JP4829937B2 - 半導体製造装置のパーツに付着した堆積物またはパーティクルを除去する洗浄装置及び洗浄方法 - Google Patents
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Claims (11)
- 半導体製造装置の処理チャンバ内のパーツに付着した堆積物またはパーティクルを除去する洗浄装置であって、
純水を貯水可能とされ、純水との接触面が樹脂によって構成されている、純水から純水スチームを生成する純水スチーム生成容器と、
純水スチームを前記処理チャンバ内の被洗浄部位へ供給する供給口と、
純水スチームとの接触面が樹脂によって構成されている、前記純水スチーム生成容器と前記供給口とを接続する、可撓性を有する部材から構成された供給ラインと、
前記供給口の周囲に設けられ、洗浄に使用された使用済みスチームを前記処理チャンバ内の被洗浄部位から回収する回収口と、
使用済みスチームを凝縮させて回収する回収容器と、
前記回収口と前記回収容器とを接続する、可撓性を有する部材から構成された回収ラインと
を備えることを特徴とする半導体製造装置のパーツに付着した堆積物またはパーティクルを除去する洗浄装置。 - 請求項1記載の半導体製造装置のパーツに付着した堆積物またはパーティクルを除去する洗浄装置であって、
前記回収口は、筒状部材の開口端の側壁部の一部が逆V字状に突出した凸形状とされていることを特徴とする半導体製造装置のパーツに付着した堆積物またはパーティクルを除去する洗浄装置。 - 請求項1記載の半導体製造装置のパーツに付着した堆積物またはパーティクルを除去する洗浄装置であって、
前記回収口は、筒状部材の開口端の対向する側壁部の一部がV字状に凹陥された凹形状とされていることを特徴とする半導体製造装置のパーツに付着した堆積物またはパーティクルを除去する洗浄装置。 - 請求項1記載の半導体製造装置のパーツに付着した堆積物またはパーティクルを除去する洗浄装置であって、
前記回収口は、少なくとも開口部の周囲が弾性部材によって形成されていることを特徴とする半導体製造装置のパーツに付着した堆積物またはパーティクルを除去する洗浄装置。 - 請求項1〜4いずれか1項記載の半導体製造装置のパーツに付着した堆積物またはパーティクルを除去する洗浄装置であって、
前記供給ライン及び前記回収ラインは、前記供給口側及び前記回収口側の一部において二重配管構造であることを特徴とする半導体製造装置のパーツに付着した堆積物またはパーティクルを除去する洗浄装置。 - 請求項1〜5いずれか1項記載の半導体製造装置のパーツに付着した堆積物またはパーティクルを除去する洗浄装置であって、
前記供給ラインは、純水スチームとの非接触面が導電性材料とされていることを特徴とする半導体製造装置のパーツに付着した堆積物またはパーティクルを除去する洗浄装置。 - 請求項1〜6いずれか1項記載の半導体製造装置のパーツに付着した堆積物またはパーティクルを除去する洗浄装置であって、
前記純水スチーム生成容器は、下半部領域に純水スチームを発生させるためのヒータが配置されていることを特徴とする半導体製造装置のパーツに付着した堆積物またはパーティクルを除去する洗浄装置。 - 請求項1〜7いずれか1項記載の半導体製造装置のパーツに付着した堆積物またはパーティクルを除去する洗浄装置であって、
前記回収容器は、前記使用済みスチームを回収するための吸引原となるバキュームクリーナと接続されていることを特徴とする半導体製造装置のパーツに付着した堆積物またはパーティクルを除去する洗浄装置。 - 請求項8記載の半導体製造装置のパーツに付着した堆積物またはパーティクルを除去する洗浄装置であって、
前記バキュームクリーナは、フィルタが設けられていることを特徴とする半導体製造装置のパーツに付着した堆積物またはパーティクルを除去する洗浄装置。 - 請求項8又は9記載の半導体製造装置のパーツに付着した堆積物またはパーティクルを除去する洗浄装置であって、
前記バキュームクリーナは、クリーンルームの排気経路に接続可能となっていることを特徴とする半導体製造装置のパーツに付着した堆積物またはパーティクルを除去する洗浄装置。 - 半導体製造装置の処理チャンバ内のパーツに付着した堆積物またはパーティクルを除去する洗浄方法であって、
純水を貯水可能とされ、純水との接触面が樹脂によって構成されている純水スチーム生成容器で純水から純水スチームを生成する工程と、
純水スチームとの接触面が樹脂によって構成されている供給ラインにより前記純水スチーム生成容器から供給口へ純水スチームを供給する工程と、
前記供給口から純水スチームを前記処理チャンバ内の被洗浄部位へ、可撓性を有する部材から構成された供給ラインによって供給する工程と、
前記供給口の周囲に設けられた回収口により、前記処理チャンバ内の被洗浄部位から洗浄に使用された使用済みスチームを回収する工程と、
可撓性を有する部材から構成された回収ラインにより前記回収口から回収容器へ使用済みスチームを回収する工程と、
前記回収容器で使用済みスチームを凝縮させる工程と
を有することを特徴とする半導体製造装置のパーツに付着した堆積物またはパーティクルを除去する洗浄方法。
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