JP5057555B2 - 照明及びレチクルの最適化により、印刷ラインの形状歪みを最小化するシステム及び方法 - Google Patents
照明及びレチクルの最適化により、印刷ラインの形状歪みを最小化するシステム及び方法 Download PDFInfo
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Description
[数1]
ρ=kλ/NA (1)
ここで、ρはリソグラフィにより印刷可能な最小フィーチャ・サイズで、NA(numerical aperture:開口数)は、レンズにより収集される光量の測量、λは光源の波長である。この式は、印刷可能な最小フィーチャ・サイズが光源の波長に比例し、回折光がより広範囲の方向に渡って、レンズにより収集されるとき、イメージ忠実度が改善される概念を表す。より大きなNAは、より小さなフィーチャの印刷を可能にするが、実際にはNAは焦点深度要求、偏光及び薄膜効果や、レンズ設計の難易度などにより制限される。いわゆるkファクタは、例えばレジスト特性または改良マスクの使用などの波長や、開口数以外のリソグラフィ・プロセスの態様を表す。従来技術における典型的なkファクタ値は、約0.7乃至約0.4の範囲である。波長λを減少させる上での制限や、開口数NAを増加させる上での制限により、非常に小さな臨界寸法を有する将来のIC製品の形成では、リソグラフィ・プロセスの解像度を改善するために、kファクタの低減、例えば、0.3乃至0.4またはそれ以下を要求するであろう。
前記関数により表されるイメージの特性として、当該イメージの、サンプルポイントにおける対数勾配の値を示すメリット関数を提供するステップと、前記メリット関数の値が最大となるように、前記各回折次数の回折光の波面の振幅の解を求めるステップと、を含む。
本発明の第6の側面は、半導体ウエハ上にイメージを形成するための、レチクルに入射する各方向の軸外ビームの強度と、該レチクルから生じる各回折次数の回折光の波面の振幅と、を求める方法をコンピュータに実行させる、コンピュータ可読命令を含むプログラムに関し、前記方法は、前記ウエハ上に形成されるべきイメージに対応したパターンの情報を提供するステップと、前記パターンの繰り返し寸法の情報と前記軸外ビームの波長の情報とにより決まる回折方向に対応させて、前記各回折次数の回折光の波面の振幅を表す変数を選択するステップと、前記回折方向に基づいて、前記レチクルからの光を前記ウエハ上に投影する光学系の瞳内に前記各回折次数の回折光のうち回折次数の同一セットを導く前記レチクルに入射する軸外ビームの方向の範囲毎に前記レチクルに入射する軸外ビームの方向を区分し、前記各方向の軸外ビームの強度を表す変数を前記各区分に対応させて選択するステップと、前記各方向の軸外ビームの強度を表す変数と、前記各回折次数の回折光の波面の振幅を表す変数と、前記各方向の軸外ビームに対して前記各回折次数の回折光の波面により生成される前記ウエハ上でのイメージ振幅とを用い、前記各方向の軸外ビームの強度を表す変数に、それに対応する前記イメージ振幅と前記各回折次数の回折光の波面の振幅を表す変数との内積の2乗を掛けて得られる積を前記各方向にわたって加算して求められる、前記ウエハ上の各点において得られるイメージの強度を表す関数を提供するステップと、前記関数により表されるイメージの特性として、当該イメージの、サンプルポイントにおける対数勾配の値を示すメリット関数を提供するステップと、前記メリット関数の値が最大となるように、前記各方向の軸外ビームの強度と前記各回折次数の回折光の波面の振幅とのそれぞれの解を求めるステップと、を含む。
1)メリット関数(ブロック510)の単純化バージョン及び制約(ブロック530及び540)に対して、大域最適解を計算する(ブロック551)。
[数3]
0≦sj≦SMAX、j
ここで、SMAX、jは、瞳孔内のj番目の照明領域の面積を表す。光源分布が回折光源成分により定義される場合、総強度を制限することがより好ましい。
ハ上のポイント(x、y)において生成される強度は次式で与えられる。
[数6]
I(x,y)=IAsym(x,y)+IAsym(-x,y)+IAsym(x,-y)+IAsym(-x,-y) (4)
式(4)は追加指標q(1乃至4の範囲)を”ベクトルc”に追加し、4つの鏡
映照明方向を区別することにより次のように単純化される。
また同時に、所望の明るいイメージ・ポイント(xu、yu)の残りのサブセットu1b(例えばポイント614、616、及び618の内の残りのポイント)において明るいイメージを、同時に提供すると仮定しよう。異なる収集次数セット間の強いオーバラップが存在する場合、全ての暗ポイント(xv、yv)において暗いことに加え、別の照明領域j2からの干渉次数が、第1の次数セットが暗い所望の明イメージ・ポイント(xu、yu)のサブセットu1dにおいて明るく、同時に、前記第1のセットが暗かった所望の明イメージ・ポイントの一部において暗いということは、起こりにくいとみなすことができる。こうした状況は、同一の限られた次数セットが同時に、単に1つの照明方向の代わりに、2つの照明方向に関わる制約を満足することを要求する(但し、2重の制約は一様に決定されない)。こうした組み合わせは起こりにくいので、この実施例では、最適解がこうしたシステムを含まないことが近似と見なされる。従って、明暗領域の全ての制約を個々に満足する照明方向だけが考慮され、レチクル及び光源の図8の最適化
問題550を解く次の反復方法を導くことができる。
a)JMax光源方向(この実施例では1乃至41)の各々に対して、単純化された基準の下で、大域的に最適な回折マスク振幅、すなわち”ベクトルa”の解を
計算する。例えば、縁部制約及び最小瞳孔充填を無視する(すなわち、SMinを0に初期化する)。
化する。
a)”ベクトルa”及びSMinの現在値が得られると、大域的に最適な光源分布(”ベクトルS”)を計算する。
に最適化する。複数の焦点面における選択イメージ・ポイントでの制約(例えば、縁部制約、暗ポイントに対する明ポイントの比率など)を含む(ブロック530)。
a)SMinを所望の最終レベルに固定し、ステップ1からの”ベクトルS”及び”ベクトルa”の対応する解を選択する。
要な次の条件が得られる。
[数13]
|B|=0、但しB=A0−μAU (10)
式(10)の解は最小の固有値を有するA0の固有ベクトルであり、基本的にAUが対角行列化され、単位行列にスケール変更される。次にパラメータtが小ステップで増分され、ローカル最適化プログラムが各ステップで適用される。tが1に達するとき、式(8)は最終的に解かれる。
パターンの暗領域において位相シフト・クロムを使用するマスクが知られている(例えば、既に引用したT. Terasawaらによる”Imaging characteristics of multi-phase-shifting and halftone phase-shifting masks”、Japanese J. Appl. Phys. Part 1、Vol. 30、no. 11B(1991)、pages 2991-2997)。従来マスクでの位相シフトは、明フィーチャの縁部での遷移を急峻にするために使用される。しかしながら、従来の位相シフト・クロムの透過率はかなり低く、通常、開領域の約10%以下であり、その結果、破壊的干渉によるのではなく単にクロムが普通のクロム同様に光を遮るために、クロムがイメージ内で暗く印刷される。本発明の前述のマスクと、Terasawaらによる従来のマスクとの別の違いは、従来のマスクでは、クロムは暗領域を印刷するために物理的に穴を開けられることはなく、マスク穴は明イメージ領域を印刷するために使用されることである。別の違いは、これらの従来のマスクで使用されるクロムは、マスク内に設計された形状セットを構成せず、単に明イメージ領域として印刷される開形状のための、連続的な周囲(すなわち背景)に過ぎない。
少なくとも1つのウエハ・フィーチャ要素を有する所望のウエハ・フィーチャ・パターンを提供するステップと、
少なくとも1つの光源パラメータを有する光源と、少なくとも1つの回折フィーチャを有するレチクルと、少なくとも1つのイメージ強度を有するイメージとの間の関係を示すメリット関数を導出するステップと、
前記所望のウエハ・フィーチャ・パターンに関連して、前記少なくとも1つのイメージ強度が満足しなければならない少なくとも1つの制約を選択するステップと、
前記メリット関数が前記少なくとも1つの制約に従い最適化されるように、前記少なくとも1つの光源パラメータ及び前記少なくとも1つの回折フィーチャの組み合わせを選択するステップと、
前記レチクルを前記光源からの照明エネルギにより照射することにより、前記照明エネルギが前記レチクルにより回折され、レンズ口径を通じて投影されて、前記少なくとも1つのイメージ強度を前記ウエハ上に形成するステップと、
前記光活性材料を前記少なくとも1つのイメージ強度に露光するステップと、
露光された前記光活性材料を現像して、印刷フィーチャを形成するステップと
を含み、前記印刷フィーチャが前記制約に従い、前記所望のウエハ・フィーチャ・パターンの前記少なくとも1つのウエハ・フィーチャ要素に合致する方法。
前記メリット関数が前記少なくとも1つの回折振幅を含む関係を示し、
前記光源パラメータと前記回折フィーチャとの組み合わせを選択するステップが、
前記メリット関数が前記少なくとも1つの制約に従い最適化されるように、
前記少なくとも1つの回折振幅を選択するステップと、
前記回折フィーチャが選択された前記光源パラメータに従い、前記光源により照射されるとき、選択された前記少なくとも1つの回折振幅が生成されるように、前記回折フィーチャを形成するステップと
を含む、前記(1)記載の方法。
前記所望のウエハ・フィーチャ・パターンに従い、方向空間内でオーバラップする回折次数を有する、複数の光源方向を選択するステップと、
前記メリット関数から、単純化された関数を導出するステップと、
選択された光源振幅において、前記複数の光源方向の各々に対応する回折振幅を計算し、前記単純化された関数が大域的に最適化されるように、計算された前記回折振幅と、光源方向と、光源振幅との第1の最適組み合わせを選択するステップと、
前記第1の最適組み合わせを最初の解として用いて、前記メリット関数が局所的に最適化されるように、及び前記メリット関数が前記少なくとも1つの制約に従い局所的に最適化されるように、少なくとも1つの光源方向と、少なくとも1つの光源振幅と、少なくとも1つの回折振幅との最終的な最適組み合わせを選択するステップと、
前記回折フィーチャが、選択された前記少なくとも1つの光源方向からの前記光源により照射されるとき、選択された前記少なくとも1つの回折振幅が生成されるように、前記回折フィーチャを形成するステップと
を含む、前記(1)記載の方法。
少なくとも1つのウエハ・フィーチャ要素を有する所望のウエハ・フィーチャ・パターンを提供するステップと、
少なくとも1つの光源パラメータを有する光源と、少なくとも1つの回折フィーチャを有するレチクルと、少なくとも1つのイメージ強度を有するイメージとの間の関係を示すメリット関数を導出するステップと、
前記所望のウエハ・フィーチャ・パターンに関連して、前記少なくとも1つのイメージ強度が満足しなければならない少なくとも1つの制約を選択するステップと、
前記メリット関数が前記少なくとも1つの制約に従い最適化されるように、前記少なくとも1つの光源パラメータと、前記少なくとも1つの回折フィーチャとの組み合わせを選択するステップと
を含む、方法。
前記メリット関数が前記少なくとも1つの回折振幅を含む関係を示し、
前記光源パラメータと前記回折フィーチャとの組み合わせを選択するステップが、
前記メリット関数が前記少なくとも1つの制約に従い最適化されるように、前記少なくとも1つの回折振幅を選択するステップと、
前記回折フィーチャが選択された前記光源パラメータに従い、前記光源により照射されるとき、選択された前記少なくとも1つの回折振幅が生成されるように、前記回折フィーチャを形成するステップと
を含む、前記(9)記載の方法。
前記所望のウエハ・フィーチャ・パターンに従い、方向空間内でオーバラップする回折次数を有する、複数の光源方向を選択するステップと、
前記メリット関数から、単純化された関数を導出するステップと、
選択された光源振幅において、前記複数の光源方向の各々に対応する回折振幅を計算し、前記単純化された関数が大域的に最適化されるように、計算された前記回折振幅と、光源方向と、光源振幅との第1の最適組み合わせを選択するステップと、
前記第1の最適組み合わせを最初の解として用いて、前記メリット関数が局所的に最適化されるように、及び前記メリット関数が前記少なくとも1つの制約に従い局所的に最適化されるように、少なくとも1つの光源方向と、少なくとも1つの光源振幅と、少なくとも1つの回折振幅との最終的な最適組み合わせを選択するステップと、
前記回折フィーチャが、選択された前記少なくとも1つの光源方向からの前記光源により照射されるとき、選択された前記少なくとも1つの回折振幅が生成されるように、前記回折フィーチャを形成するステップと
を含む、前記(9)記載の方法。
少なくとも1つのウエハ・フィーチャ要素を有する所望のウエハ・フィーチャ・パターンを記憶するステップと、
少なくとも1つの光源パラメータを有する光源と、少なくとも1つの回折フィーチャを有するレチクルと、少なくとも1つのイメージ強度を有するイメージとの間の関係を示すメリット関数を計算するステップと、
前記所望のウエハ・フィーチャ・パターンに関連して、前記少なくとも1つのイメージ強度が満足しなければならない少なくとも1つの制約を記憶するステップと、
前記メリット関数が前記少なくとも1つの制約に従い最適化されるように、前記少なくとも1つの光源パラメータと、前記少なくとも1つの回折フィーチャとの組み合わせを選択するステップと
を含む、コンピュータ・プログラム製品。
前記メリット関数が前記少なくとも1つの回折振幅を含む関係を示し、
前記光源パラメータと前記回折フィーチャとの組み合わせを選択するステップが、
前記メリット関数が前記少なくとも1つの制約に従い最適化されるように、前記少なくとも1つの回折振幅を選択するステップと、
前記回折フィーチャが選択された前記光源パラメータに従い、前記光源により照射されるとき、選択された前記少なくとも1つの回折振幅が生成されるように、前記回折フィーチャの特性を計算するステップと
を含む、前記(16)記載のコンピュータ・プログラム製品。
前記所望のウエハ・フィーチャ・パターンに従い、方向空間内でオーバラップする回折次数を有する、複数の光源方向を記憶するステップと、
前記メリット関数から導出される単純化された関数を計算するステップと、
選択された光源振幅において、前記複数の光源方向の各々に対応する回折振幅を計算し、前記単純化された関数が大域的に最適化されるように、計算された前記回折振幅と、光源方向と、光源振幅との第1の最適組み合わせを選択するステップと、
前記第1の最適組み合わせを最初の解として用いて、前記メリット関数が局所的に最適化されるように、及び前記メリット関数が前記少なくとも1つの制約に従い局所的に最適化されるように、少なくとも1つの光源方向と、少なくとも1つの光源振幅と、少なくとも1つの回折振幅との最終的な最適組み合わせを選択するステップと、
前記回折フィーチャが、選択された前記少なくとも1つの光源方向からの前記光源により照射されるとき、選択された前記少なくとも1つの回折振幅が生成されるように、前記回折フィーチャの特性を計算するステップと
を含む、前記(16)記載のコンピュータ・プログラム製品。
少なくとも1つのウエハ・フィーチャ要素を有する所望のウエハ・フィーチャ・パターンを記憶するステップと、
少なくとも1つの光源パラメータを有する光源と、少なくとも1つの回折フィーチャを有するレチクルと、少なくとも1つのイメージ強度を有するイメージとの間の関係を示すメリット関数を計算するステップと、
前記所望のウエハ・フィーチャ・パターンに関連して、前記少なくとも1つのイメージ強度が満足しなければならない少なくとも1つの制約を記憶するステップと、
前記メリット関数が前記少なくとも1つの制約に従い最適化されるように、前記少なくとも1つの光源パラメータと、前記少なくとも1つの回折フィーチャとの組み合わせを選択するステップと
を含む、マシン可読記憶媒体。
前記メリット関数が前記少なくとも1つの回折振幅を含む関係を示し、
前記光源パラメータと前記回折フィーチャとの組み合わせを選択するステップが、
前記メリット関数が前記少なくとも1つの制約に従い最適化されるように、前記少なくとも1つの回折振幅を選択するステップと、
前記回折フィーチャが選択された前記光源パラメータに従い、前記光源により照射されるとき、選択された前記少なくとも1つの回折振幅が生成されるように、前記回折フィーチャを形成するステップと
を含む、前記(24)記載のマシン可読記憶媒体。
前記所望のウエハ・フィーチャ・パターンに従い、方向空間内でオーバラップする回折次数を有する、複数の光源方向を選択するステップと、
前記メリット関数から、単純化された関数を導出するステップと、
選択された光源振幅において、前記複数の光源方向の各々に対応する回折振幅を計算し、前記単純化された関数が大域的に最適化されるように、計算された前記回折振幅と、光源方向と、光源振幅との第1の最適組み合わせを選択するステップと、
前記第1の最適組み合わせを最初の解として用いて、前記メリット関数が局所的に最適化されるように、及び前記メリット関数が前記少なくとも1つの制約に従い局所的に最適化されるように、少なくとも1つの光源方向と、少なくとも1つの光源振幅と、少なくとも1つの回折振幅との最終的な最適組み合わせを選択するステップと、
前記回折フィーチャが、選択された前記少なくとも1つの光源方向からの前記光源により照射されるとき、選択された前記少なくとも1つの回折振幅が生成されるように、前記回折フィーチャの特性を形成するステップと
を含む、前記(24)記載のマシン可読記憶媒体。
少なくとも1つの光源パラメータを有する光源と、
少なくとも1つの回折フィーチャを有するレチクルと、
レンズと
を含み、前記光源が、複数の回折振幅を生成するように前記レチクルを照射し、前記複数の回折振幅が前記レンズにより収集され、前記半導体ウエハ上に投影されて、少なくとも1つのイメージ強度を有するイメージを形成するように、前記光源、前記レチクル及び前記レンズが配列され、
前記少なくとも1つの光源パラメータと、前記少なくとも1つの回折フィーチャとが、前記少なくとも1つの光源パラメータと、前記複数の回折振幅と、前記少なくとも1つのイメージ強度との間の関係を示すメリット関数に従い選択され、前記メリット関数が、前記少なくとも1つのイメージ強度が満足しなければならない、少なくとも1つの制約に従い最適化され、
前記光活性材料を前記少なくとも1つのイメージ強度に露光し、露光された前記光活性材料を現像することにより、所望の前記ウエハ・フィーチャ・パターンに合致する少なくとも1つの印刷フィーチャを形成するリソグラフィ・システム。
120 マスク(レチクル)
130 瞳孔
140 レンズ
150 イメージ・プレーン
170 強度
199 暗領域
300 中心
350 レンズの開口数(NA)
409 ギャップ
703' 円
810 強度Q
901、1501 最適化された光源パターン
Claims (14)
- 半導体ウエハ上にイメージを形成するための、レチクルから生じる各回折次数の回折光の波面の振幅、を求める方法であって、
前記ウエハ上に形成されるべきイメージに対応したパターンの情報を提供するステップと、
前記パターンの繰り返し寸法の情報と前記レチクルに入射するビームの波長とにより決まる回折方向に対応させて、前記各回折次数の回折光の波面の振幅を表す変数を選択するステップと、
前記回折方向に基づいて、前記レチクルからの光を前記ウエハ上に投影する光学系の瞳内に前記各回折次数の回折光のうち回折次数の同一セットを導く前記レチクルに入射する軸外ビームの方向の範囲毎に前記レチクルに入射する軸外ビームの方向を区分し、前記レチクルに入射する各方向の軸外ビームの強度を表す変数を前記各区分に対応させて選択するステップと、
前記各方向の軸外ビームの強度を表す変数と、前記各回折次数の回折光の波面の振幅を表す変数と、前記各方向の軸外ビームに対して前記各回折次数の回折光の波面により生成される前記ウエハ上でのイメージ振幅とを用い、前記各方向の軸外ビームの強度を表す変数に、それに対応する前記イメージ振幅と前記各回折次数の回折光の波面の振幅を表す変数との内積の2乗を掛けて得られる積を前記各方向にわたって加算して求められる、前記ウエハ上の各点において得られるイメージの強度を表す関数を提供するステップと、
前記関数により表されるイメージの特性として、当該イメージの、サンプルポイントにおける対数勾配の値を示すメリット関数を提供するステップと、
前記メリット関数の値が最大となるように、前記各回折次数の回折光の波面の振幅の解を求めるステップと、
を含む、方法。 - イメージを半導体ウエハ上に形成するためのイメージング・システムであって、
レチクルを照明する光源と、
前記光源により照明された前記レチクルからの光を前記ウエハ上に投影する光学系と、を含み、
前記システムは、前記ウエハ上にイメージを形成するための、前記レチクルから生じる各回折次数の回折光の波面の振幅、を求める方法にしたがって動作し、
前記方法は、
前記ウエハ上に形成されるべきイメージに対応したパターンの情報を提供するステップと、
前記パターンの繰り返し寸法の情報と前記レチクルに入射するビームの波長とにより決まる回折方向に対応させて、前記各回折次数の回折光の波面の振幅を表す変数を選択するステップと、
前記回折方向に基づいて、前記光学系の瞳内に前記各回折次数の回折光のうち回折次数の同一セットを導く前記レチクルに入射する軸外ビームの方向の範囲毎に前記レチクルに入射する軸外ビームの方向を区分し、前記レチクルに入射する各方向の軸外ビームの強度を表す変数を前記各区分に対応させて選択するステップと、
前記各方向の軸外ビームの強度を表す変数と、前記各回折次数の回折光の波面の振幅を表す変数と、前記各方向の軸外ビームに対して前記各回折次数の回折光の波面により生成される前記ウエハ上でのイメージ振幅とを用い、前記各方向の軸外ビームの強度を表す変数に、それに対応する前記イメージ振幅と前記各回折次数の回折光の波面の振幅を表す変数との内積の2乗を掛けて得られる積を前記各方向にわたって加算して求められる、前記ウエハ上の各点において得られるイメージの強度を表す関数を提供するステップと、
前記関数により表されるイメージの特性として、当該イメージの、サンプルポイントにおける対数勾配の値を示すメリット関数を提供するステップと、
前記メリット関数の値が最大となるように、前記各回折次数の回折光の波面の振幅の解を求めるステップと、
を含む、イメージング・システム。 - 半導体ウエハ上にイメージを形成するための、レチクルから生じる各回折次数の回折光の波面の振幅、を求める方法をコンピュータに実行させる、コンピュータ可読命令を含むプログラムであって、
前記方法は、
前記ウエハ上に形成されるべきイメージに対応したパターンの情報を提供するステップと、
前記パターンの繰り返し寸法の情報と前記レチクルに入射するビームの波長とにより決まる回折方向に対応させて、前記各回折次数の回折光の波面の振幅を表す変数を選択するステップと、
前記回折方向に基づいて、前記レチクルからの光を前記ウエハ上に投影する光学系の瞳内に前記各回折次数の回折光のうち回折次数の同一セットを導く前記レチクルに入射する軸外ビームの方向の範囲毎に前記レチクルに入射する軸外ビームの方向を区分し、前記レチクルに入射する各方向の軸外ビームの強度を表す変数を前記各区分に対応させて選択するステップと、
前記各方向の軸外ビームの強度を表す変数と、前記各回折次数の回折光の波面の振幅を表す変数と、前記各方向の軸外ビームに対して前記各回折次数の回折光の波面により生成される前記ウエハ上でのイメージ振幅とを用い、前記各方向の軸外ビームの強度を表す変数に、それに対応する前記イメージ振幅と前記各回折次数の回折光の波面の振幅を表す変数との内積の2乗を掛けて得られる積を前記各方向にわたって加算して求められる、前記ウエハ上の各点において得られるイメージの強度を表す関数を提供するステップと、
前記関数により表されるイメージの特性として、当該イメージの、サンプルポイントにおける対数勾配の値を示すメリット関数を提供するステップと、
前記メリット関数の値が最大となるように、前記各回折次数の回折光の波面の振幅の解を求めるステップと、
を含む、プログラム。 - 前記方法は、前記解を求めるステップで求められた前記各回折次数の回折光の波面の振幅が前記レチクルから生じるように、前記レチクルのパターンを計算するステップをさらに含む、請求項3記載のプログラム。
- 前記解を求めるステップは、さらに、前記イメージの選択されたポイントにおけるイメージ強度が満たすべき条件を示す制約に従って、前記解を求める、請求項3記載のプログラム。
- 前記サンプルポイントは、前記イメージの要素の縁部ポイントである、請求項3記載のプログラム。
- 前記レチクルのパターンを計算するステップは、前記解に基づいて計算された前記レチクルのパターンを、重畳された矩形形状を用いて近似する、請求項4記載のプログラム。
- 半導体ウエハ上にイメージを形成するための、レチクルに入射する各方向の軸外ビームの強度と、該レチクルから生じる各回折次数の回折光の波面の振幅と、を求める方法であって、
前記ウエハ上に形成されるべきイメージに対応したパターンの情報を提供するステップと、
前記パターンの繰り返し寸法の情報と前記軸外ビームの波長の情報とにより決まる回折方向に対応させて、前記各回折次数の回折光の波面の振幅を表す変数を選択するステップと、
前記回折方向に基づいて、前記レチクルからの光を前記ウエハ上に投影する光学系の瞳内に前記各回折次数の回折光のうち回折次数の同一セットを導く前記レチクルに入射する軸外ビームの方向の範囲毎に前記レチクルに入射する軸外ビームの方向を区分し、前記各方向の軸外ビームの強度を表す変数を前記各区分に対応させて選択するステップと、
前記各方向の軸外ビームの強度を表す変数と、前記各回折次数の回折光の波面の振幅を表す変数と、前記各方向の軸外ビームに対して前記各回折次数の回折光の波面により生成される前記ウエハ上でのイメージ振幅とを用い、前記各方向の軸外ビームの強度を表す変数に、それに対応する前記イメージ振幅と前記各回折次数の回折光の波面の振幅を表す変数との内積の2乗を掛けて得られる積を前記各方向にわたって加算して求められる、前記ウエハ上の各点において得られるイメージの強度を表す関数を提供するステップと、
前記関数により表されるイメージの特性として、当該イメージの、サンプルポイントにおける対数勾配の値を示すメリット関数を提供するステップと、
前記メリット関数の値が最大となるように、前記各方向の軸外ビームの強度と前記各回折次数の回折光の波面の振幅とのそれぞれの解を求めるステップと、
を含む、方法。 - イメージを半導体ウエハ上に形成するためのイメージング・システムであって、
レチクルを照明する光源と、
前記光源により照明された前記レチクルからの光を前記ウエハ上に投影する光学系と、を含み、
前記システムは、前記ウエハ上にイメージを形成するための、前記レチクルに入射する各方向の軸外ビームの強度と、該レチクルから生じる各回折次数の回折光の波面の振幅と、を求める方法にしたがって動作し、
前記方法は、
前記ウエハ上に形成されるべきイメージに対応したパターンの情報を提供するステップと、
前記パターンの繰り返し寸法の情報と前記軸外ビームの波長の情報とにより決まる回折方向に対応させて、前記各回折次数の回折光の波面の振幅を表す変数を選択するステップと、
前記回折方向に基づいて、前記光学系の瞳内に前記各回折次数の回折光のうち回折次数の同一セットを導く前記レチクルに入射する軸外ビームの方向の範囲毎に前記レチクルに入射する軸外ビームの方向を区分し、前記各方向の軸外ビームの強度を表す変数を前記各区分に対応させて選択するステップと、
前記各方向の軸外ビームの強度を表す変数と、前記各回折次数の回折光の波面の振幅を表す変数と、前記各方向の軸外ビームに対して前記各回折次数の回折光の波面により生成される前記ウエハ上でのイメージ振幅とを用い、前記各方向の軸外ビームの強度を表す変数に、それに対応する前記イメージ振幅と前記各回折次数の回折光の波面の振幅を表す変数との内積の2乗を掛けて得られる積を前記各方向にわたって加算して求められる、前記ウエハ上の各点において得られるイメージの強度を表す関数を提供するステップと、
前記関数により表されるイメージの特性として、当該イメージの、サンプルポイントにおける対数勾配の値を示すメリット関数を提供するステップと、
前記メリット関数の値が最大となるように、前記各方向の軸外ビームの強度と前記各回折次数の回折光の波面の振幅とのそれぞれの解を求めるステップと、
を含む、方法。 - 半導体ウエハ上にイメージを形成するための、レチクルに入射する各方向の軸外ビームの強度と、該レチクルから生じる各回折次数の回折光の波面の振幅と、を求める方法をコンピュータに実行させる、コンピュータ可読命令を含むプログラムであって、
前記方法は、
前記ウエハ上に形成されるべきイメージに対応したパターンの情報を提供するステップと、
前記パターンの繰り返し寸法の情報と前記軸外ビームの波長の情報とにより決まる回折方向に対応させて、前記各回折次数の回折光の波面の振幅を表す変数を選択するステップと、
前記回折方向に基づいて、前記レチクルからの光を前記ウエハ上に投影する光学系の瞳内に前記各回折次数の回折光のうち回折次数の同一セットを導く前記レチクルに入射する軸外ビームの方向の範囲毎に前記レチクルに入射する軸外ビームの方向を区分し、前記各方向の軸外ビームの強度を表す変数を前記各区分に対応させて選択するステップと、
前記各方向の軸外ビームの強度を表す変数と、前記各回折次数の回折光の波面の振幅を表す変数と、前記各方向の軸外ビームに対して前記各回折次数の回折光の波面により生成される前記ウエハ上でのイメージ振幅とを用い、前記各方向の軸外ビームの強度を表す変数に、それに対応する前記イメージ振幅と前記各回折次数の回折光の波面の振幅を表す変数との内積の2乗を掛けて得られる積を前記各方向にわたって加算して求められる、前記ウエハ上の各点において得られるイメージの強度を表す関数を提供するステップと、
前記関数により表されるイメージの特性として、当該イメージの、サンプルポイントにおける対数勾配の値を示すメリット関数を提供するステップと、
前記メリット関数の値が最大となるように、前記各方向の軸外ビームの強度と前記各回折次数の回折光の波面の振幅とのそれぞれの解を求めるステップと、
を含む、プログラム。 - 前記方法は、前記解を求めるステップで求められた前記各回折次数の回折光の波面の振幅が前記レチクルから生じるように、前記レチクルのパターンを計算するステップをさらに含む、請求項10記載のプログラム。
- 前記解を求めるステップは、さらに、前記イメージの選択されたポイントにおけるイメージ強度が満たすべき条件を示す制約に従って、前記解を求める、請求項10記載のプログラム。
- 前記サンプルポイントは、前記イメージの要素の縁部ポイントである、請求項10記載のプログラム。
- 前記レチクルのパターンを計算するステップは、前記解に基づいて計算された前記レチクルのパターンを、重畳された矩形形状を用いて近似する、請求項11記載のプログラム。
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