JP5263164B2 - ガラス成形体の製造方法 - Google Patents
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Description
前記下型、前記上型及び前記側面型をそれぞれ所定温度に加熱する加熱工程と、
前記側面型と前記下型とで構成される受け部に前記溶融ガラス滴を滴下する滴下工程と、
滴下した前記溶融ガラス滴を前記成形金型で加圧する加圧工程と、を有し、
前記側面成形面の上下方向の幅hは、前記側面成形面の上下方向中心部における前記ガラス成形体の水平断面の面積と同じ面積を有する円の直径をDとしたとき、
0.6D≦h≦1.5Dの範囲であり、
前記溶融ガラス滴が前記受け部に滴下する直前における前記側面型の温度Tsは、前記溶融ガラス滴のガラス転移点温度をTg(℃)としたとき、
Tg−250℃≦Ts≦Tg−105℃であることを特徴とするガラス成形体の製造方法。
前記加熱工程は、前記側面型が前記下型に対して相対移動し、前記下型との接触面積を変更することにより、前記側面型の温度を調整することを特徴とする前記1に記載のガラス成形体の製造方法。
前記側面型と前記下型とが接触しない状態、又は、前記第1工程よりも接触面積の少ない状態で所定時間待機して、前記側面型を前記温度Tsまで冷却する第2工程と、を有することを特徴とする前記2又は3に記載のガラス成形体の製造方法。
11 上型
12 下型
13、13b 側面型
14 受け部
20a、20b ガラス成形体
21 上成形面
22 下成形面
23 側面成形面
25 水平断面
26 円
27 溶融ガラス滴
先ず、本発明が対象とするガラス成形体について、図6、図7を参照しながら詳細に説明する。図6は、本発明の製造方法により製造されるガラス成形体の1例を示した図である。図6(a)は正面から見た図であり、図6(b)は図6(a)に示したA−Aの位置における断面図である。
次に、本発明のガラス成形体の製造方法について、図1〜図5を参照しながら詳細に説明する。本発明のガラス成形体の製造方法は、下型、上型及び側面型をそれぞれ所定温度に加熱する加熱工程と、溶融ガラス滴を滴下する滴下工程と、溶融ガラス滴を成形金型で加圧する加圧工程とを有する。溶融ガラス滴からガラス成形体を直接製造する液滴成形法を用いた方法であり、非常に効率よくガラス成形体を製造することが可能である。
図1は、本発明のガラス成形体の製造方法の1例を示すフローチャートである。また、図2及び図3は、本実施形態で使用する成形金型等を示す図であり、図2は溶融ガラス滴を滴下する滴下工程における状態を、図3は溶融ガラス滴を加圧する加圧工程における状態を示している。以下、図7に示したガラス成形体20bを製造する場合を例に挙げて説明する。
次に、本発明の第2の実施形態について図4及び図5を参照しながら説明する。図4は、本発明の第2の実施形態を示すフローチャートである。また、図5は本実施形態で使用する成形金型10b等を示す模式図であり、(a)は第1工程(S111)、(b)は第2工程(S112)、(c)は滴下工程(S13)、(d)は加圧工程(S15)における状態をそれぞれ示している。
(1)下型12の温度を変化させて、第1工程における側面型13bの加熱温度Ts1を調整する方法。
(2)第2工程における待機時間を変化させて、温度Ts1からの低下温度を調整する方法。
(3)側面型13bの材質や体積によって熱容量を変化させて、第2工程における待機時間中の単位時間あたりの低下温度を調整する方法。
図1に示した実施形態1におけるフローチャートに従って、図7に示したガラス成形体20bを製造した。成形金型は、図2及び図3に示した成形金型10を用いた。成形金型10の上型11、下型12、及び側面型13の材料には、いずれも炭化タングステンを主成分とする超硬材料を用いた。
側面型13の加熱温度Tsを、210℃(比較例1)、400℃(比較例2)とした以外は実施例1と同じ条件でそれぞれ100個のガラス成形体20bを作製した。このとき、側面型13の加熱温度Tsは、それぞれ、Tg−270℃(比較例1)、Tg−80℃(比較例2)となる。
ガラス成形体20bの側面成形面の上下方向の幅hを6.8mmとして、実施例1〜3と同様の条件でガラス成形体20bを作製した。側面成形面23の上下方向中心部における水平断面25は、一辺が4mmの正方形であり、同じ面積を有する円26の直径Dは約4.5mmであるため、h=1.5Dとなる。側面型13の加熱温度Tsについても実施例1〜3と同じ条件とした。
側面型13の加熱温度Tsを、210℃(比較例3)、400℃(比較例4)とした以外は実施例4と同じ条件でそれぞれ100個のガラス成形体20bを作製した。このとき、側面型13の加熱温度Tsは、それぞれ、Tg−270℃(比較例3)、Tg−80℃(比較例4)となる。
Claims (6)
- 上成形面、下成形面及び側面成形面を有するガラス成形体の、上成形面を形成するための上型と、下成形面を形成するための下型と、側面成形面を形成するための側面型とを有する成形金型を用いて溶融ガラス滴を加圧成形するガラス成形体の製造方法において、
前記下型、前記上型及び前記側面型をそれぞれ所定温度に加熱する加熱工程と、
前記側面型と前記下型とで構成される受け部に前記溶融ガラス滴を滴下する滴下工程と、
滴下した前記溶融ガラス滴を前記成形金型で加圧する加圧工程と、を有し、
前記側面成形面の上下方向の幅hは、前記側面成形面の上下方向中心部における前記ガラス成形体の水平断面の面積と同じ面積を有する円の直径をDとしたとき、
0.6D≦h≦1.5Dの範囲であり、
前記溶融ガラス滴が前記受け部に滴下する直前における前記側面型の温度Tsは、前記溶融ガラス滴のガラス転移点温度をTg(℃)としたとき、
Tg−250℃≦Ts≦Tg−105℃であることを特徴とするガラス成形体の製造方法。 - 前記側面型は前記下型からの熱伝導によって昇温するものであって、
前記加熱工程は、前記側面型が前記下型に対して相対移動し、前記下型との接触面積を変更することにより、前記側面型の温度を調整することを特徴とする請求の範囲第1項に記載のガラス成形体の製造方法。 - 複数のガラス成形体を繰り返し製造する間、前記下型は、Tg−100℃からTg+100℃の間の一定の目標設定温度に保たれることを特徴とする請求の範囲第2項に記載のガラス成形体の製造方法。
- 前記加熱工程は、前記側面型を前記下型に接触させて、前記下型からの熱伝導によって前記側面型を前記温度Tsよりも高い所定温度Ts1まで加熱する第1工程と、
前記側面型と前記下型とが接触しない状態、又は、前記第1工程よりも接触面積の少ない状態で所定時間待機して、前記側面型を前記温度Tsまで冷却する第2工程と、を有することを特徴とする請求の範囲第2項又は第3項に記載のガラス成形体の製造方法。 - 前記ガラス成形体は、半導体レーザから出力される楕円形状の出力ビームを円形に整形するためのビーム整形素子であることを特徴とする請求の範囲第1項乃至第4項の何れか1項に記載のガラス成形体の製造方法。
- 前記上成形面及び前記下成形面の少なくとも一方は、シリンドリカル面又はトロイダル面からなる光学面を有することを特徴とする請求の範囲第5項に記載のガラス成形体の製造方法。
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