JP5831490B2 - 遺伝子処理装置用温度調節機構及び遺伝子処理装置 - Google Patents
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Description
するプローブDNAを用い、検体DNAの配列を検出するハイブリダイゼーション反応、
DNAの配列中のSNP(一塩基多型)の検出反応などが挙げられる。SNP検出法とし
ては、インベーダー(登録商標)法、タックマンPCR法などが知られている(例えば、
特許文献1参照)。
は、スライドガラス上にプローブDNAを固定し、その上でハイブリダイゼーション反応
を行う方法が知られている。
いる方法も知られている。
複数のウェル状反応容器は、試液貯留部から延設された試液流路によって互いに接続さ
れている(例えば、特許文献2参照)。ところで、このような流路を用いて試液を送液す
る際には、反応容器内を試液で満たし、気泡の残留を防ぐことが重要である。反応容器内
に気泡が残留していると、各反応容器内の試液の量や濃度がばらつくため、反応状態のば
らつきが生じる。また、反応状態のばらつきがなかったとしても、気泡自体による測光強
度の誤差を引き起こす可能性が極めて高い。
その一つとして、複数の基板を積層してなる積層体内部に少なくとも1つの流路を有す
る液体回路において、少なくとも1つの基板を貫通して流路と外部とを連通する連通孔が
形成されたものが提案されている(例えば、特許文献3参照)。特許文献3には、連通孔は、フォトリソグラフィーを用いて単結晶シリコン基板やガラス基板に形成されたものであり、流路から外部に向けて開口面積が小さくなるテーパ状の内周面を持つものであり、この連通孔を通して外部に気泡を抜くことが開示されている。さらに、連通孔が少なくとも疎水性を有していることが好ましく、そのために基板自体が疎水性を有していたり、疎水性を持たない基板に後から疎水性を付与することが記載されている。
そこで、そのようなコンタミネーションの発生を防止することができ、また、正確な反応データの測定が可能な反応チップおよび反応方法が開示されている(例えば、特許文献5参照)。
反応容器の多くは、生物反応を阻害しない合成樹脂製であり、反応容量を数十マイクロリットルと少なくして反応を行っている。この他、アルミを用いて反応容器が形成される例がある。
このような反応容器は、特許文献6又は7に記載されるような反応装置によって、上下から加熱手段を接触させて微小量のサンプルを蒸発させることなくPCR反応が行われる。
熱伝導率の異なる複数種類の材料で構成された反応容器を用いても、反応容器に充填された遺伝子サンプルに含まれる遺伝子を迅速かつ好適に処理することが可能な遺伝子処理装置用温度調節機構及び遺伝子処理装置を提供することを目的とする。
第1ユニット、第2ユニットを備え、
前記第1ユニットが、第1放熱部の前記反応容器側の面の一部に、前記反応容器側から、第2熱伝導層、金属板、第1熱伝導層、第1温度調節部、第1熱伝導層、前記第1放熱部の順に構成され、
前記第2ユニットが、第2放熱部の前記反応容器側の面の一部に、前記反応容器側から、第2熱伝導層、金属板、第1熱伝導層、第2温度調節部、第1熱伝導層、前記第2放熱部の順に構成され、前記第1ユニットと前記第2ユニットの間に前記反応容器を挟みこむことが可能に配置され、
前記第2ユニットの前記第2熱伝導層の厚さが、前記第1ユニットの前記第2熱伝導層の厚さよりも厚いことを特徴とする。
この場合、第1部材側及び第2部材側で遺伝子サンプルの温度差が小さくなり、遺伝子の処理を好適に行うことができる。
以下、本発明の一実施の形態を図1〜図7を参照して説明する。
本実施形態では、生化学反応解析用の反応チップの例を示す。
図1は、本実施形態の反応チップの斜視図である。図2は、反応チップを構成する樹脂基材(第1の基材)の平面図である。図3は、反応チップを構成する金属基材(第2の基材)の平面図である。図4(a)〜(c)は、樹脂基材の一つの凹部の拡大図であり、図4(a)は斜視図、図4(b)は平面図、図4(c)は側断面図である。図5(a)、(b)は、凹部の他の例を示す図であり、図5(a)は斜視図、図5(b)は側断面図である。図6(a)〜(c)は、同反応チップを用いた反応検出方法を手順を追って示す工程断面図である。図7は、他の形態の反応チップを用いたときの工程断面図である。
なお、以下では、説明の便宜上、蛍光反応等を検出、測定する際に上側に位置する樹脂基材側を「上側」、下側に位置する金属基材側を「下側」とする。
なお、凹部6の構成については後で詳述する。
金属基材3の材料としては、アルミニウムの他、銅、銀、ニッケル、真鍮、金等を用いても良い。
凹部11の断面形状は、樹脂基材2の凹部6と異なり、図6に示すように、略半球状となっている。本実施形態では、樹脂基材2側と金属基材3側とで双方の凹部6,11が1:1に対応しているが、使用目的等によっては必ずしも1:1に対応しなくても良いし、異なる大きさの凹部を形成しても良い。本実施形態の場合、樹脂基材2側と金属基材3側とで凹部6,11の容量は略同一である。
凹部6は、平面形状が直径T1の円形であり、断面形状が樹脂基材2の下面に近い側が直径がT1、深さがD1の円柱状空間6a、下面から遠い側(凹部の底面側)が底面の円の直径がT2、深さがD2の円錐台状空間6bとなっている。そして、凹部6のうち、溝部12(流路5)の延在方向にあたる試薬の流入側、流出側の双方の縁部に、樹脂基材2の下面2dから凹部6の内壁面6dに向けて幅が漸次広くなり、深さが漸次深くなる切り欠き部15がそれぞれ形成されている。試薬の流入側、流出側の各切り欠き部15は、同一の形状であり、図4(b)に示すように、溝部12の延在方向と垂直な方向に延びる中心線Cに対して線対称に配置されている。なお、試薬の流入側、流出側の各切り欠き部15は、異なる形状としても良く、中心線Cに対して必ずしも線対称にしなくても良い。
図6(a)に示すように、アルミニウムシートの片面に樹脂シーラント層を形成し、基材シートを作製した後、基材シートに絞り加工を施す等の方法により複数の凹部11と溝部12とを備えた金属基材3を作製する。一方、射出成型等の方法により、複数の凹部6を有する樹脂基材2を作製する。そして、切削等の方法により、凹部6の縁部に切り欠き部15を形成する。切削方法は任意に選択することができる。なお、射出成型等の方法により、当初から切り欠き部15を有する複数の凹部6を備えた樹脂基材2を作製しても良い。
また、本発明で用いる試薬は、固体状でも液体状でも良い。
以下、本発明の一実施の形態を図8〜図11を参照して説明する。
図8は、本実施形態の反応チップの斜視図である。図9(a)は、同反応チップの平面図、図9(b)は図8のA−A’線に沿う断面図である。図10は、同反応チップを用いた反応方法を手順を追って示す工程断面図である。図11は反応チップの他の例を示す断面図である。
なお、以下では、説明の便宜上、蛍光反応等を検出、測定する際に上側に位置する樹脂基材側を「上側」、下側に位置する金属基材側を「下側」とする。
カバー材22は、全体的に長方形状を呈しており、使用中に容易に折れ曲がることのない厚みで形成されている。カバー材22は、PP(ポリプロピレン)やPC(ポリカーボネート)、アクリル樹脂(ポリメチルメタクリレート)、PET(ポリエチレンテレフタレート)、PE(ポリエチレン)、PV(ポリ塩化ビニル)、PS(ポリスチレン)等の樹脂材料で構成されている。このような合成樹脂を用いてカバー材22を作製すれば、耐熱性、耐薬品性、成形加工性などに優れているため、好ましい。さらに、2種類以上の樹脂を接合して用いてもよい。この場合、それぞれの樹脂の特徴を活かしてカバー材22を作製することにより、試薬および試液等の特性に応じた多様なカバー材22とすることが可能となり、用途ごとに使い分けることができる。例えば、カバー材22の上半分と下半分とで材料を分けたりすることも可能となる。なお、カバー材22の素材として、樹脂材料の他、石英ガラス等を用いてもよい。
基板23は、全体的に長方形状を呈している。この基板23は、金、銀、銅、アルミニウム、亜鉛、錫、白金、ニッケル、真鍮、またはこれら2種類以上の合金、等の金属を含む材料で構成されている。このような金属を含む材料で基板23を作製すれば、反応容器24内の反応液への熱伝導率が良くなり、効率良く短時間で反応を行うことができるため好ましい。また、カバー材22と基板23を熱溶着により貼り合わせるため、基板23の金属層の上部にはシーラント層(図示略)が設けられている。この構成によれば、基板23を構成する金属が直接反応液に触れないため、反応阻害を引き起こす金属を使用することも可能となる。
カバー材22側の凹部26は、図10(a)に示すように、基板23に対向する下側の領域が円柱状の空間となっており、上側(底面側)の領域が円錐台状の空間となっている。このように、凹部26の底部は、平坦であることが好ましい。これにより、透明なカバー材22を通して反応結果を蛍光検出によって得る場合、底部が平坦でない場合に比べて光の拡散が少なくなり、効率良く蛍光検出を行うことが可能となる。凹部26の直径は、0.5mm以上、10mm以下であることが望ましい。これにより、凹部26に対する試液の供給が容易になり、気泡の混入を防止することができる。
また、基板をPP(ポリプロピレン)などの軟質な樹脂材料で構成する場合には、成型法を用いて凹部26を形成することが好ましい。また、PCで成型法を用いて凹部26を形成することもできる。
図10(a)に示すように、カバー材22の凹部26の内部には、核酸プローブ等の固定試薬Sが配置されている。この固定試薬Sが、凹部26内に配置された熱溶融型の封止剤Wで覆われている。熱溶融型の封止剤Wとは、常温で固体であり、固定試薬と試液との反応(以下、「主反応」という。)の開始温度付近で溶融する封止剤である。少なくとも80〜90℃付近で溶解するように、融点は35〜90℃付近であることが望ましい。この封止剤Wとして、固定試薬および試液よりも比重が小さいものを採用することが望ましい。ただし、主反応を阻害しないものであることが前提となる。具体的な封止剤として、AppliedBiosystems社製のAmpliWax(登録商標)PCR Gem 100を採用することができる。これは、PCR増幅反応の際に溶解して層をなし、反応試液の蒸発を防ぐよう、ミネラルオイルにかわるものとして考案された製品である。常温では固体であり、55〜58℃で融解する。なお、封止剤Wによって覆われる固定試薬Sは、液体でも固体でもよい。この固定試薬Sが試液よりも比重の大きい液体である場合、また、溶融した封止剤Wが固定試薬Sや試液よりも比重が大きい場合、より固定試薬Sと試液と混合しやすく有利である。
これにより、溶融された封止剤Wが凹部26の底部に濡れ広がり、その後、封止剤Wを冷却すれば、固定試薬Sを覆った状態で凹部26内に封止剤Wを配置することができる。もしくは、予め固定試薬Sを配置した凹部26内に、予め溶融させておいた封止剤Wをピペットマンで分注する方法を用いても良い。この方法では、封止剤Wの量をより正確に規定することができるため、有利である。
このようにして、凹部26内に封止剤Wを配置した後に基板23を貼り合わせる。
次に、上述した分析チップを用いた反応方法を、図8〜図10を用いて説明する。
まず、図8、図9に示す試液注入口30から試液Lを注入する。こうして、図10(b)に示すように、試液注入口30から流路25へと試液Lを流入させる。すると、試液Lは、流路25を通って複数の反応容器24に対して順に供給される。この試液Lの供給は、常温または常温以下の送液可能なまでの低温で行う。
このように、本実施形態の反応チップ21では、固定試薬Sを覆った封止剤Wの下方に試液Lが供給されるので、固定試薬Sが隣接する反応容器24に流出することがなくなる。したがって、コンタミネーションの発生を防止することができる。
基板23の溝部28を塑性変形させる手段として、装置を用いて溝部28の一部に外側から機械的に外力を加えても良いし、人手により外力を加えても良い。
封止剤Wが、固定試薬Sや試液Lより比重が小さい場合は、溶融した際には固定試薬Sと上下が入れ替わり、固定試薬Sが試液Lと接触する。また封止剤Wが、固定試薬Sや試液Lより比重が大きい場合は、溶融した際に試液Lと上下が入れ替わり、試液Lが固定試薬Sと接触する。なお、主反応の反応開始温度が封止剤Wの融点と同等または封止剤Wの融点より高い場合には、反応開始温度まで昇温させている途中に固定試薬Sと試液Lとの接触が起こり、反応開始温度になった時点で主反応が開始する。
また、主反応の反応開始温度が封止剤Wの融点より低い場合には、反応容器24をさらに加熱して固定試薬Sと試液Lとを接触させた後、反応開始温度まで降温させて主反応を開始させる。本実施形態において、反応中に加熱を行うときは基板23側から行う。
以下、本発明の一実施形態の遺伝子処理装置用温度調節機構(以下、「温調機構」と称する。)について、図12から図19を参照して説明する。
図12は、本実施形態の温調機構41を備えた遺伝子増幅装置(遺伝子処理装置)42の要部を示す斜視図である。遺伝子増幅装置42は、反応容器が設置される移動台43と、反応容器を加熱、冷却する温調機構41と、反応容器の反応を測定する測定部44とを備えている。
上記構成によって、各温度調節部52、54は、第1熱伝導層56、金属板59、及び第2熱伝導層60を介して反応容器100の上面及び下面全体の加熱及び冷却を行うようになっている。
図15及び図16に示すように、反応容器100は、樹脂からなり上部に配置される第1部材101と、金属からなり下部に配置される第2部材102とから構成されている。
第1部材101としては、ポリプロピレン等を採用することができ、第2部材102としてはアルミニウムや銅等を採用することができる。
また、ウェル103の上部を形成する第1部材の内面には、PCR反応に用いられる試薬104が配置されている。なお、試薬104は、ウェル内に配置されず、後述する遺伝子サンプル充填時に共に充填されてもよい。
まず、遺伝子サンプルがウェル103に充填された反応容器100の流路105を治具等で閉鎖して各ウェル103を独立した空間にする。そして、反応容器100を移動台43に載置し、遺伝子増幅装置42を起動する。
実際に上記温度設定によって、反応容器100内におけるPCR反応は良好に進行し、35サイクルを約41分と従来装置の約半分の時間で行うことができた。
実際にこのような制御を行なった際に、PCR反応が進行しなかったケースが確認されており、試薬の失活が、PCR反応が進行しなかった原因の一つである可能性が示唆された。
したがって、第1温度調節部52と第2温度調節部54で、設定温度だけでなく、加熱・冷却時間が異なることも当然あるため、反応容器パラメータごとの設定パラメータをテーブルとして予め制御部58に格納しておき、ユーザの入力等にもとづいて、制御部58が当該テーブルから対応する設定パラメータを適宜参照して各温度調節部52、54の温度制御を行うように構成されてもよい。
例えば、上述の実施形態においては、第1熱伝導層56が各温度調節部52、54及び金属板59と接触して設けられている例を説明したが、第1熱伝導層56の配置位置はこれに限定されない。例を挙げると、第1熱伝導層56が各温度調節部52、54にのみ接触するように設けられてもよいし、金属板59にのみ接触するように設けられてもよい。
また、温度管理が良好に行えれば、必ずしも第1熱伝導層56を設けなくても構わない。
(実施例1)
まず、上記実施形態の図2,図4で示した形状とレイアウトの凹部6を備えた樹脂基材2を射出成型によって作製した。原料には、反応阻害がないことを確認済みのポリプロピレンを用いた。切り欠き部15については、射出成型を用いて凹部6を備えた樹脂基材2を作製した後、凹部6の縁の流路5の上流側、下流側にあたる位置に、切削加工により切り欠き部15を形成した。一方、金属基材3としては、反応時の熱効率を上げることを目的として、ポリプロピレンシーラントを塗工したアルミニウム原板に絞り加工を施したものを用いた。
図20(a)、(b)に示すような切り欠き部を持たない凹部6を備えた樹脂基材2Aを作製し、後は上記の実施例1と同様の方法(図21(a)、(b)参照)で比較例1の反応チップを作製した。
図24(a)に示すように、上記実施形態で説明した反応チップを作製した。カバー材22は、金型内でポリプロピレン樹脂を射出成型する方法により作製し、厚さ2mmの樹脂基板に複数の凹部26と試液注入口30を形成した。なお、凹部26の開口部直径は3mm、底部直径は2mmで、深さは1.5mmである。凹部26の容積は理論上約9μL、隣接する凹部26間の距離は6mmである。また、試液注入口30の外径は4mm、穴の内径は1.5mm〜2mmになるようにテーパ状にした。高さはカバー材22の上面から6mmにした。
上記実施例2と同様に、カバー材22および基板23を作製した。そして、比較例2では、図24(c)に示すように、基板23の凹部27に固定試薬Sと封止剤Wを配置した。カバー材22と基板23をヒートシールにより貼り合わせた後、試液注入口30から反応試液Lを常温で注入した。次に、装置内で反応容器24,4S間の封止をした後、反応チップ21を基板23側から加熱して、封止剤の溶融、固定試薬と反応試液との接触を行い、インベーダー反応をさせつつ蛍光物質の検出を行った。
図25(a)、(b)は、実施例2で行なった反応の結果を示しており、図25(a)は固定試薬を配置した反応容器の隣の反応容器での発光強度、図25(b)は固定試薬を配置した反応容器での発光強度を示している。また、グラフの横軸は反応時間、縦軸は蛍光強度を表している。これらのグラフから明らかなように、図25(b)に示す固定試薬を配置した反応容器のグラフのみ、問題なく反応が進行していることを示していた。また、固定試薬を配置した反応容器に隣接した、固定試薬を配置していない反応容器において、反応の進行が見られなかったことから、封止剤によって問題なく固定試薬を隠蔽できていることが分かった。
以上により、本発明の反応方法によれば、試薬の活性の低下や失活が生じることなく、正確な反応データを測定できることが実証された。
Claims (6)
- 上部に配置される第1部材と、前記第1部材と異なる熱伝導率を有し、下部に配置される第2部材とからなる反応容器に充填された遺伝子サンプルを加熱・冷却して、前記遺伝子サンプル内の遺伝子を処理する遺伝子処理装置用温度調節機構であって、
第1ユニット、第2ユニットを備え、
前記第1ユニットが、第1放熱部の前記反応容器側の面の一部に、前記反応容器側から、第2熱伝導層、金属板、第1熱伝導層、第1温度調節部、第1熱伝導層、前記第1放熱部の順に構成され、
前記第2ユニットが、第2放熱部の前記反応容器側の面の一部に、前記反応容器側から、第2熱伝導層、金属板、第1熱伝導層、第2温度調節部、第1熱伝導層、前記第2放熱部の順に構成され、前記第1ユニットと前記第2ユニットの間に前記反応容器を挟みこむことが可能に配置され、
前記第2ユニットの前記第2熱伝導層の厚さが、前記第1ユニットの前記第2熱伝導層の厚さよりも厚いことを特徴とする遺伝子処理装置用温度調節機構。 - 前記第1温度調節部及び前記第2温度調節部に接続され、前記第1温度調節部及び前記第2温度調節部の温度を制御する制御部をさらに備え、
前記制御部は、前記第1部材及び前記第2部材の熱伝導率に基づいて、前記第1温度調節部及び前記第2温度調節部の温度制御を、それぞれ独立に行うことを特徴とする請求項1に記載の遺伝子処理装置用温度調節機構。 - 前記第1ユニットの第2熱伝導層、金属板、第1熱伝導層、第1温度調節部、第1熱伝導層、および前記第2ユニットの、第2熱伝導層、金属板、第1熱伝導層、第2温度調節部、第1熱伝導層、以外の部分に断熱材が設けられていることを特徴とする請求項1または2に記載の遺伝子処理装置用温度調節機構。
- 前記第1温度調節部、第2温度調節部がペルチェ素子であり、前記第2熱伝導層が弾性を有する熱伝導性材料からなることを特徴とする請求項3に記載の遺伝子温度調節機構。
- 請求項1〜4のいずれか一項に記載の遺伝子処理装置用温度調節機構を備えることを特徴とする遺伝子処理装置。
- 請求項5に記載の遺伝子処理装置用温度調節機構に、さらに発光検知部を備えることを特徴とする遺伝子処理装置。
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