JP4750525B2 - 露光方法及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
ウェハ170は、別の実施形態では液晶基板その他の被露光体に置換される。ウェハ170ではフォトレジスト172が基板174上に塗布されている。
孤立のホールパターンの大きさが異なるホールパターンを同時に露光する場合、補助パターンのハーフピッチは全て等しくする。
また、3光束干渉では、ウェハ平面内に集積できるコンタクトホールの数は、この場合、最も多くすることができる。パターンの横方向のハーフピッチPx/2、このときホール間のハーフピッチは全てPx/2、AB=BC=CAの正三角形になる。Px/2=k1とすると次式が成立する。
以下、図18(a)に示す小σ照明や図18(b)に示す輪帯照明を例に説明する。露光装置100(ArFエキシマレーザー、NA=1.35)により、図4(a)のようなコンタクトホールW=80(nm)、Px=Py=P=80(nm)を露光する。有効光源として、図18(a)に示す小σ照明(σ=0.3)と、図18(b)に示す輪帯照明(外側σ=0.65、内側σ=0.45)とを使用する。どちらも無偏光照明とした。これらと図2(a)及び図3(a)のような6重極照明で露光した場合を比較する。パターンのハーフピッチは80nm(k1=0.56)(外側σ=0.65、ローカルσr=0.1、中心位置1/(3.2*0.56)〜0.55)。この場合、デフォーカスに対して、コントラストとコンタクトホールの大きさ(Critical Dimension:CD)は図10及び図11に示すように変化する。小σ照明では、最も高コントラストな像となるがコントラスト40%以上得られるフォーカス範囲は0.2μmもなく、それ以上に、デフォーカスに対してCD変化が大きく、焦点深度が得られない。輪帯照明では小σ照明よりも焦点深度が得られるが0.2μmよりも少ない。
ホールパターンの大きさが異なる場合、同じ露光量で、所定の大きさになるように大きさ補正をする。
六重極の中心位置は1/(3k1)=0.83とする。
120 開口絞り
130 マスク
170 被露光体
Claims (9)
- コンタクトホールパターンを有するマスクを照明光で照明し、投影光学系を介して被露光体に投影する露光方法であって、
前記コンタクトホールパターンは、1列の周期パターンが隣り合う行で互いに半ピッチずれている千鳥格子状パターンであり、
前記照明光の有効光源は、前記投影光学系の前記瞳の中心からの距離がaで等しく、前記コンタクトホールパターンの列方向からの角度が0、2α、π−2α、π、π+2α、2π−2αの方向に位置し、前記周期パターンの前記コンタクトホール間の列方向のピッチをPx、前記列方向に対して垂直な行方向のピッチをPy、前記投影光学系の開口数をNA、前記照明光の波長をλとすると次式が成立し、
Pxo/2=(Px/2)NA/λ、
Pyo/2=(Py/2)NA/λ、
α=tan−1(Pxo/(2Pyo))、
a=1/(4(Pyo/2)/sin(2α)
前記コンタクトホールパターンからの回折光のうち3光束を前記投影光学系の瞳内で干渉させることを特徴とする露光方法。 - 前記コンタクトホールパターンは列方向に周期的に配置された2個以上のホールがあり、前記行方向にはPyoだけ離れた位置からPx/2だけ列方向にずれた位置にのみホールがあることを特徴とする請求項1記載の露光方法。
- 前記コンタクトホールパターンは、所定のパターンと、当該所定のパターンよりも寸法の小さな補助パターンを含み、
前記露光方法は、前記所定のパターンが解像され、かつ、前記補助パターンの解像が抑制することを特徴とする請求項1記載の露光方法。 - 1/(4(Pyo/2))/sin(2α)>1、
1/(2(Pyo/2))/sin(tan−1(2sin(2α)))<1
が成立するであることを特徴とする請求項1記載の露光方法。 - 前記有効光源は6重極形状を有することを特徴とする請求項1記載の露光方法。
- 列方向に周期的なホールパターンのピッチをPx、行方向にはピッチがPyの距離からPx/2ずれたホールパターンに関し、
PyとPxは
Py=√3・Px/2
の関係にあるホールパターンを形成することを特徴とする請求項1記載の露光方法 - 0.33λ/(NA)<Px/2<0.67λ/(NA)、
0.33λ/(Px/2)<NA<0.67λ/(Px/2)
が成立することを特徴とする請求項6記載の露光方法。 - Po=(Px/2)NA/λ、
a=1/(3Po)、
α=π/6
が成立することを特徴とする請求項6記載の露光方法。 - 請求項1乃至8のうちいずれか一項記載の露光方法を用いて被露光体を露光するステップと、
前記露光された前記被露光体を現像するステップとを有するデバイス製造方法。
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