JP5181219B2 - 封止用エポキシ樹脂組成物及び電子部品装置 - Google Patents

封止用エポキシ樹脂組成物及び電子部品装置 Download PDF

Info

Publication number
JP5181219B2
JP5181219B2 JP2007524709A JP2007524709A JP5181219B2 JP 5181219 B2 JP5181219 B2 JP 5181219B2 JP 2007524709 A JP2007524709 A JP 2007524709A JP 2007524709 A JP2007524709 A JP 2007524709A JP 5181219 B2 JP5181219 B2 JP 5181219B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
epoxy resin
resin composition
group
magnesium hydroxide
compound
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2007524709A
Other languages
English (en)
Other versions
JPWO2007007843A1 (ja
Inventor
良一 池澤
秀崇 吉沢
清一 赤城
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Showa Denko Materials Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
Showa Denko Materials Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd, Showa Denko Materials Co Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
Priority to JP2007524709A priority Critical patent/JP5181219B2/ja
Publication of JPWO2007007843A1 publication Critical patent/JPWO2007007843A1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5181219B2 publication Critical patent/JP5181219B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K7/00Use of ingredients characterised by shape
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/18Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
    • C08K3/20Oxides; Hydroxides
    • C08K3/22Oxides; Hydroxides of metals
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L63/00Compositions of epoxy resins; Compositions of derivatives of epoxy resins
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
    • H01L23/29Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the material, e.g. carbon
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
    • H01L23/29Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the material, e.g. carbon
    • H01L23/293Organic, e.g. plastic
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
    • H01L23/29Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the material, e.g. carbon
    • H01L23/293Organic, e.g. plastic
    • H01L23/295Organic, e.g. plastic containing a filler
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/095Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00 with a principal constituent of the material being a combination of two or more materials provided in the groups H01L2924/013 - H01L2924/0715
    • H01L2924/097Glass-ceramics, e.g. devitrified glass
    • H01L2924/09701Low temperature co-fired ceramic [LTCC]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/19Details of hybrid assemblies other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/1901Structure
    • H01L2924/1904Component type
    • H01L2924/19041Component type being a capacitor
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/19Details of hybrid assemblies other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/1901Structure
    • H01L2924/1904Component type
    • H01L2924/19043Component type being a resistor

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Compounds Of Alkaline-Earth Elements, Aluminum Or Rare-Earth Metals (AREA)

Description

本発明は、封止用エポキシ樹脂組成物及びこの組成物で封止した素子を備えた電子部品装置に関する。
従来から、トランジスタ、IC等の電子部品装置の素子封止の分野では生産性、コスト等の面から樹脂封止が主流となり、エポキシ樹脂成形材料が広く用いられている。この理由としては、エポキシ樹脂が電気特性、耐湿性、耐熱性、機械特性、インサート品との接着性などの諸特性にバランスがとれているためである。これらの封止用エポキシ樹脂成形材料の難燃化は主にテトラブロモビスフェノールAのジグリシジルエーテル等のブロム化樹脂と酸化アンチモンの組合せにより行われている。
近年、環境保護の観点からハロゲン化樹脂やアンチモン化合物に量規制の動きがあり、封止用エポキシ樹脂成形材料についてもノンハロゲン化(ノンブロム化)及びノンアンチモン化の要求が出てきている。また、プラスチック封止ICの高温放置特性にブロム化合物が悪影響を及ぼすことが知られており、この観点からもブロム化樹脂量の低減が望まれている。
そこで、ブロム化樹脂や酸化アンチモンを用いずに難燃化を達成する手法としては、赤リンを用いる方法(例えば日本国特開平9−227765号公報参照。)、リン酸エステル化合物を用いる方法(例えば日本国特開平9−235449号公報参照。)、ホスファゼン化合物を用いる方法(例えば日本国特開平8−225714号公報参照。)、金属水酸化物を用いる方法(例えば日本国特開平9−241483号公報参照。)、金属水酸化物と金属酸化物を併用する方法(例えば日本国特開平9−100337号公報参照。)、フェロセン等のシクロペンタジエニル化合物(例えば日本国特開平11−269349号公報参照。)、アセチルアセトナート銅(例えば加藤寛、月刊機能材料、株式会社シーエムシー出版、1(6)、34(1991)参照。)等の有機金属化合物を用いる方法などのハロゲン、アンチモン以外の難燃剤を用いる方法、充填剤の割合を高くする方法(例えば日本国特開平7−82343号公報参照。)、難燃性の高い樹脂を使用する方法(例えば日本国特開平11−140277号公報参照。)、表面に処理を施した金属水酸化物を使用する方法(例えば日本国特開平10−338818号公報参照。)等が試みられている。
しかしながら、封止用エポキシ樹脂成形材料に赤リンを用いた場合は耐湿性の低下の問題、リン酸エステル化合物やホスファゼン化合物を用いた場合は可塑化による成形性の低下や耐湿性の低下の問題、金属水酸化物を用いた場合は流動性や金型離型性の低下の問題、金属酸化物を用いた場合や、充填剤の割合を高くした場合は流動性の低下の問題がそれぞれある。また、アセチルアセトナート銅等の有機金属化合物を用いた場合は、硬化反応を阻害し成形性が低下する問題がある。さらには難燃性の高い樹脂を使用する方法では、難燃性が電子部品装置の材料に求められるUL−94 V−0を充分に満足するものではなかった。また金属水酸化物の中で水酸化マグネシウムは耐熱性が高く、封止用エポキシ樹脂成形材料に好適に使用される可能性が示唆されていたが、多量に添加しないと難燃性が発現せず、これにより流動性等の成形性が損なわれるといった問題があり、また耐酸性に劣るため、半導体装置作製時の半田メッキ工程にて表面が腐食され白化現象が起こるといった問題も有していた。このような問題は上記表面処理にても解決できるものではなかった。
また従来の水酸化マグネシウムは微細結晶が凝集し、二次粒子径が平均10〜100μm程度の凝集体を形成している。そのため、この水酸化マグネシウムをエポキシ樹脂成形材料に添加する場合には分散性が悪く、難燃剤としての機能が充分に発揮されないという問題があった。そこで、任意粒径の分散性の良好な水酸化マグネシウムを製造する方法(日本国特開昭63−277510号公報参照。)、高温高圧下の水熱合成工程による六角柱状結晶の水酸化マグネシウムの製造方法(日本国特開平03−170325号公報参照。)、流動性を改善した特殊形状の水酸化マグネシウム複合体(日本国特開平11−11945号公報参照。)、多面体形状の複合化金属水酸化物の粒度分布を特定したもの(日本国特開2000−53876号公報参照。)、並びに鉱物由来の水酸化マグネシウムの表面を表面処理で被覆した難燃剤で、不純物の鉄(Fe)化合物、ケイ素(Si)化合物の含有量を規定するとともに、平均粒径と粒度分布を特定したもの(日本国特開2003−3171号公報参照。)などが提案されている。
しかしながら上記の水酸化マグネシウムはエポキシ樹脂成形材料に配合した場合の分散性や流動性が必ずしも充分ではない。また製造工程が煩雑でコストが高いなど、すべてに満足すべきものではなく、未だ改善の余地が残されている。特に上記日本国特開平03−170325号公報に記載された六角柱形状の水酸化マグネシウム粒子は扁平で厚みが充分ではなく、また上記特開平11−11945号公報に記載された多面体形状の水酸化マグネシウム粒子も結晶の厚みが充分とはいえず、ともに満足すべき流動性が得られていない。
以上のようにこれらノンハロゲン、ノンアンチモン系の難燃剤、充填剤の割合を高くする方法及び難燃性の高い樹脂を使用する方法では、いずれの場合もブロム化樹脂と酸化アンチモンを併用した封止用エポキシ樹脂成形材料と同等の成形性、信頼性及び難燃性を得るに至っていない。
本発明はかかる状況に鑑みなされたもので、エポキシ樹脂組成物に配合した場合の流動性、充填性及び分散性が良好であり、燃焼時の環境性にも優れる水酸化マグネシウムを配合し、ノンハロゲンかつノンアンチモンで、成形性、耐リフロー性、耐湿性及び高温放置特性等の信頼性を低下させずに難燃性が良好な封止用エポキシ組成物、及びこれにより封止した素子を備えた電子部品装置を提供しようとするものである。
本発明者らは上記の課題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、水酸化マグネシウム粒子の結晶形状に着目し、六角柱形状であって、しかも従来の結晶に比べて厚みが非常に大きい、すなわち六角柱形状のc軸方向に充分成長させた水酸化マグネシウムを配合した封止用エポキシ樹脂組成物により上記の目的を達成しうることを見い出し、本発明を完成するに至った。
本発明は以下の(1)〜(27)に関する。
(1) (A)エポキシ樹脂、(B)硬化剤、(C)水酸化マグネシウムを含有する封止用エポキシ樹脂組成物であって、(C)水酸化マグネシウムは、結晶外形が互いに平行な上下2面の六角形の基底面とこれらの基底面間に形成される外周6面の角柱面とからなり、かつc軸方向の大きさが1.5×10−6〜6.0×10−6mである、六角柱形状の水酸化マグネシウム粒子を含む封止用エポキシ樹脂組成物。
(2) 前記水酸化マグネシウム粒子が、8.0×10−18〜600×10−18の体積を有するものを含む上記(1)記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
(3) 前記水酸化マグネシウム粒子が、結晶子径が50×10−9m以上の酸化マグネシウムを水和して得られるものを含む上記(1)または(2)記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
(4) (C)水酸化マグネシウムが、前記水酸化マグネシウム粒子と、8.0×10−18〜600×10−18の体積を有する水酸化マグネシウム粒子および結晶子径が50×10−9m以上の酸化マグネシウムを水和して得られる水酸化マグネシウム粒子の少なくとも一方とからなる水酸化マグネシウム粒子混合物を含む上記(1)記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
(5) (A)エポキシ樹脂、(B)硬化剤、(C)水酸化マグネシウムを含有する封止用エポキシ樹脂組成物であって、(C)水酸化マグネシウムが、50×10−9m以上の結晶子径を有する酸化マグネシウム原料を粉砕、ふるい分けして得られたふるい下の酸化マグネシウム粉末を、有機酸を添加した100℃以下の温水中に添加し、次いで高せん断攪拌下にて酸化マグネシウムの水和反応を行い、次いで生成した固形分をろ別し、水洗、乾燥させる工程を含む製造方法で製造された水酸化マグネシウム粒子を含む封止用エポキシ樹脂組成物。
(6) (C)水酸化マグネシウムを(A)エポキシ樹脂100質量部に対し、5〜300質量部含有する上記(1)〜(5)いずれか記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
(7) (D)金属酸化物をさらに含有する上記(1)〜(6)いずれか記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
(8) (D)金属酸化物が典型金属元素の酸化物及び遷移金属元素の酸化物から選ばれる上記(7)記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
(9) (D)金属酸化物が亜鉛、マグネシウム、銅、鉄、モリブデン、タングステン、ジルコニウム、マンガン及びカルシウムの酸化物から選ばれる少なくとも1種である上記(8)記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
(10) (A)エポキシ樹脂がビフェニル型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、スチルベン型エポキシ樹脂、硫黄原子含有エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、ビフェニレン型エポキシ樹脂及びナフトール・アラルキル型エポキシ樹脂の少なくとも1種を含有する上記(1)〜(9)いずれか記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
(11) 硫黄原子含有エポキシ樹脂が下記一般式(I)で示される化合物である上記(10)記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
Figure 0005181219
(式(I)で、R〜R8は水素原子、置換又は非置換の炭素数1〜10の一価の炭化水素基、置換又は非置換の炭素数1〜10のアルキル基及び置換又は非置換の炭素数1〜10のアルコキシ基から選ばれ、全てが同一でも異なっていてもよい。nは0〜3の整数を示す。)
(12) (B)硬化剤がビフェニル型フェノール樹脂、アラルキル型フェノール樹脂、ジシクロペンタジエン型フェノール樹脂、トリフェニルメタン型フェノール樹脂及びノボラック型フェノール樹脂の少なくとも1種を含有する上記(1)〜(11)いずれか記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
(13) (E)硬化促進剤をさらに含有する上記(1)〜(12)いずれか記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
(14) (E)硬化促進剤がホスフィン化合物とキノン化合物との付加物を含む上記(13)記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
(15) (E)硬化促進剤が、リン原子に少なくとも一つのアルキル基が結合したホスフィン化合物とキノン化合物との付加物を含む上記(14)記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
(16) (F)シランカップリング剤をさらに含有する上記(1)〜(15)いずれか記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
(17) (F)シランカップリング剤が2級アミノ基を有するシランカップリング剤を含有する上記(16)記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
(18) 2級アミノ基を有するシランカップリング剤が下記一般式(II)で示される化合物を含有する上記(17)記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
Figure 0005181219
(式(II)で、Rは水素原子、炭素数1〜6のアルキル基及び炭素数1〜2のアルコキシ基から選ばれ、R2は炭素数1〜6のアルキル基及びフェニル基から選ばれ、R3はメチル基又はエチル基を示し、nは1〜6の整数を示し、mは1〜3の整数を示す。)
(19) (G)リン原子を有する化合物をさらに含有する上記(1)〜(18)のいずれかに記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
(20) (G)リン原子を有する化合物がリン酸エステル化合物を含有する上記(19)記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
(21) リン酸エステル化合物が下記一般式(III)で示される化合物を含有する上記(20)記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
Figure 0005181219
(ここで、式(III)中の8個のRは炭素数1〜4のアルキル基を示し、全て同一でも異なっていてもよい。Arは芳香族環を示す。)
(22) (G)リン原子を有する化合物がホスフィンオキサイドを含有し、該ホスフィンオキサイドが下記一般式(IV)で示されるホスフィン化合物を含有する上記(19)記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
Figure 0005181219
(一般式(IV)で、R、R及びRは炭素数1〜10の置換又は非置換のアルキル基、アリール基、アラルキル基及び水素原子のいずれかを示し、すべて同一でも異なってもよい。ただしすべてが水素原子である場合を除く。)
(23) (H)重量平均分子量が4,000以上の直鎖型酸化ポリエチレン、および(I)炭素数5〜30のα−オレフィンと無水マレイン酸との共重合物を炭素数5〜25の一価のアルコールでエステル化した化合物の少なくとも一方をさらに含有する上記(1)〜(22)いずれか記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
(24) (H)成分および(I)成分の少なくとも一方が、(A)成分の一部または全部と予備混合されてなる上記(23)記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
(25) (J)無機充填剤をさらに含有する上記(1)〜(24)いずれか記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
(26) (C)水酸化マグネシウムと(J)無機充填剤の含有量の合計が封止用エポキシ樹脂組成物に対して60〜95質量%である上記(25)記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
(27) 上記(1)〜(26)のいずれかに記載の封止用エポキシ樹脂組成物で封止された素子を備えた電子部品装置。
本願の開示は、2005年7月13日に出願された特願2005−204290に記載の主題と関連しており、それらの開示内容は引用によりここに援用される。
図1は、本発明における水酸化マグネシウム粒子の結晶外形を示す斜視図である。
本発明において用いられる(A)エポキシ樹脂は、封止用エポキシ樹脂成形材料に一般に使用されているもので特に制限はない。たとえば、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン骨格を有するエポキシ樹脂をはじめとするフェノール、クレゾール、キシレノール、レゾルシン、カテコール、ビスフェノールA、ビスフェノールF等のフェノール類及び/又はα−ナフトール、β−ナフトール、ジヒドロキシナフタレン等のナフトール類とホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ベンズアルデヒド、サリチルアルデヒド等のアルデヒド基を有する化合物とを酸性触媒下で縮合又は共縮合させて得られるノボラック樹脂をエポキシ化したもの、
ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、アルキル置換又は非置換のビフェノール等のジグリシジルエーテル、
スチルベン型エポキシ樹脂、
ハイドロキノン型エポキシ樹脂、
フタル酸、ダイマー酸等の多塩基酸とエピクロルヒドリンの反応により得られるグリシジルエステル型エポキシ樹脂、
ジアミノジフェニルメタン、イソシアヌル酸等のポリアミンとエピクロルヒドリンの反応により得られるグリシジルアミン型エポキシ樹脂、
ジシクロペンタジエンとフェノール類の共縮合樹脂のエポキシ化物、
ナフタレン環を有するエポキシ樹脂、
フェノール・アラルキル樹脂、ナフトール・アラルキル樹脂等のアラルキル型フェノール樹脂のエポキシ化物、
ビフェニレン型エポキシ樹脂、
トリメチロールプロパン型エポキシ樹脂、
テルペン変性エポキシ樹脂、
オレフィン結合を過酢酸等の過酸で酸化して得られる線状脂肪族エポキシ樹脂、
脂環族エポキシ樹脂、
硫黄原子含有エポキシ樹脂などが挙げられ、これらを単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
なかでも、耐リフロー性の観点からはビフェニル型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、スチルベン型エポキシ樹脂及び硫黄原子含有エポキシ樹脂が好ましく、硬化性の観点からはノボラック型エポキシ樹脂が好ましく、低吸湿性の観点からはジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂が好ましく、耐熱性及び低反り性の観点からはナフタレン型エポキシ樹脂及びトリフェニルメタン型エポキシ樹脂が好ましく、難燃性の観点からはビフェニレン型エポキシ樹脂及びナフトール・アラルキル型エポキシ樹脂が好ましい。これらのエポキシ樹脂の少なくとも1種を含有していることが好ましい。
ビフェニル型エポキシ樹脂としてはたとえば下記一般式(V)で示されるエポキシ樹脂等が挙げられ、ビスフェノールF型エポキシ樹脂としてはたとえば下記一般式(VI)で示されるエポキシ樹脂等が挙げられ、スチルベン型エポキシ樹脂としてはたとえば下記一般式(VII)で示されるエポキシ樹脂等が挙げられ、硫黄原子含有エポキシ樹脂としてはたとえば下記一般式(I)で示されるエポキシ樹脂等が挙げられる。
Figure 0005181219
(式(V)で、R〜R8は水素原子及び炭素数1〜10の置換又は非置換の一価の炭化水素基から選ばれ、全てが同一でも異なっていてもよい。nは0〜3の整数を示す。)
Figure 0005181219
(式(VI)で、R〜R8は水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のアルコキシル基、炭素数6〜10のアリール基、及び炭素数6〜10のアラルキル基から選ばれ、全てが同一でも異なっていてもよい。nは0〜3の整数を示す。)
Figure 0005181219
(式(VII)で、R〜R8は水素原子及び炭素数1〜5の置換又は非置換の一価の炭化水素基から選ばれ、全てが同一でも異なっていてもよい。nは0〜10の整数を示す。)
Figure 0005181219
(式(I)で、R〜R8は水素原子、置換又は非置換の炭素数1〜10の一価の炭化水素基、置換又は非置換の炭素数1〜10のアルキル基及び置換又は非置換の炭素数1〜10のアルコキシ基から選ばれ、全てが同一でも異なっていてもよい。nは0〜3の整数を示す。)
上記一般式(V)で示されるビフェニル型エポキシ樹脂としては、たとえば、4,4´−ビス(2,3−エポキシプロポキシ)ビフェニル又は4,4´−ビス(2,3−エポキシプロポキシ)−3,3´,5,5´−テトラメチルビフェニルを主成分とするエポキシ樹脂、エピクロルヒドリンと4,4´−ビフェノール又は4,4´−(3,3´,5,5´−テトラメチル)ビフェノールとを反応させて得られるエポキシ樹脂等が挙げられる。
なかでも4,4´−ビス(2,3−エポキシプロポキシ)−3,3´,5,5´−テトラメチルビフェニルを主成分とするエポキシ樹脂が好ましい。n=0を主成分とするYX−4000(ジャパンエポキシレジン株式会社製商品名)が市販品として入手可能である。
上記一般式(VI)で示されるビスフェノールF型エポキシ樹脂としては、例えば、R、R3、R6及びR8がメチル基で、R2、R4、R5及びR7が水素原子であり、n=0を主成分とするYSLV−80XY(新日鐵化学株式会社製商品名)が市販品として入手可能である。
上記一般式(VII)で示されるスチルベン型エポキシ樹脂は、原料であるスチルベン系フェノール類とエピクロルヒドリンとを塩基性物質存在下で反応させて得ることができる。この原料であるスチルベン系フェノール類としては、たとえば3−t−ブチル−4,4′−ジヒドロキシ−3′,5,5′−トリメチルスチルベン、3−t−ブチル−4,4′−ジヒドロキシ−3′,5′,6−トリメチルスチルベン、4,4´−ジヒドロキシ−3,3´,5,5´−テトラメチルスチルベン、4,4´−ジヒドロキシ−3,3´−ジ−t−ブチル−5,5´−ジメチルスチルベン、4,4´−ジヒドロキシ−3,3´−ジ−t−ブチル−6,6´−ジメチルスチルベン等が挙げられ、なかでも3−t−ブチル−4,4′−ジヒドロキシ−3′,5,5′−トリメチルスチルベン、及び4,4´−ジヒドロキシ−3,3´,5,5´−テトラメチルスチルベンが好ましい。これらのスチルベン型フェノール類は単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
上記一般式(I)で示される硫黄原子含有エポキシ樹脂のなかでも、R2、R3、R6及びR7が水素原子で、R、R4、R5及びR8がアルキル基であるエポキシ樹脂が好ましく、R2、R3、R6及びR7が水素原子で、R及びR8がt−ブチル基で、R4及びR5がメチル基であるエポキシ樹脂がより好ましい。このような化合物としては、YSLV−120TE(新日鐵化学株式会社製商品名)等が市販品として入手可能である。
これらのエポキシ樹脂はいずれか1種を単独で用いても2種以上を組合わせて用いてもよいが、その配合量は、その性能を発揮するためにエポキシ樹脂全量に対して合わせて20質量%以上とすることが好ましく、30質量%以上がより好ましく、50質量%以上とすることがさらに好ましい。
ノボラック型エポキシ樹脂としては、たとえば下記一般式(VIII)で示されるエポキシ樹脂等が挙げられる。
Figure 0005181219
(式(VIII)で、Rは水素原子及び炭素数1〜10の置換又は非置換の一価の炭化水素基から選ばれ、nは0〜10の整数を示す。)
上記一般式(VIII)で示されるノボラック型エポキシ樹脂は、ノボラック型フェノール樹脂にエピクロルヒドリンを反応させることによって容易に得られる。なかでも、一般式(VIII)中のRとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、イソブチル基等の炭素数1〜10のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数1〜10のアルコキシル基が好ましく、水素原子又はメチル基がより好ましい。nは0〜3の整数が好ましい。上記一般式(VIII)で示されるノボラック型エポキシ樹脂のなかでも、オルトクレゾールノボラック型エポキシ樹脂が好ましい。N−600シリーズ(大日本インキ化学工業株式会社製商品名)が市販品として入手可能である。
ノボラック型エポキシ樹脂を使用する場合、その配合量は、その性能を発揮するためにエポキシ樹脂全量に対して20質量%以上とすることが好ましく、30質量%以上がより好ましい。
ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂としては、たとえば下記一般式(IX)で示されるエポキシ樹脂等が挙げられる。
Figure 0005181219
(式(IX)で、R及びR2は水素原子及び炭素数1〜10の置換又は非置換の一価の炭化水素基からそれぞれ独立して選ばれ、nは0〜10の整数を示し、mは0〜6の整数を示す。)
上記式(IX)中のRとしては、たとえば、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、t−ブチル基等のアルキル基、ビニル基、アリル基、ブテニル基等のアルケニル基、ハロゲン化アルキル基、アミノ基置換アルキル基、メルカプト基置換アルキル基などの炭素数1〜5の置換又は非置換の一価の炭化水素基が挙げられ、なかでもメチル基、エチル基等のアルキル基及び水素原子が好ましく、メチル基及び水素原子がより好ましい。R2としては、たとえば、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、t−ブチル基等のアルキル基、ビニル基、アリル基、ブテニル基等のアルケニル基、ハロゲン化アルキル基、アミノ基置換アルキル基、メルカプト基置換アルキル基などの炭素数1〜5の置換又は非置換の一価の炭化水素基が挙げられ、なかでも水素原子が好ましい。HP−7200(大日本インキ化学工業株式会社製商品名)が市販品として入手可能である。
ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂を使用する場合、その配合量は、その性能を発揮するためにエポキシ樹脂全量に対して20質量%以上とすることが好ましく、30質量%以上がより好ましい
ナフタレン型エポキシ樹脂としてはたとえば下記一般式(X)で示されるエポキシ樹脂等が挙げられ、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂としてはたとえば下記一般式(XI)で示されるエポキシ樹脂等が挙げられる。
Figure 0005181219
(式(X)で、R〜R3は水素原子及び置換又は非置換の炭素数1〜12の一価の炭化水素基から選ばれ、それぞれ全てが同一でも異なっていてもよい。pは1又は0で、l、mはそれぞれ0〜11の整数であって、(l+m)が1〜11の整数でかつ(l+p)が1〜12の整数となるよう選ばれる。iは0〜3の整数、jは0〜2の整数、kは0〜4の整数を示す。)
上記一般式(X)で示されるナフタレン型エポキシ樹脂としては、l個の構成単位及びm個の構成単位をランダムに含むランダム共重合体、交互に含む交互共重合体、規則的に含む共重合体、ブロック状に含むブロック共重合体が挙げられ、これらのいずれか1種を単独で用いても、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
Figure 0005181219
(式(XI)で、Rは水素原子及び炭素数1〜10の置換又は非置換の一価の炭化水素基から選ばれ、nは1〜10の整数を示す。)
一般式(XI)で示されるトリフェニルメタン型エポキシ樹脂としては例えばEPPN−500シリーズ(日本化薬株式会社製商品名)が市販品として入手可能である。これらのエポキシ樹脂はいずれか1種を単独で用いても両者を組合わせて用いてもよいが、その配合量は、その性能を発揮するためにエポキシ樹脂全量に対して合わせて20質量%以上とすることが好ましく、30質量%以上がより好ましく、50質量%以上とすることがさらに好ましい。
上記のビフェニル型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、スチルベン型エポキシ樹脂、硫黄原子含有エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂及びトリフェニルメタン型エポキシ樹脂は、いずれか1種を単独で用いても2種以上を組合わせて用いてもよいが、その配合量はエポキシ樹脂全量に対して合わせて50質量%以上とすることが好ましく、60質量%以上がより好ましく、80質量%以上がさらに好ましい。
ビフェニレン型エポキシ樹脂としてはたとえば下記一般式(XII)で示されるエポキシ樹脂等が挙げられ、ナフトール・アラルキル型エポキシ樹脂としてはたとえば下記一般式(XIII)で示されるエポキシ樹脂等が挙げられる。
Figure 0005181219
(上記式(XII)中のR〜R9は全てが同一でも異なっていてもよく、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、イソブチル基等の炭素数1〜10のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数1〜10のアルコキシル基、フェニル基、トリル基、キシリル基等の炭素数6〜10のアリール基、及び、ベンジル基、フェネチル基等の炭素数6〜10のアラルキル基から選ばれ、なかでも水素原子とメチル基が好ましい。nは0〜10の整数を示す。)
Figure 0005181219
(式(XIII)で、R1〜R2は水素原子及び置換又は非置換の炭素数1〜12の一価の炭化水素基から選ばれ、それぞれ全てが同一でも異なっていてもよい。nは1〜10の整数を示す。)
ビフェニレン型エポキシ樹脂としてはNC−3000(日本化薬株式会社製商品名)が市販品として入手可能である。またナフトール・アラルキル型エポキシ樹脂としてはESN−175等(東都化成株式会社製商品名)が市販品として入手可能である。これらのビフェニレン型エポキシ樹脂及びナフトール・アラルキル型エポキシ樹脂はいずれか1種を単独で用いても両者を組合わせて用いてもよいが、その配合量は、その性能を発揮するためにエポキシ樹脂全量に対して合わせて20質量%以上とすることが好ましく、30質量%以上がより好ましく、50質量%以上とすることがさらに好ましい。
上記エポキシ樹脂の中でも、特には耐リフロー性等の信頼性、成形性及び難燃性の観点からは上記一般式(I)で示される構造の硫黄原子含有エポキシ樹脂が最も好ましい。
本発明において用いられる(A)エポキシ樹脂の150℃における溶融粘度は、流動性の観点から2ポイズ以下が好ましく、1ポイズ以下がより好ましく、0.5ポイズ以下がさらに好ましい。ここで、溶融粘度とはICIコーンプレート粘度計で測定した粘度を示す。
本発明において用いられる(B)硬化剤は、封止用エポキシ樹脂成形材料に一般に使用されているもので特に制限はない。たとえば、フェノール、クレゾール、レゾルシン、カテコール、ビスフェノールA、ビスフェノールF、フェニルフェノール、アミノフェノール等のフェノール類及び/又はα−ナフトール、β−ナフトール、ジヒドロキシナフタレン等のナフトール類とホルムアルデヒド、ベンズアルデヒド、サリチルアルデヒド等のアルデヒド基を有する化合物とを酸性触媒下で縮合又は共縮合させて得られるノボラック型フェノール樹脂、
フェノール類及び/又はナフトール類とジメトキシパラキシレン又はビス(メトキシメチル)ビフェニルから合成されるフェノール・アラルキル樹脂、ナフトール・アラルキル樹脂等のアラルキル型フェノール樹脂、
フェノール類及び/又はナフトール類とシクロペンタジエンから共重合により合成される、ジシクロペンタジエン型フェノール樹脂、
ナフトールノボラック樹脂、
テルペン変性フェノール樹脂、
トリフェニルメタン型フェノール樹脂などが挙げられ、これらを単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
なかでも、難燃性の観点からはビフェニル型フェノール樹脂が好ましく、耐リフロー性及び硬化性の観点からはアラルキル型フェノール樹脂が好ましく、低吸湿性の観点からはジシクロペンタジエン型フェノール樹脂が好ましく、耐熱性、低膨張率及び低そり性の観点からはトリフェニルメタン型フェノール樹脂が好ましく、硬化性の観点からはノボラック型フェノール樹脂が好ましく、これらのフェノール樹脂の少なくとも1種を含有していることが好ましい。
ビフェニル型フェノール樹脂としては、たとえば下記一般式(XIV)で示されるフェノール樹脂等が挙げられる。
Figure 0005181219
上記式(XIV)中のR〜R9は全てが同一でも異なっていてもよく、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、イソブチル基等の炭素数1〜10のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数1〜10のアルコキシル基、フェニル基、トリル基、キシリル基等の炭素数6〜10のアリール基、及び、ベンジル基、フェネチル基等の炭素数6〜10のアラルキル基から選ばれ、なかでも水素原子とメチル基が好ましい。nは0〜10の整数を示す。
上記一般式(XIV)で示されるビフェニル型フェノール樹脂としては、たとえばR〜R9が全て水素原子である化合物等が挙げられ、なかでも溶融粘度の観点から、nが1以上の縮合体を50質量%以上含む縮合体の混合物が好ましい。このような化合物としては、MEH−7851(明和化成株式会社製商品名)が市販品として入手可能である。
ビフェニル型フェノール樹脂を使用する場合、その配合量は、その性能を発揮するために硬化剤全量に対して30質量%以上とすることが好ましく、50質量%以上がより好ましく、60質量%以上がさらに好ましい。
アラルキル型フェノール樹脂としては、たとえばフェノール・アラルキル樹脂、ナフトール・アラルキル樹脂等が挙げられ、下記一般式(XV)で示されるフェノール・アラルキル樹脂、下記一般式(XVI)で示されるナフトール・アラルキル樹脂が好ましい。一般式(XV)中のRが水素原子で、nの平均値が0〜8であるフェノール・アラルキル樹脂がより好ましい。具体例としては、p−キシリレン型フェノール・アラルキル樹脂、m−キシリレン型フェノール・アラルキル樹脂等が挙げられる。これらのアラルキル型フェノール樹脂を用いる場合、その配合量は、その性能を発揮するために硬化剤全量に対して30質量%以上とすることが好ましく、50質量%以上がより好ましい。
Figure 0005181219
(式(XV)で、Rは水素原子及び炭素数1〜10の置換又は非置換の一価の炭化水素基から選ばれ、nは0〜10の整数を示す。)
Figure 0005181219
(式(XVI)で、R1〜R2は水素原子及び炭素数1〜10の置換又は非置換の一価の炭化水素基から選ばれ、それぞれ全てが同一でも異なっていてもよい。nは0〜10の整数を示す。)
ジシクロペンタジエン型フェノール樹脂としては、たとえば下記一般式(XVII)で示されるフェノール樹脂等が挙げられる。
Figure 0005181219
(式(XVII)で、R及びR2は水素原子及び炭素数1〜10の置換又は非置換の一価の炭化水素基からそれぞれ独立して選ばれ、nは0〜10の整数を示し、mは0〜6の整数を示す。)
ジシクロペンタジエン型フェノール樹脂を用いる場合、その配合量は、その性能を発揮するために硬化剤全量に対して30質量%以上とすることが好ましく、50質量%以上がより好ましい。
トリフェニルメタン型フェノール樹脂としては、たとえば下記一般式(XVIII)で示されるフェノール樹脂等が挙げられる。
Figure 0005181219
(式(XVIII)で、Rは水素原子及び炭素数1〜10の置換又は非置換の一価の炭化水素基から選ばれ、nは1〜10の整数を示す。)
トリフェニルメタン型フェノール樹脂を用いる場合、その配合量は、その性能を発揮するために硬化剤全量に対して30質量%以上とすることが好ましく、50質量%以上がより好ましい。
ノボラック型フェノール樹脂としては、たとえばフェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、ナフトールノボラック樹脂等が挙げられ、なかでもフェノールノボラック樹脂が好ましい。ノボラック型フェノール樹脂を用いる場合、その配合量は、その性能を発揮するために硬化剤全量に対して30質量%以上とすることが好ましく、50質量%以上がより好ましい。
上記のビフェニル型フェノール樹脂、アラルキル型フェノール樹脂、ジシクロペンタジエン型フェノール樹脂、トリフェニルメタン型フェノール樹脂及びノボラック型フェノール樹脂は、いずれか1種を単独で用いても2種以上を組合わせて用いてもよいが、その配合量は硬化剤全量に対して合わせて60質量%以上とすることが好ましく、80質量%以上がより好ましい。
本発明において用いられる(B)硬化剤の150℃における溶融粘度は、流動性の観点から2ポイズ以下が好ましく、1ポイズ以下がより好ましい。ここで、溶融粘度とはICI粘度を示す。
(A)エポキシ樹脂と(B)硬化剤との当量比、すなわち、エポキシ樹脂中のエポキシ基数に対する硬化剤中の水酸基数の比(硬化剤中の水酸基数/エポキシ樹脂中のエポキシ基数)は、特に制限はないが、それぞれの未反応分を少なく抑えるために0.5〜2の範囲に設定されることが好ましく、0.6〜1.3がより好ましい。成形性及び耐リフロー性に優れる封止用エポキシ樹脂成形材料を得るためには0.8〜1.2の範囲に設定されることがさらに好ましい。
図1に、本発明に用いられる(C)水酸化マグネシウムに含まれる水酸化マグネシウム粒子の結晶形状の一例を斜視図で示す。本発明は、図1に示すような六角柱形状であり、c軸方向の大きさ(以下Lcという。)が、所定の範囲である水酸化マグネシウム粒子を、(C)水酸化マグネシウムに含むことを特徴とする。Lcは1.5×10−6〜6.0×10−6mであり、より好ましくは1.5×10−6〜3.0×10−6mである。Lcが1.5×10−6m以上であると水酸化マグネシウム粒子のエポキシ樹脂組成物に対する充填性、流動性が良好となる。これはLcの値が大きいほど六角柱形状の粒子が相対的にc軸方向に発達していることを表している。このような水酸化マグネシウム粒子としては、例えば、タテホ化学工業株式会社製商品名PZ-1が入手可能である。なお、六角柱形状は、結晶外形が互いに平行な上下2面の六角形の基底面とこれらの基底面間に形成される外周6面の角柱面とからなる。
水酸化マグネシウム粒子と樹脂との界面には、何らかの相互作用が存在し、粒子形状が樹脂の自由運動を束縛する原因となる。一般にこの傾向は粒子形状の影響を受ける。すなわち、形状異方性の程度が大きくなるほど影響が大きくなる。本発明の水酸化マグネシウム粒子はc軸方向に充分成長させた粒子であるので、従来のものと比べて形状異方性が小さく、樹脂の自由運動を妨げる要因が少ないという理由による。
なお、水酸化マグネシウム粒子の平均粒径dは特に限定されるものではないが、通常0.1×10−6〜10×10−6mの範囲とすることが好ましい。なお、本発明において水酸化マグネシウム粒子のc軸方向の大きさLcは走査型電子顕微鏡観察において視野中最大の長さを有する粒子の測定値であり、体積Vはさらにその粒子の基底面の六角形の一辺の長さを測定して算出した。また水酸化マグネシウム粒子の平均粒径dはレーザー回折・散乱法による粒度分布測定装置により測定された粉末試料の50%径の値である。
また本発明における上記の所定の範囲のLcを有する水酸化マグネシウム粒子は、8.0×10−18〜600×10−18の体積を有することが好ましい。さらに本発明の水酸化マグネシウム粒子は結晶子径が50×10−9m以上の酸化マグネシウムを水和して得られるものであることが好ましい。これは結晶子径の大きい結晶の発達した酸化マグネシウムは水和活性が低いため、微細粒子の生成を抑制し、c軸方向へ大きく成長した水酸化マグネシウムが得られるという理由による。なお、この結晶子径はX線回折法を用いてScherrer式により算出した値をいう。
また、本発明に用いられる(C)水酸化マグネシウムは、水酸化マグネシウム粒子混合物を含むことが、流動性、難燃性が良好となるためより好ましい。ここで、水酸化マグネシウム粒子混合物とは、前記所定の範囲のLcを有する水酸化マグネシウム粒子と、8.0×10−18〜600×10−18の体積を有する水酸化マグネシウム粒子および結晶子径が50×10−9m以上の酸化マグネシウムを水和して得られる水酸化マグネシウム粒子の少なくとも一方とからなる混合物をいう。
本発明における水酸化マグネシウム粒子は、
結晶子径が50×10−9m以上の酸化マグネシウム(MgO)原料を粉砕し、ふるい分けして得られたふるい下のMgO粉末を得る工程と、
前記MgO粉末を有機酸を添加した100℃以下の温水中に添加し、
次いで高せん断攪拌下にてMgOの水和反応を行う工程と、
前記反応により生成した固形分をろ別し、水洗、乾燥させる工程とを含む製造方法で製造することができる。
上記有機酸としては特に限定されるものではないが、好ましくは、モノカルボン酸、オキシカルボン酸(オキシ酸)等が挙げられる。モノカルボン酸としては例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、アクリル酸、クロトン酸等が挙げられ、オキシカルボン酸(オキシ酸)としては、例えばグリコール酸、乳酸、ヒドロアクリル酸、α―オキシ酪酸、グリセリン酸、サリチル酸、安息香酸、没食子酸等が挙げられる。
上記の水酸化マグネシウム粒子の製造方法において、原料として使用される酸化マグネシウム(MgO)は、結晶子径が50×10−9m以上の酸化マグネシウムを粉砕し、篩い分けによりある程度の大きさ以下に選別して得られた粉末であれば、特に限定されるものではないが、電融法により得られる電解MgOであることが好ましい。電解MgOを使用することにより、1回の水和反応のみで所定厚みの水酸化マグネシウム粒子を得ることができる。上記の水和反応は100℃以下、例えば50〜100℃の温水中において高せん断攪拌下にて行われる。具体的にはタービン羽根を備えた高速攪拌機等を使用することが好ましい。温水の温度は、好ましくは60〜100℃である。
この一回目の反応で得られた水酸化マグネシウム粒子の平均粒径d1は0.5×10−6〜1.0×10−6mであることが好ましいが、新たな二回目以降の水和反応時に、これを種結晶として全体の3割程度存在させることにより、さらに粒径の大きな、本発明における所定のLcを有する水酸化マグネシウム粒子を得ることができる。そして、当初得られた小粒径の水酸化マグネシウム粒子と後者の大粒径の水酸化マグネシウム粒子とをV型混合機等により乾式で混合、あるいは水和後のスラリー状態のままで湿式で攪拌、混合することにより、さらに樹脂に対する充填性を向上させることが可能となる。
また上記の水和反応後、得られた水酸化マグネシウム粒子を引き続き公知の方法により各種の表面処理を実施してもよい。樹脂に対する親和性を高めるための表面処理剤としては、例えば高級脂肪酸またはそのアルカリ金属塩、リン酸エステル、シランカップリング剤類、多価アルコールの脂肪酸エステル類等が挙げられる。一方耐酸性、撥水性等を高めるためには、例えばアルミナコーティング、シリカコーティング後に約500〜1000℃で焼成することによるケイ酸金属塩コーティング、シリコーンオイル、ポリフルオロアルキルリン酸エステル塩等によるコーティング等を行う表面処理方法が挙げられる。紫外線吸収性を高めるためには、例えば硫酸チタニルを加水分解反応させて二酸化チタンを被覆する表面処理方法などが挙げられる。またこれらの表面処理を複数組み合わせてもよい。
なお、上記の水酸化マグネシウム粒子を製造する過程で上述の日本国特開平11−11945号公報に記載されているように、酸化亜鉛や塩化亜鉛等の亜鉛化合物を添加し、水酸化マグネシウムを複合金属水酸化物として製造することも可能である。
(C)水酸化マグネシウムの配合量はエポキシ樹脂100質量部に対して、5〜300質量部配合することが好ましい。10〜200質量部がより好ましく、20〜100質量部がさらに好ましい。配合量が5質量部未満であると難燃性に劣る傾向が、300質量部を超える場合、流動性等の成形性、耐酸性に劣る傾向がある。
本発明の封止用エポキシ樹脂組成物には、難燃性を向上させる観点から(D)金属酸化物を用いることができる。(D)金属酸化物としてはIA族、IIA族、IIIA〜VIA族に属する元素中の金属元素、いわゆる典型金属元素、およびIIIB〜IIBに属する遷移金属元素の酸化物から選ばれることが好ましい。難燃性の観点からはマグネシウム、銅、鉄、モリブデン、タングステン、ジルコニウム、マンガン及びカルシウムの酸化物の少なくとも一種であることが好ましい。なお、金属元素の分類は、典型元素をA亜族、遷移元素をB亜族とする長周期型の周期律表(出典:共立出版株式会社発行「化学大辞典4」1987年2月15日縮刷版第30刷)に基づいて行った。
(D)金属酸化物の配合量は(A)エポキシ樹脂100質量部に対して0.1〜100質量部であることが好ましく、1〜50質量部であることがより好ましく、3〜20質量部であることがさらに好ましい。0.1質量部未満であると、難燃性の効果に劣る傾向が、また100質量部を超えると流動性や硬化性が低下する傾向にある。
本発明の封止用エポキシ樹脂組成物には、(A)エポキシ樹脂と(B)硬化剤の反応を促進させるために必要に応じて(E)硬化促進剤を用いることができる。(E)硬化促進剤は、封止用エポキシ樹脂成形材料に一般に使用されているもので特に制限はないが、たとえば、1,8−ジアザ−ビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7、1,5−ジアザ−ビシクロ(4,3,0)ノネン、5、6−ジブチルアミノ−1,8−ジアザ−ビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7等のシクロアミジン化合物及び
これらの化合物に無水マレイン酸、1,4−ベンゾキノン、2,5−トルキノン、1,4−ナフトキノン、2,3−ジメチルベンゾキノン、2,6−ジメチルベンゾキノン、2,3−ジメトキシ−5−メチル−1,4−ベンゾキノン、2,3−ジメトキシ−1,4−ベンゾキノン、フェニル−1,4−ベンゾキノン等のキノン化合物、ジアゾフェニルメタン、フェノール樹脂等のπ結合をもつ化合物を付加してなる分子内分極を有する化合物、
ベンジルジメチルアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミノエタノール、トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール等の3級アミン類及びこれらの誘導体、
2−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール等のイミダゾール類及びこれらの誘導体、
トリブチルホスフィン、メチルジフェニルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリス(4−メチルフェニル)ホスフィン、ジフェニルホスフィン、フェニルホスフィン等のホスフィン化合物及び
これらのホスフィン化合物に無水マレイン酸、上記キノン化合物、ジアゾフェニルメタン、フェノール樹脂等のπ結合をもつ化合物を付加してなる分子内分極を有するリン化合物、
テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、トリフェニルホスフィンテトラフェニルボレート、2−エチル−4−メチルイミダゾールテトラフェニルボレート、N−メチルモルホリンテトラフェニルボレート等のテトラフェニルボロン塩及びこれらの誘導体などが挙げられ、これらを単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。特にホスフィン化合物とキノン化合物との付加物を含むのが好ましい。
なかでも、難燃性、硬化性の観点からは、トリフェニルホスフィンが好ましく、難燃性、硬化性、流動性及び離型性の観点からは第三ホスフィン化合物とキノン化合物との付加物が好ましい。第三ホスフィン化合物としては、特に限定するものではないが、トリシクロヘキシルホスフィン、トリブチルホスフィン、ジブチルフェニルホスフィン、ブチルジフェニルホスフィン、エチルジフェニルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリス(4−メチルフェニル)ホスフィン、トリス(4−エチルフェニル)ホスフィン、トリス(4−プロピルフェニル)ホスフィン、トリス(4−ブチルフェニル)ホスフィン、トリス(イソプロピルフェニル)ホスフィン、トリス(t−ブチルフェニル)ホスフィン、トリス(2,4−ジメチルフェニル)ホスフィン、トリス(2,6−ジメチルフェニル)ホスフィン、トリス(2,4,6−トリメチルフェニル)ホスフィン、トリス(2,6−ジメチル−4−エトキシフェニル)ホスフィン、トリス(4−メトキシフェニル)ホスフィン、トリス(4−エトキシフェニル)ホスフィンなどのアルキル基、アリール基を有する第三ホスフィン化合物が好ましい。またキノン化合物としてはo−ベンゾキノン、p−ベンゾキノン、ジフェノキノン、1,4−ナフトキノン、アントラキノン等があげられ、なかでも耐湿性、保存安定性の観点からp−ベンゾキノンが好ましい。トリス(4−メチルフェニル)ホスフィンとp−ベンゾキノン、との付加物が離型性の観点からより好ましい。
さらにはリン原子に少なくとも一つのアルキル基が結合したホスフィン化合物とキノン化合物との付加物が硬化性、流動性及び難燃性の観点から好ましい。
硬化促進剤の配合量は、硬化促進効果が達成される量であれば特に制限されるものではないが、封止用エポキシ樹脂組成物に対して0.005〜2質量%が好ましく、0.01〜0.5質量%がより好ましい。0.005質量%未満では短時間での硬化性に劣る傾向があり、2質量%を超えると硬化速度が速すぎて良好な成形品を得ることが困難になる傾向がある。
本発明では必要に応じて(J)無機充填剤を配合することができる。無機充填剤は、吸湿性、線膨張係数低減、熱伝導性向上及び強度向上の効果があり、たとえば、溶融シリカ、結晶シリカ、アルミナ、ジルコン、珪酸カルシウム、炭酸カルシウム、チタン酸カリウム、炭化珪素、窒化珪素、窒化アルミ、窒化ホウ素、ベリリア、ジルコニア、ジルコン、フォステライト、ステアタイト、スピネル、ムライト、チタニア等の粉体、又はこれらを球形化したビーズ、ガラス繊維等が挙げられる。さらに、難燃効果のある無機充填剤としては水酸化アルミニウム、硼酸亜鉛、モリブデン酸亜鉛などが挙げられる。ここで、ホウ酸亜鉛としてはFB−290、FB−500(U.S.Borax社製)、FRZ−500C(水澤化学社製)等が、モリブデン酸亜鉛としてはKEMGARD911B、911C、1100(Sherwin−Williams社製)等が各々市販品として入手可能である。
これらの無機充填剤は単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。なかでも、充填性、線膨張係数の低減の観点からは溶融シリカが、高熱伝導性の観点からはアルミナが好ましく、無機充填剤の形状は充填性及び金型摩耗性の点から球形が好ましい。
無機充填剤の配合量は、難燃性、成形性、吸湿性、線膨張係数低減、強度向上及び耐リフロー性の観点から、(C)水酸化マグネシウムと合計して封止用エポキシ樹脂組成物に対して50質量%以上が好ましく、60〜95質量%がより好ましく、70〜90質量%がさらに好ましい。60質量%未満では難燃性及び耐リフロー性が低下する傾向があり、95質量%を超えると流動性が不足する傾向があり、また難燃性も低下する傾向にある。
(J)無機充填剤を用いる場合、本発明の封止用エポキシ樹脂組成物には、樹脂成分と充項剤との接着性を高めるために、(F)カップリング剤をさらに配合することが好ましい。
(F)カップリング剤としては、封止用エポキシ樹脂成形材料に一般に使用されているもので特に制限はないが、たとえば、1級及び/又は2級及び/又は3級アミノ基を有するシラン化合物、エポキシシラン、メルカプトシラン、アルキルシラン、ウレイドシラン、ビニルシラン等の各種シラン系化合物、チタン系化合物、アルミニウムキレート類、アルミニウム/ジルコニウム系化合物等が挙げられる。
これらを例示すると、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(β−メトキシエトキシ)シラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アニリノプロピルトリメトキシシラン、γ−アニリノプロピルトリエトキシシラン、γ−(N,N−ジメチル)アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−(N,N−ジエチル)アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−(N,N−ジブチル)アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−(N−メチル)アニリノプロピルトリメトキシシラン、γ−(N−エチル)アニリノプロピルトリメトキシシラン、γ−(N,N−ジメチル)アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−(N,N−ジエチル)アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−(N,N−ジブチル)アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−(N−メチル)アニリノプロピルトリエトキシシラン、γ−(N−エチル)アニリノプロピルトリエトキシシラン、γ−(N,N−ジメチル)アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−(N,N−ジエチル)アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−(N,N−ジブチル)アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−(N−メチル)アニリノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−(N−エチル)アニリノプロピルメチルジメトキシシラン、N−(トリメトキシシリルプロピル)エチレンジアミン、N−(ジメトキシメチルシリルイソプロピル)エチレンジアミン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン等のシラン系カップリング剤、
イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリス(ジオクチルパイロホスフェート)チタネート、イソプロピルトリ(N−アミノエチル−アミノエチル)チタネート、テトラオクチルビス(ジトリデシルホスファイト)チタネート、テトラ(2,2−ジアリルオキシメチル−1−ブチル)ビス(ジトリデシル)ホスファイトチタネート、ビス(ジオクチルパイロホスフェート)オキシアセテートチタネート、ビス(ジオクチルパイロホスフェート)エチレンチタネート、イソプロピルトリオクタノイルチタネート、イソプロピルジメタクリルイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリドデシルベンゼンスルホニルチタネート、イソプロピルイソステアロイルジアクリルチタネート、イソプロピルトリ(ジオクチルホスフェート)チタネート、イソプロピルトリクミルフェニルチタネート、テトライソプロピルビス(ジオクチルホスファイト)チタネート等のチタネート系カップリング剤などが挙げられ、これらの1種を単独で用いても2種類以上を組み合わせて用いてもよい。
なかでも流動性、難燃性の観点からはシランカップリング剤、特に2級アミノ基を有するシランカップリング剤を含むのが好ましい。2級アミノ基を有するシランカップリング剤は分子内に2級アミノ基を有するシラン化合物であれば特に制限はない。
たとえば、γ−アニリノプロピルトリメトキシシラン、γ−アニリノプロピルトリエトキシシラン、γ−アニリノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アニリノプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アニリノプロピルエチルジエトキシシラン、γ−アニリノプロピルエチルジメトキシシラン、γ−アニリノメチルトリメトキシシラン、γ−アニリノメチルトリエトキシシラン、γ−アニリノメチルメチルジメトキシシラン、γ−アニリノメチルメチルジエトキシシラン、γ−アニリノメチルエチルジエトキシシラン、γ−アニリノメチルエチルジメトキシシラン、N−(p−メトキシフェニル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(p−メトキシフェニル)−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−(p−メトキシフェニル)−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−(p−メトキシフェニル)−γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、N−(p−メトキシフェニル)−γ−アミノプロピルエチルジエトキシシラン、N−(p−メトキシフェニル)−γ−アミノプロピルエチルジメトキシシラン、γ−(N−メチル)アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−(N−エチル)アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−(N−ブチル)アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−(N−ベンジル)アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−(N−メチル)アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−(N−エチル)アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−(N−ブチル)アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−(N−ベンジル)アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−(N−メチル)アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−(N−エチル)アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−(N−ブチル)アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−(N−ベンジル)アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−(β−アミノエチル)アミノプロピルトリメトキシシラン、N−β−(N−ビニルベンジルアミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。なかでも下記一般式(II)で示されるアミノシランカップリング剤を含むことが特に好ましい。
Figure 0005181219
(式(II)で、Rは水素原子、炭素数1〜6のアルキル基及び炭素数1〜2のアルコキシ基から選ばれ、Rは炭素数1〜6のアルキル基及びフェニル基から選ばれ、Rはメチル基又はエチル基を示し、nは1〜6の整数を示し、mは1〜3の整数を示す。)
カップリング剤の全配合量は、封止用エポキシ樹脂組成物に対して0.037〜5質量%であることが好ましく、0.05〜4.75質量%であることがより好ましく、0.1〜2.5質量%であることがさらに好ましい。0.037質量%未満ではフレームとの接着性が低下する傾向があり、4.75質量%を超えるとパッケージの成形性が低下する傾向がある。
本発明の封止用エポキシ樹脂組成物には、難燃性を向上させる観点から(G)リン原子を有する化合物を用いることができる。(G)リン原子を有する化合物としては、本発明の効果が得られれば特に制限はなく、被覆又は無被覆の赤リン、シクロホスファゼン等のリン及び窒素含有化合物、ニトリロトリスメチレンホスホン酸三カルシウム塩、メタン−1−ヒドロキシ−1,1−ジホスホン酸二カルシウム塩等のホスホン酸塩、トリフェニルホスフィンオキサイド、2−(ジフェニルホスフィニル)ハイドロキノン、2,2−[(2−(ジフェニルホスフィニル)−1,4−フェニレン)ビス(オキシメチレン)]ビス−オキシラン、トリ−n−オクチルホスフィンオキサイド等のホスフィン及びホスフィンオキサイド化合物、リン酸エステル化合物などが挙げられ、これらの1種を単独で用いても2種以上を組合わせて用いてもよい。
赤リンとしては、熱硬化性樹脂で被覆された赤リン、無機化合物及び有機化合物で被覆された赤リン等の被覆赤リンが好ましい。
熱硬化性樹脂で被覆された赤リンに用いられる熱硬化性樹脂としては、たとえば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、シアナート樹脂、尿素−ホルマリン樹脂、アニリン−ホルマリン樹脂、フラン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリイミド樹脂等が挙げられ、これらの1種を単独で用いても2種以上組み合わせて用いてもよい。また、これらの樹脂のモノマー又はオリゴマーを用いて被覆と重合を同時に行い、重合によって製造された熱硬化樹脂が被覆されるものでもよく、熱硬化性樹脂は、被覆後に硬化されていてもよい。なかでも、封止用エポキシ樹脂組成物に配合されるベース樹脂との相溶性の観点からは、エポキシ樹脂、フェノール樹脂及びメラミン樹脂が好ましい。
無機化合物及び有機化合物で被覆された赤リンに用いられる無機化合物としては、たとえば、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化チタン、水酸化ジルコニウム、含水酸化ジルコニウム、水酸化ビスマス、炭酸バリウム、炭酸カルシウム、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化ニッケル、酸化鉄等が挙げられ、これらの1種を単独で用いても2種以上組み合わせて用いてもよい。なかでも、リン酸イオン補足効果に優れる水酸化ジルコニウム、含水酸化ジルコニウム、水酸化アルミニウム及び酸化亜鉛が好ましい。
また、無機化合物及び有機化合物で被覆された赤リンに用いられる有機化合物としては、たとえば、カップリング剤やキレート剤など表面処理に用いられる低分子量の化合物、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂等の比較的高分子量の化合物などが挙げられ、これらの1種を単独で用いても2種以上組み合わせて用いてもよい。なかでも、被覆効果の観点から熱硬化性樹脂が好ましく、封止用エポキシ樹脂組成物に配合されるベース樹脂との相溶性の観点からエポキシ樹脂、フェノール樹脂及びメラミン樹脂がより好ましい。
赤リンを無機化合物及び有機化合物で被覆する場合、その被覆処理の順序は、無機化合物で被覆した後に有機化合物で被覆しても、有機化合物で被覆した後に無機化合物で被覆しても、両者の混合物を用いて両者を同時に被覆してもよい。また、被覆形態は、物理的に吸着したものでも、化学的に結合したものでも、その他の形態であってもよい。また、無機化合物と有機化合物は、被覆後に別個に存在していても、両者の一部又は全部が結合した状態であってもよい。
無機化合物及び有機化合物の量は、無機化合物と有機化合物の質量比(無機化合物/有機化合物)は、1/99〜99/1が好ましく、10/90〜95/5がより好ましく、30/70〜90/10がさらに好ましく、このような質量比となるように無機化合物及び有機化合物又はその原料となるモノマー、オリゴマーの使用量を調整することが好ましい。
熱硬化性樹脂で被覆された赤リン、無機化合物及び有機化合物で被覆された赤リン等の被覆赤リンの製造方法は、たとえば、日本国特開昭62−21704号公報、日本国特開昭52−131695号公報等に記載された公知の被覆方法を用いることができる。また、被覆膜の厚さは本発明の効果が得られれば特に制限はなく、被覆は、赤リン表面に均一に被覆されたものでも、不均一であってもよい。
赤リンの粒径は、平均粒径(粒度分布で累積50質量%となる粒径)が1〜100μmが好ましく、5〜50μmがより好ましい。平均粒径が1μm未満では、成形品のリン酸イオン濃度が高くなって耐湿性に劣る傾向があり、100μmを超えると、狭いパッドピッチの高集積・高密度化半導体装置の用いた場合、ワイヤの変形、短絡、切断等による不良が生じやすくなる傾向がある。
(G)リン原子を有する化合物のなかでも流動性の観点からは、リン酸エステル化合物、またはホスフィンオキサイドを含むことが好ましい。リン酸エステル化合物はリン酸とアルコール化合物又はフェノール化合物のエステル化合物であれば特に制限はないが、例えばトリメチルホスフェート、トリエチルホスフェート、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、トリキシレニルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、キシレニルジフェニルホスフェート、トリス(2,6ジメチルフェニル)ホスフェート及び芳香族縮合リン酸エステル等が挙げられる。なかでも耐加水分解性の観点からは、下記一般式(III)で示される芳香族縮合リン酸エステル化合物を含むことが好ましい。
Figure 0005181219
(一般式(III)中の8個のRは炭素数1〜4のアルキル基を示し、全て同一でも異なっていてもよい。Arは芳香族環を示す。)
上記式(III)のリン酸エステル化合物を例示すると、下記構造式(XX)〜(XXIV)で示されるリン酸エステル等が挙げられる。
Figure 0005181219
これらリン酸エステル化合物の添加量は、充填剤を除く他の全配合成分に対して、燐原子の量で0.2〜3.0質量%の範囲内であることが好ましい。0.2質量%より少ない場合は難燃効果が低くなる傾向がある。3.0質量%を超えた場合は成形性、耐湿性の低下や、成形時にこれらのリン酸エステル化合物がしみ出し、外観を阻害する場合がある。
ホスフィンオキサイドを難燃剤として用いる場合、ホスフィンオキサイドとしては下記一般式(IV)で示されるホスフィン化合物を含むことが好ましい。
Figure 0005181219
(式(IV)で、R、R及びRは炭素数1〜10の置換又は非置換のアルキル基、アリール基、アラルキル基及び水素原子のいずれかを示し、すべて同一でも異なってもよい。ただしすべてが水素原子である場合を除く。)
上記一般式(IV)で示されるホスフィン化合物の中でも、耐加水分解性の観点からはR〜Rが置換又は非置換のアリール基であることが好ましく、特に好ましくはフェニル基である。
ホスフィンオキサイドの配合量は封止用エポキシ樹脂組成物に対してリン原子の量が0.01〜0.2質量%であることが好ましい。より好ましくは0.02〜0.1質量%であり、さらに好ましくは0.03〜0.08質量%である。0.01質量%未満であると難燃性が低下する傾向があり、0.2質量%を超えると成形性、耐湿性が低下する傾向がある。
またシクロホスファゼンとしては主鎖骨格中に次式(XXV)及び/又は次式(XXVI)を繰り返し単位として含む環状ホスファゼン化合物、あるいはホスファゼン環中の燐原子に対する置換位置が異なる次式(XXVII)及び/又は次式(XXVIII)を繰り返し単位として含む化合物等が挙げられる。
Figure 0005181219
ここで、式(XXV)及び式(XXVII)中のmは1〜10の整数で、R〜Rは置換基を有しても良い炭素数1〜12のアルキル基、アリール基及び水酸基から選ばれ、全て同一でも異なっていても良い。Aは炭素数1〜4のアルキレン基又はアリレン基を示す。式(XXVI)及び式(XXVIII)中のnは1〜10の整数で、R〜Rは置換基を有しても良い炭素数1〜12のアルキル基又はアリール基から選ばれ、全て同一でも異なっていても良く、Aは炭素数1〜4のアルキレン基又はアリレン基を示す。また、式中m個のR、R、R、Rはm個全てが同一でも異なっていても良く、n個のR、R、R、Rはn個全てが同一でも異なっていても良い。
上記式(XXV)〜式(XXVIII)において、R〜Rで示される置換基を有しても良い炭素数1〜12のアルキル基又はアリール基としては特に制限はないが、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基等のアルキル基、フェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基等のアリール基、o−トリル基、m−トリル基、p−トリル基、2,3−キシリル基、2,4−キシリル基、o−クメニル基、m−クメニル基、p−クメニル基、メシチル基等のアルキル基置換アリール基、ベンジル基、フェネチル基等のアリール基置換アルキル基などが挙げられ、さらにこれらに置換する置換基としては、アルキル基、アルコキシル基、アリール基、水酸基、アミノ基、エポキシ基、ビニル基、ヒドロキシアルキル基、アルキルアミノ基等が挙げられる。
これらの中で、エポキシ樹脂組成物の耐熱性、耐湿性の観点からはアリール基が好ましく、より好ましくはフェニル基もしくはヒドロキシフェニル基である。
また、上記式(XXV)〜式(XXVIII)中のAで示される炭素数1〜4のアルキレン基又はアリレン基としては特に制限はないが、例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基、イソプロピレン基、ブチレン基、イソブチレン基、フェニレン基、トリレン基、キシリレン基、ナフチレン基及びビフェニレン基等が挙げられ、エポキシ樹脂組成物の耐熱性、耐湿性の観点からはアリレン基が好ましく、中でもフェニレン基がより好ましい。
環状ホスファゼン化合物は、上記式(XXV)〜式(XXVIII)のいずれかの重合物、上記式(XXV)と上記式(XXVI)との共重合物、又は上記式(XXVII)と上記式(XXVIII)との共重合物が挙げられるが、共重合物の場合、ランダム共重合物でも、ブロック共重合物でも、交互共重合物のいずれでも良い。その共重合モル比m/nは特に限定するものではないが、エポキシ樹脂硬化物の耐熱性や強度向上の観点から1/0〜1/4が好ましく、1/0〜1/1.5がより好ましい。また、重合度m+nは1〜20であり、好ましくは2〜8、より好ましくは3〜6である。
環状ホスファゼン化合物として好ましいものを例示すると、次式(XXIX)の重合物、次式(XXX)の共重合物等が挙げられる。
Figure 0005181219
(ここで、式(XXIX)中のnは、0〜9の整数で、R〜R6はそれぞれ独立に水素原子又は水酸基を示す。)
Figure 0005181219
ここで、上記式(XXX)中のm、nは、0〜9の整数で、R〜R6はそれぞれ独立に水素原子または水酸基から選ばれる。また、上記式で示される環状ホスファゼン化合物は、次に示すn個の繰り返し単位(a)とm個の繰り返し単位(b)を交互に含むもの、ブロック状に含むもの、ランダムに含むもののいずれであってもかまわないが、ランダムに含むものが好ましい。なお、繰り返し単位(a)中のR〜R6はそれぞれ独立に水素原子または水酸基から選ばれる。
Figure 0005181219
中でも、上記式(XXIX)でnが3〜6の重合体を主成分とするものや、上記式(XXX)でR〜R6が全て水素原子又は1つが水酸基であり、n/mが1/2〜1/3で、n+mが3〜6の共重合体を主成分とするものが好ましい。また、市販のホスファゼン化合物としては、SPE−100(大塚化学株式会社製商品名)が入手可能である。
(G)リン原子を有する化合物の配合量は特に制限はないが、(J)無機充填剤を除く他の全配合成分に対して、リン原子の量で0.01〜50質量%が好ましく、0.1〜10質量%がより好ましく、0.5〜3質量%がさらに好ましい。配合量が0.01質量%未満では難燃性が不充分となる傾向があり、50質量%を超えると成形性、耐湿性が低下する傾向がある。
本発明においては離型性の観点から(H)重量平均分子量が4,000以上の直鎖型酸化ポリエチレン、および(I)炭素数5〜30のα−オレフィンと無水マレイン酸との共重合物を炭素数5〜25の一価のアルコールでエステル化した化合物をさらに含有させてもよい。(H)重量平均分子量が4,000以上の直鎖型酸化ポリエチレンは、離型剤として働くものである。ここで、直鎖型ポリエチレンとは、側鎖アルキル鎖の炭素数が主鎖アルキル鎖の炭素数の10%程度以下のポリエチレンをいい、一般的には、針入度が2以下のポリエチレンとして分類される。
また、酸化ポリエチレンとは、酸価を有するポリエチレンをいう。(H)成分の重量平均分子量は、離型性の観点から4,000以上であることが好ましく、接着性、金型・パッケージの汚れ防止の観点からは30,000以下であることが好ましく、5,000〜20,000がより好ましく、7,000〜15,000がさらに好ましい。ここで、重量平均分子量は、高温GPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィ)で測定した値をいう。なお、本発明での高温GPC測定方法は以下のとおりである。
測定器:Waters社製高温GPC
(溶媒:ジクロロベンゼン
温度:140℃、
標準物質:ポリスチレン)
カラム:ポリマーラボラトリーズ社製商品名PLgel MIXED‐B
10μm(7.5mm×300mm)×2本
流量:1.0ml/分(試料濃度:0.3w/vol%)
(注入量:100μl)
また、(H)成分の酸価は、特に制限はないが、離型性の観点から2〜50mg/KOHであることが好ましく、10〜35mg/KOHがより好ましい。
(H)成分の配合量は、特に制限はないが、(A)エポキシ樹脂に対して0.5〜10質量%が好ましく、1〜5質量%がより好ましい。配合量が0.5質量%未満では離型性が低下する傾向にあり、10質量%を超えると接着性及び金型・パッケージ汚れの改善効果が不充分となる場合がある。
本発明において用いられる(I)炭素数5〜30のα−オレフィンと無水マレイン酸との共重合物を炭素数5〜25の一価のアルコールでエステル化した化合物も、離型剤として働くもので、(H)成分の直鎖型酸化ポリエチレンおよび(A)成分のエポキシ樹脂のいずれとも相溶性が高く、接着性の低下や金型・パッケージ汚れを防ぐ効果がある。
(I)成分に用いられる炭素数5〜30のα−オレフィンとしては、特に制限はないが、たとえば、1−ペンテン、1−ヘキセン、1−ヘプテン、1−オクテン、1−ノネン、1−デセン、1−ウンデセン、1−ドデセン、1−トリデセン、1−テトラデセン、1−ペンタデセン、1−ヘキサデセン、1−ヘプタデセン、1−オクタデセン、1−ノナデセン、1−エイコセン、1−ドコセン、1−トリコセン、1−テトラコセン、1−ペンタコセン、1−ヘキサコセン、1−ヘプタコセン等の直鎖型α−オレフィン、3−メチル−1−ブテン、3,4−ジメチル−ペンテン、3−メチル−1−ノネン、3,4−ジメチル−オクテン、3−エチル−1−ドデセン、4−メチル−5−エチル−1−オクタデセン、3,4,5−トリエチル−1−1−エイコセン等の分岐型α−オレフィン等が挙げられ、これらを単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。中でも炭素数10〜25の直鎖型α−オレフィンが好ましく、1−エイコセン、1−ドコセン、1−テトラコセン等の炭素数15〜25の直鎖型α−オレフィンがより好ましい。
(I)成分に用いられる炭素数5〜25の一価のアルコールとしては、特に制限はないが、たとえば、アミルアルコール、イソアミルアルコール、ヘキシルアルコール、ヘプチルアルコール、オクチルアルコール、カプリルアルコール、ノニルアルコール、デシルアルコール、ウンデシルアルコール、ラウリルアルコール、トリデシルアルコール、ミリスチルアルコール、ペンタデシルアルコール、セチルアルコール、ヘプタデシルアルコール、ステアリルアルコール、ノナデシルアルコール、エイコシルアルコール等の直鎖型または分岐型の脂肪族飽和アルコール、ヘキセノール、2−ヘキセン−1−オール、1−ヘキセン−3−オール、ペンテノール、2−メチル−1−ペンテノール等の直鎖型または分岐型の脂肪族不飽和アルコール、シクロペンタノール、シクロヘキサノール等の脂環式アルコール、ベンジルアルコール、シンナミルアルコール等の芳香族アルコール、フルフリルアルコール等の複素環式アルコール等が挙げられ、これらを単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。中でも炭素数10〜20の直鎖型アルコールが好ましく、炭素数15〜20の直鎖型脂肪族飽和アルコールがより好ましい。
本発明の(I)成分における炭素数5〜30のα−オレフィンと無水マレイン酸との共重合物は、特に制限はないが、たとえば、下記一般式(XXXI)で示される化合物、下記一般式(XXXII)で示される化合物等が挙げられ、市販品としては、1−エイコセン、1−ドコセンおよび1−テトラコセンを原料としたニッサンエレクトールWPB−1(日本油脂株式会社製商品名)が入手可能である。
Figure 0005181219
(一般式(XXXI)および(XXXII)で、Rは炭素数3〜28の一価の脂肪族炭化水素基から選ばれ、nは1以上の整数、mは正の数を示す。)
上記一般式(XXXI)および(XXXII)中のmは、無水マレイン酸1モルに対しα−オレフィンを何モル共重合させたかを示し、特に制限はないが、0.5〜10が好ましく、0.9〜1.1がより好ましい。
(I)成分の共重合物の製造方法としては、特に制限はなく、一般的な共重合法を用いることができる。反応には、α−オレフィンと無水マレイン酸が可溶な有機溶媒等を用いてもよい。有機溶媒としては特に制限はないが、トルエンが好ましく、アルコール系溶媒、エーテル系溶媒、アミン系溶媒等も使用できる。反応温度は、使用する有機溶媒の種類によっても異なるが、反応性、生産性の観点から、50〜200℃とすることが好ましく、80〜120℃がより好ましい。反応時間は、共重合物が得られれば特に制限はないが、生産性の観点から1〜30時間とするのが好ましく、2〜15時間とするのがより好ましく、4〜10時間とするのがさらに好ましい。反応終了後、必要に応じて、加熱減圧下等で未反応分、溶媒等を除去することができる。その条件は、温度を100〜220℃、より好ましくは120〜180℃、圧力を13.3×103Pa以下、より好ましくは8×103Pa以下、時間を0.5〜10時間とすることが好ましい。また、反応には、必要に応じてアミン系触媒、酸触媒等の反応触媒を加えてもよい。反応系のpHは、1〜10程度とするのが好ましい。
(I)成分の共重合物を炭素数5〜25の一価のアルコールでエステル化する方法としては、特に制限はなく、共重合物に一価のアルコールを付加反応させる等の一般的な方法を用いることができる。共重合物と一価のアルコールの反応モル比は、特に制限はなく、任意に設定可能であるが、この反応モル比を調整することによって親水性の度合いをコントロールすることができるので、目的の封止用エポキシ樹脂組成物に合わせて適宜設定することが好ましい。反応には、共重合物が可溶な有機溶媒等を用いてもよい。有機溶媒としては特に制限はないが、トルエンが好ましく、アルコール系溶媒、エーテル系溶媒、アミン系溶媒等も使用できる。反応温度は、使用する有機溶媒の種類によっても異なるが、反応性、生産性の観点から、50〜200℃とすることが好ましく、80〜120℃がより好ましい。反応時間は、特に制限はないが、生産性の観点から1〜30時間とするのが好ましく、2〜15時間とするのがより好ましく、4〜10時間とするのがさらに好ましい。反応終了後、必要に応じて、加熱減圧下等で未反応分、溶媒等を除去することができる。その条件は、温度を100〜220℃、より好ましくは120〜180℃、圧力を13.3×103Pa以下、より好ましくは8×103Pa以下、時間を0.5〜10時間とすることが好ましい。また、反応には、必要に応じてアミン系触媒、酸触媒等の反応触媒を加えてもよい。反応系のpHは、1〜10程度とするのが好ましい。
(I)成分のα−オレフィンと無水マレイン酸との共重合物を一価のアルコールでエステル化した化合物としては、たとえば、下記の式(a)または(b)で示されるジエステル、および式(c)〜(f)で示されるモノエステルから選ばれる1種以上を繰り返し単位として構造中に含む化合物等が挙げられる。また、式(g)または(h)で示されるノンエステルを含んでいてもよい。また、無水マレイン酸が開環して二つの−COOH基を有する構造を含んでいてもよい。このような化合物としては、
(1)主鎖骨格が式(a)〜(f)のいずれか1種単独で構成されるもの、
(2)主鎖骨格中に式(a)〜(f)のいずれか2種以上をランダムに含むもの、規則的に含むもの、ブロック状に含むもの、
(3)主鎖骨格中に式(a)〜(f)のいずれか1種または2種以上と式(g)および(h)の少なくとも一方とをランダムに含むもの、規則的に含むもの、ブロック状に含むもの、
等が挙げられ、これらを単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
また、(4)主鎖骨格中に式(g)および(h)をランダムに含むもの、規則的に含むもの、ブロック状に含むもの、と
(5)主鎖骨格が式(g)または(h)のいずれか単独で構成されるもの、
との、いずれかまたは両方を含んでいてもよい。
Figure 0005181219
(上記式(a)〜(h)で、Rは炭素数3〜28の一価の脂肪族炭化水素基、R2は炭素数5〜25の一価の炭化水素基から選ばれ、mは正の数を示す。)
上記式(a)〜(h)中のmは、無水マレイン酸1モルに対しα−オレフィンを何モル共重合させたかを示し、特に制限はないが、0.5〜10が好ましく、0.9〜1.1がより好ましい。
(I)成分のモノエステル化率は、(H)成分との組み合わせにより適宜選択可能であるが、離型性の観点から20%以上とすることが好ましく、(I)成分としては式(c)〜(f)で示されるモノエステルのいずれか1種または2種以上を併せて20モル%以上含む化合物が好ましく、30モル%以上含む化合物がより好ましい。
また、(I)成分の重量平均分子量は、金型・パッケージ汚れ防止及び成形性の観点から5,000〜100,000とすることが好ましく、10,000〜70,000がより好ましく、15,000〜50,000がさらに好ましい。重量平均分子量が5,000未満では金型・パッケージ汚れを防ぐ効果が低い傾向にあり、100,000を超えると化合物の軟化点が上昇し、混練性等に劣る傾向がある。ここで、重量平均分子量は、常温GPCで測定した値をいう。本発明での常温GPCによる重量平均分子量の測定方法は以下のとおりである。
測定器:島津製作所製LC−6C
カラム:shodex KF‐802.5+KF‐804+KF‐806
溶媒:THF(テトラヒドロフラン)
温度:室温(25℃)
標準物質:ポリスチレン
流量:1.0ml/分(試料濃度 約0.2wt/vol%)
注入量:200μl
(I)成分の配合量は、特に制限はないが、(A)エポキシ樹脂に対して0.5〜10質量%が好ましく、1〜5質量%がより好ましい。配合量が0.5質量%未満では離型性が低下する傾向にあり、10質量%を超えると耐リフロー性が低下する傾向にある。
耐リフロー性や金型・パッケージ汚れの観点から、本発明における離型剤である(H)成分および(I)成分の少なくとも一方は、本発明のエポキシ樹脂組成物の調製時に(A)成分のエポキシ樹脂の一部または全部と予備混合することが好ましい。(H)成分および(I)成分の少なくとも一方を(A)成分と予備混合すると、これらのベース樹脂中での分散性が上がり、耐リフロー性の低下や金型・パッケージ汚れを防ぐ効果がある。
予備混合の方法は、特に制限するものではなく、(H)成分および(I)成分の少なくとも一方が(A)成分のエポキシ樹脂中に分散されればいかなる方法を用いてもよいが、たとえば、室温〜220℃で0.5〜20時間撹拌する等の方法が挙げられる。分散性、生産性の観点からは、温度を100〜200℃、より好ましくは150〜170℃、撹拌時間を1〜10時間、より好ましくは3〜6時間とすることが好ましい。
予備混合するための(H)成分および(I)成分の少なくとも一方は、(A)成分の全量と予備混合してもよいが、一部と予備混合することでも充分な効果が得られる。その場合、予備混合する(A)成分の量は、(A)成分の全量の10〜50質量%とすることが好ましい。
また、(H)成分と(I)成分とのいずれか一方を(A)成分と予備混合することで、分散性向上の効果が得られるが、(H)成分および(I)成分の両方を(A)成分と予備混合した方がより効果が高く好ましい。予備混合する場合の3成分の添加順序は、特に制限はなく、全てを同時に添加混合しても、(H)成分と(I)成分とのいずれか一方を先に(A)成分と添加混合し、その後残りの成分を添加混合してもよい。
本発明の封止用エポキシ樹脂組成物には、さらに難燃性を向上する目的で従来公知のノンハロゲン、ノンアンチモンの難燃剤を必要に応じて配合することができる。たとえばメラミン、メラミン誘導体、メラミン変性フェノール樹脂、トリアジン環を有する化合物、シアヌル酸誘導体、イソシアヌル酸誘導体等の窒素含有化合物、水酸化アルミニウム、錫酸亜鉛、硼酸亜鉛、モリブデン酸亜鉛、ジシクロペンタジエニル鉄等の金属元素を含む化合物などが挙げられ、これらの1種を単独で用いても2種以上を組合わせて用いてもよい。
また、本発明の封止用エポキシ樹脂組成物には、IC等の半導体素子の耐湿性及び高温放置特性を向上させる観点から陰イオン交換体を添加することもできる。陰イオン交換体としては特に制限はなく、従来公知のものを用いることができるが、たとえば、ハイドロタルサイト類や、マグネシウム、アルミニウム、チタン、ジルコニウム、ビスマス等から選ばれる元素の含水酸化物等が挙げられ、これらを単独又は2種以上を組み合わせて用いることができる。なかでも、下記組成式(XXXIII)で示されるハイドロタルサイトが好ましい。(XXXIII)で示される化合物は市販品として協和化学工業株式会社製商品名DHT−4Aが入手可能である。
(化30)
Mg1−XAl(OH)(COX/2・mHO …… (XXXIII)
(ただし、式(XXXIII)中、0<X≦0.5、mは正の数)
さらに、本発明の封止用エポキシ樹脂組成物には、その他の添加剤として、高級脂肪酸、高級脂肪酸金属塩、エステル系ワックス、ポリオレフィン系ワックス、ポリエチレン、酸化ポリエチレン等の離型剤、カーボンブラック等の着色剤、シリコーンオイルやシリコーンゴム粉末等の応力緩和剤などを必要に応じて配合することができる。
本発明の封止用エポキシ樹脂組成物は、各種原材料を均一に分散混合できるのであれば、いかなる手法を用いても調製できるが、一般的な手法として、所定の配合量の原材料をミキサー等によって充分混合した後、ミキシングロール、押出機、らいかい機、プラネタリミキサ等によって混合又は溶融混練した後、冷却し、必要に応じて脱泡、粉砕する方法等を挙げることができる。また、必要に応じて成形条件に合うような寸法及び質量でタブレット化してもよい。
本発明の封止用エポキシ樹脂組成物を封止材として用いて、半導体装置等の電子部品装置を封止する方法としては、低圧トランスファ成形法が最も一般的であるが、インジェクション成形法、圧縮成形法等も挙げられる。ディスペンス方式、注型方式、印刷方式等を用いてもよい。
本発明で得られる封止用エポキシ樹脂組成物により封止した素子を備えた本発明の電子部品装置としては、リードフレーム、配線済みのテープキャリア、配線板、ガラス、シリコンウエハ等の支持部材や実装基板に、半導体チップ、トランジスタ、ダイオード、サイリスタ等の能動素子、コンデンサ、抵抗体、コイル等の受動素子等の素子を搭載し、必要な部分を本発明の封止用エポキシ樹脂組成物で封止した、電子部品装置等が挙げられる。
ここで、実装基板としては特に制限するものではなく、たとえば、有機基板、有機フィルム、セラミック基板、ガラス基板等のインターポーザ基板、液晶用ガラス基板、MCM(Multi Chip Module)用基板、ハイブリットIC用基板等が挙げられる。
このような素子を備えた電子部品装置としては、たとえば半導体装置が挙げられ、具体的には、リードフレーム(アイランド、タブ)上に半導体チップ等の素子を固定し、ボンディングパッド等の素子の端子部とリード部をワイヤボンディングやバンプで接続した後、本発明の封止用エポキシ樹脂組成物を用いてトランスファ成形などにより封止してなる、DIP(Dual Inline Package)、PLCC(Plastic Leaded Chip Carrier)、QFP(Quad Flat Package)、SOP(Small Outline Package)、SOJ(Small Outline J−lead package)、TSOP(Thin Small Outline Package)、TQFP(Thin Quad Flat Package)等の樹脂封止型IC、テープキャリアにリードボンディングした半導体チップを、本発明の封止用エポキシ樹脂組成物で封止したTCP(Tape Carrier Package)、配線板やガラス上に形成した配線に、ワイヤボンディング、フリップチップボンディング、はんだ等で接続した半導体チップを、本発明の封止用エポキシ樹脂組成物で封止したCOB(Chip On Board)、COG(Chip On Glass)等のベアチップ実装した半導体装置、配線板やガラス上に形成した配線に、ワイヤボンディング、フリップチップボンディング、はんだ等で接続した半導体チップ、トランジスタ、ダイオード、サイリスタ等の能動素子及び/又はコンデンサ、抵抗体、コイル等の受動素子を、本発明の封止用エポキシ樹脂組成物で封止したハイブリッドIC、MCM(Multi Chip Module)マザーボード接続用の端子を形成したインターポーザ基板に半導体チップを搭載し、バンプまたはワイヤボンディングにより半導体チップとインターポーザ基板に形成された配線を接続した後、本発明の封止用エポキシ樹脂組成物で半導体チップ搭載側を封止したBGA(Ball Grid Array)、CSP(Chip Size Package)、MCP(Multi Chip Package)などが挙げられる。また、これらの半導体装置は、実装基板上に素子が2個以上重なった形で搭載されたスタックド(積層)型パッケージであっても、2個以上の素子を一度に封止用エポキシ樹脂組成物で封止した一括モールド型パッケージであってもよい。
次に実施例により本発明を説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例に限定されるものではない。以下、水酸化マグネシウム粒子は、水酸化マグネシウム粒子または水酸化マグネシウムと表す。
(水酸化マグネシウムの合成例)
(1)水酸化マグネシウム1
結晶子径58.3×10−9mの電解MgO(タテホ化学工業株式会社製)をボールミルで粉砕し、湿式法で200メッシュのふるいを通過させた。ふるいを通過した粒子を種結晶として、濃度0.02mol/Lの酢酸10Lを入れた内容積20Lの容器に、酸化物(MgO)濃度が100g/Lとなるように添加した。得られたMgO含有混合溶液を90℃に保持しながら、高速攪拌機(特殊機化社製商品名ホモミクサー)を使用し、タービン羽根の周速を10m/sとして攪拌しながら、4時間水和反応を行った。得られた反応生成物を500メッシュのふるいにかけ、ふるいを通過した微小粒子を引き続き、ろ過、水洗、乾燥を行い、水酸化マグネシウム粒子を得た。得られた水酸化マグネシウム粒子の粒子形状、c軸の大きさ(Lc)及び体積(V)などを表1に示した。
(2)水酸化マグネシウム2
上記で得られた水酸化マグネシウム1粒子30gを種結晶として、0.02mol/L酢酸10L中に予め懸濁させておいた以外は上記と同様にして操作を行い、上記で得られた水酸化マグネシウム1粒子よりさらに結晶成長させた水酸化マグネシウム2を得た。この水酸化マグネシウム粒子の粒子形状を表す各数値を表1に示した。
(3)水酸化マグネシウム3
上記で得られた水酸化マグネシウム1粒子500gと水酸化マグネシウム2粒子500gをV型混合機に入れ、20分間混合処理を実施し、水酸化マグネシウム3を得た。この水酸化マグネシウム粒子の粒子形状を表す各数値を表1に示した。
(4)水酸化マグネシウム4
水酸化マグネシウムとして、タテホ化学工業株式会社製商品名エコーマグZ−10をそのまま用いた。この水酸化マグネシウム粒子の粒子形状を表す各数値を表1に示した。
(5)水酸化マグネシウム5
水酸化マグネシウムとして、TMG株式会社製商品名ファインマグMOをそのまま用いた。この水酸化マグネシウム粒子の粒子形状を表す各数値を表1に示した。
Figure 0005181219
(離型剤の合成例)
α−オレフィンと無水マレイン酸との共重合物として1−エイコセン、1−ドコセンおよび1−テトラコセンの混合物と無水マレイン酸との共重合物(日本油脂株式会社製商品名ニッサンエレクトールWPB−1)、一価のアルコールとしてステアリルアルコールを用い、これらをトルエンに溶解して100℃で8時間反応させた後、160℃まで段階的に昇温しながらトルエンを除去し、さらに減圧下160℃で6時間反応させて未反応分を除去し、重量平均分子量34,000、モノエステル化率70モル%のエステル化化合物((I)成分:離型剤3)を得た。ここで、重量平均分子量は、溶媒としてTHF(テトラヒドロフラン)を用いてGPCで測定した値である。
(実施例1〜17、比較例1〜8)
(A)エポキシ樹脂として、エポキシ当量196、融点106℃のビフェニル型エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン株式会社製商品名エピコートYX−4000H)(エポキシ樹脂1)、
エポキシ当量245、融点110℃の硫黄原子含有エポキシ樹脂(東都化成株式会社製商品名YSLV−120TE)(エポキシ樹脂2)、
エポキシ当量266、軟化点67℃のβ−ナフトール・アラルキル型エポキシ樹脂(東都化成株式会社製商品名ESN−175)(エポキシ樹脂3)
及びエポキシ当量195、軟化点65℃のo−クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(住友化学工業株式会社製商品名ESCN−190)(エポキシ樹脂4)を用意した。
(B)硬化剤として軟化点70℃、水酸基当量175のフェノール・アラルキル樹脂(三井化学株式会社製商品名ミレックスXLC−3L)(硬化剤1)、
軟化点80℃、水酸基当量199のビフェニル型フェノール樹脂(明和化成株式会社製商品名MEH−7851)(硬化剤2)
及び軟化点80℃、水酸基当量106のフェノールノボラック樹脂(明和化成株式会社製商品名H−1)(硬化剤3)を用意した。
(E)硬化促進剤としてトリフェニルホスフィン(硬化促進剤1)、
トリフェニルホスフィンと1,4−ベンゾキノンの付加物(硬化促進剤2)
及びトリブチルホスフィンと1,4−ベンゾキノンの付加物(硬化促進剤3)、
(F)シランカップリング剤としてγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(エポキシシラン)、2級アミノ基を含有するシランカップリング剤γ−アニリノプロピルトリメトキシシラン(アニリノシラン)を用意した。
難燃剤として上記表1に示す各種(C)水酸化マグネシウム(水酸化マグネシウム1〜8)、酸化亜鉛、芳香族縮合リン酸エステル(大八化学工業株式会社製商品名PX−200)、トリフェニルホスフィンオキサイド、三酸化アンチモン及びエポキシ当量397、軟化点69℃、臭素含量49質量%のビスフェノールA型ブロム化エポキシ樹脂(東都化成株式会社製商品名YDB−400)を用意した。
(J)無機充填剤として平均粒径14.5μm、比表面積2.8m/gの球状溶融シリカ、
その他の添加剤としてカルナバワックス(離型剤1)、
(H)成分として重量平均分子量8,800、針入度1、酸価30mg/KOHの直鎖型酸化ポリエチレン(クラリアント社製商品名PED153)(離型剤2)
(I)成分(上記で調製した離型剤3)
及びカーボンブラック(三菱化学株式会社製商品名MA−100)を用意した。
それぞれ表2〜表4に示す質量部で配合し、混練温度80℃、混練時間10分の条件でロール混練を行い、実施例1〜17、比較例1〜8の組成物を作製した。
Figure 0005181219
Figure 0005181219
Figure 0005181219
作製した実施例1〜17、比較例1〜8の封止用エポキシ樹脂組成物の特性を、次の各試験により求めた。結果を表5〜表7に示す。
(1)スパイラルフロー
EMMI−1−66に準じたスパイラルフロー測定用金型を用いて、封止用エポキシ樹脂組成物をトランスファ成形機により、金型温度180℃、成形圧力6.9MPa、硬化時間90秒の条件で成形し、流動距離(cm)を求めた。
(2)熱時硬度
封止用エポキシ樹脂組成物を上記(1)の成形条件で直径50mm×厚さ3mmの円板に成形し、成形後直ちにショアD型硬度計を用いて測定した。
(3)難燃性
厚さ1.6mm(1/16インチ)の試験片を成形する金型を用いて、封止用エポキシ樹脂組成物を上記(1)の成形条件で成形して、さらに180℃で5時間後硬化を行い、UL−94試験法に従って難燃性を評価した。
(4)耐酸性
8mm×10mm×0.4mmのシリコンチップを搭載した外形寸法20mm×14mm×2mmの80ピンフラットパッケージ(QFP)を、封止用エポキシ樹脂組成物を用いて上記(3)の条件で成形、後硬化して作製し、半田メッキ処理を行い、表面の腐食の度合いを目視で観察し、良好な順に◎、〇、△、×で評価した。
(5)せん断離型性
縦50mm×横35mm×厚さ0.4mmのクロムめっきステンレス板を挿入し、この上に直径20mmの円板を成形する金型を用いて、封止用エポキシ樹脂組成物を上記(1)の条件で成形し、成形後直ちに該ステンレス板を引き抜いて最大引き抜き力を記録した。これを同一のステンレス板に対して連続で10回繰り返し、2回目から10回目までの引き抜き力の平均値を求めて評価した。
(6)耐リフロー性
8mm×10mm×0.4mmのシリコンチップを搭載した外形寸法20mm×14mm×2mmの80ピンフラットパッケージ(QFP)を、封止用エポキシ樹脂組成物を用いて上記(3)の条件で成形、後硬化して作製し、85℃、85%RHの条件で加湿して所定時間毎に240℃、10秒の条件でリフロー処理を行い、クラックの有無を観察し、試験パッケージ数(5個)に対するクラック発生パッケージ数で評価した。
(7)耐湿性
5μm厚の酸化膜上に線幅10μm、厚さ1μmのアルミ配線を施した6mm×6mm×0.4mmのテスト用シリコンチップを搭載した外形寸法20mm×14mm×2.7mmの80ピンフラットパッケージ(QFP)を、封止用エポキシ樹脂組成物を用いて上記(3)の条件で成形、後硬化して作製し、前処理を行った後、加湿して所定時間毎にアルミ配線腐食による断線不良を調べ、試験パッケージ数(10個)に対する不良パッケージ数で評価した。
なお、前処理は85℃、85%RH、72時間の条件でフラットパッケージを加湿後、215℃、90秒間のベーパーフェーズリフロー処理を行った。その後の加湿は0.2MPa、121℃の条件で行った。
(8)高温放置特性
5μm厚の酸化膜上に線幅10μm、厚さ1μmのアルミ配線を施した5mm×9mm×0.4mmのテスト用シリコンチップを、部分銀メッキを施した42アロイのリードフレーム上に銀ペーストを用いて搭載し、サーモニック型ワイヤボンダにより、200℃でチップのボンディングパッドとインナリードをAu線にて接続した16ピン型DIP(Dual Inline Package)を、封止用エポキシ樹脂組成物を用いて上記(3)の条件で成形、後硬化して作製して、200℃の高温槽中に保管し、所定時間毎に取り出して導通試験を行い、試験パッケージ数(10個)に対する導通不良パッケージ数で、高温放置特性を評価した。
Figure 0005181219
Figure 0005181219
Figure 0005181219
比較例1〜3は本発明における水酸化マグネシウム粒子を含まない水酸化マグネシウムを使用したもので、比較例1、3は耐酸性に劣り、また比較例1、2及び3は流動性に劣っていた。また比較例4〜8は水酸化マグネシウムを使用せず、難燃剤を配合していない比較例4及び酸化亜鉛のみを用いた比較例5は難燃性に劣っており、UL−94 V−0を達成しなかった。またリン系難燃剤のみを使用した比較例6、7は耐湿性に劣っていた。臭素系難燃剤/アンチモン系難燃剤を使用した比較例8は高温放置特性に劣っていた。
これに対し、本発明の構成成分(A)〜(C)を全て含んだ実施例1〜17は全てUL−94 V−0を達成し、難燃性が良好で、また耐酸性、流動性及び成形性も良好であった。さらには実施例1〜14、16、17は耐リフロー性に優れ、実施例1〜17は耐湿性及び高温放置特性に優れるといった信頼性にも優れていた。
産業上の利用の可能性
本発明による封止用エポキシ樹脂組成物は難燃性が良好で、かつ成形性や耐リフロー性、耐湿性及び高温放置特性等の信頼性が良好な電子部品装置等の製品を得ることができ、その工業的価値は大である。

Claims (21)

  1. (A)エポキシ樹脂、(B)硬化剤、(C)水酸化マグネシウム、(E)硬化促進剤を含有する封止用エポキシ樹脂組成物であって、(C)水酸化マグネシウムは、結晶外形が互いに平行な上下2面の六角形の基底面とこれらの基底面間に形成される外周6面の角柱面とからなりかつc軸方向の大きさが1.5×10−6〜6.0×10−6mである、六角柱形状の水酸化マグネシウム粒子を含み、(E)硬化促進剤は、ホスフィン化合物とキノン化合物との付加物を含む封止用エポキシ樹脂組成物。
  2. 前記水酸化マグネシウム粒子が、8.0×10−18〜600×10−18の体積を有するものを含む請求項1記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
  3. 前記水酸化マグネシウム粒子が、結晶子径が50×10−9m以上の酸化マグネシウムを水和して得られるものを含む請求項1または2記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
  4. (C)水酸化マグネシウムが、
    前記水酸化マグネシウム粒子と、
    8.0×10−18〜600×10−18の体積を有する水酸化マグネシウム粒子および結晶子径が50×10−9m以上の酸化マグネシウムを水和して得られる水酸化マグネシウム粒子の少なくとも一方と
    からなる水酸化マグネシウム粒子混合物を含む請求項1記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
  5. (C)水酸化マグネシウムを(A)エポキシ樹脂100質量部に対し、5〜300質量部含有する請求項1〜いずれか記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
  6. (D)金属酸化物をさらに含有する請求項1〜いずれか記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
  7. (D)金属酸化物が典型金属元素の酸化物及び遷移金属元素の酸化物から選ばれる請求項記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
  8. (D)金属酸化物が亜鉛、マグネシウム、銅、鉄、モリブデン、タングステン、ジルコニウム、マンガン及びカルシウムの酸化物から選ばれる少なくとも1種である請求項記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
  9. (A)エポキシ樹脂がビフェニル型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、スチルベン型エポキシ樹脂、硫黄原子含有エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、ビフェニレン型エポキシ樹脂及びナフトール・アラルキル型エポキシ樹脂の少なくとも1種を含有する請求項1〜いずれか記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
  10. 硫黄原子含有エポキシ樹脂が下記一般式(I)で示される化合物である請求項記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
    Figure 0005181219
    (式(I)で、R1〜R8は水素原子、置換又は非置換の炭素数1〜10の一価の炭化水素基、置換又は非置換の炭素数1〜10のアルキル基及び置換又は非置換の炭素数1〜10のアルコキシ基から選ばれ、全てが同一でも異なっていてもよい。nは0〜3の整数を示す。)
  11. (B)硬化剤がビフェニル型フェノール樹脂、アラルキル型フェノール樹脂、ジシクロペンタジエン型フェノール樹脂、トリフェニルメタン型フェノール樹脂及びノボラック型フェノール樹脂の少なくとも1種を含有する請求項1〜10いずれか記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
  12. (E)硬化促進剤が、リン原子に少なくとも一つのアルキル基が結合したホスフィン化合物とキノン化合物との付加物を含む請求項記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
  13. (F)カップリング剤をさらに含有する請求項1〜12いずれか記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
  14. (F)カップリング剤が2級アミノ基を有するシランカップリング剤を含有する請求項13記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
  15. 2級アミノ基を有するシランカップリング剤が下記一般式(II)で示される化合物を含有する請求項14記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
    Figure 0005181219
    (式(II)で、R1は水素原子、炭素数1〜6のアルキル基及び炭素数1〜2のアルコキシ基から選ばれ、R2は炭素数1〜6のアルキル基及びフェニル基から選ばれ、R3はメチル基又はエチル基を示し、nは1〜6の整数を示し、mは1〜3の整数を示す。)
  16. (G)リン原子を有する化合物をさらに含有する請求項1〜15のいずれかに記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
  17. (G)リン原子を有する化合物がリン酸エステル化合物を含有する請求項16記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
  18. リン酸エステル化合物が下記一般式(III)で示される化合物を含有する請求項17記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
    Figure 0005181219
    (式(III)中の8個のRは炭素数1〜4のアルキル基を示し、全て同一でも異なっていてもよい。Arは芳香族環を示す。)
  19. (G)リン原子を有する化合物がホスフィンオキサイドを含有し、該ホスフィンオキサイドが下記一般式(IV)で示されるホスフィン化合物を含有する請求項16記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
    Figure 0005181219
    (一般式(IV)で、R、R及びRは炭素数1〜10の置換又は非置換のアルキル基、アリール基、アラルキル基及び水素原子のいずれかを示し、すべて同一でも異なってもよい。ただしすべてが水素原子である場合を除く。)
  20. (H)重量平均分子量が4,000以上の直鎖型酸化ポリエチレン、および(I)炭素数5〜30のα−オレフィンと無水マレイン酸との共重合物を炭素数5〜25の一価のアルコールでエステル化した化合物の少なくとも一方をさらに含有する請求項1〜19いずれか記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
  21. (H)成分および(I)成分の少なくとも一方が、(A)成分の一部または全部と予備混合されてなる請求項20記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
JP2007524709A 2005-07-13 2006-07-13 封止用エポキシ樹脂組成物及び電子部品装置 Active JP5181219B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007524709A JP5181219B2 (ja) 2005-07-13 2006-07-13 封止用エポキシ樹脂組成物及び電子部品装置

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005204290 2005-07-13
JP2005204290 2005-07-13
JP2007524709A JP5181219B2 (ja) 2005-07-13 2006-07-13 封止用エポキシ樹脂組成物及び電子部品装置
PCT/JP2006/313994 WO2007007843A1 (ja) 2005-07-13 2006-07-13 封止用エポキシ樹脂組成物及び電子部品装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2007007843A1 JPWO2007007843A1 (ja) 2009-01-29
JP5181219B2 true JP5181219B2 (ja) 2013-04-10

Family

ID=37637223

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007524709A Active JP5181219B2 (ja) 2005-07-13 2006-07-13 封止用エポキシ樹脂組成物及び電子部品装置

Country Status (6)

Country Link
US (1) US20090137717A1 (ja)
JP (1) JP5181219B2 (ja)
KR (2) KR101413822B1 (ja)
CN (1) CN101223235B (ja)
TW (1) TW200710161A (ja)
WO (1) WO2007007843A1 (ja)

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100870809B1 (ko) * 2004-03-03 2008-11-27 히다치 가세고교 가부시끼가이샤 봉지용 에폭시 수지 성형 재료 및 전자 부품 장치
JP5177480B2 (ja) * 2007-06-14 2013-04-03 日本化薬株式会社 半導体封止用エポキシ樹脂組成物および半導体装置
JP2010229368A (ja) * 2009-03-30 2010-10-14 Shin Kobe Electric Mach Co Ltd エポキシ樹脂組成物並びにプリプレグ、積層板及び配線板
JP5725016B2 (ja) 2010-03-25 2015-05-27 住友ベークライト株式会社 半導体封止用エポキシ樹脂組成物およびこれを用いた半導体装置
CN102453914A (zh) * 2010-10-22 2012-05-16 中国核动力研究设计院 用微晶石腊包裹强酸溶解金属焊接件易腐蚀部位的方法
KR20180104168A (ko) * 2011-05-13 2018-09-19 히타치가세이가부시끼가이샤 밀봉용 에폭시 수지 성형 재료 및 전자 부품 장치
JP5573773B2 (ja) * 2011-05-23 2014-08-20 日立化成株式会社 電子部品封止用樹脂組成物およびそれを用いた電子部品装置
JP5944714B2 (ja) * 2012-03-27 2016-07-05 タテホ化学工業株式会社 水酸化マグネシウム粒子、及びそれを含む樹脂組成物
JP6059577B2 (ja) * 2012-11-13 2017-01-11 タテホ化学工業株式会社 水酸化マグネシウム粒子、及びそれを含む樹脂組成物
KR20200109090A (ko) 2019-03-12 2020-09-22 동우 화인켐 주식회사 반도체 소자 밀봉용 에폭시 수지 조성물 및 이를 이용하여 밀봉된 반도체 소자
KR20210078940A (ko) 2019-12-19 2021-06-29 동우 화인켐 주식회사 반도체 소자 밀봉용 에폭시 수지 조성물 및 이를 이용하여 밀봉된 반도체 소자
JP2022142564A (ja) * 2021-03-16 2022-09-30 キオクシア株式会社 半導体パッケージ及び半導体装置

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006306658A (ja) * 2005-04-28 2006-11-09 Tateho Chem Ind Co Ltd 水酸化マグネシウム粒子及びその製造方法及びそれを含む樹脂組成物
JP2006306659A (ja) * 2005-04-28 2006-11-09 Tateho Chem Ind Co Ltd 水酸化マグネシウム粒子及びその製造方法及びそれを含む樹脂組成物

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56109820A (en) * 1980-02-06 1981-08-31 Shin Nippon Kagaku Kogyo Co Ltd Manufacture of magnesium hydroxide
JPH03170325A (ja) * 1989-11-27 1991-07-23 Mitsubishi Materials Corp 水酸化マグネシウムの製造方法
IL124061A (en) * 1997-04-15 2001-01-11 Taheto Chemical Ind Co Ltd Solid solutions of metal hydroxide and metal oxide and their preparation
JP2000233924A (ja) * 1998-12-14 2000-08-29 Kyowa Chem Ind Co Ltd 水酸化マグネシウム粒子およびその製造方法
CA2320133C (en) * 1998-12-14 2007-05-22 Kyowa Chemical Industry Co., Ltd. Magnesium hydroxide particles, method of the production thereof, and resin composition containing the same
JP3836649B2 (ja) * 1999-11-22 2006-10-25 協和化学工業株式会社 半導体封止用樹脂組成物およびその成型品
AU2001288119A1 (en) * 2000-09-25 2002-04-02 Hitachi Chemical Co. Ltd. Epoxy resin molding material for sealing
JP2002212392A (ja) * 2000-11-20 2002-07-31 Hitachi Chem Co Ltd 封止用エポキシ樹脂成形材料及び電子部品装置
JP2003327667A (ja) * 2002-03-07 2003-11-19 Hitachi Chem Co Ltd 封止用エポキシ樹脂成形材料及び半導体装置
WO2003072628A1 (en) * 2002-02-27 2003-09-04 Hitachi Chemical Co., Ltd. Encapsulating epoxy resin composition, and electronic parts device using the same
KR100637305B1 (ko) * 2002-02-27 2006-10-23 히다치 가세고교 가부시끼가이샤 봉지용 에폭시 수지 조성물 및 이를 사용한 전자 부품 장치
KR100702566B1 (ko) * 2003-04-07 2007-04-04 히다치 가세고교 가부시끼가이샤 밀봉용 에폭시 수지 성형 재료 및 반도체 장치
JP2004307646A (ja) * 2003-04-07 2004-11-04 Hitachi Chem Co Ltd 封止用エポキシ樹脂成形材料及び半導体装置
US20080039556A1 (en) * 2004-07-13 2008-02-14 Hitachi Chemical Co., Ltd. Encapsulated Epoxy-Resin Molding Compound, And Electronic Component Device
US20090143511A1 (en) * 2004-07-13 2009-06-04 Hitachi Chemical Co., Ltd. Encapsulated epoxy-resin molding compound, and electronic component device
JP5400267B2 (ja) * 2005-12-13 2014-01-29 日立化成株式会社 封止用エポキシ樹脂組成物及び電子部品装置

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006306658A (ja) * 2005-04-28 2006-11-09 Tateho Chem Ind Co Ltd 水酸化マグネシウム粒子及びその製造方法及びそれを含む樹脂組成物
JP2006306659A (ja) * 2005-04-28 2006-11-09 Tateho Chem Ind Co Ltd 水酸化マグネシウム粒子及びその製造方法及びそれを含む樹脂組成物

Also Published As

Publication number Publication date
WO2007007843A1 (ja) 2007-01-18
TW200710161A (en) 2007-03-16
US20090137717A1 (en) 2009-05-28
KR101342206B1 (ko) 2013-12-16
CN101223235B (zh) 2011-07-27
TWI332023B (ja) 2010-10-21
CN101223235A (zh) 2008-07-16
JPWO2007007843A1 (ja) 2009-01-29
KR101413822B1 (ko) 2014-07-01
KR20080035624A (ko) 2008-04-23
KR20130105767A (ko) 2013-09-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5181219B2 (ja) 封止用エポキシ樹脂組成物及び電子部品装置
JP5445490B2 (ja) 封止用エポキシ樹脂成形材料及び電子部品装置
JP5298400B2 (ja) 封止用エポキシ樹脂成形材料及び電子部品装置
KR100846547B1 (ko) 밀봉용 에폭시 수지 성형 재료 및 전자 부품 장치
KR100840065B1 (ko) 밀봉용 에폭시 수지 성형 재료 및 전자 부품 장치
JP2006193619A (ja) 封止用エポキシ樹脂組成物及び電子部品装置
JP4822053B2 (ja) 封止用エポキシ樹脂組成物及び電子部品装置
JP4010176B2 (ja) 封止用エポキシ樹脂成形材料及び電子部品装置
JP4977973B2 (ja) 封止用エポキシ樹脂成形材料及び電子部品装置
JP3975386B2 (ja) 封止用エポキシ樹脂成形材料及び電子部品装置
JP4930767B2 (ja) 封止用エポキシ樹脂組成物及び電子部品装置
JP2004307650A (ja) 封止用エポキシ樹脂成形材料及び半導体装置
JP3840989B2 (ja) 封止用エポキシ樹脂組成物および電子部品装置
JP2010090216A (ja) 封止用エポキシ樹脂組成物及び電子部品装置
JP4265187B2 (ja) 封止用エポキシ樹脂成形材料及び素子を備えた電子部品装置
JP2008214433A (ja) 封止用エポキシ樹脂組成物及び電子部品装置
JP2006193618A (ja) 封止用エポキシ樹脂組成物及び電子部品装置
JP2009221357A (ja) 封止用エポキシ樹脂組成物及び電子部品装置
JP2006160855A (ja) 封止用エポキシ樹脂組成物及び電子部品装置
JP5316853B2 (ja) 封止用エポキシ樹脂組成物及び電子部品装置
JPWO2003080726A1 (ja) 封止用エポキシ樹脂成形材料及び電子部品装置
JP2010090300A (ja) 封止用エポキシ樹脂組成物及び電子部品装置
JP2009102635A (ja) 封止用エポキシ樹脂成形材料、及びこの封止用エポキシ樹脂成形材料で封止した素子を備えた電子部品装置
JP2007039652A (ja) 封止用エポキシ樹脂組成物及び電子部品装置
JP2007161804A (ja) 封止用エポキシ樹脂組成物及び電子部品装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20090630

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100629

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120731

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20121001

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20121211

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20121224

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 5181219

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160125

Year of fee payment: 3

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350