JP5251882B2 - 反応チップ及び反応方法、遺伝子処理装置用温度調節機構及び遺伝子処理装置 - Google Patents

反応チップ及び反応方法、遺伝子処理装置用温度調節機構及び遺伝子処理装置 Download PDF

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Description

本発明は、化学反応やDNA反応、タンパク質反応等の生化学反応等に用いて好適な反応チップ及び反応方法、生体サンプルに含まれる遺伝子に対して増幅等の処理をするための温度調節機構及び当該温度調節機構を備えた遺伝子処理装置に関するものである。
近年、例えば化学反応やDNA反応、タンパク質反応等の生化学反応の分野において、微量の試料溶液をチップ上で処理する手法として、μ−TAS(Total Analysis System)、Lab-on-Chipと呼ばれる技術が研究され、実現されつつある。これにより、今まで大型の実験装置や大量の反応試薬が必要であった反応実験が、数mm角以下の反応チップを用いて少量の反応試薬で行えるようになってきている。
この種の生化学反応の例としては、酵素反応によるDNA増幅反応や、既知の配列を有するプローブDNAを用い、検体DNAの配列を検出するハイブリダイゼーション反応、DNAの配列中のSNP(一塩基多型)の検出反応などが挙げられる。SNP検出法としては、インベーダー(登録商標)法、タックマンPCR法などが知られている(例えば、特許文献1参照)。
チップを用いて、これらの反応を行う場合、例えば遺伝子やDNAの配列を決定する際は、スライドガラス上にプローブDNAを固定し、その上でハイブリダイゼーション反応を行う方法が知られている。
また、チップ上に、ウェルと呼ばれる微小な穴や窪みを形成し、それを反応場として用いる方法も知られている。
複数のウェル状反応容器は、試液貯留部から延設された試液流路によって互いに接続されている(例えば、特許文献2参照)。ところで、このような流路を用いて試液を送液する際には、反応容器内を試液で満たし、気泡の残留を防ぐことが重要である。反応容器内に気泡が残留していると、各反応容器内の試液の量や濃度がばらつくため、反応状態のばらつきが生じる。また、反応状態のばらつきがなかったとしても、気泡自体による測光強度の誤差を引き起こす可能性が極めて高い。
そこで、反応容器から気泡を除去する方法がいくつか提案されている。
その一つとして、複数の基板を積層してなる積層体内部に少なくとも1つの流路を有する液体回路において、少なくとも1つの基板を貫通して流路と外部とを連通する連通孔が形成されたものが提案されている(例えば、特許文献3参照)。特許文献3には、連通孔は、フォトリソグラフィーを用いて単結晶シリコン基板やガラス基板に形成されたものであり、流路から外部に向けて開口面積が小さくなるテーパ状の内周面を持つものであり、この連通孔を通して外部に気泡を抜くことが開示されている。さらに、連通孔が少なくとも疎水性を有していることが好ましく、そのために基板自体が疎水性を有していたり、疎水性を持たない基板に後から疎水性を付与することが記載されている。
また、第1表面と第2表面とを貫通する流路を持ち、試料とともに送られてくる気泡を分離するための気泡トラップを各試料穴毎に備えた反応チップが提案されている(例えば、特許文献4参照)。
ところで、反応分析に用いるチップに流す試液としては、化学反応であれば有機物、生化学反応であれば抽出DNA、合成DNA、酵素など、粘性の高い試液であることが多い。このような試液を用いる場合、特許文献2,3に記載の方法では気泡の除去、分離が充分に行われず、反応容器内に気泡が残留する虞がある。また、特許文献2,3に記載の方法はあくまでも反応容器が外部空間に解放された、いわゆる解放型の反応容器に適用できる技術であり、外周が全て壁に囲まれた密閉型の反応容器に適用できるものではない。
その他、反応容器にコロナ処理やプラズマ処理等の表面処理を施して親水化する方法も気泡除去に多く用いられる。ところが、この場合は、反応容器の表面改質が生じ、pH変化が生じる等、バッチでの反応条件と異なってしまう場合も考えられ、目的とする所望の反応を阻害する虞が生じることが問題となる。また、プラズマ処理を行った場合、反応容器の表面改質が行われるものの、表面改質の持続性に難があり、処理直後の状態を維持できないという問題もある。
また、これらの分析チップを用いて反応を行うには、まず複数のウェル状反応容器内に反応試薬を配置する。次に、分析チップに反応試液を注入することにより、流路を介して複数のウェル状反応容器に反応試液を供給する。これにより、固定試薬と反応試液とが接触して反応が開始する。なお、必要に応じて、反応時にウェル状反応容器を加熱する。
しかしながら、上述した反応方法では、流路を介してウェル状反応容器内に反応試液を供給する際に、予めウェル状反応容器内に配置されていた固定試薬が隣接するウェル状反応容器に流出する虞がある。これにより、コンタミネーション(汚染)が発生するという問題がある。また、各ウェル状反応容器での反応中に、固定試薬や反応試液、検出用の蛍光物質等が隣接するウェル状反応容器に拡散するおそれがある。これにより、正確な反応データを測定することができなくなる、という問題がある。
そこで、そのようなコンタミネーションの発生を防止することができ、また、正確な反応データの測定が可能な反応チップおよび反応方法が開示されている(例えば、特許文献5参照)。
特許文献5に記載された反応チップは、ウェル状反応容器を形成した基板と、基板を覆うカバー材とから構成されている。そして、これを用いた反応方法は、ウェル状反応容器内に配置した反応試薬を熱溶融型の封止剤で覆い、封止剤の上方に反応試液を供給した後、封止剤を加熱して溶融させ、反応試薬と反応試液とを接触させるというものである。この方法によれば、反応試薬が隣接するウェル状反応容器に流出することがなくなるため、コンタミネーションの発生を防止することができる。
ところで、酵素反応等の生化学反応に用いる反応チップの場合、試薬の加熱が必要な反応が多いため、熱伝導率が高い基板を使用した方が有利である。しかしながら、熱伝導率が高い基板上に反応試薬を固定すると、基板とカバー材を貼り合わせる際の熱が反応試薬にまで伝導し、反応試薬の活性が低下もしくは失活する、という問題があった。例えば、特許文献5に記載された反応方法で言えば、ウェル状反応容器を形成した側の基板を熱伝導率の高いものとするのが望ましいが、そうすると上記の問題が発生することになる。
また、熱伝導率の高い基板上に反応試薬を固定し、特許文献5の方法のように熱溶融性の封止剤で覆った場合、基板とカバー材を貼り合わせる際の熱によって封止剤が溶解し、反応チップの流路に流出して流路を塞いでしまったり、再凝固した時の封止剤の形状が不安定となり、反応試薬の封止が不完全になる、という問題があった。この問題によって、結局、コンタミネーションの発生が十分に防止できない虞がある。
また、これらの遺伝子検査では、検体(サンプル)に含まれる核酸(DNA)量をポリメラーゼ連鎖反応法(PCR法)で増幅して検査が行われるため、PCRに要する時間を削減することによって検査の迅速化が試みられている。
PCRを短時間で実施する方法として、少量のサンプルでPCRを行うことが試みられており、そのための反応容器や反応装置(温度調節機構)が考案されている。
反応容器の多くは、生物反応を阻害しない合成樹脂製であり、反応容量を数十マイクロリットルと少なくして反応を行っている。この他、アルミを用いて反応容器が形成される例がある。
このような反応容器は、特許文献6又は7に記載されるような反応装置によって、上下から加熱手段を接触させて微小量のサンプルを蒸発させることなくPCR反応が行われる。
特許文献6,7に記載された反応装置は、反応容器が単一の材料で形成されている場合には大きな問題はない。しかしながら、反応容器の性能を高める等の目的で、反応容器の上部と下部を熱伝導率の異なる別材料で構成した容器を用いてPCR反応を行うと、熱伝導性の違いによって、反応容器内のサンプルの温度分布が不均一になり、PCR反応が円滑に進まないことがあるという問題がある。
特開2002−300894号公報 特表2002−503336号公報 特開平9−257748号公報 特許第2955229号公報 特開2007−090290号公報 特許第3661112号公報 特許第3686917号公報
本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであって、
第一に、反応容器の表面改質等を行うことなく、簡便に気泡を残留させずに送液が可能であり、所望とする反応の正確な検出、測定を行うことが可能な反応チップを提供することを目的とする。
第二に、コンタミネーションの発生を確実に防止することができ、また、反応試薬の活性を低下もしくは失活させることなく、正確な反応データを測定することができる反応方法を提供することを目的とする。
第三に、熱伝導率の異なる複数種類の材料で構成された反応容器を用いても、反応容器に充填された遺伝子サンプルに含まれる遺伝子を迅速かつ好適に処理することが可能な遺伝子処理装置用温度調節機構及び遺伝子処理装置を提供することを目的とする。
上記第一の目的を達成するために、本発明者らが鋭意検討した結果、切り立った内壁面を有する凹部からなる従来の反応容器では、特に試液の流動方向に存在する内壁面と底面とに挟まれた空間に気泡が捕捉されてしまうことを見出した。そこで、このような内壁面を小さくするとともに、凹部の近傍で試液がより円滑に流れる構成とすることで凹部内に気泡が残留しにくくなることに思い至り、本発明の構成に想到した。
本発明の反応チップは、一対の基材から構成され、試薬と試液との反応を生じさせる複数の反応容器と、前記複数の反応容器間を互いに連通させ、前記複数の反応容器に前記試液を送液する流路と、を備えた反応チップであって、前記一対の基材のうち、第1の基材の一面もしくは第2の基材の一面の少なくともいずれか一方に、前記反応容器の一部を構成する複数の凹部が形成されるとともに、前記第1の基材の一面もしくは前記第2の基材の一面の少なくともいずれか一方の前記凹部と前記凹部との間に相当する位置に、前記流路の一部を構成する溝部が形成され、前記凹部のうちの前記溝部の延在方向の少なくとも試液の流入側の縁部に、前記凹部が形成された基材の一面から前記凹部の内壁面に向けて幅が漸次広くなり深さが漸次深くなる切り欠き部が形成され、前記第1の基材の一面と前記第2の基材の一面とが互いに対向するように接合され、前記複数の反応容器と前記流路とが形成され、前記第1の基材の上面に突出して前記流路の一端に、前記第1の基材を貫通して中空円筒状の注入口が設けられ、前記第1の基材の上面で前記流路の他端に、前記第1の基材を貫通して貫通孔が形成されていることを特徴とする。
また、本発明の反応チップにおいて、前記凹部が形成された基材の一面と前記切り欠き部の内壁面とのなす角度は、前記凹部が形成された基材の一面と前記凹部の内壁面とのなす角度よりも小さいことを特徴とする。
また、本発明の反応チップにおいて、前記切り欠き部が、前記凹部のうちの前記溝部の延在方向の縁部において、少なくとも前記溝部を流れる前記試液の流入側に形成されたことを特徴とする。
また、本発明の反応チップにおいて、前記切り欠き部が、前記凹部のうちの前記溝部の延在方向の縁部において、少なくとも前記溝部を流れる前記試液の流出側にも形成され、前記試液の流入側に形成された切り欠き部と前記試液の流出側に形成された切り欠き部とが線対称の形状をなす構成としても良い。
また、本発明の反応チップにおいて、前記凹部は、前記凹部が形成された基材の一面に対して略直角をなす内壁面を有する柱状空間を少なくとも開口側に有し、前記切り欠き部の端部での最大深さが前記柱状空間の深さよりも浅いことを特徴とする。
また、前記凹部の外形が平面視円形であり、前記切り欠き部の平面形状が、前記凹部が形成された基材の一面上の前記溝部の延在方向の1点から凹部の外縁をなす円に接する2本の接線を引いたときの前記2本の接線の内側の領域で規定されることを特徴とする。
また、本発明の反応チップにおいて、前記切り欠き部の前記溝部の延在方向の中心線が、前記溝部の中心線と同一直線上にあることを特徴とする。
上記第二の目的を達成するために、本発明の反応方法は、本発明の反応チップを用いた反応方法であって、前記一対の基材のうち、前記反応容器の一部を構成する凹部が形成された第1の基材を用い、前記凹部の内部に試薬を配置する工程と、前記試薬を熱溶融型の封止剤で封止する工程と、前記第1の基材の材料よりも熱伝導率が高い材料から構成された第2の基材と前記第1の基材とを接合し、前記試薬が配置された反応容器と流路とを備えた反応チップを作製する工程と、前記流路を通じて前記反応容器の内部に試液を供給する工程と、前記第2の基材側から前記反応チップを加熱することにより、前記封止剤を溶融させて前記試薬と前記試液とを接触させた後、前記第2の基材側からの加熱を行いつつ前記試薬と前記試液との反応を進行させる工程と、を備えたことを特徴とする。
また、本発明の反応方法において、前記第2の基材側から加熱を行い、前記第1の基材、前記第2の基材の少なくとも一方に設けられたシーラント層の熱溶着により、前記第1の基材と前記第2の基材を接合することを特徴とする。
また、本発明の反応方法において、前記第2の基材にも前記第1の基材の凹部に対応する凹部を形成し、前記第1の基材の凹部と前記第2の基材の凹部の双方で前記反応容器を構成したことを特徴とする。
また、本発明の反応方法において、前記第1の基材として樹脂材料を用い、前記第2の基材として金属材料を用いることを特徴とする。
また、本発明の反応方法において、前記封止剤を、前記試薬および前記試液に不溶な材料で構成したことを特徴とする。
また、本発明の反応方法において、前記反応容器が、酵素反応用の反応容器であることを特徴とする。
上記第三の目的を達成するために、本発明の遺伝子処理装置用温度調節機構は、本発明の反応チップで、上部に配置される第1部材と、前記第1部材と異なる熱伝導率を有し、下部に配置される第2部材とからなる反応容器に充填された遺伝子サンプルを加熱・冷却して、前記遺伝子サンプル内の遺伝子を処理する遺伝子処理装置用温度調節機構であって、前記反応容器の上面に接触可能に配置された第1温度調節部と、前記反応容器の下面に接触可能に配置され、かつ前記第1温度調節部との間に前記反応容器を挟みこむことが可能に配置された第2温度調節部と、前記第1温度調節部及び前記第2温度調節部の前記反応容器に接触する面に配置された一対の金属板と、前記一対の金属板の前記反応容器に対向する面に配置され、前記反応容器の上面及び下面に接触可能に配置された一対の熱伝導部材と、前記第1温度調節部に接触して設けられた第1放熱部と、前記第2温度調節部に接触して設けられた第2放熱部と、を備えることを特徴とする。
本発明の遺伝子処理装置用温度調節機構によれば、第1温度調節部及び第2温度調節部の熱が、一対の金属板によって均一に拡散され、一対の熱伝導部材によって効率よく反応容器に伝達される。
本発明の遺伝子処理装置用温度調節機構は、前記第1温度調節部及び前記第2温度調節部に接続され、前記第1温度調節部及び前記第2温度調節部の温度を制御する制御部をさらに備え、前記制御部は、前記第1部材及び前記第2部材の熱伝導率に基づいて、前記第1温度調節部及び前記第2温度調節部の温度制御を、それぞれ独立に行うものでもよい。
この場合、第1部材側及び第2部材側で遺伝子サンプルの温度差が小さくなり、遺伝子の処理を好適に行うことができる。
また、本発明の遺伝子処理装置は、本発明の遺伝子処理装置用温度調節機構を備えることを特徴とする。
本発明の遺伝子処理装置によれば、第1部材及び第2部材からなる反応容器を使用しても、遺伝子の処理を迅速かつ好適に行うことができる。
本発明の反応チップによれば、凹部のうちの溝部の延在方向の少なくとも一方の縁部に、基材の一面から凹部の内壁面に向けて幅が漸次広くなり深さが漸次深くなる切り欠き部が形成されているので、凹部近傍での試液の流れが円滑になり、流路を構成する溝部から反応容器を構成する凹部への試液の流入、もしくは凹部から溝部への試液の流出が円滑に行われる。そのため、気泡を含有する試液が流れてきたとしても、気泡が凹部の内壁面に引っ掛かるようにして凹部内に残留する頻度を大きく低減することができる。このように、本発明の反応チップの使用により、所望とする反応の正確な検出、測定を行うことが可能となる。また、凹部の縁部に切り欠き部を形成する加工を施すだけで凹部内から気泡を排除することができるため、疎水性・親水性処理、コロナ処理やプラズマ処理等の表面処理を施す必要がない。
また、基材の一面と切り欠き部の内壁面とのなす角度が基材の一面と凹部の内壁面とのなす角度よりも小さい構成であれば、凹部の流入側もしくは流出側で内壁面の傾斜がなだらかになるため、基材の断面方向において試液の流動が滑らかになり、気泡の残留を効果的に防止することができる。
また、切り欠き部が溝部の延在方向の一方にのみ形成される場合、その切り欠き部が試液の流入側に形成された構成であれば、溝部から凹部への試液の流入が円滑に行われ、気泡の残留を効果的に防止することができる。
また、切り欠き部が試液の流出側にも形成され、試液の流入側に形成された切り欠き部と試液の流出側に形成された切り欠き部とが線対称の形状をなす構成であれば、2つの切り欠き部を容易に形成できるとともに、試液の流動が滑らかになることで気泡の残留をより効果的に防止することができる。
また、凹部が基材の一面に対して略直角をなす内壁面を有する柱状空間を開口側に有し、切り欠き部の端部での最大深さが柱状空間の深さよりも浅い場合、切り欠き部が形成された側の凹部の縁部に柱状空間の略直角をなす内壁面が残ることになる。この内壁面を利用して、試薬や試薬を一時固定する固定材等を凹部内に確実に収容することができ、隣接する反応容器への反応物の漏出等を防止することができる。
また、凹部の外形が平面視円形であり、切り欠き部の平面形状が基材の一面上の溝部の延在方向の1点から凹部の外縁をなす円に接する2本の接線を引いたときの2本の接線の内側の領域で規定される構成である場合、切り欠き部を含めた凹部の全体形状が最も流動抵抗の小さい形となり、凹部近傍での試液の流れが極めて円滑になるため、気泡の残留をより確実に防止することができる。
また、切り欠き部の溝部の延在方向の中心線が溝部の中心線と同一直線上にあれば、試液の流れが凹部内で偏らず円滑になるため、気泡の残留をより確実に防止することができる。
本発明の反応方法においては、反応チップが、相対的に熱伝導率が低い第1の基材と相対的に熱伝導率が高い第2の基材とから構成されており、試薬は第1の基材の凹部内に配置されている。そして、反応を行わせる際には、熱伝導率が高い第2の基材側から加熱を行い、封止剤を溶融させて試薬と試液とを接触させ、反応を進行させる。したがって、試液を供給した時点では試薬は封止剤に覆われており、コンタミネーションの発生を防止することができる。また、第2の基材側から加熱を行うことで反応容器全体に対する熱効率は優れたものとなる一方、試薬は熱伝導率が低い第1の基材側に配置されているため、チップ製造時に加わる熱が試薬に伝わりにくく、試薬の活性を低下させたり、失活させることがない。これにより、正確な反応データを測定することができる。
また、第2の基材側から加熱を行い、第1の基材、第2の基材の少なくとも一方に設けたシーラント層の熱溶着により第1の基材と第2の基材とを接合する構成であれば、基材同士を接合する際の熱で封止剤が溶解しにくく、封止剤が流出して流路を塞いだり、試薬の封止が不完全になる等の不具合を防止し、反応チップを安定して作製できるとともに、コンタミネーションの発生を確実に防止することができる。また、反応を阻害しないシーラント層を使用すれば、各基材の材質をより自由に選択することができる。これにより、耐熱性、バリア性、耐薬品性、試薬保存性が高く、反応性(熱伝導性)に優れたチップを実現可能な材質を選択することができる。
また、第2の基材にも第1の基材の凹部に対応する凹部を形成し、第1の基材の凹部と第2の基材の凹部の双方で反応容器を構成すれば、反応容器の容量を十分に確保できるとともに、反応容器の容量や形状に対する設計の自由度を高めることができる。また、熱伝導率が高い第2の基材の表面積が増えるため、反応容器全体の熱伝導率が高まり、酵素反応等の加熱により進行する反応をより効率良く短時間で行うことができる。
また、第1の基材に樹脂材料を用い、第2の基材に金属材料を用いる構成とすれば、上記のような優れた特性を有する反応容器や流路の加工を容易に行うことができる。
また、封止剤を試薬および試液に不溶な材料で構成すれば、試薬と試液とが組成が変化することなく接触し反応することができ、正確な反応データを測定することができる。
また、反応容器が酵素反応用の反応容器であれば、一般的な生化学反応である、酵素反応によるDNA増幅反応や、ハイブリタイゼーションによるDNA検出反応、SNPの検出反応等を反応チップ上で実現することができる。
本発明の遺伝子処理装置用温度調節機構及び遺伝子処理装置によれば、熱伝導率の異なる複数種類の材料で構成された反応容器を用いても、反応容器に充填された遺伝子サンプルに含まれる遺伝子を好適に処理することができる。
(第一実施形態)
以下、本発明の一実施の形態を図1〜図7を参照して説明する。
本実施形態では、生化学反応解析用の反応チップの例を示す。
図1は、本実施形態の反応チップの斜視図である。図2は、反応チップを構成する樹脂基材(第1の基材)の平面図である。図3は、反応チップを構成する金属基材(第2の基材)の平面図である。図4(a)〜(c)は、樹脂基材の一つの凹部の拡大図であり、図4(a)は斜視図、図4(b)は平面図、図4(c)は側断面図である。図5(a)、(b)は、凹部の他の例を示す図であり、図5(a)は斜視図、図5(b)は側断面図である。図6(a)〜(c)は、同反応チップを用いた反応検出方法を手順を追って示す工程断面図である。図7は、他の形態の反応チップを用いたときの工程断面図である。
なお、以下では、説明の便宜上、蛍光反応等を検出、測定する際に上側に位置する樹脂基材側を「上側」、下側に位置する金属基材側を「下側」とする。
本実施形態の反応チップ1は、図1に示すように、平面形状が縦、横ともに数十mm程度の長方形状であり、厚みが数mm程度の小型のものである。反応チップ1は、樹脂基材2(第1の基材)と、樹脂基材2の下面側に配置された金属基材3(第2の基材)と、から構成されている。本実施形態の反応チップ1においては、樹脂基材2に反応容器4を構成する凹部が形成され、金属基材3には反応容器4を構成する凹部と流路5を構成する溝部とが形成されている。
樹脂基材2は、光透過性、耐熱性、耐薬品性、成型加工性、強度の面で優れるポリプロピレンの板材を用いることができる。その他、同様の特性を有する材料として、ポリカーボネート、アクリル(ポリメチルメタクリレート)、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン等の樹脂材料を用いても良い。
樹脂基材2の厚さは、使用中に容易に折れ曲がることのない程度の厚みとするのが好ましい。また、樹脂基材2は、2種類以上の樹脂が接合されて形成されていても良い。この場合、それぞれの樹脂の特徴を生かして基材を作製することにより、反応試薬や試料等の物性に応じた多様な基材とすることが可能となり、用途毎に使い分けることができる。例えば、基材の上半分と下半分とで材料を分けたりするのも可能である。さらに、基材の素材としては、樹脂に限らず、石英ガラスを用いることもできる。
樹脂基材2の下面には、図2に示すように、反応容器4の一部を構成する複数(本実施形態では36個、6行×6列)の凹部6が形成されている。これらの凹部6は互いが連通しておらず、孤立したものである。凹部6の平面形状は円形であり、断面形状は、図4(c)等に示すように、樹脂基材2の下面に近い側が円柱状空間6a、下面から遠い側が円錐台状空間6bとなっている。凹部6の形状(平面形状、断面形状ともに)は、反応に必要な試薬、試液の量に応じて試薬の全体が凹部6の底部側に確実に収容できるように適宜設計することができる。ただし、本実施形態のように、凹部が柱状空間の底部側に錐台状空間を有する構成であれば、錐台状空間の部分での液体の据わりが良いため、試薬や固定材を確実に収容することができる。特に、凹部が形成された側の基材が光透過性を有する材料で構成されていれば、錐台状空間の平坦な底面が蛍光反応の検出等を行うのに好適であり、正確な蛍光検出を行うことができる。
凹部6は、樹脂基材2を構成する樹脂板を切削加工したり、基材を構成する樹脂材料を射出成形する等の方法で形成される。また、凹部6(反応容器4)の直径は、反応チップの小型化という観点からも0.01mm以上、10mm以下程度とするのが好ましい。このようにすると、後述する試液の供給が比較的容易になり、固定試薬及び試液の量も少量に抑えることができる。後述するように、樹脂基材2の各凹部6内には、使用時に添加されるDNA等を含んだサンプルとの初期反応に必要な試薬が配置される。一つの反応チップで複数種の反応を行えるように上記の試薬を一部の凹部6にのみ配置しても良い。
なお、凹部6の構成については後で詳述する。
また、樹脂基材2の上面(凹部6が形成された面と反対側の面)の一端には、図1、図2に示すように、複数(本実施形態では6個)の試液注入口7が設けられている。試液注入口7は、樹脂基材2の天板部2aを貫通する貫通孔(図示略)に連通しており、上方に突出する円筒状に形成されている。試液注入口7が設けられた側と反対側の樹脂基材2の他端には空気排出孔8が設けられている。空気排出孔8は円筒状で中心に貫通孔を有し、貫通孔内にはフィルター(図示略)が充填されている。フィルターは、試液が流れている間は空気を通し、試液を円滑に流す機能を果たす一方、流路から流れてきた試液が空気排出孔8に到達した際には試液を堰き止め、外部に流出させない機能を果たす。樹脂基材2の天板部2aの縁には、天板部2aから下方に向けて垂下する枠部2bが設けられており、金属基材3は枠部2bの内側に配置されて固定されている。
金属基材3には、例えばアルミニウムのシートを用いることができ、アルミニウムシートの片面にのみ樹脂シーラント層(図示略)が形成されている。樹脂シーラント層は、ポリプロピレンを主材料とし、金属基材3と樹脂基材2との熱溶着が可能な接着層である。
金属基材3の材料としては、アルミニウムの他、銅、銀、ニッケル、真鍮、金等を用いても良い。
金属基材3の上面には、図3に示すように、反応容器4の一部を構成する複数(本実施形態では36個)の凹部11が形成されている。これらの凹部11は、金属基材3と樹脂基材2とを位置合わせしたときに樹脂基材2の凹部6と対応する位置に形成されている。
凹部11の断面形状は、樹脂基材2の凹部6と異なり、図6に示すように、略半球状となっている。本実施形態では、樹脂基材2側と金属基材3側とで双方の凹部6,11が1:1に対応しているが、使用目的等によっては必ずしも1:1に対応しなくても良いし、異なる大きさの凹部を形成しても良い。本実施形態の場合、樹脂基材2側と金属基材3側とで凹部6,11の容量は略同一である。
また、金属基材3の上面の凹部11と凹部11との間に流路5の一部を構成する溝部12が形成されている。本実施形態の反応チップ1は、図1、図3に示すように、6組の流路5を有しており、1組の流路5には6個の凹部11(反応容器4)が直列に連通する形態となっている。また、各試液注入口7、各空気排出孔8に対応する位置には僅かな凹部13が形成されており、凹部13と凹部11との間にも溝部12が形成されている。よって、各試液注入口7から注入された試液は、流路5を流れていき、6個の反応容器4に順次充填された後、空気排出孔8のフィルターで堰き止められる。
以下、樹脂基材2の凹部6の構成について、図4(a)〜(c)を用いて詳細に説明する。なお、図4(a)のみは、凹部6の形状を見やすくするため、上下を反転させて描いている。
凹部6は、平面形状が直径T1の円形であり、断面形状が樹脂基材2の下面に近い側が直径がT1、深さがD1の円柱状空間6a、下面から遠い側(凹部の底面側)が底面の円の直径がT2、深さがD2の円錐台状空間6bとなっている。そして、凹部6のうち、溝部12(流路5)の延在方向にあたる試薬の流入側、流出側の双方の縁部に、樹脂基材2の下面2dから凹部6の内壁面6dに向けて幅が漸次広くなり、深さが漸次深くなる切り欠き部15がそれぞれ形成されている。試薬の流入側、流出側の各切り欠き部15は、同一の形状であり、図4(b)に示すように、溝部12の延在方向と垂直な方向に延びる中心線Cに対して線対称に配置されている。なお、試薬の流入側、流出側の各切り欠き部15は、異なる形状としても良く、中心線Cに対して必ずしも線対称にしなくても良い。
切り欠き部15は、図4(a)に示すように、立体的には、樹脂基材2の下面2dから溝部12の延在方向に凹部6の内壁面6dに向けて三角錐状に切り欠いた形状である。したがって、切り欠き部15の底部は鋭角の谷線15bをなしている。凹部6の円柱状空間6aにおいては、内壁面6dが樹脂基材2の下面2dに対して略直角の角度をなすように切り立っているため、切り欠き部15を形成したことによって、図4(c)に示すように、樹脂基材2の下面2dと切り欠き部15の谷線15bとのなす角度θ1は、樹脂基材2の下面2dと凹部6の内壁面6dとのなす角度θ2(θ2≒90°)よりも充分小さくなる。なお、切り欠き部15の底部は、必ずしも鋭角の谷線とする必要はなく、例えばなだらかな湾曲面としても良い。
切り欠き部15の平面形状は、図4(b)に示すように、樹脂基材2の下面2d上の溝部12の延在方向の任意の点Aから凹部6の外縁をなす円に接する2本の接線L1,L2を引いたときに、2本の接線L1,L2と円とで囲まれる内側の領域で規定される。2本の接線L1とL2とのなす角度をθとすると、θは5°以上であることが好ましい。θが5°以下では加工が困難であり、気泡除去の効果もほとんど得られないからである。点Aから切り欠き部15の谷線15bと円との交点までの距離T3は、樹脂基材2の隣接する凹部6間の間隔に応じて適宜決定することができる。また、切り欠き部15の溝部12の延在方向に沿う中心線(谷線15b)が、金属基材3側の溝部12の中心線と同一直線上に揃うように設計される。以上のような平面形状により、本実施形態の各凹部6の平面形状は流動抵抗が充分に小さい形となり、試液が極めて円滑に流れるようになる。
一方、切り欠き部15を溝部12の延在方向に延びる中心線に沿って切断したときの断面形状は、図4(c)のようになる。なお、切り欠き部15のうち、実際に外観上現れるのは実線で示した線であり、2点鎖線で示したのは断面形状として三角形状に切り欠くように設計する際の設計上の(仮想)三角形である。この三角形の円柱状空間6a内に位置する頂点での仮想的な深さをD3とする。したがって、切り欠き部15の谷線15bが凹部6(円柱状空間6a)の内壁面6dと交差する点の樹脂基材2の下面2dからの距離が、切り欠き部15の最大深さD4となる点である。
本実施形態において、寸法の一例を示すと、凹部(円柱状空間)の直径T1が3mm、円錐台状空間の底面の直径T2が2mm、点Aから切り欠き部15の谷線15bと円との交点までの距離T3が1mm、円柱状空間6aの深さD1が0.8mm、円錐台状空間6bの深さD2が0.7mm、仮想三角形の円柱状空間6a内に位置する頂点での仮想的な深さD3が0.6mm、である。なお、これらの寸法はほんの一例であり、適宜設計変更が可能である。
図4(c)で示す例では、切り欠き部15の最大深さとなる寸法D4が凹部6の円柱状空間6aの深さD1よりも浅くなっている。そのため、円柱状空間6aの縁部に切り欠き部15を形成していても、切り欠き部15の谷線15bの位置においては凹部6の円柱状空間6aの垂直な内壁面6dが残っている。したがって、この例では、後述する試薬やワックスを収容可能な容量を確保できるとともに、垂直な内壁面6dが残る円柱状空間6a部分にワックスの上面が位置するように、円錐台状空間6bおよび円柱状空間6aの内部に試薬やワックスを確実に収容することができる。
もしくは、図5(a)、(b)に示すように、切り欠き部16の最大深さとなる寸法D4’を凹部6の円柱状空間6aの深さD1と等しくした設計としても良い。この場合、図4(b)で示す構成よりも切り欠き部16の大きさが実質的に大きくなり、切り欠き部16の谷線16bの位置においては凹部6の円柱状空間6aの垂直な内壁面が残っていない。この例の場合には、試薬やワックスを収容する空間の容積が図4(b)で示す構成に比べて若干減るものの、試液がより円滑に流れやすく、気泡の残留を防止することができる。
以下、本実施形態の反応チップ1の製造方法について、図6、図7を用いて説明する。
図6(a)に示すように、アルミニウムシートの片面に樹脂シーラント層を形成し、基材シートを作製した後、基材シートに絞り加工を施す等の方法により複数の凹部11と溝部12とを備えた金属基材3を作製する。一方、射出成型等の方法により、複数の凹部6を有する樹脂基材2を作製する。そして、切削等の方法により、凹部6の縁部に切り欠き部15を形成する。切削方法は任意に選択することができる。なお、射出成型等の方法により、当初から切り欠き部15を有する複数の凹部6を備えた樹脂基材2を作製しても良い。
次に、凹部6の開口を上に向け、樹脂基材2の複数の凹部6内に試薬Sを入れ、固定する。さらに、試薬Sの上をワックスWで覆い、固化させる。本明細書において、ワックス(固定材)とは、凹部6内に配置された試薬を覆い、試薬と試液の反応が起きるまで固体状であるものを言う。ワックスは、単一物質でも良いし、複数の物質で構成されていても良い(例えば、混合物)。本発明の実施例では、熱溶融型のワックスを用いたが、熱以外で溶融したり、ワックスが割れるなどして、試薬が試液と混合するようなものを採用することもできる。ワックスは、試薬と試液の反応を阻害せず、必要とする温度で溶融するものであれば、任意に選択することができる。
また、本発明で用いる試薬は、固体状でも液体状でも良い。
次に、図6(b)に示すように、試薬Sを固定した樹脂基材2と金属基材3とを、互いの凹部6,11が形成された面同士が対向するように重ね合わせて熱を加えると、金属基材3の表面の樹脂シーラント層が溶融し、樹脂基材2と金属基材3とが溶着される。以上の工程で、複数の反応容器4と流路5とを備えた反応チップが完成する。
なお、熱溶着の方法としては、ヒートシーラー、レーザ溶着、超音波溶着等の方法から適宜選択することができる。もしくは、溶着に代えて、接着により樹脂基材2と金属基材3とを貼り合わせても良い。その場合、貼り合わせに使用する接着剤は、目的の反応を阻害しないものであれば、市販のものから適宜選択することができる。樹脂基材2と金属基材3との間に粘着剤を介在させ、ローラー等で機械的に圧着する方法でも良い。
次に、図6(c)に示すように、完成した反応チップの各反応容器4に試液Lを送液する。送液後、金属基材3の溝部12の一部を塑性変形させて流路5を閉塞し、各反応容器4を独立した状態とする。各反応容器4を独立した状態とすることで、隣接する反応容器4間で不要な試薬の混合が生じるのを防止できる。金属基材3の溝部12を塑性変形させる手段として、装置を用いて溝部12の一部に外側から機械的に外力を加えても良いし、人手により外力を加えても良い。その後、反応チップ1の温度を所定の温度(ワックスWの融点以上)に制御すると、固化していたワックスWが溶融し、反応容器4の内部で試薬Sと試液Lが混合され、反応が開始する。本実施形態では、ポリプロピレン製の樹脂基材2が透明性が高いため、反応時の蛍光検出を樹脂基材2側の外部から行うことができる。
以上、金属基材3側に凹部11と溝部12を形成した反応チップの例を用いて説明したが、凹部や溝部を全て樹脂基材側に作り込み、金属基材側は平坦な板材やフィルム3A(金属以外でも可)を用い、平坦な板材やフィルム3Aで樹脂基材の凹部を覆うだけという構成を採用しても良い。その例を図7(a)〜(c)に示す。凹部と溝部をいずれの基材に形成するかが異なるだけであり、基本的な製造工程は変わらないため、図7(a)〜(c)において、図6(a)〜(c)と共通する構成要素には同一の符号を付し、説明は省略する。
本実施形態の反応チップ1においては、樹脂基材2に形成した凹部6のうち、試薬Lの流入側、流出側の縁部に切り欠き部15が形成されているので、凹部6の近傍での試液Lの流れが円滑になり、流路5から反応容器4への試液Lの流入、および反応容器4から流路5への試液Lの流出が円滑に行われる。そのため、気泡を含有する試液Lが流れてきたとしても、気泡が反応容器4を素通りしてしまい、凹部6内に残留する頻度を大きく低減することができる。その結果、本実施形態の反応チップ1を使用すれば、所望とする反応の正確な検出や測定を行うことができる。また、凹部6の縁部に切り欠き部15を形成する加工を施すだけで凹部6内から気泡を排除することができるため、疎水性・親水性処理、コロナ処理やプラズマ処理等の表面処理を施す必要がない。よって、反応チップ1の製造工程を簡略化することができる。
なお、本発明の技術範囲は上記実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。例えば、上記実施形態では、流路を構成する溝部を金属基材のみに形成したが、試液の容量等に応じて樹脂基材側にも溝部を形成し、金属基材と樹脂基材の双方で流路を構成するようにしても良い。さらに、上記実施形態では、反応容器の大きさが全て同一である例について説明したが、これに代えて、大きさが異なる複数の反応容器を備えていても良い。この場合、それぞれの反応容器の大きさに合わせて切り欠き部の形状や寸法の最適化を行っても良い。また、上記実施形態で例示した反応容器や流路の形状、数、配置、各基材の材料、寸法、各製造工程で用いた各種手法、等の具体的な構成はほんの一例に過ぎず、適宜変更が可能である。
(第二実施形態)
以下、本発明の一実施の形態を図8〜図11を参照して説明する。
図8は、本実施形態の反応チップの斜視図である。図9(a)は、同反応チップの平面図、図9(b)は図8のA−A’線に沿う断面図である。図10は、同反応チップを用いた反応方法を手順を追って示す工程断面図である。図11は反応チップの他の例を示す断面図である。
なお、以下では、説明の便宜上、蛍光反応等を検出、測定する際に上側に位置する樹脂基材側を「上側」、下側に位置する金属基材側を「下側」とする。
本実施形態の反応チップ21は、図8に示すように、長方形状であり、厚みが数mm程度の小型のものである。反応チップ21は、カバー材22(第1の基材)と、カバー材22の下面側に嵌め込まれた基板23(第2の基材)と、から構成されている。本実施形態の反応チップ21は、図9(b)に示すように、カバー材22に反応容器24を構成する凹部26が形成され、基板23には反応容器24を構成する凹部27と流路25を構成する溝部28とが形成されている。本実施形態の反応チップ21は、12個の反応容器24を有する流路25を3組備えている。
(カバー材)
カバー材22は、全体的に長方形状を呈しており、使用中に容易に折れ曲がることのない厚みで形成されている。カバー材22は、PP(ポリプロピレン)やPC(ポリカーボネート)、アクリル樹脂(ポリメチルメタクリレート)、PET(ポリエチレンテレフタレート)、PE(ポリエチレン)、PV(ポリ塩化ビニル)、PS(ポリスチレン)等の樹脂材料で構成されている。このような合成樹脂を用いてカバー材22を作製すれば、耐熱性、耐薬品性、成形加工性などに優れているため、好ましい。さらに、2種類以上の樹脂を接合して用いてもよい。この場合、それぞれの樹脂の特徴を活かしてカバー材22を作製することにより、試薬および試液等の特性に応じた多様なカバー材22とすることが可能となり、用途ごとに使い分けることができる。例えば、カバー材22の上半分と下半分とで材料を分けたりすることも可能となる。なお、カバー材22の素材として、樹脂材料の他、石英ガラス等を用いてもよい。
カバー材22には、図9(a)、(b)に示すように、試薬を配置する複数(本実施形態の場合、36個)の凹部26と、反応容器24および試液を供給するための流路25に連結する試液注入口30が設けられている。また、1組の流路25において、試液注入口30と反対側の端部には微小な貫通孔31が設けられており、貫通孔31の内部に高密度フィルター(図示略)が充填されている。これにより、送液された試液が出口から溢れ出るのを防止することができる。あるいは、試液注入口30と反対側の端部にも同様の注入口を設け、流路25のどちらからでも注入できる構成としても良い。また、試液注入口30の内側は、一般的なピペットマン用の分注チップの先端が注入口の途中で嵌るように、テーパ状になっている方が好ましい。これにより、試液の送液が容易になり、気泡の混入を防止する事ができる。また、試液注入口30および出口側の構造物を覆う蓋を設ければ、反応中の試液の飛散による装置の汚染を防止することができる。
(基板)
基板23は、全体的に長方形状を呈している。この基板23は、金、銀、銅、アルミニウム、亜鉛、錫、白金、ニッケル、真鍮、またはこれら2種類以上の合金、等の金属を含む材料で構成されている。このような金属を含む材料で基板23を作製すれば、反応容器24内の反応液への熱伝導率が良くなり、効率良く短時間で反応を行うことができるため好ましい。また、カバー材22と基板23を熱溶着により貼り合わせるため、基板23の金属層の上部にはシーラント層(図示略)が設けられている。この構成によれば、基板23を構成する金属が直接反応液に触れないため、反応阻害を引き起こす金属を使用することも可能となる。
基板23には、カバー材22の凹部26に対応する位置に複数(本実施形態の場合、36個)の凹部27が形成され、隣接する凹部27間を連通させるように、試液を供給するための溝部28が設けられている。凹部27の直径は、カバー材22の凹部26の直径とほぼ同じであることが好ましい。これにより、凹部26および凹部27に対して均等に反応試液を供給することができ、気泡の混入を防止することができる。また、流路25の幅および深さは、0.5mm以上、5mm以下であることが望ましい。この寸法とすれば、カバー材22と基板23とを貼り合わせる際に、シーラント層の流路へのはみ出しによる流路閉塞を防止でき、また、気泡の混入を防止することができる。
(反応容器)
カバー材22側の凹部26は、図10(a)に示すように、基板23に対向する下側の領域が円柱状の空間となっており、上側(底面側)の領域が円錐台状の空間となっている。このように、凹部26の底部は、平坦であることが好ましい。これにより、透明なカバー材22を通して反応結果を蛍光検出によって得る場合、底部が平坦でない場合に比べて光の拡散が少なくなり、効率良く蛍光検出を行うことが可能となる。凹部26の直径は、0.5mm以上、10mm以下であることが望ましい。これにより、凹部26に対する試液の供給が容易になり、気泡の混入を防止することができる。
基板23側の凹部27は、図10(a)に示すように、半球状の形状になっている。反応容器24の下側にあたる凹部27を半球状に形成すれば、試液充填後に反応のための熱を加えた際に反応容器24内で効率良く対流が起こり、よりスムーズに反応を進行させることができる。また、反応容器24の形状を、一般的にPCRで使用されるPP製チューブと同様の形状にすれば、反応のための熱をかけるヒートブロックとの密着性が増し、より効率良く反応液に伝熱することができ、短時間に反応を進行させることができる。
凹部26は、樹脂材料からなるカバー材22を切削する方法や、金型内で樹脂材料を射出成型する方法等によって形成される。カバー材22をPC(ポリカーボネート)などの硬質の樹脂材料で構成する場合には、切削法を用いて凹部26を形成することができる。また、基板をPP(ポリプロピレン)などの軟質な樹脂材料で構成する場合には、成型法を用いて凹部26を形成することが好ましい。また、PCで成型法を用いて凹部26を形成することもできる。
一方、凹部27および溝部28は、金属層とシーラント層を接着剤によって貼り合わせた基板23に、金型を用いた絞り成型を施す方法等によって形成される。
(封止剤)
図10(a)に示すように、カバー材22の凹部26の内部には、核酸プローブ等の固定試薬Sが配置されている。この固定試薬Sが、凹部26内に配置された熱溶融型の封止剤Wで覆われている。熱溶融型の封止剤Wとは、常温で固体であり、固定試薬と試液との反応(以下、「主反応」という。)の開始温度付近で溶融する封止剤である。少なくとも80〜90℃付近で溶解するように、融点は35〜90℃付近であることが望ましい。この封止剤Wとして、固定試薬および試液よりも比重が小さいものを採用することが望ましい。ただし、主反応を阻害しないものであることが前提となる。具体的な封止剤として、AppliedBiosystems社製のAmpliWax(登録商標)PCR Gem 100を採用することができる。これは、PCR増幅反応の際に溶解して層をなし、反応試液の蒸発を防ぐよう、ミネラルオイルにかわるものとして考案された製品である。常温では固体であり、55〜58℃で融解する。なお、封止剤Wによって覆われる固定試薬Sは、液体でも固体でもよい。この固定試薬Sが試液よりも比重の大きい液体である場合、また、溶融した封止剤Wが固定試薬Sや試液よりも比重が大きい場合、より固定試薬Sと試液と混合しやすく有利である。
この封止剤Wを凹部26内に配置するには、予め固定試薬Sを配置した凹部26内に、適量の固体の封止剤Wを投入し、その封止剤Wを加熱するという方法を用いることができる。
これにより、溶融された封止剤Wが凹部26の底部に濡れ広がり、その後、封止剤Wを冷却すれば、固定試薬Sを覆った状態で凹部26内に封止剤Wを配置することができる。もしくは、予め固定試薬Sを配置した凹部26内に、予め溶融させておいた封止剤Wをピペットマンで分注する方法を用いても良い。この方法では、封止剤Wの量をより正確に規定することができるため、有利である。
さらに、溶融された封止剤Wが凹部26の底部に濡れ広がっている状態で、冷却させる前に遠心操作を行なうことが好ましい。これにより、封止剤Wはより確実に固定試薬Sを隠蔽することができる。また、凹部26の壁面にある封止剤Wが凹部26の底部に移動するため、カバー材22と基板23とを熱溶着により貼り合わせる際、封止剤Wの再溶融による流路25への流出を防止することができる。
このようにして、凹部26内に封止剤Wを配置した後に基板23を貼り合わせる。
(反応方法)
次に、上述した分析チップを用いた反応方法を、図8〜図10を用いて説明する。
まず、図8、図9に示す試液注入口30から試液Lを注入する。こうして、図10(b)に示すように、試液注入口30から流路25へと試液Lを流入させる。すると、試液Lは、流路25を通って複数の反応容器24に対して順に供給される。この試液Lの供給は、常温または常温以下の送液可能なまでの低温で行う。
ここで、図10(b)に示すように、カバー材22側の凹部26の内部には、固定試薬Sを覆った状態で固体状の封止剤Wが配置されている。そのため、反応容器24に供給された試液Lは、固定試薬Sと接触することなく、封止剤Wの表面に配置される。
このように、本実施形態の反応チップ21では、固定試薬Sを覆った封止剤Wの下方に試液Lが供給されるので、固定試薬Sが隣接する反応容器24に流出することがなくなる。したがって、コンタミネーションの発生を防止することができる。
反応容器24に試液Lを送液した後、基板23の隣接する凹部27間の溝部28の一部を塑性変形させて流路25を閉塞し、各反応容器24を独立した状態とする。各反応容器24を独立した状態とすることで、隣接する反応容器24間で不要な試薬の混合が生じるのを防止できる。
基板23の溝部28を塑性変形させる手段として、装置を用いて溝部28の一部に外側から機械的に外力を加えても良いし、人手により外力を加えても良い。
次に、図10(c)に示すように、反応容器24を加熱して封止剤Wを溶融させる。このとき、固定試薬Sが配置されたカバー材22側ではなく、基板23側から加熱を行う。封止剤Wが、固定試薬Sや試液Lより比重が小さい場合は、溶融した際には固定試薬Sと上下が入れ替わり、固定試薬Sが試液Lと接触する。また封止剤Wが、固定試薬Sや試液Lより比重が大きい場合は、溶融した際に試液Lと上下が入れ替わり、試液Lが固定試薬Sと接触する。なお、主反応の反応開始温度が封止剤Wの融点と同等または封止剤Wの融点より高い場合には、反応開始温度まで昇温させている途中に固定試薬Sと試液Lとの接触が起こり、反応開始温度になった時点で主反応が開始する。
また、主反応の反応開始温度が封止剤Wの融点より低い場合には、反応容器24をさらに加熱して固定試薬Sと試液Lとを接触させた後、反応開始温度まで降温させて主反応を開始させる。本実施形態において、反応中に加熱を行うときは基板23側から行う。
本実施形態の反応方法においては、反応チップ21が、相対的に熱伝導率が低い樹脂製のカバー材22と相対的に熱伝導率が高い金属製の基板23とから構成されており、試薬Sはカバー材22の凹部26内に配置されている。そして、反応を行わせる際には、熱伝導率が高い基板23側から加熱を行い、封止剤Wを溶融させて試薬Sと試液Lとを接触させ、反応を進行させる。したがって、試液Lを供給した時点では試薬Sは封止剤Wに覆われており、コンタミネーションの発生を防止することができる。また、基板23側から加熱を行うことで反応容器24全体に対する熱効率は優れたものとなる一方、試薬Sは熱伝導率が低いカバー材22側に配置されているため、試薬Sにはチップ製造時の熱が伝わりにくく、試薬Sの活性を低下させたり、失活させることがない。これにより、正確な反応データを測定することができる。
なお、本発明の技術範囲は上記実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。例えば、上記実施形態では、基板23側に反応容器24を構成する凹部27や流路25を構成する溝部28を形成したが、反応容器に必要とされる容量等に応じて、図11に示すように、溝部33をカバー材22A側に形成し、基板23Aとして平坦な板材を用いても良い。もしくは、上記実施形態では、流路25を構成する溝部28を基板23のみに形成したが、試液Lの容量等に応じてカバー材22側にも溝部を形成し、基板23とカバー材22の双方で流路を構成するようにしても良い。また、上記実施形態で例示した反応容器や流路の形状、数、配置、各基材の材料、寸法、一連の製造工程で用いた各種手法、等の具体的な構成はほんの一例に過ぎず、適宜変更が可能である。
(第三実施形態)
以下、本発明の一実施形態の遺伝子処理装置用温度調節機構(以下、「温調機構」と称する。)について、図12から図19を参照して説明する。
図12は、本実施形態の温調機構41を備えた遺伝子増幅装置(遺伝子処理装置)42の要部を示す斜視図である。遺伝子増幅装置42は、反応容器が設置される移動台43と、反応容器を加熱、冷却する温調機構41と、反応容器の反応を測定する測定部44とを備えている。
移動台43は枠状に形成されており、後述する反応容器が下面を露出させた状態で載置される。そして、ステッピングモータやサーボモータ等の公知の構成からなる移動機構45によって、遺伝子増幅装置42の上面に設置されたレール46に沿って温調機構41の上方に移動できるように構成されている。
移動機構45としては、上記の構成のほかに、例えばステッピングモータとベルトの組み合わせや、磁力等を用いてレール46と移動台43とを非接触で移動させる構成等、公知の移動機構の構成から適宜選択して用いることができる。
測定部44は、励起光の導入と蛍光の測光を行う発光検知部47と、発光検知部47を移動させる測定部移動機構48とから構成されており、増幅後の遺伝子サンプルに対して検査を行う。なお、測定部44は、本発明の遺伝子増幅装置42には必須ではなく、増幅のみを目的とする構成をとる場合は、設けられなくてもよい。
温調機構41は、移動台43よりも上方に配置された第1ユニット49と、移動台43よりも下方に配置された第2ユニット50とから構成されている。第1ユニット49は、一対の支持アーム51によって上下に移動可能に支持されている。第2ユニット50も、図示しない移動機構によって上下に移動可能に支持されている。
上記の構成によって、温調機構41は、レール46上を移動して第1ユニット49と第2ユニット50との間に停止した移動台43に対し、第1ユニット49及び第2ユニット50が移動台43に向かって移動して、移動台43及び移動台43に載置された反応容器を挟み込んで加熱・冷却を行えるように構成されている。
図13は温調機構41が反応容器100を挟み込んだ状態を示す概略断面図、図14は図13の反応容器100周辺の詳細を示す拡大断面図である。なお、図13及び図14においては、温調機構41の構成をわかりやすく示すために、移動台43やレール46等の機構を省略して示している。
図13に示すように、第1ユニット49は、反応容器100の上面側を加熱・冷却する第1温度調節部52と、第1温度調節部52の上部に第1温度調節部52と接触して設けられた第1ヒートシンク(第1放熱部)53とを備えている。第2ユニット50も同様に、反応容器100の下面側を加熱・冷却する第2温度調節部54及び第2ヒートシンク(第2放熱部)55を備えており、第1ユニット49及び第2ユニット50は、互いの温度調節部52、54が対向するように配置されている。
各温度調節部52、54は、ペルチェモジュールからなり、図示しない電源から通電されて、反応容器100の加熱・冷却を行う。図14に示すように、各温度調節部52、54の上下の面には、熱伝導性を向上させるために、カーボングラファイトからなる第1熱伝導層56が設けられている。
各ヒートシンク53、55は、それぞれファン57が密着して設けられた公知の空冷式ヒートシンクであり、各温度調節部52、54から発せられる熱を、装置の外部に放散する。なお、空冷式に代えて、水冷式のヒートシンクが設けられてもよい。
また、各ユニット49、50は、各温度調節部52、54の温度の設定及び調節を行う制御部58に接続されている。制御部58は、遺伝子増幅装置42の内部に組み込まれてもよいし、遺伝子増幅装置42と接続された外部のパソコン等の機器に格納されてもよい。なお、制御部58の温度制御態様については後述する。
図14に示すように、各温度調節部52、54の反応容器100に接触する面の第1熱伝導層56上には、各温度調節部52、54で発せられた熱を面方向に均一に分散させる一対の金属板59が配置されている。金属板59の材料としては、銀やアルミニウム等を採用することができる。
金属板59の反応容器100に対向する面には、上述の第1熱伝導層56が設けられ、その上に、弾性を有する熱伝導性材料からなる一対の第2熱伝導層(熱伝導部材)60が設けられている。第2熱伝導層60を構成するシート状材料としては、高い熱伝導率を有するシリコーンゴムシート(商品名 サーコン:富士高分子工業(株)製)や、高い熱伝導率を有するシリコーンゲルシート(商品名 ラムダゲル:(株)ジェルテック製)等を採用することができる。
なお、第2熱伝導層60は、反応容器100の下部に凹凸があっても下部全面に接することができるように、第2ユニット50に取付けられるものを若干厚めにするのが好ましい。本実施形態においては、第1ユニット49に取付けられるものの厚さを0.5ミリメートル(mm)、第2ユニット50に取付けられるものの厚さを2.0mmにそれぞれ設定している。反応容器の上部に凹凸がある場合は、第1ユニット49に取付けられる第2熱伝導層60の厚さを厚くすることで対応可能である。
上記構成によって、各温度調節部52、54は、第1熱伝導層56、金属板59、及び第2熱伝導層60を介して反応容器100の上面及び下面全体の加熱及び冷却を行うようになっている。
また、各温度調節部52、54及び反応容器100の外周は、断熱材61で覆われている。断熱材61としては、樹脂や発泡スチロール等を採用することができる。
図15は、遺伝子増幅装置42に使用される反応容器100の一例を示す斜視図、図16は図15のA−A’線における断面図、図17は、図15のB−B’線における断面図である。
図15及び図16に示すように、反応容器100は、樹脂からなり上部に配置される第1部材101と、金属からなり下部に配置される第2部材102とから構成されている。
第1部材101としては、ポリプロピレン等を採用することができ、第2部材102としてはアルミニウムや銅等を採用することができる。
図15に示すように、反応容器100は、遺伝子(核酸)を含む遺伝子サンプルが充填されるウェル103を複数有している。すなわち、各ウェル103の上部は第1部材101によって形成され、下部は第2部材102によって形成されているため、各ウェル103の上部と下部では、熱伝導性が異なり、上部の方が熱伝導率が低くなっている。
また、ウェル103の上部を形成する第1部材の内面には、PCR反応に用いられる試薬104が配置されている。なお、試薬104は、ウェル内に配置されず、後述する遺伝子サンプル充填時に共に充填されてもよい。
図15及び図17に示すように、各ウェル103は、任意の個数ごとに流路105で連通されており、各流路105の両端には遺伝子サンプルを注入する注入口106及び脱気口107が設けられている。そして、注入口106から遺伝子サンプルを注入すると、流路105内の空気は脱気口107から排出され、遺伝子サンプルは流路105を伝って連通された各ウェル103に充填されるように構成されている。
上記のように構成された遺伝子増幅装置42の使用時の動作について、以下に説明する。
まず、遺伝子サンプルがウェル103に充填された反応容器100の流路105を治具等で閉鎖して各ウェル103を独立した空間にする。そして、反応容器100を移動台43に載置し、遺伝子増幅装置42を起動する。
移動台43上の反応容器100は、移動機構45によってレール46上を移動し、温調機構41の第1ユニット49と第2ユニット50との間で停止する。移動台43の停止後、第1ユニット49は下降し、第2ユニット50は上昇して、反応容器100が上下から温調機構41に挟み込まれてそれぞれ反応容器100の上面及び下面全体に接触する。
反応容器100が温調機構41に挟持された後、第1温度調節部52及び第2温度調節部54が図示しない電源から通電される。そして、反応容器100内の遺伝子サンプルに含まれる遺伝子をPCR法によって増幅すべく、制御部58の制御にもとづいて、所定の温度サイクルになるように加熱及び冷却する。
図18は、PCR法の温度サイクル、温調機構41の温度制御、及び反応容器各部の温度を示すグラフである。制御部58は第1温度調節部52及び第2温度調節部54に、それぞれ独立した温度制御を行う。
図18に示すように、本実施形態においては、太い実線で示すように95℃付近と68℃付近の温度を交互に繰り返す温度サイクルでPCR法による遺伝子増幅が行われる。したがって、この温度サイクルが、遺伝子サンプルに対する狙い温度となり、各温度調節部52、54の温度制御の基準となる。
反応容器100の下部は、熱伝導率の高い第2部材102で形成されているため、一点鎖線で示すように、第2温度調節部54を約95℃まで加熱することによって、破線で示すように、ウェル103内(上下方向中央部付近)の温度も95℃付近まで上昇する。しかしながら、反応容器100の上部は、第2部材102より熱伝導率の低い第1部材101で形成されているため、第1部材101付近の遺伝子サンプルの温度はPCR反応に必要な95℃付近まで上昇しないことがある。この場合、PCR反応が進行せず、進行したとしても不十分になりやすい。
そこで、二点鎖線で示すように、第1温度調節部52の設定温度が狙い温度である95℃よりも高い105℃前後に設定されている。これによって、細い実線で示すように、第1部材101の表面温度は95℃以上となり、ウェル103内の温度は全体に均一になっていることが推測されるとともに、設定した温度サイクルにそって速やかに温度変化が進むことが確認された。
実際に上記温度設定によって、反応容器100内におけるPCR反応は良好に進行し、35サイクルを約41分と従来装置の約半分の時間で行うことができた。
図19は、従来装置の一例として、ペルチェモジュールが反応容器100の下方のみに接触して加熱・冷却を行う遺伝子増幅装置において反応容器100を用いた際の温度変化を示すグラフである。ペルチェモジュールによってウェル内の温度は95℃付近まで上昇しているが、第1部材101の表面温度は、80℃付近までしか上昇せず、ウェル内の温度が不均一であることが推測された。実際にこの遺伝子増幅装置では、PCR反応が進行しないケースが確認された。
この装置において、第1部材101の表面温度を狙い温度に近づけるには、温度プロファイルを見る限りかなり長い時間が必要になると思われ、PCR反応に必要なトータルの時間が非常に長くなることが想定される。
一方、ペルチェモジュールの制御温度を、狙い温度に対して昇温時により高く冷却時にはより低く設定し、急速加熱・急速冷却によってPCR時間の短縮を試みたとしても、反応容器100の下面は熱伝導率の高い第2部材102からなるため、ウェル内温度(特に下部付近)も当該制御温度の挙動に追従する領域が生じてしまい、ウェル内の試薬が高温により失活することが考えられる。
実際にこのような制御を行なった際に、PCR反応が進行しなかったケースが確認されており、試薬の失活が、PCR反応が進行しなかった原因の一つである可能性が示唆された。
なお、上述した制御部58による温調機構41の温度制御は一例であり、実際の設定温度及び加熱・冷却時間(設定温度で保持される時間)の長さ等の設定パラメータは、第1部材101及び第2部材102の材質ごとの熱伝導率や厚み等の反応容器パラメータによって第1温度調節部52、第2温度調節部54それぞれ独立に決定される。
したがって、第1温度調節部52と第2温度調節部54で、設定温度だけでなく、加熱・冷却時間が異なることも当然あるため、反応容器パラメータごとの設定パラメータをテーブルとして予め制御部58に格納しておき、ユーザの入力等にもとづいて、制御部58が当該テーブルから対応する設定パラメータを適宜参照して各温度調節部52、54の温度制御を行うように構成されてもよい。
増幅の終了した反応容器100は、レール46に沿って測定部44まで移動する。そして、各ウェル103内のサンプルに対し、測定部44によって蛍光強度等の各種測定が行われる。本発明の遺伝子増幅装置42で増幅されたサンプルは、遺伝子の塩基配列自体の検査、一定の塩基配列を1単位とする反復配列にもとづく多型の検査、及び一塩基多型(SNPs又はSNP:Single Nucleotide Polymorphism)の検査等の各種遺伝子検査に供することができる。
本実施形態の温調機構41及び遺伝子増幅装置42によれば、第1温度調節部52及び第2温度調節部54で発生した熱等が、第1熱伝導層56、金属板59、及び第2熱伝導層60によって効率よく反応容器100に伝達される。したがって、反応容器100が熱伝導率のそれぞれ異なる第1部材101及び第2部材102を含んで形成されていても、充填された遺伝子サンプルが好適に加熱・冷却されて、PCR法に必要な温度サイクルを実現するための所用時間が短縮され、迅速かつ好適に遺伝子を増幅することができる。
また、制御部58が、反応容器100の各部材101、102の熱伝導率を含む各種パラメータに応じて第1温度調節部52及び第2温度調節部54をそれぞれ独立に温度制御を行うので、各温度調節部52、54が、遺伝子サンプルをPCRの温度サイクルにそった温度にするために最適な設定温度及び加熱・冷却時間に制御される。したがって、反応容器100内に充填された遺伝子サンプルをより好適にPCR処理することができる。
また、反応容器100を挟持した各温度調節部52、54の周囲が断熱材61で覆われるように構成されているので、各温度調節部52、54と反応容器100との間で交換される熱が外部に逃げず、より効率よく反応容器100の温度調節を行うことができる
さらに、第1温度調節部52及び第2温度調節部54に接触してそれぞれ第1ヒートシンク53及び第2ヒートシンク55が設けられているので、反応容器100を冷却する際に各温度調節部52、54に移動した熱を効率よく温調機構41の外部に放出することができる。
以上、本発明の実施形態について説明してきたが、本発明の技術範囲は上記実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。
例えば、上述の実施形態においては、第1熱伝導層56が各温度調節部52、54及び金属板59と接触して設けられている例を説明したが、第1熱伝導層56の配置位置はこれに限定されない。例を挙げると、第1熱伝導層56が各温度調節部52、54にのみ接触するように設けられてもよいし、金属板59にのみ接触するように設けられてもよい。
また、温度管理が良好に行えれば、必ずしも第1熱伝導層56を設けなくても構わない。
また、使用対象となる反応容器も、上述のように上部の熱伝導率が下部よりも低いものに限定されず、例えば下部の熱伝導率が上部より低い反応容器でもよい。この場合は、制御部の制御態様を変えることでより好適にPCR反応を進めることができる。
また、本発明の温調機構及び遺伝子処理装置においては、制御部は必須ではない。例えば、第1部材と第2部材との熱伝導率の差が比較的小さく、第1温度調節部と第2温度調節部とを独立に温度制御しなくてもPCR反応を進行させることが可能である等の場合は、制御部を設けずに温調機構及び遺伝子処理装置が構成されてもよい。
さらに、本発明の遺伝子処理装置においては、反応容器を移動させるための移動台やレール等の機構は必須ではない。例えば、ユーザが直接第1ユニット49と第2ユニット50との間に反応容器を設置し、当該設置位置において、PCR反応のための温度調節が行われるように遺伝子処理装置が構成されてもよい。
加えて、本発明の温調機構及び遺伝子処理装置はPCR法等の増幅反応だけでなく、例えばインベーダー法等の反応のように、一定時間所定の温度に保持するような場合にも使用することが可能である。この場合も、反応容器を構成する部材の熱伝導率の違いに影響されることなく、反応容器内の遺伝子サンプルの好適な温度制御を行うことができる。
本発明者らは、本発明の第一実施形態の効果を実証するために以下の実験を行った。
(実施例1)
まず、上記実施形態の図2,図4で示した形状とレイアウトの凹部6を備えた樹脂基材2を射出成型によって作製した。原料には、反応阻害がないことを確認済みのポリプロピレンを用いた。切り欠き部15については、射出成型を用いて凹部6を備えた樹脂基材2を作製した後、凹部6の縁の流路5の上流側、下流側にあたる位置に、切削加工により切り欠き部15を形成した。一方、金属基材3としては、反応時の熱効率を上げることを目的として、ポリプロピレンシーラントを塗工したアルミニウム原板に絞り加工を施したものを用いた。
通常の場合、反応チップには各反応容器4に試薬が配置されるが、本実験は送液時の気泡の状態を確認することが目的なので、樹脂基材2の凹部6にAmpliWax(商品名、ABI社製)を5μlずつ入れ、試薬等の代わりとした。凹部6内にAmpliWaxを配置した樹脂基材2と金属基材3とを熱溶着により接合し、本実施例の反応チップを作製した。
(比較例1)
図20(a)、(b)に示すような切り欠き部を持たない凹部6を備えた樹脂基材2Aを作製し、後は上記の実施例1と同様の方法(図21(a)、(b)参照)で比較例1の反応チップを作製した。
送液する試液として、PCR産物を10倍に希釈した試液Aと、10mg/mlタンパク質水溶液(BSA溶液)からなる試液Bを調整した。これらの試液A、試液Bを電動ピペッタ(フィンピペットノーバス30-300μl(商品名)、サーモフィッシャーサイエンティフィック社製)にて流速200μl/21秒で実施例1、比較例1ともに3枚ずつの反応チップに対して送液を行った。
送液を行うと、試液中に含まれる気泡が各反応容器内に導入されていくが、実施例の反応チップでは、反応容器内に一旦導入された気泡が試液とともに流れ出てしまい、反応容器内に滞留するものは見られなかった。透明の樹脂基材を通して反応容器内の様子を撮影した写真を図22に示す。
一方、比較例の反応チップでは、一旦導入された気泡が反応容器外に流れ出ることはなく、図21(c)のように、反応容器4内に気泡Bが滞留するものが観察された。反応容器内の様子を撮影した写真を図23に示す。
実施例1、比較例1の反応チップのそれぞれにおいて、送液時に気泡が滞留した反応容器の数を[表1]に示した。それぞれ36個の反応容器を備える反応チップ3枚に対して送液を行ったので、合計の反応容器の数は108個である。実施例の反応チップでは、試液A、試液Bともに気泡が滞留した反応容器の数は0であるのに対し、比較例の反応チップでは、試液Aは気泡が滞留した反応容器の数が8、試液Bは気泡が滞留した反応容器の数が18であった。
Figure 0005251882
以上の結果により、切り欠き部を有する凹部を備えた本発明の反応チップの効果が実証された。
以下、本発明の第二実施形態に係る反応チップおよび反応方法の実施例2として、本発明者らが行ったインベーダー(登録商標)法を用いたSNPの検出方法について説明する。なお、図24(a)は実施例2および比較例2の試薬の配置を示す平面図、図24(b)は実施例2の反応チップの断面図、図24(c)は比較例2の反応チップの断面図である。
(実施例2)
図24(a)に示すように、上記実施形態で説明した反応チップを作製した。カバー材22は、金型内でポリプロピレン樹脂を射出成型する方法により作製し、厚さ2mmの樹脂基板に複数の凹部26と試液注入口30を形成した。なお、凹部26の開口部直径は3mm、底部直径は2mmで、深さは1.5mmである。凹部26の容積は理論上約9μL、隣接する凹部26間の距離は6mmである。また、試液注入口30の外径は4mm、穴の内径は1.5mm〜2mmになるようにテーパ状にした。高さはカバー材22の上面から6mmにした。
基板23は、0.1mmのアルミニウム板に接着剤を介して70μmのポリプロピレン製シーラント層を積層した材料を用い、絞り成型により、凹部27と凹部27間を連通する流路25を形成した。なお、凹部27の開口部直径は3mm、深さは1.5mmである。凹部27の容積は理論上約7μL、隣接する凹部27間の距離は6mmである。また、流路25の幅は1mm、深さは0.3mmとした。
図24(a)において斜線を付した反応容器4Sに対応するカバー材22の凹部26に、図24(b)に示すように固定試薬Sを配置した。固定試薬Sとして、インベーダー(登録商標)反応に使用するアレルプローブ1、アレルプローブ2、インベーダープローブおよびFRETプローブ1、FRETプローブ2、Cleavase(登録商標)を配置して加熱乾燥させた。
次に、全ての凹部26に、封止剤WとしてApplied Biosystems社製のAmpliWax(登録商標) PCR Gem 100を投入した。なお、一つの凹部26に対する封止剤Wの投入量は4.5μLである。この封止剤Wを80〜100℃に加熱し、溶融させた状態で凹部26に分注し、プレート用遠心機で遠心操作を行った後、室温で再び凝固させた。これにより、図24(a)の斜線部分の反応容器4Sにおいては、固定試薬Sを封止剤Wで覆った。
次に、上記で作製したカバー材22と基板23とを、テスター産業社製のヒートシールテスターを用いて、250℃、0.5MPa、1.4s、基板23側からの片側加熱の条件で、ヒートシールにより貼り合わせた。
次に、反応試液として精製ゲノムDNAから増幅したPCR産物、インベーダーバッファー、それを希釈するための水、の混合液を供給した。反応試液Lは、カバー材22の試液注入口30より、流路25を通じて全ての反応容器24に行き渡らせた。なお、一つの反応容器24に対する反応試液Lの供給量は12〜15μLである。
その後、開発した分析チップ専用装置に反応チップ21をセットした。装置内でまず、各反応容器24間で反応中の反応液の行き来が起きないように、流路25の一部を外力により押し潰し、反応容器24,4S間の封止を行った。その際、外力と同時に熱を加え、カバー材22と基板23のシーラント層を熱溶着させて、より強力に封止を行った。封止は、190℃、120kgf、1.5sという条件で行なった。
次に、装置内で反応チップ21を基板23側から加熱して、反応を行った。まず、95℃、5分の条件で、封止剤Wを溶融させ、固定試薬Sと反応試液Lとを接触させつつ、反応試液中のPCR産物の変性を行った。その後、63℃に降温し、インベーダー反応を行いながら30秒に1回の割合で反応容器4S内の蛍光物質の検出を行ない、時間ごとの反応の様子を観察した。
(比較例2)
上記実施例2と同様に、カバー材22および基板23を作製した。そして、比較例2では、図24(c)に示すように、基板23の凹部27に固定試薬Sと封止剤Wを配置した。カバー材22と基板23をヒートシールにより貼り合わせた後、試液注入口30から反応試液Lを常温で注入した。次に、装置内で反応容器24,4S間の封止をした後、反応チップ21を基板23側から加熱して、封止剤の溶融、固定試薬と反応試液との接触を行い、インベーダー反応をさせつつ蛍光物質の検出を行った。
(実験結果)
図25(a)、(b)は、実施例2で行なった反応の結果を示しており、図25(a)は固定試薬を配置した反応容器の隣の反応容器での発光強度、図25(b)は固定試薬を配置した反応容器での発光強度を示している。また、グラフの横軸は反応時間、縦軸は蛍光強度を表している。これらのグラフから明らかなように、図25(b)に示す固定試薬を配置した反応容器のグラフのみ、問題なく反応が進行していることを示していた。また、固定試薬を配置した反応容器に隣接した、固定試薬を配置していない反応容器において、反応の進行が見られなかったことから、封止剤によって問題なく固定試薬を隠蔽できていることが分かった。
一方、図26(a)、(b)は、比較例2で行なった反応の結果を示しており、図26(a)は固定試薬を配置した反応容器の隣の反応容器での発光強度、図26(b)は固定試薬を配置した反応容器での発光強度を示している。この結果から、固定試薬を配置した反応容器においても、全く反応が進行していないことが分かった。これは、アルミニウム板を有する基板23側の凹部27に固定試薬Sを配置したことで、カバー材22と基板23とのヒートシール時の熱が熱伝導率の良いアルミニウムを伝わり、より固定試薬Sに熱が加わり、試薬の活性の低下や失活が起きているからであると考えられる。
以上により、本発明の反応方法によれば、試薬の活性の低下や失活が生じることなく、正確な反応データを測定できることが実証された。
本発明の一実施形態の反応チップの斜視図である。 反応チップを構成する樹脂基材の平面図である。 反応チップを構成する金属基材の平面図である。 樹脂基材の凹部の拡大図であり、図4(a)は斜視図、図4(b)は平面図、図4(c)は側断面図である。 凹部の他の例を示す図であり、図5(a)は斜視図、図5(b)は側断面図である。 同反応チップを用いた反応検出方法を手順を追って示す工程断面図である。 他の形態の反応チップを用いたときの工程断面図である。 本発明の一実施形態の反応チップの斜視図である。 図9(a)は同反応チップの平面図、図9(b)は図8のA−A’線に沿う断面図である。 同反応チップを用いた反応方法を手順を追って示す工程断面図である。 反応チップの他の例を示す断面図である。 本発明の一実施形態の遺伝子処理装置用温度調節機構を備えた遺伝子増幅装置の構成を示す斜視図である。 同遺伝子処理装置用温度調節機構が反応容器を挟持した状態を示す概略断面図である。 図13の反応容器周辺の拡大図である。 同反応容器を示す斜視図である。 図15のA−A’線における断面図である。 図15のB−B’線における断面図である。 PCR法の温度サイクル、同遺伝子処理装置用温度調節機構の温度制御、及び同反応容器各部の温度変化を示すグラフである。 従来の遺伝子増幅装置において反応容器100を用いた際の温度変化を示すグラフである。 比較例1の反応チップの凹部の拡大図であり、図20(a)は平面図、図20(b)は側断面図である。 比較例1の反応チップを用いたときの工程断面図である。 実施例1の反応チップの反応容器内の様子を撮影した写真である。 比較例1の反応チップの反応容器内の様子を撮影した写真である。 図24(a)は本発明の実施例2及び比較例2の試薬の配置を示す平面図、図24(b)は実施例2の反応チップの断面図、図24(c)は比較例2の反応チップの断面図である。 実施例2の反応結果を示すグラフである。 比較例2の反応結果を示すグラフである。
符号の説明
1…反応チップ、2…樹脂基材(第1の基材)、3…金属基材(第2の基材)、4…反応容器、5…流路、6…(樹脂基材の)凹部、6a…円柱状空間、6b…円錐台状空間、11…(金属基材の)凹部、12…溝部、15,16…切り欠き部、21…反応チップ、22…カバー材(第1の基材)、23…基板(第2の基材)、24…反応容器、25…流路、26…(カバー材の)凹部、27…(基板の)凹部、28…溝部、30…試液注入口、31…貫通孔、41…遺伝子処理装置用温度調節機構、42…遺伝子増幅装置(遺伝子処理装置)、43…移動台、44…測定部、45…移動機構、46…レール、47…発光検知部、48…測定部移動機構、49…第1ユニット、50…第2ユニット、51…支持アーム、52…第1温度調節部、53…第1ヒートシンク(第1放熱部)、54…第2温度調節部、55…第2ヒートシンク(第2放熱部)、56…第1熱伝導層、58…制御部、59…金属板、60…第2熱伝導層(熱伝導部材)、61…断熱材、100…反応容器、101…第1部材、102…第2部材、103…ウェル、104…試薬、105…流路、106…注入口、107…脱気口、S…試薬、W…封止剤、L…試液。

Claims (15)

  1. 一対の基材から構成され、試薬と試液との反応を生じさせる複数の反応容器と、前記複数の反応容器間を互いに連通させ、前記複数の反応容器に前記試液を送液する流路と、を備えた反応チップであって、
    前記一対の基材のうち、第1の基材の一面もしくは第2の基材の一面の少なくともいずれか一方に、前記反応容器の一部を構成する複数の凹部が形成されるとともに、
    前記第1の基材の一面もしくは前記第2の基材の一面の少なくともいずれか一方の前記凹部と前記凹部との間に相当する位置に、前記流路の一部を構成する溝部が形成され、
    前記凹部のうちの前記溝部の延在方向の少なくとも試液の流入側の縁部に、前記凹部が形成された基材の一面から前記凹部の内壁面に向けて幅が漸次広くなり深さが漸次深くなる切り欠き部が形成され、
    前記第1の基材の一面と前記第2の基材の一面とが互いに対向するように接合され、前記複数の反応容器と前記流路とが形成され
    前記第1の基材の上面に突出して前記流路の一端に、前記第1の基材を貫通して中空円筒状の注入口が設けられ、前記第1の基材の上面で前記流路の他端に、前記第1の基材を貫通して貫通孔が形成されていることを特徴とする反応チップ。
  2. 前記凹部が形成された基材の一面と前記切り欠き部の内壁面とのなす角度は、前記凹部が形成された基材の一面と前記凹部の内壁面とのなす角度よりも小さいことを特徴とする請求項1に記載の反応チップ。
  3. 前記切り欠き部が、前記凹部のうちの前記溝部の延在方向の縁部において、少なくとも前記溝部を流れる前記試液の流入側に形成されたことを特徴とする請求項1または2に記載の反応チップ。
  4. 前記凹部は、前記凹部が形成された基材の一面に対して略直角をなす内壁面を有する柱状空間を少なくとも開口側に有し、
    前記切り欠き部の端部での最大深さが前記柱状空間の深さよりも浅いことを特徴とする請求項1ないし3のいずれか一項に記載の反応チップ。
  5. 前記凹部の外形が平面視円形であり、前記切り欠き部の平面形状が、前記凹部が形成された基材の一面上の前記溝部の延在方向の1点から凹部の外縁をなす円に接する2本の接線を引いたときの前記2本の接線の内側の領域で規定されることを特徴とする請求項1ないし4のいずれか一項に記載の反応チップ。
  6. 前記切り欠き部の前記溝部の延在方向の中心線が、前記溝部の中心線と同一直線上にあることを特徴とする請求項1ないし5のいずれか一項に記載の反応チップ。
  7. 請求項1に記載の反応チップを用いた反応方法であって、
    前記一対の基材のうち、前記反応容器の一部を構成する凹部が形成された第1の基材を用い、前記凹部の内部に試薬を配置する工程と、
    前記試薬を熱溶融型の封止剤で封止する工程と、
    前記第1の基材の材料よりも熱伝導率が高い材料から構成された第2の基材と前記第1の基材とを接合し、前記試薬が配置された反応容器と流路とを備えた反応チップを作製する工程と、
    前記流路を通じて前記反応容器の内部に試液を供給する工程と、
    前記第2の基材側から前記反応チップを加熱することにより、前記封止剤を溶融させて前記試薬と前記試液とを接触させた後、前記第2の基材側からの加熱を行いつつ前記試薬と前記試液との反応を進行させる工程と、
    を備えたことを特徴とする反応方法。
  8. 前記第2の基材側から加熱を行い、前記第1の基材、前記第2の基材の少なくとも一方に設けられたシーラント層の熱溶着により、前記第1の基材と前記第2の基材を接合することを特徴とする請求項7に記載の反応方法。
  9. 前記第2の基材にも前記第1の基材の凹部に対応する凹部を形成し、前記第1の基材の凹部と前記第2の基材の凹部の双方で前記反応容器を構成したことを特徴とする請求項7または8に記載の反応方法。
  10. 前記第1の基材として樹脂材料を用い、前記第2の基材として金属材料を用いることを特徴とする請求項7ないし9のいずれか一項に記載の反応方法。
  11. 前記封止剤を、前記反応試薬および前記反応試液に不溶な材料で構成したことを特徴とする請求項7ないし10のいずれか一項に記載の反応方法。
  12. 前記反応容器が、酵素反応用の反応容器であることを特徴とする請求項7ないし11のいずれか一項に記載の反応方法。
  13. 請求項1に記載の反応チップで、上部に配置される第1部材と、前記第1部材と異なる熱伝導率を有し、下部に配置される第2部材とからなる反応容器に充填された遺伝子サンプルを加熱・冷却して、前記遺伝子サンプル内の遺伝子を処理する遺伝子処理装置用温度調節機構であって、
    前記反応容器の上面に接触可能に配置された第1温度調節部と、
    前記反応容器の下面に接触可能に配置され、かつ前記第1温度調節部との間に前記反応容器を挟みこむことが可能に配置された第2温度調節部と、
    前記第1温度調節部及び前記第2温度調節部の前記反応容器に接触する面に配置された一対の金属板と、
    前記一対の金属板の前記反応容器に対向する面に配置され、前記反応容器の上面及び下面に接触可能に配置された一対の熱伝導部材と、
    前記第1温度調節部に接触して設けられた第1放熱部と、
    前記第2温度調節部に接触して設けられた第2放熱部と、
    を備えることを特徴とする遺伝子処理装置用温度調節機構。
  14. 前記第1温度調節部及び前記第2温度調節部に接続され、前記第1温度調節部及び前記第2温度調節部の温度を制御する制御部をさらに備え、
    前記制御部は、前記第1部材及び前記第2部材の熱伝導率に基づいて、前記第1温度調節部及び前記第2温度調節部の温度制御を、それぞれ独立に行うことを特徴とする請求項13に記載の遺伝子処理装置用温度調節機構。
  15. 請求項13又は14に記載の遺伝子処理装置用温度調節機構を備えることを特徴とする遺伝子処理装置。
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