JP5221303B2 - 多様な厚さを有するすべてのb軸が基質に対して垂直配向されたMFI型ゼオライト薄膜の製造方法 - Google Patents
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Description
1)ZSM−5:シリコンとアルミニウムとが一定比率で形成されたMFI構造のゼオライト;
2)シリカライト−1:シリカのみでなされた構造のゼオライト;
3)TS−1:アルミニウム位置の一部にチタン(Ti)が位置するMFI構造のゼオライト。
1)珪素(Si)、アルミニウム(Al)、チタン(Ti)、フッ素(F)、錫(Sn)及びインジウム(In)など各種の金属及び非金属元素が単独または2種以上含まれている酸化物。例えば、石英、雲母、ガラス、ITOガラス(インジウム錫酸化物が蒸着されたガラス)、錫酸化物(SnO2)、F−添加錫酸化物(F−doped tinoxide)などの各種の伝導性ガラス、シリカ、多孔性シリカ、アルミナ、多孔性アルミナ、二酸化チタン、多孔性二酸化チタン、及びシリコンウェーハなどがある;
2)非多孔性または多孔性形態に加工された珪素(Si)、アルミニウム(Al)、チタン(Ti)、鉄(Fe)、錫(Sn)、金(Au)、銀(Ag)、白金(Pt)、ステンレススチールなど単一元素及び多様な元素からなる非金属、金属、金属の合金;
3)金、銀、銅、白金のようにチオール基(−SH)やアミン基(−NH2)と結合する金属;
4)表面に多様な作用基を有した重合体。例えば、ポリ塩化ビニル(PVC)及びメリフィールドペプチド樹脂(Merrifield peptide resin)などがある;
5)セレン化亜鉛(ZnSe)、ガリウム砒素(GaAs)及びリン化インジウム(InP)などの半導体;
6)天然または合成ゼオライト及び類似多孔性分子篩;
7)セルロース、澱粉(アミロース及びアミロペクチン)及びリグニンなど天然高分子、合成高分子、または伝導性高分子。
〔化学式1〕
Z−L1−X
〔化学式2〕
MR’4
〔化学式3〕
R3Si−L1−Y
〔化学式4〕
HS−L1−X
〔化学式5〕
HS−L1−SiR3
〔化学式6〕
HS−L1−Y
〔化学式7〕
Z−L2(+)
〔化学式8〕
L3(−)−Y
〔化学式9〕
Z−L3(−)
〔化学式10〕
L2(+)−Y
〔化学式11〕
Z−Y
前記化学式で、Zは、R3Siまたはイソシアネート基(−NCO)であり;ここで、Rは、ハロゲン基、C1〜C4のアルコキシまたはC1〜C4のアルキル基を表わし、3個のRのうち少なくとも一つは、ハロゲン基またはアルコキシ基であり;L1は、置換または非置換のC1〜C17アルキル、アラルキルまたはアリール基であり、一つ以上の酸素、窒素または硫黄原子を含むことができ;Xは、ハロゲン基、イソシアネート(−NCO)基、トシル基またはアザイド基であり;R’は、Rと同じ意味を表わし、4個のR’のうち少なくとも2個は、ハロゲン基またはアルコキシ基であり;Mは、珪素、チタンまたはジルコニウムであり;Yは、ヒドロキシ基、チオール基、アミン基、アンモニウム基、スルホン基及びその塩、カルボキシ酸及びその塩、酸無水物、エポキシ基、アルデヒド基、エステル基、アクリル基、イソシアネート基(−NCO)、糖(sugar)残基、二重結合、三重結合、ジエン(diene)、ジイン(diyne)、アルキルホスフィン、アルキルアミンまたはリガンド交換できる配位化合物であり、Yは、連結化合物の末端だけではなく、中間に位置することもでき;L2(+)は、1個以上の酸素、窒素または硫黄原子を含む置換または非置換のC1〜C17の炭化水素化合物として、その末端、直鎖状または測鎖状に正電荷(+)が少なくとも1個以上の作用基を表わし;L3(−)は、1個以上の酸素、窒素または硫黄原子を含む置換または非置換のC1〜C17の炭化水素化合物として、その末端、直鎖状または測鎖状に負電荷(−)が少なくとも1個以上の作用基を表わす。
1)アルミニウム(Al)原料でアルミニウムイソプロポキシドのようなアルミニウムに有機物が結合された有機無機混成物質、硫酸アルミニウム(aluminium sulfate)のようなAlが含まれた塩状の物質、Alのみでなされた粉末状または塊状を有した金属物質及びアルミナのようなアルミニウム酸化物のすべての物質;
2)シリコン原料でTEOS(オルトケイ酸テトラエチル)のようなシリコンに有機物が結合された有機無機混成物質、ナトリウムシリカライトのようなSi元素が含まれた塩状の物質、Siのみでなされた粉末状あるいは塊状を有した物質、ガラス粉末、及び石英のようなシリコン酸化物のすべての物質;
3)F原料で、HF、NH4F、NaF、KFなどのようなF−を含んだすべての形態の物質;
4)アルミニウムとシリコン以外の骨格に他種の元素を挿入するために使われる物質。
1)基質上に単層構造で直接成長させた分子篩の単一薄膜と、
2)基質上に一つあるいは複数種の分子篩を多層構造で構成した単一薄膜と、
3)基質上に一種あるいは多種の分子篩を化学結合を用いて付着させた単層または多層フィルムと、
4)前記1)項、2)項、3)項に明示された構成体を一部あるいは全部組合わせた複合体。
〔実験材料及び方法〕
〔ガラス板上に完璧にb軸に配向されたシリカライト薄膜を成長させるための準備〕
ガラス板(75mm×25mm×1mm、Marienfeld)をピラニア溶液(H2SO4とH2O2との混合比7:3)内に30分間入れた後、取り出して蒸溜水で洗浄して高純度窒素気流下で乾燥させた。このように乾燥されたガラス板をスピンコーティング装置に載せてアルコールに適当な濃度に希釈されたポリエチレンイミン(PEI、Mw=25000、Aldrich)でスピンコーティングし、PEIがコーティングされたガラスであるPEI/Gを作った。このようにして得たPEI/Gを純粋なトルエンで洗浄した後、高純度窒素を吹かして乾燥させた。
平らな板上に濾紙あるいはA4用紙を置いて、その上に両面テープを用いてPEI/Gを固定した後、b軸に広くて扁平な面が発達したシリカライト粉末を少量振り撤いた。指または柔らかくて表面が滑らかなシリコン弾性体を用いて粉末を磨いてシリカライト種子結晶のb軸方向がいずれも基質に対して垂直になるように配向させてPEI/G表面に付着させた(参照:大韓民国特許出願第2007−0001317号)。磨き方法の以外にも超音波を用いてシリカライト種子結晶を完璧にb軸方向基質に垂直になるように配向させてガラス表面に付着させた(参照:大韓民国特許登録第668041号)。この場合、トルエン内でガラス板と3−chloropropyltrimethoxy silaneとを反応させてガラス表面にあらかじめ3−chloropropylを付着(コーティング)させた。この際、表面に付着された3−chloropropylグループは、連結化合物として作用してシリカライトをガラス表面に付着させる役割を果たす。超音波を用いてシルラカライトをガラス板上に付着させる場合に使われるシリカライト種子結晶は、中央部にa軸に寄生した結晶が成長していない純粋なシリカライト結晶を使った。
シリカライト薄膜を成長させるための合成ジェルの一つの組成は、[TEOS]x[TEAOH]y[(NH4)2SiF6]z[H2O]w(x:y:z:w=4:1.92:0.36:78.4)である。詳細には、200mL容量のプラスチックビーカーに水酸化テトラエチルアンモニウム(TEAOH、35w%水溶液、Aldrich)30.29gと水33.24gとを入れた後、よく撹拌した。前記TEAOH溶液のうち40gを100mL容量のプラスチックビーカーに移して、オルトケイ酸テトラエチル(TEOS、98%、Aldrich)31.80gを添加した後、常温で4時間かき混ぜてTEOSを加水分解させた。残りのTEAOH溶液を別途の100mL容量のプラスチックビーカーに移して、98%アンモニウムヘキサフルオロケイ酸塩[(NH4)2SiF6]2.45gを入れた。(NH4)2SiF6が完全に溶けた後、この溶液をTEOSを完全に加水分解させた溶液にゆっくり添加した後、6時間常温に停止された状態で置いた。
シリカライト種子結晶のb軸がいずれも基質に垂直になるように付着されたPEI/G板を攝氏450℃度で加熱して、シリカライトとガラス板との間のPEI連結層を焼成すると同時にシリカライトとガラス板とを直接結合させた。テフロン(登録商標)支持体を用いて焼成後、シリカライトが強く付着されたガラス板を垂直に立てた後、180mL容量のテフロン容器内に入れて既に作ったシリカライト合成用ジェルを注いだ後、容器蓋を閉じてステンレススチール材質の高圧反応器(autoclave)に入れて165℃オーブンで12時間反応させた。反応が終わった後、フィルムが生成された基質を2次蒸溜水に入れて10秒間超音波洗浄機で洗浄した後、2次蒸溜水を流しながら数回拭いて表面に物理的に付いている不純物を除去した。550℃で6時間焼成して細孔内にある有機鋳型(template)を完全に除去した。
PEI/G板上にb軸に広くて扁平な面が発達したシリカライト種子結晶を付着させる時、b軸方向に多様な厚さを有する種子結晶を使った。この際、使われる種子結晶のb軸方向の厚さは20〜5000nmであった。
前記方法を用いて透明なガラス板上にすべてのb軸がガラス板に垂直配向された多様な厚さのシリカライト薄膜を形成した。生成された薄膜上に約15nm厚さに白金/パラジウムコーティングをして走査型電子顕微鏡(Hitachi S−4300 FE−SEM)を用いてSEMイメージを得た。
前記実施例によって製造されたシリカライト薄膜の結晶成長方向を糾明するため、CuKα X線を使うX線回折機(Rigaku回折機 D/MAX−1C、Rigaku)を用いてX線粉末回折パターンを得た。
図2は、ガラス板上にb軸がガラス板と垂直に配向されたシリカライト種子結晶を磨き方法を用いて付着させたガラス板の全面部SEMイメージである。
Claims (11)
- 次の段階を含む基質上にb軸がいずれも基質面に対して垂直配向されたMFI型ゼオライト薄膜の製造方法:
(a)基質上にゼオライトまたは類似分子篩の種子結晶を生成または付着させる段階と、
(b)前記基質を構造指向剤(structure−directing agent)を含むMFI型ゼオライト合成ジェルに入れてゼオライトまたは類似分子篩の結晶を成長させる段階、
であり、
前記構造指向剤を含むMFI型ゼオライト合成ジェルは、
[TEOS]X[TEAOH]Y[(NH4)2SiF6]Z[H2O]Wの組成からなり、前記X:Y:Z:Wの含量比は、(0.1〜30):(0.1〜50):(0.01〜50):(1〜500)であることを特徴とする方法。 - 次の段階を含む基質上にb軸がいずれも垂直配向されたMFI型ゼオライト薄膜の厚さを調節する方法:
(a)基質上に多様な厚さを有するゼオライトまたは類似分子篩の種子結晶を生成させる段階と、
(b)前記基質を構造指向剤を含むMFI型ゼオライト合成ジェルに入れてゼオライトまたは類似分子篩の結晶を成長させる段階、
であり、
前記構造指向剤を含むMFI型ゼオライト合成ジェルは、
[TEOS]X[TEAOH]Y[(NH4)2SiF6]Z[H2O]Wの組成からなり、前記X:Y:Z:Wの含量比は、(0.1〜30):(0.1〜50):(0.01〜50):(1〜500)であることを特徴とする方法。 - 前記段階(a)は、
種子結晶が付着されていない基質をMFI型ゼオライト合成ジェルに入れて実施することを特徴とする請求項1または2に記載の方法。 - 前記段階(a)は、
ゼオライトまたは類似分子篩の種子結晶をb軸方向に付着して実施することを特徴とする請求項1または2に記載の方法。 - 前記ゼオライトまたは類似分子篩は、
ZSM−5、シリカライト、TS−1、AZ−1、Bor−C、ボラライトC、エンシライト、FZ−1、LZ−105、モノクリニックH−ZSM−5、ミュティナイト、NU−4、NU−5、TSZ、TSZ−III、TZ−01、USC−4、USI−108、ZBH及びZKQ−1Bで構成された群から選択されることを特徴とする請求項1または2に記載の方法。 - 前記基質は、
(i)金属及び非金属元素が単独または2種以上含まれている酸化物として表面にヒドロキシ基を有する物質、(ii)チオール基(−SH)またはアミン基(−NH2)と結合する単一金属及び金属の合金、(iii)表面に作用基を有する重合体、(iv)半導体化合物、(v)ゼオライトまたはその類似分子篩、または(vi)表面にヒドロキシル基を有しているか、ヒドロキシル基を有するようにする天然高分子、合成高分子または伝導性高分子であることを特徴とする請求項1または2に記載の方法。 - 前記段階(a)は、
前記基質に対してゼオライトまたは類似分子篩の種子結晶に物理的に圧力を付け加えて、前記基質とゼオライトまたは類似分子篩の種子結晶との間に化学的結合を形成させる方法によって実施されることを特徴とする請求項1または2に記載の方法。 - 前記物理的に圧力を付け加える段階は、磨き(rubbing)または分子篩結晶の基質に対する押さえ(pressing against substrate)によって実施されることを特徴とする請求項7に記載の方法。
- 前記段階(a)は、
10kHz〜100MHz超音波を用いて、前記基質上にゼオライトまたは類似分子篩の種子結晶を付着させて実施されることを特徴とする請求項1または2に記載の方法。 - 前記基質、またはゼオライトまたは類似分子篩の種子結晶は、
連結化合物が結合されていることを特徴とする請求項7に記載の方法。 - 前記連結化合物は、
次の化学式1ないし化学式11の化合物で構成された群から選択される化合物であることを特徴とする請求項10に記載の方法:
〔化学式1〕
Z−L1−X
〔化学式2〕
MR’4
〔化学式3〕
R3Si−L1−Y
〔化学式4〕
HS−L1−X
〔化学式5〕
HS−L1−SiR3
〔化学式6〕
HS−L1−Y
〔化学式7〕
Z−L2(+)
〔化学式8〕
L3(−)−Y
〔化学式9〕
Z−L3(−)
〔化学式10〕
L2(+)−Y
〔化学式11〕
Z−Y
前記化学式で、Zは、R3Siまたはイソシアネート基(−NCO)であり、ここで、Rは、ハロゲン基、C1〜C4のアルコキシまたはC1〜C4のアルキル基を表わし、3個のRのうち少なくとも一つは、ハロゲン基またはアルコキシ基であり;L1は、置換または非置換のC1〜C17アルキル、アラルキルまたはアリール基であり、一つ以上の酸素、窒素または硫黄原子を含むことができ;Xは、ハロゲン基、イソシアネート(−NCO)基、トシル基またはアザイド基であり;R’は、Rと同じ意味を表わし、4個のR’のうち少なくとも2個は、ハロゲン基またはアルコキシ基であり;Mは、珪素、チタンまたはジルコニウムであり;Yは、ヒドロキシ基、チオール基、アミン基、アンモニウム基、スルホン基及びその塩、カルボキシ酸及びその塩、酸無水物、エポキシ基、アルデヒド基、エステル基、アクリル基、イソシアネート基(−NCO)、糖(sugar)残基、二重結合、三重結合、ジエン(diene)、ジイン(diyne)、アルキルホスフィン、アルキルアミンまたはリガンド交換できる配位化合物であり、Yは、連結化合物の末端だけではなく、中間に位置することもでき;L2(+)は、1個以上の酸素、窒素または硫黄原子を含む置換または非置換のC1〜C17の炭化水素化合物として、その末端、直鎖状または測鎖状に正電荷(+)が少なくとも1個以上の作用基を表わし;L3(−)は、1個以上の酸素、窒素または硫黄原子を含む置換または非置換のC1〜C17の炭化水素化合物として、その末端、直鎖状または測鎖状に負電荷(−)が少なくとも1個以上の作用基を表わす。
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