TW202136590A - 清洗方法及清洗裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明提供清洗方法和清洗裝置，不會對鍍敷液、用於保持基板的部件即基板保持具帶來不良影響，並且能夠除去無法利用純水除去的附著於電接點的污垢。本發明的清洗方法是基板保持具的清洗方法，該基板保持具具有用於為了對基板進行鍍敷而與基板接觸來向基板供電的電接點，其中，該清洗方法具有通過檸檬酸水溶液來清洗安裝於基板保持具的電接點的清洗工序。

Description

清洗方法及清洗裝置
本發明涉及清洗方法和清洗裝置。
為了在基板的表面形成金屬薄膜，而使用鍍敷裝置。例如，在專利文獻1中公開一種基板鍍敷裝置，其具有：基板保持部，其裝卸自如地保持被鍍敷面朝向上方的基板；陰極部，其具備陰極電極和密封材料；移動自如的電極頭，其具備陽極；以及固定噴嘴。該基板保持部構成為在下方的基板交付位置、上方的鍍敷位置以及它們中間的前處理及清洗位置之間升降自如。在基板保持部位於鍍敷位置時，陰極電極與基板的周緣部抵接，陽極配置在與基板對置的位置。而且，該基板鍍敷裝置使基板上表面與鍍敷液接觸來進行鍍敷處理。另外，在基板保持部位於前處理及清洗位置時，固定噴嘴向陰極部供給純水，清洗陰極電極。
專利文獻1：日本特開2005-139558號公報
在使用陰極電極對基板進行鍍敷的情況下，有可能在陰極電極的與基板的接觸面附著污垢。若污垢附著於陰極電極，則污垢成為電阻，陰極電極無法對基板施加希望的電流。其結果為，有形成於基板的鍍敷的厚度變得不均勻的擔心。與此相對，專利文獻1所記載的鍍敷裝置如上所述那樣利用純水清洗陰極電極，由此能夠除去陰極電極的污垢，抑制這樣的問題產生。然而，附著於陰極電極的污垢存在各種物體，有時利用基於純水的清洗無法完全地除去污垢。例如，有可能在陰極電極所接觸的基板堆積有銅的種子層的氧化物、抗蝕劑殘渣物。而且，銅的氧化物、抗蝕劑殘渣物會附著於陰極電極而成為污垢。有無法利用基於純水的清洗充分地除去附著於陰極電極的銅的氧化物和抗蝕劑殘渣物的擔心。
另外，在專利文獻1所記載的鍍敷裝置中，如果取代純水，而使用硫酸、過硫酸水（濃硫酸與過氧化氫水的混合液）、包含臭氧微泡的水溶液等藥劑，則這些藥劑能夠除去無法利用純水除去的銅、銅的氧化物、抗蝕劑等污垢。然而，這些藥劑有時對位於陰極電極的附近的密封材料等用於保持基板的部件帶來不良影響。用於保持基板的部件由聚醚醚酮樹脂（PEEK材料）、氟橡膠（FKM）、不銹鋼等構成。而且，硫酸、過硫酸水具有腐蝕金屬的性質，臭氧微泡具有使樹脂、橡膠劣化的性質。因此，若陰極電極不與用於保持基板的部件分離而由這些藥劑進行清洗，則有上述的藥劑施加到用於保持基板的部件，使用於保持基板的部件破損的擔心。
另外，在利用過硫酸水清洗陰極電極後，萬一過硫酸水殘留於用於保持基板的部件的一部分的情況下，在接著進行的鍍敷處理時，殘留的過硫酸水混入鍍敷液。在該情況下，過硫酸水會破壞鍍敷液的電解質，對鍍敷液帶來不良影響。因此，用於清洗陰極電極的藥液的選定非常重要。
因此，鑒於上述的課題，本發明的目的在於提供一種清洗方法和清洗裝置，不會對鍍敷液、用於保持基板的部件即基板保持具帶來不良影響，並且能夠除去無法利用純水除去的附著於陰極電極（電接點）的污垢。
一個實施方式的清洗方法，是基板保持具的清洗方法，該基板保持具具有用於為了對基板進行鍍敷而與上述基板接觸來向上述基板供電的電接點，其中，該基板保持具的清洗方法具有通過檸檬酸水溶液清洗安裝於上述基板保持具的上述電接點的清洗工序。
一個實施方式的清洗裝置具備：旋轉部件，其用於保持環狀的保持部件，該保持部件為了鍍敷而保持基板並且具有與上述基板接觸的電接點；致動器，其用於通過使上述旋轉部件旋轉，來使上述保持部件在圓周方向上旋轉；以及清洗模組，其用於使用檸檬酸水溶液來清洗通過上述旋轉部件而正在旋轉的上述保持部件。
一個實施方式的清洗裝置，是保持部件的清洗裝置，該保持部件具有電接點且是基板保持具的至少一部分的部件，其中，該清洗裝置具備清洗槽，該清洗槽用於保持檸檬酸水溶液並且供上述保持部件浸漬於上述檸檬酸水溶液。
『概況』 以下，例示本發明的兩個實施方式（第一和第二實施方式）來進行說明。此外，在以下說明的圖式中，對相同或者相當的構成要素標注相同的圖式標記而省略重複的說明。
［第一實施方式］ 以下，一邊參照圖式一邊對第一實施方式的清洗裝置進行說明。首先，對利用清洗裝置100清洗的基板保持具30的結構進行說明。接著，對本實施方式的清洗裝置100的結構進行說明。接着，對清洗裝置100的清洗方法進行說明。
＜基板保持具的結構＞ 圖1是基板保持具30的分解立體圖。如圖1所示，基板保持具30例如具有：氯乙烯製成的矩形平板狀的第一保持部件31、以及相對於該第一保持部件31裝卸自如地構成的環狀的第二保持部件32（相當於保持部件的一例）。該基板保持具30通過利用第一保持部件31和第二保持部件32夾住晶圓等基板Wf，來保持基板Wf（參照圖2）。此外，在本發明中，基板保持具是指用於保持基板Wf的裝置和該裝置的一部分。即，第一保持部件31和第二保持部件32也能夠稱為基板保持具。在基板保持具30的第一保持部件31的大致中央部設置有用於支承基板Wf的支承面33。另外，在第一保持部件31的支承面33的外側，沿著支承面33的周圍，等間隔地設置有複數個具有向內側突出的突出部的倒L字形的夾持器34。
在基板保持具30的第一保持部件31的端部連結有一對手柄35，該一對手柄35成為輸送或者懸掛支承基板保持具30時的支承部。通過將手柄35鉤掛於未圖示的基板處理裝置的各種處理槽的周壁上表面，從而垂直地懸掛支承基板保持具30，在處理槽的內部對基板保持具30所保持的基板Wf進行處理。例如，若在保持鍍敷液的鍍敷槽的周壁上表面懸掛基板保持具30，則基板Wf浸漬於鍍敷液。在該狀態下，對基板Wf的表面進行鍍敷處理。另外，基板處理裝置所具備的輸送裝置能夠把持手柄35來輸送基板保持具30。
另外，在一個手柄35設置有與外部電源電連接的外部接點38。在基板保持具懸掛於鍍敷槽的周壁上表面時，外部接點38與設置於鍍敷槽的、與外部電源電連接的接點接觸，由此與外部電源電連接。該外部接點38經由複數個導線與設置於支承面33的外周的複數個中繼接點60（參照圖2）電連接。
第二保持部件32具備呈環狀且由聚醚醚酮樹脂（PEEK材）構成的密封件保持具36。推壓環37旋轉自如地安裝於第二保持部件32的密封件保持具36，該推壓環37用於將密封件保持具36按壓固定於第一保持部件31。推壓環37在其外周部具有向外側突出的複數個突條部37a。突條部37a的上表面和夾持器34的內側突出部的下表面具有沿著旋轉方向相互向相反方向傾斜的錐面。
在保持基板Wf時，首先，在將第二保持部件32從第一保持部件31取下的狀態下將基板Wf載置於第一保持部件31的支承面33，將第二保持部件32安裝於第一保持部件31。接著，使推壓環37順時針旋轉，而使推壓環37的突條部37a滑入夾持器34的內側突出部的內部（下側）。由此，經由分別設置於推壓環37和夾持器34的錐面，將第一保持部件31和第二保持部件32相互緊固地鎖定，保持基板Wf。在解除基板Wf的保持時，在第一保持部件31和第二保持部件32被鎖定的狀態下，使推壓環37逆時針旋轉。由此，將推壓環37的突條部37a從倒L字形的夾持器34取下，而解除基板Wf的保持。
圖2是保持著基板Wf的狀態下的基板保持具30的厚度方向的切斷面的局部放大剖視圖。像圖示那樣，在第二保持部件32的密封件保持具36的與第一保持部件31對置的面設置有內側密封件39和外側密封件40。內側密封件39和外側密封件40都由氟橡膠構成。內側密封件39構成為，在利用基板保持具30保持基板Wf時，與基板Wf的外周部接觸而將基板Wf表面與密封件保持具36之間密封。外側密封件40構成為，設置在內側密封件39的徑向外側，與第一保持部件31的支承基座43接觸。由此，外側密封件40能夠將密封件保持具36與支承基座43之間密封。內側密封件39和外側密封件40夾持在密封件保持具36與不銹鋼製的固定環41之間而安裝於密封件保持具36，該固定環41經由螺栓等緊固器件而安裝於密封件保持具36。
在第二保持部件32的密封件保持具36的外周部設置有臺階部，推壓環37經由隔離件(spacer)42而旋轉自如地安裝於該臺階部。推壓環37由對酸的耐腐蝕性優異且具有充分的剛性的金屬（例如鈦）構成。隔離件42由摩擦係數低的材料、例如PTFE（聚四氟乙烯）構成，以使推壓環37能夠順利地旋轉。
另外，在第一保持部件31的支承基座43設置有平板形狀的中繼接點60。在圖2中表示一個中繼接點60。複數個中繼接點60沿著支承面33的周圍配置於支承基座43。中繼接點60通過未圖示的導線與圖2所示的外部接點38電連接。中繼接點60的一端側通過螺釘等任意的固定單元固定於支承基座43。另外，在支承基座43形成有臺階部48，以使中繼接點60的另一端側成為自由端。
在第二保持部件32的固定環41的內周面安裝有複數個電接點50，在利用基板保持具30保持基板Wf時，該複數個電接點50與由支承面33支承的基板Wf的外周部接觸而向基板Wf供電。而且，在基板Wf處於鍍敷液中時，電接點50對基板Wf供電，由此進行基板Wf的鍍敷處理。在圖2中示出一個電接點50。這裡，參照圖3。圖3是基板保持具30的第二保持部件32的後視圖。複數個電接點50安裝在固定環41的大致整周。
若再次參照圖2，電接點50具有與基板Wf接觸的複數個第一端部51以及與中繼接點60接觸的複數個第二端部52。電接點50較佳是由不銹鋼等彈簧材料形成，在表面鍍金而構成。第一端部51構成為以約90°的角度折彎，向前側（支承面33的中央側）以片簧狀突出。如圖2所示，第一端部51構成為在利用基板保持具30保持基板Wf時，與基板Wf的外周部彈性接觸。
如圖2所示，電接點50的第二端部52在基板保持具30的厚度方向的切斷面中具有大致C形的剖面。由此，電接點50的第二端部52構成為，在利用第一保持部件31和第二保持部件32保持基板Wf時與中繼接點60彈性接觸。
＜清洗裝置的結構＞ 圖4是表示本發明的清洗裝置100的圖，圖5是表示清洗裝置100的殼體202的部分的概況的概略圖。清洗裝置100是用於對基板保持具30的電接點50進行清洗的裝置。若參照圖5，則清洗裝置100具備旋轉部件102、致動器104、清洗模組200、旋轉軸106、框架108、軸承110、止漏墊片112、以及彈性聯軸器113。另外，清洗模組200具有殼體202。以下，對清洗裝置100的各構成要素進行說明。
殼體202構成為包圍旋轉部件102，具有在內部保持檸檬酸水溶液、水等液體的功能。另外，作為一例，旋轉部件102具有圓盤形狀，位於殼體202的內部。旋轉部件102具有保持環狀的第二保持部件32的功能。另外，旋轉部件102的中心固定在向殼體202的外部延伸的旋轉軸106。而且，旋轉軸106被軸承110支承為能夠旋轉，該軸承110安裝於位於殼體202的外部的框架108。另外，致動器104固定於框架108，經由彈性聯軸器113與旋轉軸106連接。由此，致動器104能夠使旋轉部件102旋轉，能夠使第二保持部件32在圓周方向上旋轉。此外，作為一例，致動器104是防水的無刷馬達。另外，在旋轉軸106與殼體202之間設置有止漏墊片112，抑制殼體202的內部的液體洩漏到外部。
另外，如圖5所示，作為一例，清洗模組200具有噴嘴204。而且，如圖4所示，作為一例，清洗裝置100具備檸檬酸槽220、配管116、配管117以及泵118。檸檬酸槽220具有保持檸檬酸水溶液的功能。在本實施方式中，檸檬酸槽220保持檸檬酸水溶液，該檸檬酸水溶液中的檸檬酸的質量百分比濃度為2％至30％。而且，配管116將檸檬酸槽220和泵118的吸引口連通，配管117將泵118的排出口和噴嘴204連通。由此，泵118能夠將保持在檸檬酸槽220的檸檬酸水溶液壓送到噴嘴204。而且，噴嘴204的噴射口朝向由旋轉部件102保持的第二保持部件32的電接點50（參照圖5）。因此，噴嘴204能夠朝向第二保持部件32的電接點50噴射檸檬酸水溶液，能夠利用檸檬酸水溶液清洗電接點50。
另外，作為一例，清洗裝置100具有：安裝於配管117的調節器122、閥124、以及流量計126。調節器122具有對在配管117中流動的檸檬酸水溶液的壓力進行減壓的功能，流量計126具有對在配管117中流動的檸檬酸水溶液的流量進行測定的功能。而且，閥124具有對在配管117中流動的檸檬酸水溶液的流量進行調整的功能。
另外，作為一例，清洗裝置100具備恒溫器128、配管130、以及閥132。恒溫器128安裝於配管116，具有對在配管116中流動的檸檬酸水溶液進行加熱的功能。另外，配管130將泵118的排出口和檸檬酸槽220連通。而且，閥132具有對在配管130中流動的檸檬酸水溶液的流量進行調整的功能。由此，當在泵118壓送檸檬酸時將閥132打開的情況下，由恒溫器128加熱後的檸檬酸水溶液再次返回到檸檬酸槽220。即，恒溫器128能夠將保持在檸檬酸槽220的檸檬酸水溶液加熱到規定的溫度。特別是，在第一實施方式中，作為一例，恒溫器128將檸檬酸水溶液加熱到35度以上且55度以下。
另外，作為一例，清洗裝置100具備配管134、閥136、以及閥138。配管134將殼體202和檸檬酸槽220與工廠的廢液部900連通。換言之，配管134形成從殼體202到廢液部900的流路和從檸檬酸槽220到廢液部900的流路。另外，閥136安裝於配管134，具有對從殼體202向廢液部900流動的液體的流量進行調整的功能。由此，通過將閥136打開，清洗裝置100能夠將殼體202的內部的不需要的液體廢棄到廢液部900。與此相對，閥138安裝於配管134，具有對從檸檬酸槽220向廢液部900流動的液體的量進行調整的功能。由此，通過將閥138打開，清洗裝置100能夠將檸檬酸槽220的內部的不需要的液體廢棄到廢液部900。
另外，作為一例，檸檬酸槽220具備兩個水位計222、224，該兩個水位計222、224具有對所安裝的位置的液體的有無進行檢測的功能。水位計222被安裝為，能夠對檸檬酸槽220的內部的低位置的液體的有無進行檢測。由此，在水位計222沒有檢測到液面時，控制裝置（省略圖示）使泵118停止，防止泵118的空運轉。與此相對，水位計224被安裝為，能夠檢測檸檬酸槽220的內部的比水位計222高的位置的液體的有無。由此，在水位計224檢測到液面時，控制裝置（省略圖示）將閥138打開，防止檸檬酸水溶液從檸檬酸槽220外溢。
另外，作為一例，清洗裝置100具備排液管140和閥142。排液管140將殼體202和檸檬酸槽220連通，具有將保持在殼體202的檸檬酸水溶液排出到檸檬酸槽220的功能。另外，閥142具有對在排液管140中流動的檸檬酸水溶液的流量進行調整的功能。
另外，作為一例，清洗裝置100具備配管143。配管143與排液管140同樣，將殼體202和檸檬酸槽220連通，具有將保持在殼體202的檸檬酸水溶液排出到檸檬酸槽220的功能。與檸檬酸槽220連通的配管143的口位於排液管140的口的上方，與供旋轉軸106貫通的形成於殼體202的貫通孔相比位於下側。而且，在殼體202的內部的檸檬酸水溶液的液面上升到配管143的口的高度時，殼體202的內部的檸檬酸水溶液通過配管143移動到檸檬酸槽220。因此，配管143防止檸檬酸水溶液從殼體202溢出。
另外，作為一例，清洗裝置100具備液體噴嘴144、配管146、調節器148、閥150、以及流量計152。配管146將用於供給水的液體供給源902和液體噴嘴144連通。由此，從液體供給源902向液體噴嘴144供給水。而且，雖然在圖5中未表示液體噴嘴114，但與圖5所示的噴嘴204同樣，液體噴嘴144的噴射口被設置為朝向由旋轉部件102保持的第二保持部件32的電接點50。因此，液體噴嘴144能夠朝向第二保持部件32的電接點50噴射水，能夠利用水清洗電接點50。另外，調節器148、閥150和流量計152安裝於配管146。調節器148具有對在配管146中流動的水的壓力進行減壓的功能，流量計152具有對在配管146中流動的水的流量進行測定的功能。而且，閥150具有對在配管146中流動的水的流量進行調整的功能。
另外，作為一例，清洗裝置100具備空氣噴嘴154、配管156、過濾器158、調節器160、閥162、以及流量計164。配管156將用於供給氣體的氣體供給源904和空氣噴嘴154連通。由此，從氣體供給源904向空氣噴嘴154供給氣體。而且，雖然在圖5中未表示空氣噴嘴154，但與圖5所示的噴嘴204同樣，空氣噴嘴154的噴射口被設置為朝向由旋轉部件102保持的第二保持部件32的電接點50。因此，空氣噴嘴154能夠朝向第二保持部件32的電接點50噴射氣體，能夠將電接點50乾燥。另外，過濾器158、調節器160、閥162、以及流量計164安裝於配管156。過濾器158具有從在配管156中流動的氣體過濾顆粒的功能。調節器160具有對在配管156中流動的水的壓力進行減壓的功能。流量計164具有對在配管156中流動的氣體的流量進行測定的功能。而且，閥162具有對在配管156中流動的氣體的流量進行調整的功能。
另外，作為一例，清洗裝置100具備暖風裝置166。暖風裝置166安裝於殼體202。暖風裝置166具有吹送暖風的功能，從殼體202的開口203向殼體202的內部吹送暖風。這裡，構成暖風裝置166和殼體202，以使由旋轉部件102保持的第二保持部件32位於暖風的送風目的地。因此，暖風裝置166能夠朝向第二保持部件32吹送暖風。
＜清洗方法＞ 接著，一邊參照圖1和圖5，一邊對清洗裝置100中的清洗時的動作的一例進行說明。在初始狀態下，閥124、閥132、閥136、閥138、閥142、閥150、閥162被關閉，致動器104停止。另外，殼體202不保持檸檬酸水溶液、水等液體。而且，第二保持部件32安裝於第一保持部件31。
首先，如圖1所示，將第一保持部件31與第二保持部件32分離（相當於分離工序的一例）。接著，將第二保持部件32保持於旋轉部件102（參照圖5）。在本實施方式中，從第二保持部件32分離的第一保持部件31未安裝於清洗裝置100。即，第二保持部件32收納在與第一保持部件31隔離的清洗裝置100的內部。
接著，打開閥132，啟動泵118和恒溫器128。由此，檸檬酸槽220的內部的檸檬酸水溶液被加熱到35度以上且55度以下。
接著，啟動致動器104。由此，具有電接點50的環狀的第二保持部件32在圓周方向上旋轉（相當於旋轉工序的一例）。此時，作為一例，第二保持部件32以1~10rpm旋轉。
接著，打開閥150。由此，液體噴嘴144朝向電接點50以2L/min的流量噴射水。其結果為，包含電接點50的第二保持部件32由水清洗（相當於第一水洗工序的一例）。此外，進行10分鐘以上的基於液體噴嘴144的水的噴射。此時，液體噴嘴144噴射的水積存於殼體202（參照圖5）。其結果為，電接點50的一部分浸漬於保持在殼體202的水，包含電接點50的第二保持部件32也由保持在殼體202的水清洗（相當於第一水洗工序的一例）。接著，關閉閥150，並且打開閥136。由此，液體噴嘴144的噴射停止，排出保持在殼體202的水。
接著，關閉閥136，並且打開閥124。由此，噴嘴204朝向電接點50以0.4L/min的流量噴射檸檬酸水溶液。而且，電接點50由檸檬酸水溶液清洗（相當於清洗工序的一例）。此外，進行60分鐘以上的基於噴嘴204的檸檬酸水溶液的噴射。另外，此時，液體噴嘴144噴射的檸檬酸水溶液積存於殼體202。其結果為，電接點50的一部分浸漬於保持在殼體202的檸檬酸水溶液，電接點50也由保持在殼體202的檸檬酸水溶液清洗（相當於清洗工序的一例）。此時，電接點50與第二保持部件32一同旋轉。因此，與電接點50接觸的檸檬酸水溶液對流，與檸檬酸水溶液不對流的情況相比，除去附著於電接點50的較多的污垢。
接著，關閉閥124，並且打開閥142。而且，保持在殼體202的檸檬酸水溶液排出到檸檬酸槽220。由此，清洗所使用的檸檬酸水溶液能夠從殼體202向檸檬酸槽220移動，清洗裝置100能夠再次利用檸檬酸水溶液。
接著，關閉閥142，並且打開閥150。由此，液體噴嘴144朝向電接點50以2L/min的流量噴射水。其結果為，包含電接點50的第二保持部件32由水清洗（相當於第二水洗工序的一例）。此外，進行10分鐘以上的基於液體噴嘴144的水的噴射。另外，此時，液體噴嘴144噴射的水積存於殼體202。其結果為，包含電接點50的第二保持部件32的一部分浸漬於保持在殼體202的水，第二保持部件32也由保持在殼體202的水清洗（相當於第二水洗工序的一例）。由此，附著於第二保持部件32的檸檬酸水溶液由水沖洗。接著，關閉閥150，並且打開閥136。由此，排出保持在殼體202的水。
接著，打開閥162。由此，空氣噴嘴154朝向第二保持部件32以2L/min的流量噴射氣體。此外，進行10分鐘以上的基於空氣噴嘴154的氣體的噴射。由此，附著於包含電接點50的第二保持部件32的水被吹飛，第二保持部件32乾燥（相當於乾燥工序的一例）。
接著，關閉閥162，並且暖風裝置166朝向第二保持部件32吹送45度以上的暖風。此外，進行60分鐘以上的基於暖風裝置166的暖風的送風。由此，在通過基於空氣噴嘴154的氣體的噴射無法乾燥的附著於第二保持部件32的水蒸發而乾燥（相當於乾燥工序的一例）。
此外，基於空氣噴嘴154的乾燥工序與基於暖風裝置166的乾燥工序可以同時進行，基於暖風裝置166的乾燥工序也可以在基於空氣噴嘴154的乾燥工序之前進行。
接著，停止致動器104，停止第二保持部件32在圓周方向上的旋轉。然後，清洗裝置100的動作結束。
使用檸檬酸水溶液的清洗能夠除去無法利用水的清洗充分地除去的附著於電接點50的銅、銅的氧化物、抗蝕劑等污垢。因此，清洗裝置100能夠利用檸檬酸水溶液除去無法利用純水除去的電接點50的污垢。另外，檸檬酸水溶液不會使聚醚醚酮樹脂、氟橡膠、不銹鋼等構成基板保持具30的材料腐蝕、劣化。因此，清洗裝置100能夠不從基板保持具30的第二保持部件32分離電接點50來清洗電接點50，並且不會對第二保持部件32帶來不良影響。並且，檸檬酸水溶液不會破壞鍍敷液的電解質，不會對鍍敷液帶來不良影響。因此，即使萬一檸檬酸清洗後的殘留於電接點50的檸檬酸混入鍍敷液，由清洗裝置100清洗後的電接點50也不會對檸檬酸帶來不良影響。
此外，檸檬酸水溶液的質量百分比濃度較佳為2％至30％，檸檬酸的溫度較佳為20度~45度。
另外，清洗裝置100在利用檸檬酸水溶液清洗電接點50之前，利用水清洗第二保持部件32。即，在利用水的清洗粗略地除去了污垢的第二保持部件32上所安裝的電接點50由檸檬酸水溶液清洗。因此，清洗所使用的檸檬酸水溶液不容易污染。
另外，若檸檬酸水溶液進入構成第二保持部件32的部件的間隙而使檸檬酸水溶液乾燥，則有可能在部件的間隙殘留檸檬酸的粉末。與此相對，清洗裝置100在檸檬酸水溶液的清洗前利用水清洗基板保持具30，因此在間隙能夠形成水膜。而且，水膜抑制檸檬酸水溶液向間隙的侵入。其結果為，抑制檸檬酸的粉末的殘留。
［第二實施方式] 接著，一邊參照圖式，一邊對第二實施方式的清洗裝置400進行說明。首先，對第二實施方式的清洗裝置400的結構進行說明。接著，對清洗裝置400的清洗方法進行說明。接著，對清洗裝置400的變形例進行說明。
＜清洗裝置的結構＞ 圖6是表示與清洗裝置100不同的本發明的清洗裝置400的立體圖，圖7是在清洗裝置400的清洗槽520的內部收納的載體500的立體圖。清洗裝置400與上述的清洗裝置100同樣，是用於清洗電接點50的裝置。若參照圖6，清洗裝置400具備清洗槽520、蓋404、以及載體500（參照圖8）。以下，對清洗裝置400的各構成要素進行說明。
清洗槽520具有大致長方體形狀，構成為能夠收納載體500（參照圖8）。另外，清洗槽520具有在內部保持檸檬酸水溶液、水等液體的功能。蓋404開閉自如地安裝於清洗槽520。在打開蓋404的狀態下，進行載體500向清洗槽520的收納以及載體500從清洗槽520的取出。
若參照圖7，載體500具有大致長方體形狀，具備4個柱502、8個梁503、以及複數個網格板504。在上下方向上延伸的4個柱502排列為構成四邊形。而且，各柱502的上端通過配置為構成四邊形的梁503分別連接，各柱502的下端也通過配置為構成四邊形的梁503分別連接。另外，複數個網格板504呈四邊形，在上下方向上等間隔地排列。而且，網格板504的四邊由4個柱502固定。換言之，載體500呈網格板504成為載置台這樣的置物架的形狀。由此，複數個網格板504能夠分別支承第二保持部件32。
圖8是清洗裝置400的剖視圖，圖9是圖8的A-A剖視圖。若參照圖8，作為一例，清洗裝置400還具備檸檬酸罐540、供給口408、排出口410、4個配管412、414、416、418、4個閥420、422、424、426、以及泵428。
檸檬酸罐540具有保持檸檬酸水溶液的功能。在本實施方式中，檸檬酸罐540保持檸檬酸水溶液，該檸檬酸水溶液中的檸檬酸的質量百分比濃度為2％至30％。供給口408和排出口410都形成在清洗槽520的底部。配管412將供給口408和檸檬酸罐540連通，從接近供給口408的閥開始依次將閥422和閥426安裝於配管412。與此相對，配管414將排出口410和檸檬酸罐540連通，從接近排出口410的閥開始依次將閥420和閥424安裝於配管414。另外，配管416將配管414的閥420與閥424之間的部分和泵428的吸引口連通。而且，配管418將配管412的閥422與閥426之間的部分和泵428的排出口連通。
由此，若在關閉閥420和閥426的狀態下打開閥424和閥422，則泵428能夠將由檸檬酸罐540保持的檸檬酸水溶液從供給口408向清洗槽520的內部供給。另外，若在關閉閥422和閥424的狀態下打開閥420和閥426，則泵428能夠從排出口410吸引由清洗槽520保持的檸檬酸水溶液，而向檸檬酸罐540供給。並且，若在清洗槽520保持液體的狀態下，關閉閥424和閥426，並且打開閥420和閥422，則泵428能夠從排出口410吸引清洗槽520的內部的液體。而且，泵428能夠將所吸引的該液體從供給口408向清洗槽520的內部供給。由此，泵428能夠使清洗槽520的內部的液體循環而對流。
另外，作為一例，清洗裝置400具備緩衝槽560、配管432、以及閥434。緩衝槽560具有保持水、檸檬酸水溶液等液體的功能。而且，配管432將清洗槽520和緩衝槽560連通，具有將由清洗槽520保持的液體排出到緩衝槽560的功能。清洗槽520側的配管432的口位於比後述的水位計524高的位置且比水位計526低的位置。而且，在清洗槽520的內部的液體的液面上升到配管432的口的高度時，清洗槽520的內部的液體通過配管432向緩衝槽560移動。由此，配管432防止液體從清洗槽520溢出。此外，在本實施方式中，配管432的口配置於在清洗槽520的內部的液體為72L以上時能夠排出液體的位置。另外，閥434安裝於配管432，具有對通過配管432的流體的流量進行調整的功能。在通常時，打開閥434，但在後述的第二保持部件32的乾燥時，關閉閥434。
另外，作為一例，清洗槽520具備3個水位計522、524、526，該3個水位計522、524、526具有對被安裝的位置的液體的有無進行檢測的功能。水位計522被安裝為，能夠檢測清洗槽520的內部的位置且比在清洗槽520的內部收納的第二保持部件32低的位置的液體的有無。更詳細地說，配置於能夠檢測清洗槽520的內部的液體是否為1L以上的位置。另外，水位計524被安裝為，能夠檢測在清洗槽520的內部的位置且比在清洗槽520的內部收納的第二保持部件32高的位置的液體的有無。
另外，水位計526被安裝為，能夠檢測清洗槽520的內部的位置且比水位計524高的位置的液體的有無。更詳細地說，水位計526配置於能夠檢測清洗槽520的內部的液體是否為80L以上的位置。水位計526位於比上述的配管432的口高的位置，因而通常不檢測液體。因此，在水位計526檢測出液體的情況下，清洗裝置400的配管432發生液體堵塞等故障的可能性較高。因此，水位計526構成為，在檢測出液體的情況下，清洗裝置400停止。由此，清洗裝置400抑制由故障引起的事故。
另外，作為一例，清洗裝置400具備配管436。配管436將檸檬酸罐540和緩衝槽560連通，具有將由檸檬酸罐540保持的液體排出到緩衝槽560的功能。與檸檬酸罐540連通的配管436的口配置於比後述的水位計544高的位置。而且，在檸檬酸罐540的內部的液體的液面上升到配管436的口的高度時，檸檬酸罐540的內部的液體通過配管436向緩衝槽560移動。換言之，配管436防止檸檬酸水溶液從檸檬酸罐540溢出。此外，在本實施方式中，配管436的口配置於在檸檬酸罐540的內部的液體為85L以上時能夠排出液體的位置。
另外，作為一例，檸檬酸罐540具備兩個水位計542、544，該兩個水位計542、544具有對被安裝的位置的液體的有無進行檢測的功能。水位計542配置於能夠檢測檸檬酸罐540的內部的液體是否為10L以上的位置。另外，水位計544配置於能夠檢測檸檬酸罐540的內部的液體是否為82L以上的位置。
另外，作為一例，緩衝槽560具備兩個水位計562、564，該兩個水位計562、564具有對被安裝的位置的液體的有無進行檢測的功能。水位計562配置於能夠檢測緩衝槽560的內部的液體是否為1L以上的位置。在水位計562檢測出液體時，清洗裝置400利用已知的方法將緩衝槽560內部的液體排出到工廠內的廢液部（省略圖示）。
另外，水位計564配置於能夠檢測緩衝槽560的內部的液體是否為10L以上的位置。而且，水位計564構成為，在檢測出液體的情況下，清洗裝置400停止。水位計564位於比水位計562高的位置，因而與上述的水位計526同樣，通常不檢測液體。因此，在水位計564檢測出液體的情況下，清洗裝置400發生故障的可能性較高。因此，在水位計564檢測出液體的情況下，清洗裝置400停止，由此清洗裝置400能夠抑制由故障引起的事故。
另外，作為一例，清洗裝置400具備兩個吸氣口438（參照圖6）、排氣口440、兩個風扇442（參照圖9）、兩個加熱器444、排氣流路454、分隔板446（參照圖8）、第一開口448、第二開口450、以及開口452。若參照圖8，分隔板446為L字形的薄板部件，將清洗槽520分割為第一室528和第二室530。而且，分隔板446具有上表面456和側面458。上表面456與吸氣口438隔開間隔地位於在清洗槽520的上表面532形成的吸氣口438的正下方。而且，第一室528與吸氣口438連通，而不經由第二室530。側面458從上表面456延伸到清洗槽520的下表面459。因此，第二室530具有大致長方體形狀，第一室528呈從大致長方體形狀挖出第二室530而成的L字形狀。另外，在分隔板446的上表面456形成有第一開口448，在分隔板446的側面458形成有第二開口450。而且，在第一室528的內部的與第二開口450鄰接的位置配置有載體500。另外，在第一室528的側面529的比水位計524高的位置形成有開口452。而且，開口452經由排氣流路454與排氣口440連通（參照圖9）。換言之，第一室528與排氣口440連通，而不經由第二室530。而且，風扇442配置於第一室528的內部且在上表面456形成的第一開口448的正上方（參照圖8）。因此，風扇442能夠向第一開口448吹送第一室528的內部的氣體和經由吸氣口438從清洗槽520的外部吸引的氣體。而且，吹送到第一開口448的氣體通過第二室530從第二開口450向由載體500保持的第二保持部件32供給。即，第二室530形成從第一開口448到第二開口450的流路。另外，如上所述，第二保持部件32由載體500的網格板504支承。從第二開口450供給到第二保持部件32的氣體通過設置於網格板504的網格而在清洗槽520的內部分散。其結果為，能夠將清洗槽520的內部的溫度均勻化。另外，兩個加熱器444配置於第二室530。因此，兩個加熱器444能夠加熱向第二保持部件32吹送的氣體。
另外，作為一例，清洗裝置400具備溫度計460和溫度調節器462（參照圖8和圖9）。溫度計460的溫度測定部位於清洗槽520的第二室530的內部。因此，溫度計460具有對第二室530的內部的氣體的溫度進行測定的功能。另外，溫度調節器462配置於清洗槽520的外部，與溫度計460和兩個加熱器444電連接。而且，溫度調節器462具有基於由溫度計460測定出的溫度來控制加熱器444的功能。由此，清洗槽520的內部被保持在規定的溫度。此外，在本實施方式中，溫度調節器462控制加熱器444，以使得在後述的第二保持部件32的乾燥時，清洗槽520的內部的溫度為40度以上且50度以下。
另外，作為一例，清洗裝置400還具備熱電偶464（參照圖9）。熱電偶464配置在第二室530的內部。而且，熱電偶464具有在第二室530的內部的溫度超過了60度時使兩個加熱器444停止的功能。
＜清洗方法＞ 接著，一邊參照圖1和圖8，一邊對清洗裝置400的動作進行說明。在初始狀態下，作為一例，第二保持部件32安裝於第一保持部件31，關閉閥420、閥422、閥424、閥426。另外，清洗槽520不保持檸檬酸水溶液、水等液體。
首先，如圖1所示，將第一保持部件31和第二保持部件32分離（相當於分離工序的一例）。接著，將一個以上的第二保持部件32保持於載體500，將載體500配置於清洗槽520的內部（參照圖8）。在本實施方式中，從第二保持部件32分離的第一保持部件31未收納於清洗槽520。即，將第二保持部件32收納於從第一保持部件31隔離的清洗裝置400的內部。
首先，通過未圖示的已知的液體供給裝置而向清洗槽520的內部供給水。由此，清洗槽520的內部的水位上升。而且，在水位計524檢測出水時，停止水的供給。其結果為，第二保持部件32的整體浸漬於水（相當於第一水洗工序的一例）。
接著，打開閥420和閥422。由此，清洗槽520的內部的水從排出口410排出，從排出口410排出的水從供給口408向清洗槽520的內部供給。其結果為，清洗槽520的內部的水循環而對流。此外，進行10分鐘以上的由該泵428進行的清洗槽520的內部的水的循環。
接著，關閉閥420和閥422。然後，通過未圖示的已知的液體排出裝置，向清洗槽520的內部排出水。
接著，檸檬酸罐540的水位計544確認檸檬酸水溶液的有無。由此，確認在檸檬酸罐540中保持有足夠量的檸檬酸水溶液。而且，在水位計544檢測出檸檬酸水溶液的情況下，打開閥424和閥422，向清洗槽520的內部供給檸檬酸水溶液。由此，清洗槽520的內部的液面上升。而且，在水位計524檢測出檸檬酸水溶液時，停止檸檬酸水溶液的供給。其結果為，第二保持部件32的整體浸漬於檸檬酸水溶液（相當於浸漬工序的一例）。此外，在水位計544未檢測出檸檬酸水溶液的情況下，清洗裝置400通過已知的方法向作業者通知檸檬酸水溶液不足。
接著，打開閥420和閥422。由此，清洗槽520的內部的檸檬酸水溶液從排出口410排出，從排出口410排出的檸檬酸水溶液從供給口408向清洗槽520的內部供給。其結果為，清洗槽520的內部的檸檬酸水溶液循環而對流。由此將電接點50的污垢除去得更多。此外，進行60分鐘以上的由該泵428進行的清洗槽520的內部的檸檬酸水溶液的循環。
接著，檸檬酸罐540的水位計542確認檸檬酸水溶液的有無。由此，確認在檸檬酸罐540中具有用於保持檸檬酸水溶液的充分的空餘容量。在水位計544檢測出檸檬酸水溶液的情況下，清洗裝置400通過已知的方法向作業者通知檸檬酸罐540的空餘容量的不足。另一方面，在水位計544未檢測出檸檬酸水溶液的情況下，關閉閥422，打開閥426。由此，泵428將清洗槽520的內部的檸檬酸水溶液壓送到檸檬酸罐540，使清洗槽520的內部變空。然後，關閉閥420和閥426。這樣，檸檬酸水溶液被回收到檸檬酸罐540。此時，如上所述，在基於檸檬酸水溶液的清洗之前，存在基於水的清洗，因此在所回收的檸檬酸罐540中包含基於上述的水的清洗所使用的水。因此，相比於從檸檬酸罐540供給到清洗槽520的檸檬酸水溶液，所回收的檸檬酸水溶液增加。這裡，如上所述，清洗裝置400具備配管436，該配管436在檸檬酸罐540的內部的液體成為一定量以上時，用於將液體排出到緩衝槽560。因此，增加的檸檬酸水溶液能夠通過配管436向緩衝槽560移動，不會從檸檬酸罐540溢出。
接著，再次清洗第二保持部件32。具體而言，通過未圖示的已知的液體供給裝置，向清洗槽520的內部供給水。由此，清洗槽520的內部的水的水位上升。而且，在水位計524檢測出水時，停止水的供給。其結果為，第二保持部件32的整體浸漬於水（相當於第二水洗工序的一例）。
接著，打開閥420和閥422。由此，清洗槽520的內部的水從排出口410排出，從排出口410排出的水從供給口408向清洗槽520的內部供給。其結果為，清洗槽520的內部的水循環而對流。此外，進行10分鐘以上的由該泵428進行的清洗槽520的內部的水的循環。
接著，關閉閥420和閥422。然後，通過未圖示的已知的液體排出裝置，排出清洗槽520的內部的水。
接著，清洗槽520的水位計522確認水的有無。由此，確認在清洗槽520的內部未殘留水。而且，在水位計522不再檢測出水之後，清洗裝置100開始用於使第二保持部件32乾燥的乾燥工序。具體而言，風扇442向第二保持部件32吹送氣體（相當於送風工序的一例）。此時，加熱器44在第二室530中加熱向第二保持部件32吹送的氣體（相當於加熱工序的一例）。由此，第二保持部件32乾燥。另外，除了經由吸氣口438從清洗槽520的外部吸引的氣體以外，風扇442還將位於第一室528的氣體向第一開口448吹送。位於第一室528的氣體中包含由加熱器444加熱後的氣體。因此，在第二室530中由加熱器444加熱的氣體的一部分成為已經被加熱的氣體。其結果為，清洗裝置400能夠一邊節約用於加熱氣體的能量，一邊向第二保持部件32供給高溫的氣體。此外，進行60分鐘以上的由風扇442和加熱器444進行的向第二保持部件32的暖風的供給。另外，在第二保持部件32的乾燥時，溫度計460對由加熱器444加熱後的氣體的溫度進行測定。而且，溫度調節器462也可以基於由溫度計460測定出的溫度而控制加熱器444，對向第二保持部件32吹送的氣體的溫度進行調節。以上，清洗裝置400的動作結束。
這樣，清洗裝置400與上述的清洗裝置100同樣，能夠使用檸檬酸水溶液來清洗電接點50。此外，清洗裝置400也可以將基板保持具30本身浸漬於檸檬酸水溶液來清洗電接點50。
另外，清洗裝置400使用載體500來清洗第二保持部件32，因此能夠通過一次的清洗動作來同時清洗複數個第二保持部件32。
＜變形例＞ （第一變形例） 圖10是表示清洗裝置400的第一變形例的剖視圖。也可以如圖10所示，清洗裝置400具備：構成為能夠旋轉的第一棒狀部件466、以及噴嘴468。在該情況下，噴嘴468安裝於第一棒狀部件466，構成為能夠與第一棒狀部件466一體旋轉。而且，噴嘴468具有朝向電接點50噴射檸檬酸水溶液、水或者氣體的功能。另外，在載體500的複數個網格板504分別形成有用於供第一棒狀部件466貫通的貫通孔506。
通過像這樣構成清洗裝置400，從而噴嘴468能夠一邊與第一棒狀部件466一體旋轉，一邊朝向電接點50噴射檸檬酸水溶液、水或者氣體。因此，在向電接點50噴射檸檬酸水溶液的情況下，清洗裝置400能夠通過檸檬酸水溶液來清洗電接點50。另外，在向電接點50噴射水的情況下，清洗裝置400能夠通過水來清洗電接點50。而且，在向電接點50噴射氣體的情況下，清洗裝置400能夠將電接點50乾燥。
（第二變形例） 圖11是表示清洗裝置400的第二變形例的剖視圖。也可以如圖11所示，清洗裝置400具備：構成為能夠旋轉的第二棒狀部件470、以及攪拌部件472。在該情況下，攪拌部件472是薄板狀的部件，構成為安裝於第二棒狀部件470，與第二棒狀部件470一體旋轉。另外，在載體500的複數個網格板504分別形成有用於供第二棒狀部件470貫通的貫通孔506。
通過像這樣構成清洗裝置400，從而攪拌部件472能夠對清洗槽520的內部的液體進行攪拌。因此，在清洗槽520保持檸檬酸水溶液的情況下，清洗裝置400能夠將附著於電接點50的污垢除去得更多。
在上述的第一實施方式和第二實施方式中，僅第二保持部件32由清洗裝置100、400清洗。即，在通過清洗裝置100、400來清洗第二保持部件32時，不清洗第一保持部件31。若與將第一保持部件31和第二保持部件32雙方收納於清洗裝置100、400的情況相比，能夠將清洗裝置100、400小型化。若清洗液（檸檬酸水溶液、水）附著於具有用於保持基板Wf的機構或用於向基板Wf供電的電氣系統等複雜構造的第一保持部件31，則需要用於使清洗液乾燥的較長的時間。在上述的實施方式中，第一保持部件31與清洗裝置100、400的內部隔離，清洗裝置100、400僅清洗具有比較簡單的構造的第二保持部件32，因此也能夠縮短乾燥所需要的時間。
［附記］ 上述的實施方式的一部分或者全部也可以像以下的附記那樣記載，但不限於以下內容。
（附記1） 附記1的清洗方法是一種基板保持具的清洗方法，該基板保持具具有用於為了對基板進行鍍敷而與上述基板接觸來向上述基板供電的電接點，其中，該清洗方法具有通過檸檬酸水溶液來清洗上述基板保持具的上述電接點的清洗工序。
使用了檸檬酸水溶液的清洗能夠除去無法利用水的清洗充分地除去的附著於電接點的銅、銅的氧化物、抗蝕劑等污垢。因此，在附記1的清洗方法中，能夠利用檸檬酸水溶液除去無法利用純水除去的電接點的污垢。另外，檸檬酸水溶液不會使聚醚醚酮樹脂、氟橡膠、不銹鋼等構成基板保持具的材料腐蝕、劣化。因此，在該清洗方法中，能夠不從基板保持具分離電接點來清洗電接點，並且不會對基板保持具帶來不良影響。並且，檸檬酸水溶液不會破壞鍍敷液的電解質，不會對鍍敷液帶來不良影響。因此，即使萬一檸檬酸清洗後的殘留於電接點的檸檬酸混入鍍敷液，通過該清洗方法清洗後的電接點不會對鍍敷液帶來不良影響。
（附記2） 在附記2的清洗方法中，根據附記1所記載的清洗方法，上述基板保持具具有第一保持部件和第二保持部件，該第一保持部件具有構成為與外部電源電連接的中繼接點，該第二保持部件具有上述電接點，在上述清洗工序之前，具有將上述第一保持部件和上述第二保持部件分離的分離工序，在上述清洗工序中，不清洗上述第一保持部件，清洗上述第二保持部件。
（附記3） 在附記3的清洗方法中，根據附記1或者附記2所記載的清洗方法，上述檸檬酸水溶液中的檸檬酸的質量百分比濃度為2％至30％。
（附記4） 在附記4的清洗方法中，根據附記1至3中的任一項所記載的清洗方法，在上述清洗工序之前，還具有將上述檸檬酸水溶液加熱到35度以上且55度以下的工序。
（附記5） 在附記5的清洗方法中，根據附記1至4中的任一項所記載的清洗方法，該清洗方法還具有旋轉工序，在該旋轉工序中，使具有上述電接點的環狀的保持部件在圓周方向上旋轉，上述清洗工序具有在上述旋轉工序的期間朝向上述電接點噴射上述檸檬酸水溶液的工序。
根據附記5的清洗方法，能夠通過檸檬酸水溶液的噴流來清洗在圓周方向上旋轉的保持部件。
（附記6） 在附記6的清洗方法中，根據附記5所記載的清洗方法，上述清洗工序具有在上述旋轉工序的期間，將上述電接點的一部分浸漬於上述檸檬酸水溶液的工序。
在電接點僅浸漬於檸檬酸水溶液的情況下，與電接點接觸的檸檬酸水溶液不容易對流，電接點的清洗效果不高。與此相對，根據附記6的清洗方法，與保持部件一同旋轉的電接點浸漬於檸檬酸水溶液而被清洗。因此，與電接點接觸的檸檬酸水溶液對流，除去附著於電接點的較多的污垢。
（附記7） 在附記7的清洗方法中，根據附記1至6中的任一項所記載的清洗方法，在上述清洗工序之前，還具有通過水來清洗上述基板保持具的第一水洗工序。
根據附記7的清洗方法，在利用檸檬酸水溶液清洗電接點之前，利用水清洗基板保持具。即，利用基於水的清洗而粗略地除去污垢的基板保持具上所安裝的電接點由檸檬酸水溶液清洗。因此，清洗所使用的檸檬酸水溶液不容易污染。另外，若檸檬酸水溶液進入構成基板保持具的部件的間隙而使檸檬酸水溶液乾燥，則有可能在部件的間隙殘留檸檬酸的粉末。與此相對，在附記7的清洗方法中，基板保持具在基於檸檬酸水溶液的清洗之前由水清洗，因此在間隙能夠形成水膜。而且，水膜抑制檸檬酸水溶液向間隙的侵入。其結果為，抑制檸檬酸的粉末的殘留。
（附記8） 在附記8的清洗方法中，根據附記5至7中的任一項所記載的清洗方法，還具有在上述旋轉工序的期間且在上述清洗工序之後，通過水來清洗上述基板保持具的第二水洗工序。
在附記8的清洗方法中，能夠利用水來沖洗附著於基板保持具的檸檬酸水溶液。
（附記9） 在附記9的清洗方法中，根據附記1至4中的任一項所記載的清洗方法，上述清洗工序具有浸漬工序，在該浸漬工序中，使作為上述基板保持具的至少一部分的部件並且具有上述電接點的保持部件的整體浸漬於保持在清洗槽的上述檸檬酸水溶液。
根據附記9的清洗方法，能夠利用保持在清洗槽的檸檬酸水溶液來清洗電接點。
（附記10） 在附記10的清洗方法中，根據附記9所記載的清洗方法，還具有如下工序：在上述浸漬工序的期間，從排出口排出上述清洗槽的內部的上述檸檬酸水溶液，將從上述排出口排出的該檸檬酸水溶液從供給口向上述清洗槽的內部供給。
在附記10的清洗方法中，檸檬酸水溶液在清洗槽的內部、排出口和供給口之間循環，由此清洗槽的內部的檸檬酸水溶液對流。因此，在該清洗方法中，能夠將電接點的污垢除去得較多。
（附記11） 在附記11的清洗方法中，根據附記9或者附記10所記載的清洗方法，還具有在上述清洗工序之前，將上述保持部件的整體浸漬於保持在上述清洗槽中的水的第一水洗工序。
根據附記11的清洗方法，在利用檸檬酸水溶液清洗電接點之前，利用水清洗基板保持具。因此，與附記7所記載的清洗方法同樣，清洗所使用的檸檬酸水溶液不容易污染，抑制檸檬酸的粉末在基板保持具的間隙中的殘留。
（附記12） 在附記12的清洗方法中，根據附記9至11中的任一項所記載的清洗方法，還具有在上述清洗工序之後，將上述保持部件的整體浸漬於保持在上述清洗槽中的水的第二水洗工序。
根據附記12的清洗方法，能夠利用水清洗附著有檸檬酸水溶液的基板保持具。
（附記13） 在附記13的清洗方法中，根據附記8或者附記12所記載的清洗方法，還具有在上述第二水洗工序之後，使上述基板保持具乾燥的乾燥工序。
根據附記13的清洗方法，能夠將附著有水的基板保持具乾燥。
（附記14） 在附記14的清洗方法中，根據附記13所記載的清洗方法，上述乾燥工序具有：送風工序，風扇向上述保持部件吹送氣體；以及加熱工序，加熱器對向上述保持部件吹送的上述氣體進行加熱。
在附記14的清洗方法中，風扇能夠向保持部件供給由加熱器加熱後的氣體。
（附記15） 在附記15的清洗方法中，根據附記14所記載的清洗方法，上述乾燥工序還具有：測定由上述加熱器加熱後的上述氣體的溫度的工序；以及基於測定出的上述溫度來控制上述加熱器，調節向上述保持部件吹送的上述氣體的溫度的工序。
在附記15的清洗方法中，能夠使風扇向保持部件供給的氣體的溫度成為規定的溫度。
（附記16） 在附記16的清洗方法中，根據依附於附記12的附記14或者附記15所記載的清洗方法，上述送風工序具有：上述風扇向第一開口吹送經由吸氣口從上述清洗槽的外部吸引的氣體的工序；吹送至上述第一開口的氣體在構成從上述第一開口到第二開口的流路的第二室中流動，並從上述第二開口朝向配置於第一室的上述保持部件吹送的工序；以及上述風扇對朝向上述保持部件吹送後的氣體並且是位於上述第一室的氣體進行吸氣，並再次向上述第一開口吹送的工序，上述加熱工序具有對在上述第二室中流動的氣體進行加熱的工序。
根據附記16的清洗方法，在第二室中流動的氣體被加熱，而朝向配置於第一室的保持部件吹送。而且，朝向該保持部件吹送後的氣體再次向第二室吹送。因此，向第二室供給的氣體的一部分是被加熱後的氣體。因此，在該方法中，能夠一邊節約用於加熱氣體的能量，一邊向保持部件供給高溫的氣體。
（附記17） 在附記17的清洗方法中，根據附記9或者依附於附記9的附記10至16中的任一項所記載的清洗方法，上述浸漬工序具有如下工序，將支承於載體的網格板的至少一個上述保持部件浸漬於保持在上述清洗槽中的上述檸檬酸水溶液，該載體具有在上下方向上排列的複數個上述網格板。
在附記17的清洗方法中，能夠使用能夠保持複數個保持部件的載體，將保持部件浸漬於檸檬酸水溶液。
（附記18） 在附記18的清洗方法中，根據附記17所記載的清洗方法，具有：第一旋轉工序，使第一棒狀部件旋轉，該第一棒狀部件位於貫通由上述複數個網格板支承且呈環狀的上述保持部件的內側的位置；以及在上述第一旋轉工序的期間，安裝於上述第一棒狀部件的噴嘴一邊與上述第一棒狀部件一體旋轉，一邊朝向上述電接點噴射上述檸檬酸水溶液、水或者氣體的工序。
根據附記18的清洗方法，噴嘴能夠一邊與第一棒狀部件一體旋轉，一邊朝向電接點噴射檸檬酸水溶液、水或者氣體。因此，在將檸檬酸水溶液向電接點噴射的情況下，在該清洗方法中，能夠通過檸檬酸水溶液來清洗電接點。另外，在將水向電接點噴射的情況下，在該清洗方法中，能夠通過水來清洗電接點。而且，在將氣體向電接點噴射的情況下，在該清洗方法中，能夠將電接點乾燥。
（附記19） 在附記19的清洗方法中，根據附記17或者附記18所記載的清洗裝置，還具有：第二旋轉工序，使第二棒狀部件旋轉，該第二棒狀部件位於貫通由上述複數個網格板支承且呈環狀的上述保持部件的內側的位置；以及在上述第二旋轉工序的期間，安裝於上述第二棒狀部件的攪拌部件與上述第二棒狀部件一體旋轉，由此攪拌上述清洗槽的內部的液體的工序。
在附記19的清洗方法中，能夠攪拌清洗槽的內部的液體。
（附記20） 附記20的清洗裝置具備：旋轉部件，其用於保持環狀的保持部件，該保持部件為了鍍敷而保持基板並且具有與上述基板接觸的電接點；致動器，其用於通過使上述旋轉部件旋轉，來使上述保持部件在圓周方向上旋轉；以及清洗模組，其用於使用檸檬酸水溶液來清洗通過上述旋轉部件而正在旋轉的上述保持部件。
根據附記20的清洗裝置，能夠通過檸檬酸水溶液來清洗在圓周方向上旋轉的保持部件。另外，與附記1的清洗方法同樣，該清洗裝置不會對鍍敷液、用於保持基板的部件即基板保持具帶來不良影響，能夠除去無法利用純水除去的附著於電接點的污垢。
（附記21） 在附記21的清洗裝置中，根據附記20所記載的清洗裝置，上述保持部件是具有上述電接點的第二保持部件，基板保持具構成為包含第一保持部件和上述第二保持部件，該第一保持部件具有構成為與外部電源電連接的中繼接點。
（附記22） 在附記22的清洗裝置中，根據附記20或者附記21所記載的清洗裝置，上述清洗模組具有用於朝向上述保持部件噴射上述檸檬酸水溶液的噴嘴。
根據附記22的清洗裝置，能夠通過檸檬酸水溶液的噴流來清洗在圓周方向上旋轉的保持部件。
（附記23） 在附記23的清洗裝置中，根據附記20至22中的任一項所記載的清洗裝置，上述清洗模組具有保持上述檸檬酸水溶液的殼體，上述保持部件的一部分浸漬於保持在上述殼體中的上述檸檬酸水溶液。
在使用附記23的清洗裝置來清洗具有電接點的保持部件的情況下，與保持部件一同旋轉的電接點浸漬於檸檬酸水溶液而被清洗。因此，與電接點接觸的檸檬酸水溶液對流，該清洗裝置能夠除去附著於電接點的較多的污垢。
（附記24） 根據附記20至23中的任一項所記載的清洗裝置，附記24的清洗裝置還具備：檸檬酸槽，其用於保持上述檸檬酸水溶液；恒溫器，其用於將由上述檸檬酸槽保持的上述檸檬酸水溶液加熱到35度以上且55度以下；以及泵，其用於將由上述檸檬酸槽保持的上述檸檬酸水溶液壓送至上述清洗模組。
（附記25） 根據依附於附記23的附記24所記載的清洗裝置，附記25的清洗裝置還具備排液管，該排液管用於將由上述殼體保持的上述檸檬酸水溶液向上述檸檬酸槽排出。
附記25的清洗裝置能夠使清洗所使用的檸檬酸水溶液從殼體移動到檸檬酸槽。因此，清洗裝置能夠再次利用檸檬酸水溶液。
（附記26） 根據附記20至25中的任一項所記載的清洗裝置，附記26的清洗裝置還具備用於朝向上述保持部件噴射水的液體噴嘴。
附記26的清洗裝置通過由液體噴嘴朝向保持部件噴射水，能夠利用水清洗保持部件。
（附記27） 根據附記20至26中的任一項所記載的清洗裝置，附記27的清洗裝置還具備用於朝向上述保持部件噴射氣體的空氣噴嘴。
附記27的清洗裝置通過由空氣噴嘴朝向保持部件噴射氣體，能夠將保持部件乾燥。
（附記28） 根據附記20至27中的任一項所記載的清洗裝置，附記28的清洗裝置還具備用於朝向上述保持部件吹送暖風的暖風裝置。
附記28的清洗裝置通過由暖風裝置朝向保持部件吹送暖風，能夠將保持部件乾燥。
（附記29） 附記29的清洗裝置是具有電接點、且作為基板保持具的至少一部分的部件的保持部件的清洗裝置，該清洗裝置具備清洗槽，該清洗槽用於保持檸檬酸水溶液並使上述保持部件浸漬於上述檸檬酸水溶液。
附記29的清洗裝置能夠利用由清洗槽保持的檸檬酸水溶液清洗電接點。另外，與附記1的清洗方法同樣，該清洗裝置不會對鍍敷液、用於保持基板的部件即基板保持具帶來不良影響，能夠除去無法利用純水除去的附著於電接點的污垢。
（附記30） 在附記30的清洗裝置中，根據附記29所記載的清洗裝置，上述基板保持具具有第一保持部件和第二保持部件，該第一保持部件具有構成為與外部電源電連接的中繼接點，該第二保持部件具有上述電接點，上述保持部件是上述第二保持部件。
（附記31） 根據附記29或者附記30所記載的清洗裝置，附記31的清洗裝置還具備：供給口，其用於向上述清洗槽的內部供給液體；排出口，其用於從上述清洗槽的內部排出液體；以及泵，其構成為從上述排出口吸引上述清洗槽的內部的液體，將所吸引的該液體從上述供給口向上述清洗槽的內部供給。
附記31的清洗裝置能夠使檸檬酸水溶液在清洗槽的內部、排出口、泵以及供給口之間循環，能夠使清洗槽的內部的檸檬酸水溶液對流。
（附記32） 根據附記29至31中的任一項所記載的清洗裝置，附記32的清洗裝置具備收納於上述清洗槽的內部的載體，上述載體具有複數個網格板，該複數個網格板在上下方向上排列並且用於支承上述保持部件。
根據附記32的清洗裝置，載體能夠保持複數個保持部件。因此，該清洗裝置能夠使用載體，將複數個保持部件一次浸漬於檸檬酸水溶液。
（附記33） 根據附記32所記載的清洗裝置，附記33的清洗裝置還具備：第一棒狀部件，其構成為能夠旋轉；以及噴嘴，其用於朝向上述電接點噴射上述檸檬酸水溶液、水或者氣體，安裝於上述第一棒狀部件，能夠與上述第一棒狀部件一體旋轉，在上述複數個網格板分別形成有用於供上述第一棒狀部件貫通的貫通孔。
根據附記33的清洗裝置，噴嘴能夠一邊與第一棒狀部件一體旋轉，一邊朝向電接點噴射檸檬酸水溶液、水或者氣體。因此，在將檸檬酸水溶液向電接點噴射的情況下，該清洗裝置能夠通過檸檬酸水溶液來清洗電接點。另外，在將水向電接點噴射的情況下，該清洗裝置能夠通過水來清洗電接點。而且，在將氣體向電接點噴射的情況下，該清洗裝置能夠將電接點乾燥。
（附記34） 根據附記32或者附記33所記載的清洗裝置，附記34的清洗裝置還具備：第二棒狀部件，其構成為能夠旋轉；以及攪拌部件，其安裝於上述第二棒狀部件，用於通過與上述第二棒狀部件一體旋轉而攪拌上述清洗槽的內部的液體，在上述複數個網格板分別形成有用於供上述第二棒狀部件貫通的貫通孔。
附記34的清洗裝置能夠攪拌清洗槽的內部的液體。
（附記35） 根據附記29至34中的任一項所記載的清洗裝置，附記35的清洗裝置還具備：風扇，其用於向上述保持部件吹送氣體；以及加熱器，其用於對向上述保持部件吹送的上述氣體進行加熱。
在附記35的清洗裝置中，風扇能夠向保持部件供給由加熱器加熱後的氣體。
（附記36） 根據附記35所記載的清洗裝置，附記36的清洗裝置還具備：溫度計，其用於測定上述清洗槽的內部的氣體的溫度；以及溫度調節器，其用於基於由上述溫度計測定出的溫度來控制上述加熱器。
在附記36的清洗裝置中，能夠使風扇向保持部件供給的氣體的溫度成為規定的溫度。
（附記37） 根據依附於附記32的附記36所記載的清洗裝置，附記37的清洗裝置具備：吸氣口，其用於向上述清洗槽的內部供給氣體；排氣口，其用於從上述清洗槽的內部排出氣體；分隔板，其用於將上述清洗槽分割為用於配置上述載體的第一室以及第二室；以及形成於上述分隔板的第一開口和第二開口，上述第二室構成從第一開口到第二開口的流路，在該流路配置有上述加熱器，上述第一室與上述吸氣口和上述排氣口連通而不經由第二室，上述第二開口與上述載體鄰接，上述風扇構成為，通過向第一開口吹送上述第一室內部的氣體和經由上述吸氣口從上述清洗槽的外部吸引的氣體，而從上述第二開口朝向上述保持部件吹送上述第一室內部的氣體和經由上述吸氣口從上述清洗槽的外部吸引的氣體。
根據附記37的清洗方法，在第二室中流動的氣體被加熱，而朝向配置於第一室的保持部件吹送。而且，朝向該保持部件吹送後的氣體再次向第二室吹送。因此，向第二室供給的氣體的一部分是被加熱後的氣體。因此，在該方法中，能夠一邊節約用於加熱氣體的能量，一邊將高溫的氣體向保持部件供給。
以上，僅對本發明的幾個實施方式進行了說明，但在實質上不脫離本發明的新的教示、優點的情況下，本發明所屬技術領域中具有通常知識者能夠容易地理解對例示的實施方式添加多種變更或者改進。因此，意味著進行了這樣的變更或者改進的方式也包含於本發明的技術範圍。另外，也可以將上述實施方式任意地組合。
30:基板保持具 31:第一保持部件 32:第二保持部件 50:電接點 100:清洗裝置 102:旋轉部件 118:泵 140:排液管 144:液體噴嘴 154:空氣噴嘴 166:暖風裝置 200:清洗模組 202:殼體 204:噴嘴 220:檸檬酸槽 400:清洗裝置 408:供給口 410:排出口 428:泵 438:吸氣口 440:排氣口 442:風扇 444:加熱器 446:分隔板 448:第一開口 450:第二開口 460:溫度計 462:溫度調節器 466:第一棒狀部件 468:噴嘴 470:第二棒狀部件 472:攪拌部件 500:載體 504:網格板 520:清洗槽 540:檸檬酸罐 900:廢液部 902:液體供給源 904:氣體供給源 Wf:基板
圖1是基板保持具的分解立體圖。 圖2是圖1所示的基板保持具的放大部分剖視圖。 圖3是圖1所示的基板保持具的第二保持部件的後視圖。 圖4是表示本發明的清洗裝置的圖。 圖5是表示圖4所示的清洗裝置的殼體的部分的概況的概略圖。 圖6是表示與圖4所示的清洗裝置不同的本發明的清洗裝置的立體圖。 圖7是在圖6所示的清洗裝置的清洗槽的內部收納的載體的立體圖。 圖8是圖6所示的清洗裝置的剖視圖。 圖9是圖8的A-A剖視圖。 圖10是表示圖6所示的清洗裝置的第一變形例的剖視圖。 圖11是表示圖6所示的清洗裝置的第二變形例的剖視圖。
32:第二保持部件
50:電接點
100:清洗裝置
102:旋轉部件
104:致動器
106:旋轉軸
108:框架
110:軸承
112:止漏墊片
113:彈性聯軸器
117:配管
166:暖風裝置
200:清洗模組
202:殼體
204:噴嘴

Claims (20)

  1. 一種清洗方法，是基板保持具的清洗方法，所述基板保持具具有用於為了對基板進行鍍敷而與所述基板接觸來向所述基板供電的電接點，其中， 所述清洗方法具有通過檸檬酸水溶液來清洗所述基板保持具的所述電接點的清洗工序。
  2. 根據請求項1所述的清洗方法，其中， 所述基板保持具具有第一保持部件和第二保持部件，所述第一保持部件具有構成為與外部電源電連接的中繼接點，所述第二保持部件具有所述電接點， 所述清洗方法具有在所述清洗工序之前，將所述第一保持部件和所述第二保持部件分離的分離工序， 在所述清洗工序中，不清洗所述第一保持部件，清洗所述第二保持部件。
  3. 根據請求項1或2所述的清洗方法，其中， 所述檸檬酸水溶液中的檸檬酸的質量百分比濃度為2％至30％。
  4. 根據請求項1或2所述的清洗方法，其中， 所述清洗方法還具有旋轉工序，在所述旋轉工序中，使具有所述電接點的環狀的保持部件在圓周方向上旋轉， 所述清洗工序具有在所述旋轉工序的期間朝向所述電接點噴射所述檸檬酸水溶液的工序。
  5. 根據請求項1或2所述的清洗方法，其中， 還具有在所述清洗工序之前，通過水來清洗所述基板保持具的第一水洗工序。
  6. 根據請求項1或2所述的清洗方法，其中， 所述清洗工序具有浸漬工序，在所述浸漬工序中，使作為所述基板保持具的至少一部分的部件並且具有所述電接點的保持部件的整體浸漬於保持在清洗槽中的所述檸檬酸水溶液。
  7. 根據請求項6所述的清洗方法，其中， 還具有在所述清洗工序之前，將所述保持部件的整體浸漬於保持在所述清洗槽中的水的第一水洗工序。
  8. 根據請求項1或2所述的清洗方法，其中， 所述清洗方法還具有： 第二水洗工序，在所述清洗工序之後，通過水來清洗所述基板保持具；以及 乾燥工序，在所述第二水洗工序之後，使所述基板保持具乾燥。
  9. 根據請求項8所述的清洗方法，其中， 所述乾燥工序具有： 送風工序，風扇向所述基板保持具吹送氣體；以及 加熱工序，加熱器對向所述基板保持具吹送的所述氣體進行加熱。
  10. 一種清洗裝置，具備： 旋轉部件，其用於保持環狀的保持部件，所述保持部件為了鍍敷而保持基板並且具有與所述基板接觸的電接點； 致動器，其用於通過使所述旋轉部件旋轉，來使所述保持部件在圓周方向上旋轉；以及 清洗模組，其用於使用檸檬酸水溶液來清洗通過所述旋轉部件而正在旋轉的所述保持部件。
  11. 根據請求項10所述的清洗裝置，其中， 所述保持部件是具有所述電接點的第二保持部件， 基板保持具構成為包含第一保持部件和所述第二保持部件，所述第一保持部件具有構成為與外部電源電連接的中繼接點。
  12. 根據請求項10或11所述的清洗裝置，其中， 所述清洗模組具有用於朝向所述保持部件噴射所述檸檬酸水溶液的噴嘴。
  13. 根據請求項10或11所述的清洗裝置，其中， 所述清洗模組具有保持所述檸檬酸水溶液的殼體， 構成為所述保持部件的一部分浸漬於所述殼體所保持的所述檸檬酸水溶液。
  14. 根據請求項10或11所述的清洗裝置，其中， 所述清洗裝置還具備用於朝向所述保持部件吹送暖風的暖風裝置。
  15. 一種清洗裝置，是保持部件的清洗裝置，所述保持部件具有電接點且是基板保持具的至少一部分的部件，其中， 所述清洗裝置具備清洗槽，所述清洗槽用於保持檸檬酸水溶液，並且供所述保持部件浸漬於所述檸檬酸水溶液。
  16. 根據請求項15所述的清洗裝置，其中， 所述基板保持具具有第一保持部件和第二保持部件，所述第一保持部件具有構成為與外部電源電連接的中繼接點，所述第二保持部件具有所述電接點， 所述保持部件是所述第二保持部件。
  17. 根據請求項15或16所述的清洗裝置，其中， 所述清洗裝置具備收納於所述清洗槽的內部的載體， 所述載體具有複數個網格板，所述複數個網格板在上下方向上排列並且用於支承所述保持部件。
  18. 根據請求項17所述的清洗裝置，其中， 所述清洗裝置還具備： 第一棒狀部件，其構成為能夠旋轉；以及 噴嘴，其是用於朝向所述電接點噴射所述檸檬酸水溶液、水或者氣體的噴嘴，安裝於所述第一棒狀部件，能夠與所述第一棒狀部件一體旋轉， 在所述複數個網格板分別形成有用於供所述第一棒狀部件貫通的貫通孔。
  19. 根據請求項17所述的清洗裝置，其中， 所述清洗裝置還具備： 第二棒狀部件，其構成為能夠旋轉；以及 攪拌部件，其安裝於所述第二棒狀部件，用於通過與所述第二棒狀部件一體旋轉來攪拌所述清洗槽的內部的液體， 在所述複數個網格板分別形成有用於供所述第二棒狀部件貫通的貫通孔。
  20. 根據請求項15或16所述的清洗裝置，其中， 所述清洗裝置還具備： 風扇，其用於向所述保持部件吹送氣體；以及 加熱器，其用於對向所述保持部件吹送的所述氣體進行加熱。
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