JP5263165B2 - ガラス成形体の製造方法 - Google Patents
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Description
前記上型、前記下型及び前記側面型をそれぞれ所定温度に加熱する加熱工程と、
前記側面型と前記下型とで構成される受け部に前記溶融ガラス滴を滴下する滴下工程と、
滴下した前記溶融ガラス滴を前記成形金型で加圧する加圧工程と、を有し、
前記側面成形面の最大高さ粗さRzが、該側面成形面と接触する前記側面型の表面の最大高さ粗さRzよりも小さいことを特徴とするガラス成形体の製造方法。
Tg−250℃≦Ts≦Tg−105℃であることを特徴とする前記1又は2に記載のガラス成形体の製造方法。
11 上型
12 下型
13 側面型
14 受け部
20a、20b ガラス成形体
21 上成形面
22 下成形面
23 側面成形面
27 溶融ガラス滴
S11 加熱工程
S13 滴下工程
S15 加圧工程
先ず、本発明が対象とするガラス成形体について、図5、図6を参照しながら説明する。図5は、本発明の製造方法により製造されるガラス成形体の1例(ガラス成形体20a)を示した図である。図5(a)はガラス成形体20aを上成形面21側から見た図であり、図5(b)は側面成形面23側から見た図である。
本発明のガラス成形体の製造方法について、図1〜図4を参照しながら詳細に説明する。本発明のガラス成形体の製造方法は、下型、上型及び側面型をそれぞれ所定温度に加熱する加熱工程と、溶融ガラス滴を滴下する滴下工程と、溶融ガラス滴を成形金型で加圧する加圧工程とを有し、側面成形面の最大高さ粗さRzを、該側面成形面と接触する側面型の表面の最大高さ粗さRzよりも小さくする。溶融ガラス滴からガラス成形体を直接製造する液滴成形法を用いた方法であり、非常に効率よくガラス成形体を製造することが可能である。
(1)側面型13の表面の最大高さ粗さRz(凹凸の高さ)、及び、粗さ曲線要素の平均長RSm(凹凸の周期)。
(2)溶融ガラス滴27が受け部14に滴下する直前における側面型13の温度Ts。
Claims (5)
- 上成形面、下成形面及び側面成形面を有するガラス成形体の、上成形面を形成するための上型と、下成形面を形成するための下型と、側面成形面を形成するための側面型とを有する成形金型を用いて溶融ガラス滴を加圧成形するガラス成形体の製造方法において、
前記上型、前記下型及び前記側面型をそれぞれ所定温度に加熱する加熱工程と、
前記側面型と前記下型とで構成される受け部に前記溶融ガラス滴を滴下する滴下工程と、
滴下した前記溶融ガラス滴を前記成形金型で加圧する加圧工程と、を有し、
前記側面成形面の最大高さ粗さRzが、該側面成形面と接触する前記側面型の表面の最大高さ粗さRzよりも小さいことを特徴とするガラス成形体の製造方法。 - 前記側面成形面と接触する前記側面型の表面の最大高さ粗さRzが1μm以上であり、且つ、粗さ曲線要素の平均長RSmが1μm以下であることを特徴とする請求の範囲第1項に記載のガラス成形体の製造方法。
- 前記溶融ガラス滴が前記受け部に滴下する直前における前記側面型の温度Tsが、
Tg−250℃≦Ts≦Tg−105℃であることを特徴とする請求の範囲第1項又は第2項に記載のガラス成形体の製造方法。
但し、Tgは前記溶融ガラス滴のガラス転移点温度(℃)。 - 前記ガラス成形体は、半導体レーザから出力される楕円形状の出力ビームを円形に整形するためのビーム整形素子であることを特徴とする請求の範囲第1項乃至第3項の何れか1項に記載のガラス成形体の製造方法。
- 前記上成形面及び前記下成形面の少なくとも一方は、シリンドリカル面又はトロイダル面からなる光学面を有することを特徴とする請求の範囲第4項に記載のガラス成形体の製造方法。
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