JP4938130B2 - 印刷回路基板用銅箔及び印刷回路基板用銅張積層板 - Google Patents
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Description
半導体パッケージ基板は、通常次のような工程により作製される。まず、合成樹脂等の基材に、銅箔を高温高圧下で積層接着する。これを銅張積層板あるいは単に積層板と呼ぶ。次に、積層板上に目的とする導電性の回路を形成するために、銅箔上に耐エッチング性樹脂等の材料により、回路と同等のパターンを印刷する。そして、露出している銅箔の不要部をエッチング処理により除去する。
エッチング後、印刷部を除去して、基板上に導電性の回路を形成する。形成された導電性の回路には、最終的に所定の素子を半田付けして、エレクトロニクスデバイス用の種々の印刷回路基板を形成する。最終的には、レジスト又はビルドアップ樹脂基板と接合する。
一般に、印刷回路基板用銅箔に対する品質要求は、樹脂基材と接着される接着面(所謂、粗化面)と、非接着面(所謂光沢面)とで異なり、両者を同時に満足させることが必要である。
他方、粗化面に対しては、主として、(1)保存時における酸化変色のないこと、(2)基材との剥離強度が、高温加熱、湿式処理、半田付け、薬品処理等の後でも十分なこと、(3)基材との積層、エッチング後に生じる、所謂積層汚点のないこと等が挙げられる。
また、近年回路印刷パターンの微細化に伴い、銅箔表面の低粗度化が要求されてきている。
こうした要求に答えるべく、印刷回路基板用銅箔に対して多くの表面処理方法が提唱されてきた。
すなわち、まず銅と樹脂基材との接着力(ピール強度)を高めるため、一般には銅及び酸化銅からなる微粒子を銅箔表面に付与した後(粗化処理)、耐熱特性を持たせるため黄銅又は亜鉛等の耐熱層(障壁層)を形成する。
そして、最後に運搬中又は保管中の表面酸化等を防止するため、浸漬又は電解によるクロメート処理あるいは電解亜鉛クロメート処理等の防錆処理を施すことにより製品とする。
これらの中で、Cu−Zn合金(黄銅)から成る耐熱層を形成した銅箔は、エポキシ樹脂等から成る印刷回路基板に使用した場合に樹脂層のしみがないこと、また印刷回路基板を高温で保持した後の銅箔のピール強度の劣化が少ない等の優れた特性を有しているため、工業的に広く使用されている。この黄銅から成る耐熱層を形成する方法については、特許文献2に詳述されている。
ところが、黄銅から成る耐熱層を形成した銅箔を用いた印刷回路基板の銅箔回路光沢面を、上記の硫酸・過酸化水素混合液によりソフトエッチングを行うと、先に形成した回路パターン両側端部(エッジ部)の浸食(回路浸食)現象が起り、樹脂基材との剥離強度が劣化するという問題がある。
以上から、本願発明は、
1)銅箔の粗化面に、ニッケルと亜鉛又はこれらの化合物を含む層(以下、「ニッケル亜鉛層」という。)、及び同層の上に、クロメート皮膜層を備える印刷回路基板用銅箔であって、前記ニッケル亜鉛層の、銅箔の単位面積当りの亜鉛付着重量が、180μg/dm2以上、3500μg/dm2以下であり、めっき皮膜中のニッケル重量比率{ニッケル付着重量/(ニッケル付着重量+亜鉛付着重量)}が0.38以上、0.7以下であることを特徴とする印刷回路基板用銅箔。
2)前記{ニッケル付着重量/(ニッケル付着重量+亜鉛付着重量)}が0.4以上、0.55以下であることを特徴とする1)記載の印刷回路基板用銅箔
3)前記クロメート皮膜層の、銅箔の単位面積あたりのクロム付着重量が、30μg/dm2以上、100μg/dm2以下であることを特徴とする1)または2)のいずれか一項に記載の印刷回路基板用銅箔、
4)前記ニッケル亜鉛層に含まれる全亜鉛のうち、亜鉛酸化物又は亜鉛水酸化物として存在する亜鉛が45〜90%含まれることを特徴とする1)〜3)のいずれか一項に記載の印刷回路基板用銅箔。
5)前記ニッケル亜鉛層に含まれる全ニッケルのうち、ニッケル酸化物又はニッケル水酸化物として存在するニッケルが60〜80%含まれることを特徴とする1)〜3)のいずれか一項に記載の印刷回路基板用銅箔、
6)前記クロメート層の上に、さらにシランカップリング剤層を備える1)〜5)のいずれか一項に記載の印刷回路基板用銅箔、
7)銅箔が電解銅箔であり、粗化面が電解めっき時の粗面若しくはこの粗面にさらに粗化処理を施した面又は電解銅箔の光沢面に粗化処理を施した面であることを特徴とする1)〜6)のいずれか一項に記載の印刷回路基板用銅箔、
8)銅箔が圧延銅箔であり、粗化面が当該圧延銅箔に粗化処理を施した面であることを特徴とする1)〜6)のいずれか一項に記載の印刷回路基板用銅箔
9)上記1)〜8)のいずれか一項に記載の印刷回路基板用銅箔と印刷回路基板用樹脂基材とを張り合わせて作製した印刷回路基板用銅張積層板、を提供する。
これによって、銅箔の耐熱ピール強度を飛躍的に向上させることができる。また、これによって薬品による回路浸食現象を効果的に防止でき、特に耐硫酸・過酸化水素性を向上することができるという新しい特性が付与されたものであり、印刷回路基板用銅箔(特に、半導体パッケージ基板用銅箔)及び銅箔と樹脂基材を張り合わせて作製した銅張積層板(特に、半導体パッケージ基板用銅張積層板)として極めて有効である。当然のことであるが、一般的な印刷回路基板用銅箔としても使用できることは言うまでもない。
本願発明の銅箔は、電解銅箔及び圧延銅箔のいずれも使用できるが、電解銅箔の場合は、電解めっき時の粗面に適用することができる。また、さらにこの粗面にさらに粗化処理を施しても良い。例えば、樹脂基材と積層後の銅箔の剥離(ピール)強度を向上させることを目的として、脱脂後の銅箔の表面に、例えば銅の「ふしこぶ」状の電着を行う粗化処理が施した電解銅箔であり、これをそのまま使用することができる。
一般に、ドラム型の電解銅箔の製造装置においては、片側(ドラム側)が光沢面で、反対側が粗面となる。圧延銅箔においては、いずれも光沢のある圧延面となる。本発明においては、電解銅箔に粗面と光沢面があるが、粗面の場合は、そのまま使用することができる。電解銅箔の光沢面については、さらにピール強度を高めるために粗化処理を施し粗化面とする。
圧延銅箔においても同様に粗化処理を施す。粗化処理は、いずれの場合にも、すでに公知の粗化処理を用いることができ、特に制限はない。
本発明の粗化面は、電解銅箔の電解めっき時の粗面、および粗化処理を施した電解銅箔または圧延銅箔の粗化処理面を意味するものであり、いずれの銅箔にも適用できる。
ニッケル亜鉛層は、均一なニッケル-亜鉛合金ではなく、ニッケルおよび亜鉛の一部が、酸化物又は水酸化物になったものを含み、例えば、表面酸化膜又は水酸化膜を含むニッケル亜鉛層を包含するものである。
{ニッケル付着重量/(ニッケル付着重量+亜鉛付着重量)}を0.38以上、0.7以下とすることが必要である。0.38未満であると、回路浸食現象を効果的に防止出来ない。また、0.7以上となると耐熱ピール強度が低下する。
(めっき液組成)
Ni:10g/L〜30g/L、 Zn:1g/L〜15g/L、 硫酸(H2SO4):1g/L〜12g/L、を基本浴とする。
必要に応じて、塩化物イオン:1g/L〜5g/Lを添加する。
(電流密度) 3〜40A/dm2
いずれの場合においても、クロム付着重量が30μg/dm2未満では、耐酸性と耐熱性を増す効果が少ないので、クロム付着重量は30μg/dm2以上とする。また、クロム付着重量が100μg/dm2を超えるとクロメート処理の効果が飽和してこれ以上クロム付着重量が増えなくなる。これらを総合すると、クロメート処理層中単位面積あたりのクロム付着重量は30〜100μg/dm2であることが望ましいと言える。
一般に、浸漬クロメート処理の場合は、単位面積あたりのクロム付着重量30〜40μg/dm2を達成できる。また電解クロメート処理の場合は、単位面積あたりのクロム付着重量30〜100μg/dm2を達成できる。
この防錆処理は、銅箔の耐酸性と耐熱性に影響を与える因子の一つであり、クロメート処理により、銅箔の耐薬品性と耐熱性はより向上するので有効である。
CrO3またはK2Cr2O7:1〜12g/L、Zn(OH)2またはZnSO4・7H2O :0〜10g/L、Na2SO4 :0〜20g/L、pH 2.5〜12.5、温 度:20〜60°C、時間:0.5〜20秒
(b) 電解クロメート処理の一例
CrO3またはK2Cr2O7:1〜12g/L、Zn(OH)2またはZnSO4・7H2O :0〜10g/L、Na2SO4 :0〜20g/L、pH 2.5〜12.5、温 度:20〜60°C、電流密度0.5〜5A/dm2、時間:0.5〜20秒
さらに、本願発明は、上記1)〜8)のいずれか一項に記載の印刷回路基板用銅箔、および9)に記載の印刷回路基板用銅箔と樹脂基材を張り合わせて作製した銅張積層板を提供する。
シランカップリング剤処理の条件は、次の通りである。
エポキシシランを0.2体積%とTEOS(テトラエトキシシラン)を0.4体積%とを含む水溶液をpH5に調整して塗布し、その後乾燥
[試験方法]
銅箔と積層する樹脂基材には以下の2種類のものを使用した。
FR-4樹脂(ガラスクロス基材エポキシ樹脂)
BT樹脂(トリアジン−ビスマレイミド系樹脂、商標名:三菱ガス化学製GHPL-802)
なお、BT樹脂は、耐熱性が高く、半導体パッケージ用印刷回路基板に使用されている材料である。
銅箔のニッケル亜鉛層を形成した面とFR-4樹脂基材を積層して作製した積層板上の銅箔をエッチングして、積層板上に10mm幅の銅箔回路を形成する。この回路を剥離して常態ピール強度を測定する。次に、前記の10mm幅の銅箔回路を形成した積層板を大気中にて180°Cで2日間加熱した後のピール強度(以下耐熱ピール強度という)とその常態ピール強度からの相対劣化率(ロス%)を測定した。FR-4基板はBT基板と比較すると耐熱性が劣る。そのため、FR-4基板を用いた時に良好な耐熱ピール強度と低い劣化率を有すれば、BT基板を用いた時も十分な耐熱ピール強度と劣化率を有する。
銅箔のニッケル亜鉛層を形成した面とBT樹脂基材を積層して作製した積層板上の銅箔をエッチングして、積層板上に0.4mm幅の銅箔回路を形成する。この回路を剥離して常態ピール強度を測定する。次に、前記の0.4mm幅の銅箔回路を形成した積層板を用いて耐硫酸・過酸化水素性試験を行った。
この試験では積層板上の銅箔回路を、硫酸100〜400g/L、過酸化水素10〜60g/Lを含むエッチング液に浸漬して銅箔回路厚みを2μmエッチングした後、ピール強度とその常態ピール強度からの相対劣化率(ロス%)を測定する。
この場合のピール強度の測定は、過酷な環境下にあると言え、FR-4基板を用いた時に、一般に行われている耐薬品性の評価よりも過酷な条件である。したがって、BT基板を用いた時に良好な耐硫酸・過酸化水素性を有すれば、FR-4基板でも十分な耐薬品性(特に耐硫酸・過酸化水素性)を有する。
銅箔にニッケル亜鉛層を形成した面が表面に露出するようにFR-4樹脂基材と積層し、積層板を作製する。次に、積層板表面に露出したニッケル亜鉛層とその母層の銅を塩酸または硝酸で溶解し、溶解液中のニッケルおよび亜鉛濃度の化学分析を行うことで単位面積あたりのニッケルおよび亜鉛の付着重量を測定した。
XPS(X線光電子分光法)を用いて、ニッケル亜鉛層中に含まれるニッケル及び亜鉛の、価数0の金属状態と価数2の酸化状態の存在比を測定した。測定はアルゴンイオンスパッタにより銅箔厚みをエッチングしながら、最表面からニッケル亜鉛層の下地である銅層に至るまで断続的に行い、各深さにおいて得られた酸化状態のニッケルおよび亜鉛の存在比を最表面からの深さで積分することにより、酸化ニッケルおよび酸化亜鉛(いずれも水酸化物を含む)のニッケル亜鉛層全体での平均的な存在比を計算した。
測定に使用した機器はKRATOS社製AXIS-HSで、アルゴンイオンスパッタの出力は52.5Wである。この条件において、銅箔厚みは1分間で約20Åエッチングされる。スパッタ時間は15〜100分間の条件で行った。
なお、本発明との対比のために、比較例を掲載した。
厚さ12μmの電解銅箔を用い、この銅箔の粗化面(表面平均粗さ:3.8μm)に、下記に示す条件で、ニッケル亜鉛層を電気めっきによって形成した。単位面積あたりのニッケルおよび亜鉛のめっき付着重量とめっき皮膜中のニッケル重量比率を、表1に示す。
(電気めっき液組成)Ni:13g/L, Zn: 5g/L, 硫酸(H2SO4): 8.5g/L
(電流密度)20 A/dm2
(めっき時間)0.5〜10秒
さらに、このニッケル亜鉛層上に、クロメート処理を行い、防錆層を形成させた。以下に、処理条件を示す。
CrO3:4.0g/L、ZnSO4・7H2O :2.0g/L、Na2SO4 :15g/L、pH :4.2、温 度:45℃、電流密度3.0A/dm2、時間:1.5秒
FR-4基板での常態ピール強度は1.53〜1.68kN/m、耐熱ピール強度は1.45〜1.65kN/m、劣化率は5%以下の範囲であり、いずれも良好な常態ピール強度と耐熱ピール強度を示した。一方、BT基板での常態ピール強度は、1.04〜1.24kN/mの範囲となった。硫酸・過酸化水素混合液での処理後のピール強度は0.91〜1.09kN/m、劣化率は10〜13%であり、良好な性質を示した。
一方、比較例2においては、亜鉛の付着量は3909μg/dm2となり、本願発明から逸脱している。この比較例2では、BT基板(過酷な環境下)での常態ピール強度は1.10kN/m、硫酸・過酸化水素混合液での処理後のピール強度は0.93kN/m、劣化率は16%となり、必要十分な特性を有している。しかし、Niの付着重量が多くなるため、銅箔回路を形成する際に、Niがエッチングされずに残って回路不良の原因となる。このため、印刷回路基板用銅箔の表面処理としては不適切であり、比較例2は本願発明から逸脱する。
特に、樹脂基材と銅箔を積層し、硫酸・過酸化水素系エッチング液を使用して回路をソフトエッチングする場合において、回路浸食現象を効果的に防止出来る銅箔の表面処理技術を得ることができる。
下記に示す条件で、電流密度を変化させてニッケル亜鉛層を形成した。単位面積あたりのニッケルおよび亜鉛のめっき付着重量とめっき皮膜中のニッケル重量比率を、表2に示す。
(電流密度)3〜40 A/dm2
(めっき時間) 0.5〜10秒
上記電流密度以外の製造条件は、実施例1〜7と同様の条件とした。基板の種類及びピール強度の測定も実施例1〜7と同様の条件とした。この結果を、同様に、表2に示す。
電流密度が3A/dm2を下回ると、ニッケル亜鉛層が生成しないため、本願のニッケル亜鉛層のめっき条件としては不適切である。また、電流密度が40A/dm2を上回ると、陰極(銅箔)では水素の発生が多くなって電流効率が極端に低下するため、ニッケル亜鉛層の処理条件としては適さない。したがって、本願のニッケル亜鉛層を作成する際の電流密度としては3〜40A/dm2とするのが好ましい。
一方、BT基板での常態ピール強度は、0.92〜1.04kN/m、硫酸・過酸化水素混合液での処理後のピール強度は0.88〜0.98kN/m、劣化率は3〜11%であり、良好な性質を示した。
以上から、本実施例8〜13では、FR-4基板では良好なピール強度と耐熱ピール強度を有し、BT基板においては良好な耐硫酸・過酸化水素性を示した。したがって、本実施例では、高温加熱後の剥離強度の劣化が少なく、回路浸食現象を大きく改善できる有効な特性を保有していることが理解できる。
次に、めっき皮膜中のNi重量比率の範囲について説明する。一例として、実施例1、7、14および比較例3、4を表3に示す。また、単位面積あたりのニッケルおよび亜鉛のめっき付着重量とめっき皮膜中のニッケル重量比率を、表3に示す。
上記以外の製造条件は、実施例1〜13と同様の条件とした。基板の種類及びピール強度の測定も実施例1〜13と同様の条件とした。この結果を、同様に、表3に示す。めっき皮膜中のNi重量比率は0.38〜0.54となった。
FR-4基板での常態ピール強度は、1.54〜1.64kN/m、耐熱ピール強度は1.42〜1.65kN/m、劣化率8%以下の範囲であり、いずれも良好な常態ピール強度と耐熱ピール強度を示した。
しかし、比較例3においては、Ni重量比率が0.37となり、本願発明から逸脱している。この比較例3では、FR-4基板での常態ピール強度が1.39kN/m、耐熱ピール強度は0.97kN/m、劣化率は30%となり、耐熱ピール強度が大きく低下した。
一方、比較例4においては、Ni重量比率が0.76となり、本願発明から逸脱している。この比較例4では、FR-4基板での常態ピール強度が1.50kN/m、耐熱ピール強度は1.02kN/m、劣化率は32%となり、比較例3と同様に耐熱ピール強度が大きく低下した。
したがって、めっき皮膜中のNi重量比率の範囲としては0.38〜0.70、より好ましくは0.40〜0.54が望ましい。
下記に示す条件でめっき浴組成を変化させ、ニッケル亜鉛層を形成した。単位面積あたりのニッケルおよび亜鉛のめっき付着重量とめっき皮膜中のニッケル重量比率を、表4に示す。ここで、実施例1〜14と異なる点はめっき浴の成分組成を変化させたことにある。
実施例15〜19のめっき浴の成分組成を以下に示す。
(実施例15のめっき液組成)Ni:10g/L, Zn: 1g/L, 硫酸(H2SO4): 8.5g/L
(実施例16のめっき液組成)Ni:20g/L, Zn: 8g/L, 硫酸(H2SO4): 1g/L
(実施例17のめっき液組成)Ni:25g/L, Zn: 12g/L, 硫酸(H2SO4): 12g/L
(実施例18のめっき液組成)Ni:30g/L, Zn: 15g/L, 硫酸(H2SO4): 8.5g/L
(実施例19のめっき液組成)Ni:10g/L, Zn: 1g/L, 硫酸(H2SO4): 6g/L, 塩化物イオン:5g/L
(電流密度)20〜25 A/dm2
(めっき時間)1〜8秒
上記以外の製造条件は、実施例1〜7と同様の条件とした。基板の種類及びピール強度の測定も実施例1〜7と同様の条件とした。この結果を、同様に、表4に示す。
FR-4基板での常態ピール強度は、1.52〜1.62kN/m、耐熱ピール強度は1.47〜1.59kN/m、劣化率7%以下の範囲であり、いずれも良好なピール強度と耐熱ピール強度を示した。
以上から、本実施例15〜19では、FR-4基板では良好なピール強度と耐熱ピール強度を有し、BT基板においては良好な耐硫酸過水性を示した。したがって、本実施例では、高温加熱後の剥離強度の劣化が少なく、回路浸食現象を大きく改善できる有効な特性を保有していることが理解できる。
ここでは、クロメート処理の方法を変えたときの実施例について説明する。
本実施例については、実施例1−7と同様な示す条件で、ニッケル亜鉛層を形成した。電流密度とめっき時間は比較のために同一の条件(電流密度20A/dm2、めっき時間1.8秒)としてある。単位面積あたりのニッケルおよび亜鉛のめっき付着重量とめっき皮膜中のニッケル及び亜鉛の重量比率を、同様に、表5に示す。
(実施例20のクロメート処理)これは、クロメート浴中に亜鉛を含まない電解クロメート処理である。
CrO3:6.0g/L、pH 10.0、温 度:25C、電流密度2A/dm2、時間:2秒
(実施例21のクロメート処理)これは、電解亜鉛クロメート処理である。
CrO3:1.5g/L、ZnSO4・7H2O :1.0g/L、Na2SO4 :10g/L、pH 4.5、温 度:50°C、電流密度1.5A/dm2、時間:2秒
(実施例22のクロメート処理)これは、浸漬亜鉛クロメート処理である。
CrO3:3.5g/L、ZnSO4・7H2O :2.4g/L、Na2SO4 :15g/L、pH :4.2、温 度:40°C、時間:10秒
基板の種類及びピール強度の測定は、実施例1〜7と同様の条件とした。この結果を、同様に表5に示す。
以上から、本実施例20〜22では、FR-4基板では良好なピール強度と耐熱性を有し、BT基板では良好な耐硫酸・過酸化水素性を示した。したがって、本実施例では、高温加熱後の剥離強度の劣化が少なく、基板の選択とエッチング液の選択により、回路浸食現象を大きく改善できる有効な特性を保有していることが理解できる。
以上の実施例及び比較例から、本願発明は、硫酸・過酸化水素液による粗化面の侵食をほとんど生じないこと、高温加熱後の剥離強度の劣化が少ないこと等、従来の黄銅から成る耐熱処理層の特性を低下させることなく、回路浸食現象を大きく改善できることが分かる。
一般的な合金めっき皮膜においては、皮膜を構成する金属元素は合金化しており、最表層に存在するごく一部の金属元素のみが大気と接触して酸化状態となっている。
しかし、XPSの測定結果によれば、本願のニッケル亜鉛層はニッケル亜鉛合金そのものではなく、皮膜中のニッケルおよび亜鉛は0価の金属状態と2価の酸化状態(酸化物又は水酸化物)が最表層のみならず銅の下地に至るまで共存した構造を持っている。例えば実施例14においては、皮膜中の全ニッケルのうち酸化物又は水酸化物の化学形をとるものが55%、皮膜中の全亜鉛のうち2価の酸化状態となっているものが72%である。
本願の表面処理によって得られるニッケル亜鉛層は、被膜中の全亜鉛のうち酸化物又は水酸化物の化学形をとるものの比率の範囲は45〜90%、同じく皮膜中の全ニッケルのうち酸化物又は水酸化物の化学形をとるものの比率の範囲は60〜80%となっていることを確認した。実施例に示したとおり、このような構成において、所望の特性と効果を発揮することを確認した。本願発明は、これらの条件を全て包含するものである。
本願発明の印刷回路基板用銅箔においては、特にニッケル亜鉛層の最適な条件を選択することを発明の中心的課題とするものである。これによって、銅箔の耐熱ピール強度を飛躍的に向上させると共に、回路浸食現象を効果的に防止し、耐硫酸・過酸化水素性を恒常的に安定して効力を発揮させるものである。
したがって、電解銅箔及び圧延銅箔の選択又は粗化面の選択は、目的に応じて任意に選択できることは、容易に理解されるべきことである。
Claims (9)
- 銅箔の粗化面に、ニッケルと亜鉛又はこれらの化合物を含む層(以下、「ニッケル亜鉛層」という。)、及び同層の上に、クロメート皮膜層を備える印刷回路基板用銅箔であって、前記ニッケル亜鉛層の、単位面積当りの亜鉛付着重量が、180μg/dm2以上、3500μg/dm2以下であり、ニッケル亜鉛層中のニッケル重量比率{ニッケル付着重量/(ニッケル付着重量+亜鉛付着重量)}が0.38以上、0.7以下であることを特徴とする印刷回路基板用銅箔。
- 前記{ニッケル付着重量/(ニッケル付着重量+亜鉛付着重量)}が0.4以上、0.55以下であることを特徴とする請求項1記載の印刷回路基板用銅箔。
- 前記クロメート皮膜層の、銅箔の単位面積あたりのクロム付着重量が、30μg/dm2以上、100μg/dm2以下であることを特徴とする請求項1〜請求項2のいずれか一項に記載の印刷回路基板用銅箔。
- 前記ニッケル亜鉛層に含まれる全亜鉛のうち、亜鉛酸化物又は亜鉛水酸化物として存在する亜鉛が45〜90%含まれることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の印刷回路基板用銅箔。
- 前記ニッケル亜鉛層に含まれる全ニッケルのうち、ニッケル酸化物又はニッケル水酸化物として存在するニッケルが60〜80%含まれることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の印刷回路基板用銅箔。
- 前記クロメート層の上に、さらにシランカップリング剤層を備えることを特徴とする請求項1〜請求項5のいずれか一項に記載の印刷回路基板用銅箔。
- 銅箔が電解銅箔であり、粗化面が電解めっき時の粗面若しくはこの粗面にさらに粗化処理を施した面又は電解銅箔の光沢面に粗化処理を施した面であることを特徴とする請求項1〜請求項6のいずれか一項に記載の印刷回路基板用銅箔。
- 銅箔が圧延銅箔であり、粗化面が当該圧延銅箔に粗化処理を施した面であることを特徴とする請求項1〜請求項6のいずれか一項に記載の印刷回路基板用銅箔。
- 請求項1〜請求項8のいずれか一項に記載の印刷回路基板用銅箔と印刷回路基板用樹脂とを、張り合わせて作製した印刷回路基板用銅張積層板。
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