチルフェノール，ｐ−ｔ−ブチルフェノール，ｏ−ｎ−ペンチルフェノール，ｍ−ｎ−ペンチルフェノール，ｐ−ｎ−ペンチルフェノール，ｏ−ｎ−ヘキシルフェノール，ｍ−ｎ−ヘキシルフェノール，ｐ−ｎ−ヘキシルフェノール，ｐ−ｔ−オクチルフェノール，ｏ−シクロヘキシルフェノール，ｍ−シクロヘキシルフェノール，ｐ−シクロヘキシルフェノール，ｏ−フェニルフェノール，ｍ−フェニルフェノール，ｐ−フェニルフェノール，ｏ−ｎ−ノニルフェノール，ｍ−ノニルフェノール，ｐ−ｎ−ノニルフェノール，ｏ−クミルフェノール，ｍ−クミルフェノール，ｐ−クミルフェノール，ｏ−ナフチルフェノール，ｍ−ナフチルフェノール，ｐ−ナフチルフェノール；２，５−ジ−ｔ−ブチルフェノール；２，４−ジ−ｔ−ブチルフェノール；３，５−ジ−ｔ−ブチルフェノール；２，５−ジクミルフェノール；３，５−ジクミルフェノール；ｐ−クレゾール，ブロモフェノール，トリブロモフェノールなどが挙げられる。これらの一価フェノールのなかでは、ｐ−ｔ−ブチルフェノール，ｐ−クミルフェノール，ｐ−ｔ−オクチルフェノール、フェノールなどが好ましく用いられる。

その他、分岐剤として、例えば、１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタン；α，α'，α"−トリス（４−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリイソプロピルベンゼン；１−〔α−メチル−α−（４'−ヒドロキシフェニル）エチル〕−４−〔α'，α'−ビス（４"−ヒドロキシフェニル）エチル〕ベンゼン；フロログリシン，トリメリト酸，イサチンビス（ｏ−クレゾール）等の官能基を３つ以上有する化合物を用いることもできる。

本発明において用いられる（Ａ）成分である芳香族ポリカーボネイトは、粘度平均分子量が２２０００以下であることが必要であり、好ましくは１２，０００〜２０，０００である。１２，０００未満であると、機械的強度に劣り、２２，０００を超えると全光線透過率が９１％未満となり光学シートとして好ましくない。複屈折（位相差；波長５５０ｎｍにおけるリタデーション値）は１５０ｎｍ以下であり、好ましくは、１３０ｎｍ以下であり、且つシート面内の任意箇所でサンプリングして測定したリタデーション値の標準偏差値が１０以下であることが好ましい。また、（Ａ）成分である芳香族ポリカーボネイトのガラス転移温度は１４１〜１４９℃程度である。芳香族ポリカーボネイトが押出機から押し出された後、このようなガラス転移温度以下で冷却されることにより、複屈折が１５０ｎｍ以下となり、その標準偏差値を１０以下とすることができる。
標準偏差値の下限は低ければ低いほど好ましいが、光学シートに要求される光学的等方性および経済性等の観点から、実用的には１５程度で十分である。
本発明において、任意箇所というのは、１００ｃｍ×１００ｃｍの光学シートのサンプルより、各測定箇所が６０ｃｍ以上離れた２箇所の４ｃｍ×４ｃｍの部分の１ｃｍピッチの３ｃｍ×３ｃｍの格子上９箇所について合計１８点を測定するものとする。

（Ｂ）成分である酸化防止剤としては、リン系、フェノール系、ペンタエリスリトール系のものが挙げられる。
中でも、リン系、より具体的には亜リン酸エステル、リン酸エステルなどのリン系酸化防止安定剤が好ましく用いられる。亜リン酸エステルとしては、たとえば、トリフェニルホスファイト、トリスノニルフェニルホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリノリルホスアァイト、トリデシルホスファイト、トリオクチルホスファイト、トリオクタデシルホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、トリシクロヘキシルホスファイト、モノブチルジフエニルホスファイト、モノオクチルジフエニルホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールホスファイト、ビス（２．６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールホスファイト、２，２−メチレンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）オクチルホスファイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４，４−ジフエニレンホスフォナイトなどの亜リン酸のトリエステル、ジエステル、モノエステルなどが挙げられる。

リン酸エステルとしては、トリメチルホスフェート、トリエチルホスフェート、トリブチルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、トリス（ノニルフェニル）ホスフェート、２−エチルフェニルジフェニルホスフェートなどが挙げられる。これらリン系酸化防止剤は単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。

これらのリン系酸化防止剤の中でも、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールホスファイト、ビス（２．６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイトが好ましく、ペンタエリスリトール系、中でもビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールホスファイトが特に好ましい。上記リン系酸化防止剤は、単独でまたは２種以上を組合せて使用することができる。

リン系酸化防止剤は、市販品をそのまま使用することができ、例えば、旭電化工業（株）製品〔商品名：アデカスタブ２１１２〕、クラリアントジャパン社の製品〔サンドスタブＰ−ＥＰＱ〕、住友化学社の製品〔スミライザーＰ−１６８〕、チバガイギー社製品〔トリス(2,4-ジ-tert-ブチルフェニル)ホスファイト、商品名：イルガホス１６８）、旭電化（株）の製品〔商品名：アデガスタブＰＥＰ３６等が挙げられる。

フェノール系の酸化防止剤としては、α−トコフェロール、ブチルヒドロキシトルエン、シナピルアルコール、ビタミンＥ、ｎ−オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネイト、２−ｔｅｒｔ−ブチル−６−（３'−ｔｅｒｔ−ブチル−５'−メチル−２'−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチル）フェノール、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネイトジエチルエステル、２，２'−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２'−メチレンビス（４−エチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、４，４'−メチレンビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２'−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２'−ジメチレン−ビス（６−α−メチル−ベンジル−ｐ−クレゾール）２，２'−エチリデン−ビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２'−ブチリデン−ビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、４，４'−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、トリエチレングリコール−Ｎ−ビス−３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオネイト、１，６−へキサンジオールビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネイト］、ビス［２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチル６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）フェニル］テレフタレート、３，９−ビス｛２−［３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ］−１，１，−ジメチルエチル｝−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカン、４，４'−チオビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−ｍ−クレゾール）、４，４'−チオビス（３−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２'−チオビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）スルフィド、４，４'−ジ−チオビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、４，４'−トリ−チオビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２−チオジエチレンビス−［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネイト］、２，４−ビス（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３'，５'−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、Ｎ，Ｎ'−ヘキサメチレンビス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナミド）、Ｎ，Ｎ'−ビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニル］ヒドラジン、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ブタン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）イソシアヌレート、トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−ｔｅｒｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス２［３（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］エチルイソシアヌレート、およびテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシメチル］メタンなどが例示される。これらはいずれも入手容易である。中でもｎ−オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネイト、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、テトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシメチル］メタンが好適であり、特にｎ−オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネイトが好適である。上記ヒンダードフェノール系酸化防止剤は、単独でまたは２種以上を組合せて使用することができる。
フェノール系の酸化防止剤は市販品をそのまま使用することができ、例えば、旭電化工業社製品〔商品名：アデカスタブＡＯ−８０〕、同社製品〔商品名：アデカスタブＡＯ−３０〕、チバスペシャリティーケミカルズ（株）製品〔商品名：イルガノックス１０１０、同１０７６〕等が挙げられる。

（Ｂ）成分である酸化防止剤は、前記リン系酸化防止剤を１種以上用いても良いし、フェノール系酸化防止剤を１種以上用いても良く、リン系酸化防止剤を１種以上とフェノール系酸化防止剤を１種以上とを組み合わせて用いても良い。
その添加量は（Ａ）成分である芳香族ポリカーボネイト１００質量部に対して、０．０１〜１質量部の範囲、好ましくは、０．０５〜０．３質量部の範囲である。このような範囲とすることにより、光学シートとしての好ましい特性が得られる。

本発明の光学シートは、その厚みが０．１〜１ｍｍにおける全光線透過率が９１％以上である。押出機から押し出された後、前記のガラス転移温度以下で冷却することにより、全光線透過率を９１％以上とすることができる。好ましくは、９１．５〜９２％である。
９１％以上とすることにより、輝度が低下するのを防止する。９２％を超えるものは、芳香族ポリカーボネートの分子骨格由来の吸収のため、工業的な製造は現時点では困難である。

一般に、射出成形品は射出成形時の剪断による分子配向したまま金型内で冷却され、その分子配向が凍結されるため残留応力歪が大きくなる傾向があり、金型のゲート付近と反ゲート末端では、残留応力歪の度合いが不均一となる。通常、ゲート周辺部の残留応力歪が大きくなるため、レターデーション値はより大きな計測値を示す傾向にある。
一方、押出成形によるシートは、押出成形時の条件、材料の粘度（粘度平均分子量に依存する）にもよるが、レターデーション値を低くすることが可能であり、レターデーションのシート製品内の分布も均一化が容易である。このため、射出成形による導光板よりもより表示品位の高い導光板を得ることができる。レターデーション値を１５０ｎｍ以下とし、且つシート面内の任意箇所でサンプリングして測定したリタデーション値の標準偏差値を１０以下とすることにより、光学シートを加工した導光板を用いたバックライトを液晶パネルに搭載して表示装置とした場合の表示品位が低下するのが防止される。レターデーション値は好ましくは、１００ｎｍ以下、さらに好ましくは５０ｎｍ以下である。

本発明の光学シートは、厚み０．４ｍｍで測定した可視−ＵＶ分光スペクトルにおいて、波長３００ｎｍにおける分光光線透過率７０％以上または芳香族ポリカーボネイトを良溶媒に溶解して測定した分光光線透過率（溶液法による測定：溶液セルの導光長が５ｃｍ、試料溶液濃度１２g/ｄｌ、溶媒ジクロロメタン、波長４５０ｎｍ）は９４％以上となる芳香族ポリカーボネイト樹脂をポリカーボネイト樹脂組成物の（Ａ）成分として用いることが好ましい。
通常、光学シートを用いて成形した導光板においては、端面から可視光領域の波長４００〜７００ｎｍの光線が入光し、端面方向に導波、伝播させ、厚み方向（面方向）に光の方向性を制御することで面発光させる。この端面方向に入射させた光を反対側の端面から出射させ、光の分光特性を測定することにより、導光板の光の伝播に適合した評価をすることができる。
しかしながら、このような測定において、１ｍｍ以下の薄い成形片での測定は特別な測定装置を用意する必要があり、現実的には困難である。そこで、本発明では測定評価が容易な厚み方向（面方向）の分光特性によりシートの特性評価を行った。一般にシートの厚みが１ｍｍ以下と薄くなると、厚み方向に可視光を透過させた分光光線透過率の計測では、シート基材固有の分光特性差の検出が困難となる。しかしながら、厚み方向の分光特性計測であっても、紫外領域の３８０ｎｍ以下の波長に着目すれば、この分光特性差の評価が可能となる。即ち、厚み方向の計測による３００〜３８０ｎｍの分光透過率の評価結果は直接的には可視光域の分光透過率を反映しないが、相対的に３００〜３８０ｎｍの分光透過率と連動して端面方向の可視光波長領域の分光特性を反映する傾向があり、その代用が可能である。
具体的には、厚み方向で計測した３００〜３８０ｎｍの分光透過率が高い特性の光学樹脂基材は、端面方向で計測した場合の可視光波長領域における分光特性が高くなるという傾向がある。分光光線透過率７０％未満では、導光性能が不足するために、輝度が低下する。より好ましくは、７３％以上である。

本発明の光学シートにおける上記（Ａ）芳香族ポリカーボネイトの粘度平均分子量は２２０００以下であり、好ましくは１４０００〜２００００である。より好ましくは１５０００〜１９０００である。１４０００未満であると、製品強度が不足する他、製品の外形加工時の切粉付着による歩留まりの低下をもたす。特に、光学シートの肉厚を０．３ｍｍ以下の薄肉にした場合に、強度の不足を招き、破損しやすいものとなる傾向がある。
粘度平均分子量が２万２０００を超えると、押出成形条件にもよるが、樹脂基材の黄変やレターデーション値が大きくなりやすく、全光線透過率が９１％への到達が困難となる。
また、導光板等は樹脂シートをロールエンボス成形またはプレス成形によりシート表面に数〜数百ミクロンの微細な凹凸パターン（プリズムやドット、ドーム状の凸レンズ）を転写して凹凸パターンを形成させることで製造されるが、粘度平均分子量２万２０００を超えるとこの際の転写性も低下する。

本発明の光学シートは芳香族ポリカーボネイト樹脂組成物を押出成形して作製されるが、（Ａ）成分である芳香族ポリカーボネイトおよび（Ｂ）成分である酸化防止剤以外に（Ｃ）成分として熱可塑性ポリアクリル酸アルキルエステル系樹脂を微量添加してもよい。（Ｃ）成分を微量添加することで、分光特性がさらに向上する。
（Ｃ）成分は（Ａ）成分/（Ｃ）成分の比率が９９．９９/０．０１〜９９.００/１.００（質量比）になるように添加するのが好ましい。さらに好ましくは９９．９５/０．０５〜９９.５０/０．５０、特に好ましくは９９.９０/０．１０〜９９．７０/０．３０である。（Ｃ）成分の添加比率を０．０１以上とすることにより、成形体の透明性が向上し、１.００以下とすることにより、他の所望物性を損なうことなく透明性を保持することができる。

（Ｃ）成分である熱可塑性ポリアクリル酸アルキルエステル系樹脂としてはアクリル酸、アクリル酸エステル、アクリロニトリル及びその誘導体のモノマー単位から選ばれる少なくとも一種を繰り返し単位とする重合体であり、単独重合体又はスチレン、ブタジエン等との共重合体でもよい。具体的にはポリアクリル酸、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）、ポリアクリロニトリル、アクリル酸エチル−アクリル酸−２−クロロエチル共重合体、アクリル酸−ｎ−ブチル−アクリロニトリル共重合体、アクリロニトリル−スチレン共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体などが挙げられる。これらの中でも、特に、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）を好適に用いることができる。ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）としては公知のものを使用することができるが、通常、過酸化物、アゾ系の重合開始剤の存在下、メタクリル酸メチルモノマ−を塊状重合して製造されたものが好ましい。
（Ｃ）成分である熱可塑性ポリアクリル酸アルキルエステル系樹脂は、分子量が２００〜１０万であることが好ましく、さらに好ましくは２万〜６万である。分子量が２００〜１０万であることにより、成形時に、（Ａ）成分と（Ｃ）成分間の相分離が速くなりすぎることがないので、光学シートにおいて十分な透明性を得ることができる。

本発明の光学シートを製造する方法は特に制限されないが、下記の、本発明の光学シートの製造方法によれば所望の光学シートを製造することができる
本発明の光学シートの製造方法は、前記芳香族ポリカーボネイト樹脂組成物をシート状に溶融押し出しする成形工程、溶融押し出しされたシート状成形体をガラス転移温度以下に急冷する冷却工程、および冷却されたシート状成形体を５０℃以上、前記ポリカーボネイト樹脂のガラス転移温度以下で熱処理する熱処理工程を含む。
前記冷却工程は、冷却水が流下するスリットに前記シート状成形体を通過させることにより、前記シート状成形体を冷却することができる。また、前記熱処理工程は、鏡面を有する金属製エンドレスベルトおよび/または金属ロールで、前記シート状成形体の表裏面を挟持して加熱することより、実施されることができる。
押出成形法としては、通常一般に用いられる３本ロールを備えたシート成形機でも成形条件を選定することにより、導光板として利用可能な光学シートの製造が可能である。押出機のシリンダー温度およびダイスの温度は樹脂の組成の違い、ガラス転移温度等にも依存するが２２０〜３４０℃、好ましくは２４０〜３２０℃程度である。
（Ａ）成分/（Ｃ）成分の比率が９９．９９/０．０１〜９９.００/１.００（質量比）で、かつ、（Ｂ）酸化防止剤を前記のような比率で含む樹脂組成物を原料として押出成形を行う場合には、上記の溶融押し出しで得られたシート状成形体をガラス転移温度以下に急冷する冷却工程が重要であり、このような冷却工程を具備する押出成形装置を適用した方が、より光学的に透明度が高く光学シートを得ることができる。
冷却温度はガラス転移温度以下とする必要があり、好ましくは１４０℃以下、さらに好ましくは１２０℃以下である。冷却温度をガラス転移温度以下とすることにより、光学シートの厚み０．１〜１ｍｍにおける全光線透過率を９１％以上とすることができる。冷却温度の下限は樹脂の組成の違い、ガラス転移温度等にも依存するが５０℃程度である。５０℃以上とすることにより、成形された光学シートにおける残留ひずみを少なくして光学的等方性を確保することができる。冷却は、通常、複数のロールを用いて行なわれる。
押出機のシリンダー温度は２２０〜３４０℃、好ましくは２４０〜３２０℃程度である。
また、冷却されたシート状成形体は、５０℃以上で前記芳香族ポリカーボネイトのガラス転移温度以下で熱処理する熱処理工程により、前述の急冷過程による残留歪を一旦開放し、賦形することで、皺のない均一な肉厚で、レターデーション値が低い光学シートを得ることができる。
これらの製造工程を具備した押出成形機を適用することで、（Ａ）成分/（Ｃ）成分の比率が９９．９９/０．０１〜９９.００/１.００（質量比）の樹脂組成物の溶融状態から冷却過程で起こる相分離を抑制することが可能となり、光線透過率の低下が抑制できる。
これらの工程を具備する製造法としては、弾性ロール法またはスチールベルト法などが挙げられ、これらを具備した押出成形機の適用がより好ましい。
スチールベルト法としては、例えば、特許公開公報２００４−２３０５９８号公報にて開示されている製造法が挙げられる。
この製造法においては、複数のロールに巻装され、加熱ロール部により加熱された無端ベルトに、成形されたシートを密着して走行させ、次いで同シートを前記無端ベルト及びロール間で面状又は線状圧接した後、同シートを前記無端ベルトから剥離させるシートの製造方法であって、同シートの無端ベルトとは反対側から、加熱された同シートを走行中に保温及び/又は加熱する（図１参照）。保温及び/又は加熱は、保温板、熱風吹き出し、赤外線により行なわれる。
図１において、１はテンションロール、２は加熱ロール、３は冷却ロール、４は挾圧ロール、５は無端ベルト、６はシート供給ロール、７はテンションロール、８は加熱装置である。Ｓは凹凸形状を転写する前のシートを、ｄは挾圧ロール４と無端ベルト５との間で挟圧されるシートの長さを示す。
弾性ロール法としては、例えば、特許公開公報２００４−１５５１０１号に開示されている方法が挙げられる。
この製造法においては、押出機にＴ型ダイを取り付けてシートを形成させ、このシートを第一挟圧ロール、第二挟圧ロール、第三挟圧ロールに通し、複数の移送ロールを直線状に並べてシートを製造し、引取りロールを通して製造する方法である（図２参照）。
図２において、２１は押出機、２２、２３、２５は挟圧ロール、２４は引取りロール、２６ａ、２６ｂ、２６ｃは移送ロールである。

次に、前記の光学シートの表面に凹凸パターンを形成させた導光板等の本発明の成形体について説明する。
以上の特性、組成、製造方法により得られた光学シートは、その表面に微細な凹凸パターンを形成することにより成形体とし、配光制御が可能となり、導光板、拡散シート、再帰性反射板、プリズムシートおよびフレネルレンズシート等として用いることができる。凹凸パターンとしてはドット形状、凸レンズ形状、凹レンズ形状、Ｖ溝プリズム形状、三角錘や四角錘などの多角錘プリズム形状などが挙げられる。
導光板においては、凹凸パターンにグラデーション（濃淡）を付与するのが好ましい。
通常の拡散シート、再帰性反射板およびプリズムシートならば均一なパターンを形成するのが好ましい。
また、直下型バックライトで用いられる拡散シートの場合には光源上の光源影から光源間までの距離の間に凹凸パターンの濃淡を形成することで、輝度の均一化を図ることができる。
このような凹凸パターンの形成法としては、ロールエンボス法、真空プレス成形法、ベルト転写法などが挙げられる。中でもベルト状の薄板ステンレスの表面にニッケルめっき箔に微細な凹凸パターンを形成した金型を製作し、上下で回転する金型ベルトの間で樹脂フィルムを同期搬送しながら加熱、加圧転写、剥離の各工程を連続して行う手段を備えた装置を用いたベルト転写法（例えば、特開２００５−３２１６８１号公報）を適用することが好ましい。この方法では真空引き、昇温、降温のための時間が不要で、高い生産性で大面積への転写を行うことができる（図３参照）。
図３において、３１は加熱ロール、３２は凹凸を形成させるための転写ロール、３３は予備加熱ロール、３４は冷却ロール、３５は搬送ロール、３６はエンドレスベルトである。左側の矢印は凹凸形状を転写する前の光学シート、右側の矢印は転写後の光学シート、すなわち、導光板等の成形体を示す。

この他、微細な凹凸パターンが形成された金型を用いてアクリル系紫外線硬化樹脂を本発明の光学シートに押し当てながら紫外線で硬化させるリソグラフィー法や、白色インキを用いたスクリーン印刷法になどが適用できる。
前記の光学シート成形と表面に凹凸パターンを形成させる工程を同時に行うことにより、導光板等の成形体を製造することもできる。このような同時工程を備える製造装置としては、例えば、東芝機械株式会社製連続押出エンボス成形機ＳＰＵ−０３０２６Ｗが好適に利用できる（図４参照）。
図４に示す装置では、特殊タッチロール（special touch roll）の柔軟性により押付長さが長くなり、転写率が向上する。また、ロール隙間調整方式（Pressure sensorおよびPositioning sensor）により、隙間、押し付け力の測定および制御が可能となる。

次に、実施例および比較例により、本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの例によってなんら限定されるものではない。

実施例および比較例で使用された配合材料等は以下の通りである。
＜配合材料＞
（1）芳香族ポリカーボネートＰＣ１
タフロンＦＮ１７００Ａ〔出光興産株式会社製のビスフェノールＡポリカーボネート樹脂、ガラス転移温度：１４２℃、粘度平均分子量：１７，３００、屈折率：１．５８５〕
（2）芳香族ポリカーボネートＰＣ２
タフロンＦＮ１９００Ａ〔出光興産株式会社製のビスフェノールＡポリカーボネート樹脂、ガラス転移温度：１４５℃、粘度平均分子量：１９,５００、屈折率：１．５８５〕
（3）芳香族ポリカーボネートＰＣ３
タフロンＦＮ２５００Ａ〔出光興産株式会社製のビスフェノールＡポリカーボネート樹脂、ガラス転移温度：１４８℃、粘度平均分子量：２３,５００、屈折率：１．５８５〕
（4）リン系酸化防止剤
アデガスタブＰＥＰ３６〔旭電化（株）製のビス（２，６−ジーｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールホスファイト〕
（5）フェノール系酸化防止剤
イルガノックス１０７６〔チバスペシャリティーケミカルズ（株）製のフェノール系酸化防止剤、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕表１では、「ＩＲＧ１０７６」と記載する。
（6）熱可塑性ポリアクリル系樹脂
ダイアナールＢＲ８３〔三菱レイヨン（株）製、分子量：２５，０００、屈折率１．４９０、分子量は、オストワルド型粘度管を用いて２５℃におけるクロロホルム溶液の極限粘度[η]を測定し、次の関係式により平均重合度ＰＡを求めて計算した。ｌｏｇＰＡ＝１．６１３ｌｏｇ（[η]×１０⁴／８．２９）〕
表１では、「アクリル酸エステル樹脂」と記載する。
（7）青色染料
ＨＯＳＴＡＬＵＸ ＫＳＮ〔クラリアントジャパン（株）製、4-（ベンゾオキサゾール−２−イル）-4′-（5-メチルベンゾオキサゾール−２−イル）スチルベンと青色顔料の混合物〕

＜混練押出＞
タンブラーを用いて表１に示す各実施例および比較例における配合比率で各材料を混合しスクリュウ径６５ｍｍφの単軸押出機を用いて２８０℃で溶融混練押出を行い各例で使用したペレットを作製した。

＜光学シート押出成形＞
条件１（実施例１〜４および比較例１、２で適用）
図２に示す押出機２１を設けた「３本ロール装置」により光学シート（厚み０．４ｍｍ）を製造した。押出機２１のスクリュウ直径６５ｍｍ、Ｔ型ダイの幅が６５０ｍｍ、直径３００ｍｍの第一挟圧ロール２２を使用した。第二挟圧ロール２３及び第三挟圧ロール２５は、いずれも直径３００ｍｍの金属ロールを使用した。移送ロール２６は、直径７０ｍｍの金属ロール３個が直線状に並んだものを使用した。なお、最初の移送ロール２６ａから最終の移送ロール２６ｃ間の合計距離は３ｍとした。
条件２（実施例５で適用）
Ｈｉｔｚ産機テクノ株式会社製のＵＦロール挟圧押出成形機（弾性ロール法―図２参照）を用いて行なった。押出機のスクリュウ直径は９０ｍｍである。
条件３（実施例６で適用）
東芝機械株式会社製連続押出エンボス成形機ＳＰＵ−０３０２６Ｗ（図４参照）を用いてシート成形で得られたシートに三角錘プリズムアレイ（高さ５０μｍ）をニッケルメッキにて形成したスタンパーを押し当てて同時にパターン転写を行なうことによりプリズムシートを作製した（パターン形成２）。押出機のスクリュウ直径２６ｍｍφ、その他各部の温度は表１に記載したとおりである。
条件４（比較例３で適用）
各所の温度を表１に示す温度に変更した以外は条件１と同様に行なった。
条件５（比較例４で適用）
型締力１００トンの射出成形機〔住友重機械工業（株）製、品番ＳＧ１００Ｍ-ＨＰ〕を用いて成形温度３６０℃（金型温度１２０℃）で射出成形を行なった。

＜プレス成形によるパターン転写＞
実施例６以外の各実施例および各比較例において作製した各光学シートを名機製作所製微細パターン転写用真空プレスで真空吸引後、三角錘プリズムアレイ（高さ５０μｍ）をニッケルメッキにて形成したスタンパーに押し当て、１６０℃にてプレス成形を行ない、導光板を作製した（パターン形成１）。

＜評価方法＞
（1）全光線透過率
スガ試験機株式会社製のヘイズメーター（ＨＧＭ−２ＤＰ）を用いてＪＩＳ−Ｋ−７１０５に準拠して測定した。
（2）シートの分光光線透過率
厚み０．４ｍｍの光学シートサンプルを島津製作所製のＵＶ可視分光光度計（ＵＶ−２４５０）により波長３００ｎｍでの分光光線透過率（％）を測定した。
（3）複屈折率（レターデーション）およびその標準偏差値
大塚電子株式会社製のリタデーション測定装置（ＲＥＴＳ-１００）により、５５０ｎｍに対する複屈折（レターデーション値）を測定した。
本発明において、任意箇所というのは、１００ｃｍ×１００ｃｍの光学シートのサンプルより、各測定箇所が６０ｃｍ以上離れた２箇所の４ｃｍ×４ｃｍの部分の１ｃｍピッチの３ｃｍ×３ｃｍの格子上９箇所について合計１８点の測定を行った。
計算式：
標準偏差（σ）＝
√［｛（Ｒｅ₁−Ｒｅ_av）²＋（Ｒｅ₂−Ｒｅ_av）²＋・・・・・＋（Ｒｅ_n−Ｒｅ_av）²｝／ｎ］
ｎは測定した全サンプリング数
Ｒｅ_nはｎ番目のサンプリング箇所のＲｅ値
Ｒｅ_avはＲｅの平均値を表わす。
（4）溶液法による光学特性（分光光線透過率）
ａ）サンプル調製
切断したサンプル（６ｇ）をメスフラスコ（５０ミリリットル）に入れジクロロメタンを加え溶解させ、溶解の際、超音波照射を３時間行った。
ｂ）測定装置：島津製作所 ＵＶ−２４５０
ｃ）測定条件
セル長さ：５ｃｍ
測定波長：９００〜２００μｍ
スキャンスピード：低速モードに設定
スリット幅：２．０ｎｍ
切り替え波長：３６０ｎｍ
ｄ）測定手順
測定の２時間前に装置を立ち上げて安定化させた後、ベースラインを測定し、次いで、５００ｎｍにてオートゼロを測定し、ゼロ点が取れたか測定することにより確認する。
ジクロロメタン及びアセトンを用いてセルをよく洗浄、セル温度が室温になるまで待ち、セル温度が戻った時点で、測定溶液を加え、セルを測定室に入れてふたをし、１分ほど放置した後、測定開始する。測定終了後、測定溶液を出して洗浄し、サンプルを変えてこれを繰り返す。
（5）凹凸パターンの転写性
実施例１〜６および比較例１〜４で得られた各導光板について、輝度特性を反映するパターンの転写率を輝度評価に代えて実施した。
転写率（％）＝［転写した導光板の三角錘の高さ（μｍ）/スタンパーにおける三角錘の高さ（５０μｍ）］×１００

[実施例１〜６]
表１に示す配合材料を用いて溶融混練押出を行なって作製した各ペレットを用い、「条件１」、「条件２」または「条件３」の成形条件を適用して光学シートを作製し、各光学シートに前記パターン形成１（実施例１〜５）またはパターン形成２（実施例６）を適用して導光板を作製した。各条件における各所の温度は表１に記載されている通りである。

[比較例１〜４]
表１に示す配合材料を用いて溶融混練押出を行なって作製した各ペレットを用い、「条件１」、「条件４」または「条件５」の成形条件を適用して光学シートを作製し、各光学シートにパ前記ターン形成１を適用して導光板を作製した。各条件における各所の温度は表１に記載されている通りである。

本発明の光学シートは特定の芳香族ポリカーボネートを含む樹脂組成物を特定の条件下で押出成形することにより固体構造における高次構造を制御し、用途に応じて表面に形成させる凹凸パターンを最適化することにより導光板、拡散シート、再帰性反射板、または輝度向上プリズムシート等に加工される。

スチールベルト法による転写工程を示す模式図である。 挟圧ロール法による転写工程を示す図である。 ベルト転写法による転写工程を示す模式図である シート成形と凹凸パターンを形成させる工程を同時に行う製造装置の模式図である。

符号の説明

１：テンションロール
２：加熱ロール
３：冷却ロール
４：挾圧ロール
５：無端ベルト
６：シート供給ロール
７：テンションロール
８：加熱装置
Ｓ：凹凸形状を転写する前のシート
ｄ：挾圧ロールと無端ベルトにより挟圧されるシートの長さ
２１：押出機
２２：挟圧ロール
２３：挟圧ロール
２４：引取りロール
２５：挟圧ロール
２６ａ：移送ロール
２６ｂ：移送ロール
２６ｃ：移送ロール
３１：加熱ロール
３２：凹凸を形成させるための転写ロール
３３：予備加熱ロール
３４：冷却ロール
３５：搬送ロール
３６：エンドレスベルト

Claims (9)

1. （Ａ）粘度平均分子量２２０００以下の芳香族ポリカーボネイト１００質量部および（Ｂ）酸化防止剤０．０１〜1質量部を含有し、青色系色素または顔料を含まない芳香族ポリカーボネイト樹脂組成物が押出機から押し出された後、ガラス転移温度以下で冷却された光学シートであって、該光学シートの厚み０．１〜１ｍｍにおける全光線透過率が９１％以上であることを特徴とする光学シート。
2. 複屈折（位相差；波長５５０ｎｍにおけるリタデーション値）が１５０ｎｍ以下で、且つシート面内の任意箇所でのリタデーション値の標準偏差値が１０以下である請求項１に記載の光学シート。
3. 前記光学シートに用いられる芳香族ポリカーボネイト樹脂組成物から調製された試料板厚みが０．４ｍｍで測定した可視−ＵＶ分光スペクトルにおいて、波長３００ｎｍにおける分光光線透過率７０％以上または芳香族ポリカーボネイトを良溶媒に溶解して測定した分光光線透過率（溶液法による測定：溶液セルの導光長が５ｃｍ、試料溶液濃度１２g／ｄｌ、溶媒ジクロロメタン、波長４５０ｎｍ）が９４％以上である請求項１または２に記載の光学シート。
4. 前記（Ａ）成分１００質量部に対して（Ｃ）熱可塑性ポリアクリル系樹脂０．０１〜１質量部を含む請求項１〜３のいずれかに記載の光学シート。
5. 前記（Ｂ）成分の酸化防止剤がリン系酸化防止剤及び/又はフェノール系酸化防止剤である請求項１〜４のいずれかに記載の光学シート。
6. 前記芳香族ポリカーボネイト樹脂組成物をシート状に溶融押し出しする成形工程、溶融押し出しされたシート状成形体をガラス転移温度以下に急冷する冷却工程、および冷却されたシート状成形体を、５０℃以上、前記芳香族ポリカーボネイト樹脂組成物のガラス転移温度以下で熱処理する熱処理工程からなることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の光学シートの製造方法。
7. 請求項１〜５のいずれかに記載の光学シートの表面に凹凸パターンを形成させてなる成形体。
8. 導光板、拡散シート、再帰性反射板、プリズムシートおよびフレネルレンズシートのいずれかである請求項７に記載の成形体。
9. 請求項１〜５のいずれかに記載の光学シートの表面に凹凸パターンを形成させることを特徴とする成形体の製造方法。

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