CN113369215A - 清洗方法和清洗装置 - Google Patents
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- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 418
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 101
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 704
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 159
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 149
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims abstract description 40
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 108
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 104
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 75
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 73
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 52
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 17
- 238000007664 blowing Methods 0.000 claims description 15
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 15
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 12
- 238000007654 immersion Methods 0.000 claims description 4
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims description 3
- 230000002411 adverse Effects 0.000 abstract description 12
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 10
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 9
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 8
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 8
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 7
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000005751 Copper oxide Substances 0.000 description 5
- 229910000431 copper oxide Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 5
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 5
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 4
- 239000010408 film Substances 0.000 description 4
- 229920001643 poly(ether ketone) Polymers 0.000 description 4
- -1 resist Substances 0.000 description 4
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 4
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 3
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 3
- 229920001973 fluoroelastomer Polymers 0.000 description 3
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 description 2
- JUPQTSLXMOCDHR-UHFFFAOYSA-N benzene-1,4-diol;bis(4-fluorophenyl)methanone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1.C1=CC(F)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(F)C=C1 JUPQTSLXMOCDHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 2
- 150000004968 peroxymonosulfuric acids Chemical class 0.000 description 2
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 description 2
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 2
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 2
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000006978 adaptation Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- QOSATHPSBFQAML-UHFFFAOYSA-N hydrogen peroxide;hydrate Chemical compound O.OO QOSATHPSBFQAML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
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- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
- B08B3/02—Cleaning by the force of jets or sprays
- B08B3/022—Cleaning travelling work
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- B08B1/00—Cleaning by methods involving the use of tools
- B08B1/30—Cleaning by methods involving the use of tools by movement of cleaning members over a surface
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- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B11/00—Cleaning flexible or delicate articles by methods or apparatus specially adapted thereto
- B08B11/02—Devices for holding articles during cleaning
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
- B08B3/02—Cleaning by the force of jets or sprays
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- B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
- B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
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- B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
- B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
- B08B3/08—Cleaning involving contact with liquid the liquid having chemical or dissolving effect
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/22—Organic compounds
- C11D7/26—Organic compounds containing oxygen
- C11D7/265—Carboxylic acids or salts thereof
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
- C23G1/00—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts
- C23G1/02—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts with acid solutions
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
- C23G1/00—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
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Abstract
本发明提供清洗方法和清洗装置,不会对镀敷液、用于保持基板的部件即基板保持架带来不良影响,并且能够除去无法利用纯水除去的附着于电接点的污垢。本发明的清洗方法是基板保持架的清洗方法,该基板保持架具有用于为了对基板进行镀敷而与基板接触来向基板供电的电接点,其中,该清洗方法具有通过柠檬酸水溶液来清洗安装于基板保持架的电接点的清洗工序。
Description
技术领域
本发明涉及清洗方法和清洗装置。
背景技术
为了在基板的表面形成金属薄膜,而使用镀敷装置。例如,在专利文献1中公开一种基板镀敷装置,其具有:基板保持部,其装卸自如地保持被镀敷面朝向上方的基板;阴极部,其具备阴极电极和密封材料;移动自如的电极头,其具备阳极;以及固定喷嘴。该基板保持部构成为在下方的基板交付位置、上方的镀敷位置以及它们中间的前处理·清洗位置之间升降自如。在基板保持部位于镀敷位置时,阴极电极与基板的周缘部抵接,阳极配置在与基板对置的位置。而且,该基板镀敷装置使基板上表面与镀敷液接触来进行镀敷处理。另外,在基板保持部位于前处理·清洗位置时,固定喷嘴向阴极部供给纯水,清洗阴极电极。
专利文献1:日本特开2005-139558号公报
在使用阴极电极对基板进行镀敷的情况下,有可能在阴极电极的与基板的接触面附着污垢。若污垢附着于阴极电极,则污垢成为电阻,阴极电极无法对基板施加希望的电流。其结果为,有形成于基板的镀敷的厚度变得不均匀的担心。与此相对,专利文献1所记载的镀敷装置如上所述那样利用纯水清洗阴极电极,由此能够除去阴极电极的污垢,抑制这样的问题产生。然而,附着于阴极电极的污垢存在各种物体,有时利用基于纯水的清洗无法完全地除去污垢。例如,有可能在阴极电极所接触的基板堆积有铜的种子层的氧化物、抗蚀剂残渣物。而且,铜的氧化物、抗蚀剂残渣物会附着于阴极电极而成为污垢。有无法利用基于纯水的清洗充分地除去附着于阴极电极的铜的氧化物和抗蚀剂残渣物的担心。
另外,在专利文献1所记载的镀敷装置中,如果取代纯水,而使用硫酸、过硫酸水(浓硫酸与过氧化氢水的混合液)、包含臭氧微泡的水溶液等药剂,则这些药剂能够除去无法利用纯水除去的铜、铜的氧化物、抗蚀剂等污垢。然而,这些药剂有时对位于阴极电极的附近的密封材料等用于保持基板的部件带来不良影响。用于保持基板的部件由聚醚酮树脂(PEEK材料)、氟橡胶(FKM)、不锈钢等构成。而且,硫酸、过硫酸水具有腐蚀金属的性质,臭氧微泡具有使树脂、橡胶劣化的性质。因此,若阴极电极不与用于保持基板的部件分离而由这些药剂进行清洗,则有上述的药剂施加到用于保持基板的部件,使用于保持基板的部件破损的担心。
另外,在利用过硫酸水清洗阴极电极后,万一过硫酸水残留于用于保持基板的部件的一部分的情况下,在接着进行的镀敷处理时,残留的过硫酸水混入镀敷液。在该情况下,过硫酸水会破坏镀敷液的电解质,对镀敷液带来不良影响。因此,用于清洗阴极电极的药液的选定非常重要。
发明内容
因此,鉴于上述的课题,本发明的目的在于提供一种清洗方法和清洗装置,不会对镀敷液、用于保持基板的部件即基板保持架带来不良影响,并且能够除去无法利用纯水除去的附着于阴极电极(电接点)的污垢。
一个实施方式的清洗方法,是基板保持架的清洗方法,该基板保持架具有用于为了对基板进行镀敷而与上述基板接触来向上述基板供电的电接点,其中,该基板保持架的清洗方法具有通过柠檬酸水溶液清洗安装于上述基板保持架的上述电接点的清洗工序。
一个实施方式的清洗装置具备:旋转部件,其用于保持环状的保持部件,该保持部件为了镀敷而保持基板并且具有与上述基板接触的电接点;致动器,其用于通过使上述旋转部件旋转,来使上述保持部件在圆周方向上旋转;以及清洗模块,其用于使用柠檬酸水溶液来清洗通过上述旋转部件而正在旋转的上述保持部件。
一个实施方式的清洗装置,是保持部件的清洗装置,该保持部件具有电接点且是基板保持架的至少一部分的部件,其中,该清洗装置具备清洗槽,该清洗槽用于保持柠檬酸水溶液并使上述保持部件浸渍于上述柠檬酸水溶液。
附图说明
图1是基板保持架的分解立体图。
图2是图1所示的基板保持架的放大部分剖视图。
图3是图1所示的基板保持架的第二保持部件的后视图。
图4是表示本发明的清洗装置的图。
图5是表示图4所示的清洗装置的壳体的部分的概况的概略图。
图6是表示与图3所示的清洗装置不同的本发明的清洗装置的立体图。
图7是在图6所示的清洗装置的清洗槽的内部收纳的载体的立体图。
图8是图6所示的清洗装置的剖视图。
图9是图8的A-A剖视图。
图10是表示图6所示的清洗装置的第一变形例的剖视图。
图11是表示图6所示的清洗装置的第二变形例的剖视图。
附图标记说明:30…基板保持架;31…第一保持部件;32…第二保持部件;50…电接点;100…清洗装置;102…旋转部件;118…泵;140…排液管;144…液体喷嘴;154…空气喷嘴;166…暖风装置;200…清洗模块;202…壳体;204…喷嘴;220…柠檬酸槽;400…清洗装置;408…供给口;410…排出口;428…泵;438…吸气口;440…排气口;442…风扇;444…加热器;446…分隔板;448…第一开口;450…第二开口;460…温度计;462…温度调节器;466…第一棒状部件;468…喷嘴;470…第二棒状部件;472…搅拌部件;500…载体;504…网格板;520…清洗槽;540…柠檬酸罐;900…废液部;902…液体供给源;904…气体供给源;Wf…基板。
具体实施方式
『概况』
以下,例示本发明的两个实施方式(第一和第二实施方式)来进行说明。此外,在以下说明的附图中,对相同或者相当的构成要素标注相同的附图标记而省略重复的说明。
[第一实施方式]
以下,一边参照附图一边对第一实施方式的清洗装置进行说明。首先,对利用清洗装置100清洗的基板保持架30的结构进行说明。接着,对本实施方式的清洗装置100的结构进行说明。接着,对清洗装置100的清洗方法进行说明。
<基板保持架的结构>
图1是基板保持架30的分解立体图。如图1所示,基板保持架30例如具有:氯乙烯制成的矩形平板状的第一保持部件31、以及相对于该第一保持部件31装卸自如地构成的环状的第二保持部件32(相当于保持部件的一例)。该基板保持架30通过利用第一保持部件31和第二保持部件32夹住晶片等基板Wf,来保持基板Wf(参照图2)。此外,在本发明中,基板保持架是指用于保持基板Wf的装置和该装置的一部分。即,第一保持部件31和第二保持部件32也能够称为基板保持架。在基板保持架30的第一保持部件31的大致中央部设置有用于支承基板Wf的支承面33。另外,在第一保持部件31的支承面33的外侧,沿着支承面33的周围,等间隔地设置有多个具有向内侧突出的突出部的倒L字形的夹持器34。
在基板保持架30的第一保持部件31的端部连结有一对手柄35,该一对手柄35成为输送或者悬挂支承基板保持架30时的支承部。通过将手柄35钩挂于未图示的基板处理装置的各种处理槽的周壁上表面,从而垂直地悬挂支承基板保持架30,在处理槽的内部对基板保持架30所保持的基板Wf进行处理。例如,若在保持镀敷液的镀敷槽的周壁上表面悬挂基板保持架30,则基板Wf浸渍于镀敷液。在该状态下,对基板Wf的表面进行镀敷处理。另外,基板处理装置所具备的输送装置能够把持手柄35来输送基板保持架30。
另外,在一个手柄35设置有与外部电源电连接的外部接点38。在基板保持架悬挂于镀敷槽的周壁上表面时,外部接点38与设置于镀敷槽的、与外部电源电连接的接点接触,由此与外部电源电连接。该外部接点38经由多个导线与设置于支承面33的外周的多个中继接点60(参照图2)电连接。
第二保持部件32具备呈环状且由聚醚酮树脂(PEEK材)构成的密封保持架36。推压环37旋转自如地安装于第二保持部件32的密封保持架36,该推压环37用于将密封保持架36按压固定于第一保持部件31。推压环37在其外周部具有向外侧突出的多个突条部37a。突条部37a的上表面和夹持器34的内侧突出部的下表面具有沿着旋转方向相互向相反方向倾斜的锥面。
在保持基板Wf时,首先,在将第二保持部件32从第一保持部件31取下的状态下将基板Wf载置于第一保持部件31的支承面33,将第二保持部件32安装于第一保持部件31。接着,使推压环37顺时针旋转,而使推压环37的突条部37a滑入夹持器34的内侧突出部的内部(下侧)。由此,经由分别设置于推压环37和夹持器34的锥面,将第一保持部件31和第二保持部件32相互紧固地锁定,保持基板Wf。在解除基板Wf的保持时,在第一保持部件31和第二保持部件32被锁定的状态下,使推压环37逆时针旋转。由此,将推压环37的突条部37a从倒L字形的夹持器34取下,而解除基板Wf的保持。
图2是保持着基板Wf的状态下的基板保持架30的厚度方向的切断面的局部放大剖视图。像图示那样,在第二保持部件32的密封保持架36的与第一保持部件31对置的面设置有内侧密封件39和外侧密封件40。内侧密封件39和外侧密封件40都由氟橡胶构成。内侧密封件39构成为,在利用基板保持架30保持基板Wf时,与基板Wf的外周部接触而将基板Wf表面与密封保持架36之间密封。外侧密封件40构成为,设置在内侧密封件39的径向外侧,与第一保持部件31的支承基座43接触。由此,外侧密封件40能够将密封保持架36与支承基座43之间密封。内侧密封件39和外侧密封件40夹持在密封保持架36与不锈钢制的固定环41之间而安装于密封保持架36,该固定环41经由螺栓等紧固器件而安装于密封保持架36。
在第二保持部件32的密封保持架36的外周部设置有台阶部,推压环37经由隔离件42而旋转自如地安装于该台阶部。推压环37由对酸的耐腐蚀性优异且具有充分的刚性的金属(例如钛)构成。隔离件42由摩擦系数低的材料、例如PTFE(聚四氟乙烯)构成,以使推压环37能够顺利地旋转。
另外,在第一保持部件31的支承基座43设置有平板形状的中继接点60。在图2中表示一个中继接点60。多个中继接点60沿着支承面33的周围配置于支承基座43。中继接点60通过未图示的导线与图2所示的外部接点38电连接。中继接点60的一端侧通过螺钉等任意的固定单元固定于支承基座43。另外,在支承基座43形成有台阶部48,以使中继接点60的另一端侧成为自由端。
在第二保持部件32的固定环41的内周面安装有多个电接点50,在利用基板保持架30保持基板Wf时,该多个电接点50与由支承面33支承的基板Wf的外周部接触而向基板Wf供电。而且,在基板Wf处于镀敷液中时,电接点50对基板Wf供电,由此进行基板Wf的镀敷处理。在图2中示出一个电接点50。这里,参照图3。图3是基板保持架30的第二保持部件32的后视图。多个电接点50安装在固定环41的大致整周。
若再次参照图2,电接点50具有与基板Wf接触的多个第一端部51以及与中继接点60接触的多个第二端部52。电接点50优选由不锈钢等弹簧材料形成,在表面镀金而构成。第一端部51构成为以约90°的角度折弯,向前侧(支承面33的中央侧)以片簧状突出。如图2所示,第一端部51构成为在利用基板保持架30保持基板Wf时,与基板Wf的外周部弹性接触。
如图2所示,电接点50的第二端部52在基板保持架30的厚度方向的切断面中具有大致C形的剖面。由此,电接点50的第二端部52构成为,在利用第一保持部件31和第二保持部件32保持基板Wf时与中继接点60弹性接触。
<清洗装置的结构>
图4是表示本发明的清洗装置100的图,图5是表示清洗装置100的壳体202的部分的概况的概略图。清洗装置100是用于对基板保持架30的电接点50进行清洗的装置。若参照图5,则清洗装置100具备旋转部件102、致动器104、清洗模块200、旋转轴106、框架108、轴承110、垫片112、以及柔性联轴器113。另外,清洗模块200具有壳体202。以下,对清洗装置100的各构成要素进行说明。
壳体202构成为包围旋转部件102,具有在内部保持柠檬酸水溶液、水等液体的功能。另外,作为一例,旋转部件102具有圆盘形状,位于壳体202的内部。旋转部件102具有保持环状的第二保持部件32的功能。另外,旋转部件102的中心固定在向壳体202的外部延伸的旋转轴106。而且,旋转轴106被轴承110支承为能够旋转,该轴承110安装于位于壳体202的外部的框架108。另外,致动器104固定于框架108,经由柔性联轴器113与旋转轴106连接。由此,致动器104能够使旋转部件102旋转,能够使第二保持部件32在圆周方向上旋转。此外,作为一例,致动器104是防水的无刷马达。另外,在旋转轴106与壳体202之间设置有垫片112,抑制壳体202的内部的液体泄漏到外部。
另外,如图5所示,作为一例,清洗模块200具有喷嘴204。而且,如图4所示,作为一例,清洗装置100具备柠檬酸槽220、配管116、配管117以及泵118。柠檬酸槽220具有保持柠檬酸水溶液的功能。在本实施方式中,柠檬酸槽220保持柠檬酸水溶液,该柠檬酸水溶液中的柠檬酸的质量百分比浓度为2%至30%。而且,配管116将柠檬酸槽220和泵118的吸引口连通,配管117将泵118的排出口和喷嘴204连通。由此,泵118能够将保持在柠檬酸槽220的柠檬酸水溶液压送到喷嘴204。而且,喷嘴204的喷射口朝向由旋转部件102保持的第二保持部件32的电接点50(参照图5)。因此,喷嘴204能够朝向第二保持部件32的电接点50喷射柠檬酸水溶液,能够利用柠檬酸水溶液清洗电接点50。
另外,作为一例,清洗装置100具有:安装于配管117的调节器122、阀124、以及流量计126。调节器122具有对在配管117中流动的柠檬酸水溶液的压力进行减压的功能,流量计126具有对在配管117中流动的柠檬酸水溶液的流量进行测定的功能。而且,阀124具有对在配管117中流动的柠檬酸水溶液的流量进行调整的功能。
另外,作为一例,清洗装置100具备恒温器128、配管130、以及阀132。恒温器128安装于配管116,具有对在配管116中流动的柠檬酸水溶液进行加热的功能。另外,配管130将泵118的排出口和柠檬酸槽220连通。而且,阀132具有对在配管130中流动的柠檬酸水溶液的流量进行调整的功能。由此,当在泵118压送柠檬酸时将阀132打开的情况下,由恒温器128加热后的柠檬酸水溶液再次返回到柠檬酸槽220。即,恒温器128能够将保持在柠檬酸槽220的柠檬酸水溶液加热到规定的温度。特别是,在第一实施方式中,作为一例,恒温器128将柠檬酸水溶液加热到35度以上且55度以下。
另外,作为一例,清洗装置100具备配管134、阀136、以及阀138。配管134将壳体202和柠檬酸槽220与工厂的废液部900连通。换言之,配管134形成从壳体202到废液部900的流路和从柠檬酸槽220到废液部900的流路。另外,阀136安装于配管134,具有对从壳体202向废液部900流动的液体的流量进行调整的功能。由此,通过将阀136打开,清洗装置100能够将壳体202的内部的不需要的液体废弃到废液部900。与此相对,阀138安装于配管134,具有对从柠檬酸槽220向废液部900流动的液体的量进行调整的功能。由此,通过将阀138打开,清洗装置100能够将柠檬酸槽220的内部的不需要的液体废弃到废液部900。
另外,作为一例,柠檬酸槽220具备两个水位计222、224,该两个水位计222、224具有对所安装的位置的液体的有无进行检测的功能。水位计222被安装为,能够对柠檬酸槽220的内部的低位置的液体的有无进行检测。由此,在水位计222没有检测到液面时,控制装置(省略图示)使泵118停止,防止泵118的空运转。与此相对,水位计224被安装为,能够检测柠檬酸槽220的内部的比水位计222高的位置的液体的有无。由此,在水位计224检测到液面时,控制装置(省略图示)将阀138打开,防止柠檬酸水溶液从柠檬酸槽220外溢。
另外,作为一例,清洗装置100具备排液管140和阀142。排液管140将壳体202和柠檬酸槽220连通,具有将保持在壳体202的柠檬酸水溶液排出到柠檬酸槽220的功能。另外,阀142具有对在排液管140中流动的柠檬酸水溶液的流量进行调整的功能。
另外,作为一例,清洗装置100具备配管143。配管143与排液管140同样,将壳体202和柠檬酸槽220连通,具有将保持在壳体202的柠檬酸水溶液排出到柠檬酸槽220的功能。与柠檬酸槽220连通的配管143的口位于排液管140的口的上方,与供旋转轴106贯通的形成于壳体202的贯通孔相比位于下侧。而且,在壳体202的内部的柠檬酸水溶液的液面上升到配管143的口的高度时,壳体202的内部的柠檬酸水溶液通过配管143移动到柠檬酸槽220。因此,配管143防止柠檬酸水溶液从壳体202溢出。
另外,作为一例,清洗装置100具备液体喷嘴144、配管146、调节器148、阀150、以及流量计152。配管146将用于供给水的液体供给源902和液体喷嘴144连通。由此,从液体供给源902向液体喷嘴144供给水。而且,虽然在图5中未表示液体喷嘴114,但与图5所示的喷嘴204同样,液体喷嘴144的喷射口被设置为朝向由旋转部件102保持的第二保持部件32的电接点50。因此,液体喷嘴144能够朝向第二保持部件32的电接点50喷射水,能够利用水清洗电接点50。另外,调节器148、阀150和流量计152安装于配管146。调节器148具有对在配管146中流动的水的压力进行减压的功能,流量计152具有对在配管146中流动的水的流量进行测定的功能。而且,阀150具有对在配管146中流动的水的流量进行调整的功能。
另外,作为一例,清洗装置100具备空气喷嘴154、配管156、过滤器158、调节器160、阀162、以及流量计164。配管156将用于供给气体的气体供给源904和空气喷嘴154连通。由此,从气体供给源904向空气喷嘴154供给气体。而且,虽然在图5中未表示空气喷嘴154,但与图5所示的喷嘴204同样,空气喷嘴154的喷射口被设置为朝向由旋转部件102保持的第二保持部件32的电接点50。因此,空气喷嘴154能够朝向第二保持部件32的电接点50喷射气体,能够将电接点50干燥。另外,过滤器158、调节器160、阀162、以及流量计164安装于配管156。过滤器158具有从在配管156中流动的气体过滤颗粒的功能。调节器160具有对在配管156中流动的水的压力进行减压的功能。流量计164具有对在配管156中流动的气体的流量进行测定的功能。而且,阀162具有对在配管156中流动的气体的流量进行调整的功能。
另外,作为一例,清洗装置100具备暖风装置166。暖风装置166安装于壳体202。暖风装置166具有吹送暖风的功能,从壳体202的开口203向壳体202的内部吹送暖风。这里,构成暖风装置166和壳体202,以使由旋转部件102保持的第二保持部件32位于暖风的送风目的地。因此,暖风装置166能够朝向第二保持部件32吹送暖风。
<清洗方法>
接着,一边参照图1和图5,一边对清洗装置100中的清洗时的动作的一例进行说明。在初始状态下,阀124、阀132、阀136、阀138、阀142、阀150、阀162被关闭,致动器104停止。另外,壳体202不保持柠檬酸水溶液、水等液体。而且,第二保持部件32安装于第一保持部件31。
首先,如图1所示,将第一保持部件31与第二保持部件32分离(相当于分离工序的一例)。接着,将第二保持部件32保持于旋转部件102(参照图5)。在本实施方式中,从第二保持部件32分离的第一保持部件31未安装于清洗装置100。即,第二保持部件32收纳在与第一保持部件31隔离的清洗装置100的内部。
接着,打开阀132,启动泵118和恒温器128。由此,柠檬酸槽220的内部的柠檬酸水溶液被加热到35度以上且55度以下。
接着,启动致动器104。由此,具有电接点50的环状的第二保持部件32在圆周方向上旋转(相当于旋转工序的一例)。此时,作为一例,第二保持部件32以1~10rpm旋转。
接着,打开阀150。由此,液体喷嘴144朝向电接点50以2L/min的流量喷射水。其结果为,包含电接点50的第二保持部件32由水清洗(相当于第一水洗工序的一例)。此外,进行10分钟以上的基于液体喷嘴144的水的喷射。此时,液体喷嘴144喷射的水积存于壳体202(参照图5)。其结果为,电接点50的一部分浸渍于保持在壳体202的水,包含电接点50的第二保持部件32也由保持在壳体202的水清洗(相当于第一水洗工序的一例)。接着,关闭阀150,并且打开阀136。由此,液体喷嘴144的喷射停止,排出保持在壳体202的水。
接着,关闭阀136,并且打开阀124。由此,喷嘴204朝向电接点50以0.4L/min的流量喷射柠檬酸水溶液。而且,电接点50由柠檬酸水溶液清洗(相当于清洗工序的一例)。此外,进行60分钟以上的基于喷嘴204的柠檬酸水溶液的喷射。另外,此时,液体喷嘴144喷射的柠檬酸水溶液积存于壳体202。其结果为,电接点50的一部分浸渍于保持在壳体202的柠檬酸水溶液,电接点50也由保持在壳体202的柠檬酸水溶液清洗(相当于清洗工序的一例)。此时,电接点50与第二保持部件32一同旋转。因此,与电接点50接触的柠檬酸水溶液对流,与柠檬酸水溶液不对流的情况相比,除去附着于电接点50的较多的污垢。
接着,关闭阀124,并且打开阀142。而且,保持在壳体202的柠檬酸水溶液排出到柠檬酸槽220。由此,清洗所使用的柠檬酸水溶液能够从壳体202向柠檬酸槽220移动,清洗装置100能够再次利用柠檬酸水溶液。
接着,关闭阀142,并且打开阀150。由此,液体喷嘴144朝向电接点50以2L/min的流量喷射水。其结果为,包含电接点50的第二保持部件32由水清洗(相当于第二水洗工序的一例)。此外,进行10分钟以上的基于液体喷嘴144的水的喷射。另外,此时,液体喷嘴144喷射的水积存于壳体202。其结果为,包含电接点50的第二保持部件32的一部分浸渍于保持在壳体202的水,第二保持部件32也由保持在壳体202的水清洗(相当于第二水洗工序的一例)。由此,附着于第二保持部件32的柠檬酸水溶液由水冲洗。接着,关闭阀150,并且打开阀136。由此,排出保持在壳体202的水。
接着,打开阀162。由此,空气喷嘴154朝向第二保持部件32以2L/min的流量喷射气体。此外,进行10分钟以上的基于空气喷嘴154的气体的喷射。由此,附着于包含电接点50的第二保持部件32的水被吹飞,第二保持部件32干燥(相当于干燥工序的一例)。
接着,关闭阀162,并且暖风装置166朝向第二保持部件32吹送45度以上的暖风。此外,进行60分钟以上的基于暖风装置166的暖风的送风。由此,在通过基于空气喷嘴154的气体的喷射无法干燥的附着于第二保持部件32的水蒸发而干燥(相当于干燥工序的一例)。
此外,基于空气喷嘴154的干燥工序与基于暖风装置166的干燥工序可以同时进行,基于暖风装置166的干燥工序也可以在基于空气喷嘴154的干燥工序之前进行。
接着,停止致动器104,停止第二保持部件32在圆周方向上的旋转。然后,清洗装置100的动作结束。
使用柠檬酸水溶液的清洗能够除去无法利用水的清洗充分地除去的附着于电接点50的铜、铜的氧化物、抗蚀剂等污垢。因此,清洗装置100能够利用柠檬酸水溶液除去无法利用纯水除去的电接点50的污垢。另外,柠檬酸水溶液不会使聚醚酮树脂、氟橡胶、不锈钢等构成基板保持架30的材料腐蚀、劣化。因此,清洗装置100能够不从基板保持架30的第二保持部件32分离电接点50来清洗电接点50,并且不会对第二保持部件32带来不良影响。并且,柠檬酸水溶液不会破坏镀敷液的电解质,不会对镀敷液带来不良影响。因此,即使万一柠檬酸清洗后的残留于电接点50的柠檬酸混入镀敷液,由清洗装置100清洗后的电接点50也不会对柠檬酸带来不良影响。
此外,柠檬酸水溶液的质量百分比浓度优选为2%至30%,柠檬酸的温度优选为20度~45度。
另外,清洗装置100在利用柠檬酸水溶液清洗电接点50之前,利用水清洗第二保持部件32。即,在利用水的清洗粗略地除去了污垢的第二保持部件32上所安装的电接点50由柠檬酸水溶液清洗。因此,清洗所使用的柠檬酸水溶液不容易污染。
另外,若柠檬酸水溶液进入构成第二保持部件32的部件的间隙而使柠檬酸水溶液干燥,则有可能在部件的间隙残留柠檬酸的粉末。与此相对,清洗装置100在柠檬酸水溶液的清洗前利用水清洗基板保持架30,因此在间隙能够形成水膜。而且,水膜抑制柠檬酸水溶液向间隙的侵入。其结果为,抑制柠檬酸的粉末的残留。
[第二实施方式]
接着,一边参照附图,一边对第二实施方式的清洗装置400进行说明。首先,对第二实施方式的清洗装置400的结构进行说明。接着,对清洗装置400的清洗方法进行说明。接着,对清洗装置400的变形例进行说明。
<清洗装置的结构>
图6是表示与清洗装置100不同的本发明的清洗装置400的立体图,图7是在清洗装置400的清洗槽520的内部收纳的载体500的立体图。清洗装置400与上述的清洗装置100同样,是用于清洗电接点50的装置。若参照图6,清洗装置400具备清洗槽520、盖404、以及载体500(参照图8)。以下,对清洗装置400的各构成要素进行说明。
清洗槽520具有大致长方体形状,构成为能够收纳载体500(参照图8)。另外,清洗槽520具有在内部保持柠檬酸水溶液、水等液体的功能。盖404开闭自如地安装于清洗槽520。在打开盖404的状态下,进行载体500向清洗槽520的收纳以及载体500从清洗槽520的取出。
若参照图7,载体500具有大致长方体形状,具备4个柱502、8个梁503、以及多个网格板504。在上下方向上延伸的4个柱502排列为构成四边形。而且,各柱502的上端通过配置为构成四边形的梁503分别连接,各柱502的下端也通过配置为构成四边形的梁503分别连接。另外,多个网格板504呈四边形,在上下方向上等间隔地排列。而且,网格板504的四边由4个柱502固定。换言之,载体500呈网格板504成为载置台这样的棚的形状。由此,多个网格板504能够分别支承第二保持部件32。
图8是清洗装置400的剖视图,图9是图8的A-A剖视图。若参照图8,作为一例,清洗装置400还具备柠檬酸罐540、供给口408、排出口410、4个配管412、414、416、418、4个阀420、422、424、426、以及泵428。
柠檬酸罐540具有保持柠檬酸水溶液的功能。在本实施方式中,柠檬酸罐540保持柠檬酸水溶液,该柠檬酸水溶液中的柠檬酸的质量百分比浓度为2%至30%。供给口408和排出口410都形成在清洗槽520的底部。配管412将供给口408和柠檬酸罐540连通,从接近供给口408的阀开始依次将阀422和阀426安装于配管412。与此相对,配管414将排出口410和柠檬酸罐540连通,从接近排出口410的阀开始依次将阀420和阀424安装于配管414。另外,配管416将配管414的阀420与阀424之间的部分和泵428的吸引口连通。而且,配管418将配管412的阀422与阀426之间的部分和泵428的排出口连通。
由此,若在关闭阀420和阀426的状态下打开阀424和阀422,则泵428能够将由柠檬酸罐540保持的柠檬酸水溶液从供给口408向清洗槽520的内部供给。另外,若在关闭阀422和阀424的状态下打开阀420和阀426,则泵428能够从排出口410吸引由清洗槽520保持的柠檬酸水溶液,而向柠檬酸罐540供给。并且,若在清洗槽520保持液体的状态下,关闭阀424和阀426,并且打开阀420和阀422,则泵428能够从排出口410吸引清洗槽520的内部的液体。而且,泵428能够将所吸引的该液体从供给口408向清洗槽520的内部供给。由此,泵428能够使清洗槽520的内部的液体循环而对流。
另外,作为一例,清洗装置400具备缓冲槽560、配管432、以及阀434。缓冲槽560具有保持水、柠檬酸水溶液等液体的功能。而且,配管432将清洗槽520和缓冲槽560连通,具有将由清洗槽520保持的液体排出到缓冲槽560的功能。清洗槽520侧的配管432的口位于比后述的水位计524高的位置且比水位计526低的位置。而且,在清洗槽520的内部的液体的液面上升到配管432的口的高度时,清洗槽520的内部的液体通过配管432向缓冲槽560移动。由此,配管432防止液体从清洗槽520溢出。此外,在本实施方式中,配管432的口配置于在清洗槽520的内部的液体为72L以上时能够排出液体的位置。另外,阀434安装于配管432,具有对通过配管432的流体的流量进行调整的功能。在通常时,打开阀434,但在后述的第二保持部件32的干燥时,关闭阀434。
另外,作为一例,清洗槽520具备3个水位计522、524、526,该3个水位计522、524、526具有对被安装的位置的液体的有无进行检测的功能。水位计522被安装为,能够检测清洗槽520的内部的位置且比在清洗槽520的内部收纳的第二保持部件32低的位置的液体的有无。更详细地说,配置于能够检测清洗槽520的内部的液体是否为1L以上的位置。另外,水位计524被安装为,能够检测在清洗槽520的内部的位置且比在清洗槽520的内部收纳的第二保持部件32高的位置的液体的有无。
另外,水位计526被安装为,能够检测清洗槽520的内部的位置且比水位计524高的位置的液体的有无。更详细地说,水位计526配置于能够检测清洗槽520的内部的液体是否为80L以上的位置。水位计526位于比上述的配管432的口高的位置,因而通常不检测液体。因此,在水位计526检测出液体的情况下,清洗装置400的配管432发生液体堵塞等故障的可能性较高。因此,水位计526构成为,在检测出液体的情况下,清洗装置400停止。由此,清洗装置400抑制由故障引起的事故。
另外,作为一例,清洗装置400具备配管436。配管436将柠檬酸罐540和缓冲槽560连通,具有将由柠檬酸罐540保持的液体排出到缓冲槽560的功能。与柠檬酸罐540连通的配管436的口配置于比后述的水位计544高的位置。而且,在柠檬酸罐540的内部的液体的液面上升到配管436的口的高度时,柠檬酸罐540的内部的液体通过配管436向缓冲槽560移动。换言之,配管436防止柠檬酸水溶液从柠檬酸罐540溢出。此外,在本实施方式中,配管436的口配置于在柠檬酸罐540的内部的液体为85L以上时能够排出液体的位置。
另外,作为一例,柠檬酸罐540具备两个水位计542、544,该两个水位计542、544具有对被安装的位置的液体的有无进行检测的功能。水位计542配置于能够检测柠檬酸罐540的内部的液体是否为10L以上的位置。另外,水位计544配置于能够检测柠檬酸罐540的内部的液体是否为82L以上的位置。
另外,作为一例,缓冲槽560具备两个水位计562、564,该两个水位计562、564具有对被安装的位置的液体的有无进行检测的功能。水位计562配置于能够检测缓冲槽560的内部的液体是否为1L以上的位置。在水位计562检测出液体时,清洗装置400利用已知的方法将缓冲槽560内部的液体排出到工厂内的废液部(省略图示)。
另外,水位计564配置于能够检测缓冲槽560的内部的液体是否为10L以上的位置。而且,水位计564构成为,在检测出液体的情况下,清洗装置400停止。水位计564位于比水位计562高的位置,因而与上述的水位计526同样,通常不检测液体。因此,在水位计564检测出液体的情况下,清洗装置400发生故障的可能性较高。因此,在水位计564检测出液体的情况下,清洗装置400停止,由此清洗装置400能够抑制由故障引起的事故。
另外,作为一例,清洗装置400具备两个吸气口438(参照图6)、排气口440、两个风扇442(参照图9)、两个加热器444、排气流路454、分隔板446(参照图8)、第一开口448、第二开口450、以及开口452。若参照图8,分隔板446为L字形的薄板部件,将清洗槽520分割为第一室528和第二室530。而且,分隔板446具有上表面456和侧面458。上表面456与吸气口438隔开间隔地位于在清洗槽520的上表面532形成的吸气口438的正下方。而且,第一室528与吸气口438连通,而不经由第二室530。侧面458从上表面456延伸到清洗槽520的下表面459。因此,第二室530具有大致长方体形状,第一室528呈从大致长方体形状挖出第二室530而成的L字形状。另外,在分隔板446的上表面456形成有第一开口448,在分隔板446的侧面458形成有第二开口450。而且,在第一室528的内部的与第二开口450邻接的位置配置有载体500。另外,在第一室528的侧面529的比水位计524高的位置形成有开口452。而且,开口452经由排气流路454与排气口440连通(参照图9)。换言之,第一室528与排气口440连通,而不经由第二室530。而且,风扇442配置于第一室528的内部且在上表面456形成的第一开口448的正上方(参照图8)。因此,风扇442能够向第一开口448吹送第一室528的内部的气体和经由吸气口438从清洗槽520的外部吸引的气体。而且,吹送到第一开口448的气体通过第二室530从第二开口450向由载体500保持的第二保持部件32供给。即,第二室530形成从第一开口448到第二开口450的流路。另外,如上所述,第二保持部件32由载体500的网格板504支承。从第二开口450供给到第二保持部件32的气体通过设置于网格板504的网格而在清洗槽520的内部分散。其结果为,能够将清洗槽520的内部的温度均匀化。另外,两个加热器444配置于第二室530。因此,两个加热器444能够加热向第二保持部件32吹送的气体。
另外,作为一例,清洗装置400具备温度计460和温度调节器462(参照图8和图9)。温度计460的温度测定部位于清洗槽520的第二室530的内部。因此,温度计460具有对第二室530的内部的气体的温度进行测定的功能。另外,温度调节器462配置于清洗槽520的外部,与温度计460和两个加热器444电连接。而且,温度调节器462具有基于由温度计460测定出的温度来控制加热器444的功能。由此,清洗槽520的内部被保持在规定的温度。此外,在本实施方式中,温度调节器462控制加热器444,以使得在后述的第二保持部件32的干燥时,清洗槽520的内部的温度为40度以上且50度以下。
另外,作为一例,清洗装置400还具备热电偶464(参照图9)。热电偶464配置在第二室530的内部。而且,热电偶464具有在第二室530的内部的温度超过了60度时使两个加热器444停止的功能。
<清洗方法>
接着,一边参照图1和图8,一边对清洗装置400的动作进行说明。在初始状态下,作为一例,第二保持部件32安装于第一保持部件31,关闭阀420、阀422、阀424、阀426。另外,清洗槽520不保持柠檬酸水溶液、水等液体。
首先,如图1所示,将第一保持部件31和第二保持部件32分离(相当于分离工序的一例)。接着,将一个以上的第二保持部件32保持于载体500,将载体500配置于清洗槽520的内部(参照图8)。在本实施方式中,从第二保持部件32分离的第一保持部件31未收纳于清洗槽520。即,将第二保持部件32收纳于从第一保持部件31隔离的清洗装置400的内部。
首先,通过未图示的已知的液体供给装置而向清洗槽520的内部供给水。由此,清洗槽520的内部的水位上升。而且,在水位计524检测出水时,停止水的供给。其结果为,第二保持部件32的整体浸渍于水(相当于第一水洗工序的一例)。
接着,打开阀420和阀422。由此,清洗槽520的内部的水从排出口410排出,从排出口410排出的水从供给口408向清洗槽520的内部供给。其结果为,清洗槽520的内部的水循环而对流。此外,进行10分钟以上的由该泵428进行的清洗槽520的内部的水的循环。
接着,关闭阀420和阀422。然后,通过未图示的已知的液体排出装置,向清洗槽520的内部排出水。
接着,柠檬酸罐540的水位计544确认柠檬酸水溶液的有无。由此,确认在柠檬酸罐540中保持有足够量的柠檬酸水溶液。而且,在水位计544检测出柠檬酸水溶液的情况下,打开阀424和阀422,向清洗槽520的内部供给柠檬酸水溶液。由此,清洗槽520的内部的液面上升。而且,在水位计524检测出柠檬酸水溶液时,停止柠檬酸水溶液的供给。其结果为,第二保持部件32的整体浸渍于柠檬酸水溶液(相当于浸渍工序的一例)。此外,在水位计544未检测出柠檬酸水溶液的情况下,清洗装置400通过已知的方法向作业者通知柠檬酸水溶液不足。
接着,打开阀420和阀422。由此,清洗槽520的内部的柠檬酸水溶液从排出口410排出,从排出口410排出的柠檬酸水溶液从供给口408向清洗槽520的内部供给。其结果为,清洗槽520的内部的柠檬酸水溶液循环而对流。由此将电接点50的污垢除去得更多。此外,进行60分钟以上的由该泵428进行的清洗槽520的内部的柠檬酸水溶液的循环。
接着,柠檬酸罐540的水位计542确认柠檬酸水溶液的有无。由此,确认在柠檬酸罐540中具有用于保持柠檬酸水溶液的充分的空余容量。在水位计544检测出柠檬酸水溶液的情况下,清洗装置400通过已知的方法向作业者通知柠檬酸罐540的空余容量的不足。另一方面,在水位计544未检测出柠檬酸水溶液的情况下,关闭阀422,打开阀426。由此,泵428将清洗槽520的内部的柠檬酸水溶液压送到柠檬酸罐540,使清洗槽520的内部变空。然后,关闭阀420和阀426。这样,柠檬酸水溶液被回收到柠檬酸罐540。此时,如上所述,在基于柠檬酸水溶液的清洗之前,存在基于水的清洗,因此在所回收的柠檬酸罐540中包含基于上述的水的清洗所使用的水。因此,相比于从柠檬酸罐540供给到清洗槽520的柠檬酸水溶液,所回收的柠檬酸水溶液增加。这里,如上所述,清洗装置400具备配管436,该配管436在柠檬酸罐540的内部的液体成为一定量以上时,用于将液体排出到缓冲槽560。因此,增加的柠檬酸水溶液能够通过配管436向缓冲槽560移动,不会从柠檬酸罐540溢出。
接着,再次清洗第二保持部件32。具体而言,通过未图示的已知的液体供给装置,向清洗槽520的内部供给水。由此,清洗槽520的内部的水的水位上升。而且,在水位计524检测出水时,停止水的供给。其结果为,第二保持部件32的整体浸渍于水(相当于第二水洗工序的一例)。
接着,打开阀420和阀422。由此,清洗槽520的内部的水从排出口410排出,从排出口410排出的水从供给口408向清洗槽520的内部供给。其结果为,清洗槽520的内部的水循环而对流。此外,进行10分钟以上的由该泵428进行的清洗槽520的内部的水的循环。
接着,关闭阀420和阀422。然后,通过未图示的已知的液体排出装置,排出清洗槽520的内部的水。
接着,清洗槽520的水位计522确认水的有无。由此,确认在清洗槽520的内部未残留水。而且,在水位计522不再检测出水之后,清洗装置100开始用于使第二保持部件32干燥的干燥工序。具体而言,风扇442向第二保持部件32吹送气体(相当于送风工序的一例)。此时,加热器44在第二室530中加热向第二保持部件32吹送的气体(相当于加热工序的一例)。由此,第二保持部件32干燥。另外,除了经由吸气口438从清洗槽520的外部吸引的气体以外,风扇442还将位于第一室528的气体向第一开口448吹送。位于第一室528的气体中包含由加热器444加热后的气体。因此,在第二室530中由加热器444加热的气体的一部分成为已经被加热的气体。其结果为,清洗装置400能够一边节约用于加热气体的能量,一边向第二保持部件32供给高温的气体。此外,进行60分钟以上的由风扇442和加热器444进行的向第二保持部件32的暖风的供给。另外,在第二保持部件32的干燥时,温度计460对由加热器444加热后的气体的温度进行测定。而且,温度调节器462也可以基于由温度计460测定出的温度而控制加热器444,对向第二保持部件32吹送的气体的温度进行调节。以上,清洗装置400的动作结束。
这样,清洗装置400与上述的清洗装置100同样,能够使用柠檬酸水溶液来清洗电接点50。此外,清洗装置400也可以将基板保持架30本身浸渍于柠檬酸水溶液来清洗电接点50。
另外,清洗装置400使用载体500来清洗第二保持部件32,因此能够通过一次的清洗动作来同时清洗多个第二保持部件32。
<变形例>
(第一变形例)
图10是表示清洗装置400的第一变形例的剖视图。也可以如图10所示,清洗装置400具备:构成为能够旋转的第一棒状部件466、以及喷嘴468。在该情况下,喷嘴468安装于第一棒状部件466,构成为能够与第一棒状部件466一体旋转。而且,喷嘴468具有朝向电接点50喷射柠檬酸水溶液、水或者气体的功能。另外,在载体500的多个网格板504分别形成有用于供第一棒状部件466贯通的贯通孔506。
通过像这样构成清洗装置400,从而喷嘴468能够一边与第一棒状部件466一体旋转,一边朝向电接点50喷射柠檬酸水溶液、水或者气体。因此,在向电接点50喷射柠檬酸水溶液的情况下,清洗装置400能够通过柠檬酸水溶液来清洗电接点50。另外,在向电接点50喷射水的情况下,清洗装置400能够通过水来清洗电接点50。而且,在向电接点50喷射气体的情况下,清洗装置400能够将电接点50干燥。
(第二变形例)
图11是表示清洗装置400的第二变形例的剖视图。也可以如图11所示,清洗装置400具备:构成为能够旋转的第二棒状部件470、以及搅拌部件472。在该情况下,搅拌部件472是薄板状的部件,构成为安装于第二棒状部件470,与第二棒状部件470一体旋转。另外,在载体500的多个网格板504分别形成有用于供第二棒状部件470贯通的贯通孔506。
通过像这样构成清洗装置400,从而搅拌部件472能够对清洗槽520的内部的液体进行搅拌。因此,在清洗槽520保持柠檬酸水溶液的情况下,清洗装置400能够将附着于电接点50的污垢除去得更多。
在上述的第一实施方式和第二实施方式中,仅第二保持部件32由清洗装置100、400清洗。即,在通过清洗装置100、400来清洗第二保持部件32时,不清洗第一保持部件31。若与将第一保持部件31和第二保持部件32双方收纳于清洗装置100、400的情况相比,能够将清洗装置100、400小型化。若清洗液(柠檬酸水溶液、水)附着于用于保持基板Wf的机构或用于向基板Wf供电的电气系统等、具有复杂的构造的第一保持部件31,则需要用于使清洗液干燥的较长的时间。在上述的实施方式中,第一保持部件31与清洗装置100、400的内部隔离,清洗装置100、400仅清洗具有比较简单的构造的第二保持部件32,因此也能够缩短干燥所需要的时间。
[附记]
上述的实施方式的一部分或者全部也可以像以下的附记那样记载,但不限于以下内容。
(附记1)
附记1的清洗方法是一种基板保持架的清洗方法,该基板保持架具有用于为了对基板进行镀敷而与上述基板接触来向上述基板供电的电接点,其中,该清洗方法具有通过柠檬酸水溶液来清洗上述基板保持架的上述电接点的清洗工序。
使用了柠檬酸水溶液的清洗能够除去无法利用水的清洗充分地除去的附着于电接点的铜、铜的氧化物、抗蚀剂等污垢。因此,在附记1的清洗方法中,能够利用柠檬酸水溶液除去无法利用纯水除去的电接点的污垢。另外,柠檬酸水溶液不会使聚醚酮树脂、氟橡胶、不锈钢等构成基板保持架的材料腐蚀、劣化。因此,在该清洗方法中,能够不从基板保持架分离电接点来清洗电接点,并且不会对基板保持架带来不良影响。并且,柠檬酸水溶液不会破坏镀敷液的电解质,不会对镀敷液带来不良影响。因此,即使万一柠檬酸清洗后的残留于电接点的柠檬酸混入镀敷液,通过该清洗方法清洗后的电接点不会对镀敷液带来不良影响。
(附记2)
在附记2的清洗方法中,根据附记1所记载的清洗方法,上述基板保持架具有第一保持部件和第二保持部件,该第一保持部件具有构成为与外部电源电连接的中继接点,该第二保持部件具有上述电接点,在上述清洗工序之前,具有将上述第一保持部件和上述第二保持部件分离的分离工序,在上述清洗工序中,不清洗上述第一保持部件,清洗上述第二保持部件。
(附记3)
在附记3的清洗方法中,根据附记1或者附记2所记载的清洗方法,上述柠檬酸水溶液中的柠檬酸的质量百分比浓度为2%至30%。
(附记4)
在附记4的清洗方法中,根据附记1至3中的任一项所记载的清洗方法,在上述清洗工序之前,还具有将上述柠檬酸水溶液加热到35度以上且55度以下的工序。
(附记5)
在附记5的清洗方法中,根据附记1至4中的任一项所记载的清洗方法,该清洗方法还具有旋转工序,在该旋转工序中,使具有上述电接点的环状的保持部件在圆周方向上旋转,上述清洗工序具有在上述旋转工序的期间朝向上述电接点喷射上述柠檬酸水溶液的工序。
根据附记5的清洗方法,能够通过柠檬酸水溶液的喷流来清洗在圆周方向上旋转的保持部件。
(附记6)
在附记6的清洗方法中,根据附记5所记载的清洗方法,上述清洗工序具有在上述旋转工序的期间,将上述电接点的一部分浸渍于上述柠檬酸水溶液的工序。
在电接点仅浸渍于柠檬酸水溶液的情况下,与电接点接触的柠檬酸水溶液不容易对流,电接点的清洗效果不高。与此相对,根据附记6的清洗方法,与保持部件一同旋转的电接点浸渍于柠檬酸水溶液而被清洗。因此,与电接点接触的柠檬酸水溶液对流,除去附着于电接点的较多的污垢。
(附记7)
在附记7的清洗方法中,根据附记1至6中的任一项所记载的清洗方法,在上述清洗工序之前,还具有通过水来清洗上述基板保持架的第一水洗工序。
根据附记7的清洗方法,在利用柠檬酸水溶液清洗电接点之前,利用水清洗基板保持架。即,利用基于水的清洗而粗略地除去污垢的基板保持架上所安装的电接点由柠檬酸水溶液清洗。因此,清洗所使用的柠檬酸水溶液不容易污染。另外,若柠檬酸水溶液进入构成基板保持架的部件的间隙而使柠檬酸水溶液干燥,则有可能在部件的间隙残留柠檬酸的粉末。与此相对,在附记7的清洗方法中,基板保持架在基于柠檬酸水溶液的清洗之前由水清洗,因此在间隙能够形成水膜。而且,水膜抑制柠檬酸水溶液向间隙的侵入。其结果为,抑制柠檬酸的粉末的残留。
(附记8)
在附记8的清洗方法中,根据附记5至7中的任一项所记载的清洗方法,还具有在上述旋转工序的期间且在上述清洗工序之后,通过水来清洗上述基板保持架的第二水洗工序。
在附记8的清洗方法中,能够利用水来冲洗附着于基板保持架的柠檬酸水溶液。
(附记9)
在附记9的清洗方法中,根据附记1至4中的任一项所记载的清洗方法,上述清洗工序具有浸渍工序,在该浸渍工序中,使作为上述基板保持架的至少一部分的部件并且具有上述电接点的保持部件的整体浸渍于保持在清洗槽的上述柠檬酸水溶液。
根据附记9的清洗方法,能够利用保持在清洗槽的柠檬酸水溶液来清洗电接点。
(附记10)
在附记10的清洗方法中,根据附记9所记载的清洗方法,还具有如下工序:在上述浸渍工序的期间,从排出口排出上述清洗槽的内部的上述柠檬酸水溶液,将从上述排出口排出的该柠檬酸水溶液从供给口向上述清洗槽的内部供给。
在附记10的清洗方法中,柠檬酸水溶液在清洗槽的内部、排出口和供给口之间循环,由此清洗槽的内部的柠檬酸水溶液对流。因此,在该清洗方法中,能够将电接点的污垢除去得较多。
(附记11)
在附记11的清洗方法中,根据附记9或者附记10所记载的清洗方法,还具有在上述清洗工序之前,将上述保持部件的整体浸渍于保持在上述清洗槽中的水的第一水洗工序。
根据附记11的清洗方法,在利用柠檬酸水溶液清洗电接点之前,利用水清洗基板保持架。因此,与附记7所记载的清洗方法同样,清洗所使用的柠檬酸水溶液不容易污染,抑制柠檬酸的粉末在基板保持架的间隙中的残留。
(附记12)
在附记12的清洗方法中,根据附记9至11中的任一项所记载的清洗方法,还具有在上述清洗工序之后,将上述保持部件的整体浸渍于保持在上述清洗槽中的水的第二水洗工序。
根据附记12的清洗方法,能够利用水清洗附着有柠檬酸水溶液的基板保持架。
(附记13)
在附记13的清洗方法中,根据附记8或者附记12所记载的清洗方法,还具有在上述第二水洗工序之后,使上述基板保持架干燥的干燥工序。
根据附记13的清洗方法,能够将附着有水的基板保持架干燥。
(附记14)
在附记14的清洗方法中,根据附记13所记载的清洗方法,上述干燥工序具有:送风工序,风扇向上述保持部件吹送气体;以及加热工序,加热器对向上述保持部件吹送的上述气体进行加热。
在附记14的清洗方法中,风扇能够向保持部件供给由加热器加热后的气体。
(附记15)
在附记15的清洗方法中,根据附记14所记载的清洗方法,上述干燥工序还具有:测定由上述加热器加热后的上述气体的温度的工序;以及基于测定出的上述温度来控制上述加热器,调节向上述保持部件吹送的上述气体的温度的工序。
在附记15的清洗方法中,能够使风扇向保持部件供给的气体的温度成为规定的温度。
(附记16)
在附记16的清洗方法中,根据从属于附记12的附记14或者附记15所记载的清洗方法,上述送风工序具有:上述风扇向第一开口吹送经由吸气口从上述清洗槽的外部吸引的气体的工序;吹送至上述第一开口的气体在构成从上述第一开口到第二开口的流路的第二室中流动,并从上述第二开口朝向配置于第一室的上述保持部件吹送的工序;以及上述风扇对朝向上述保持部件吹送后的气体并且是位于上述第一室的气体进行吸气,并再次向上述第一开口吹送的工序,上述加热工序具有对在上述第二室中流动的气体进行加热的工序。
根据附记16的清洗方法,在第二室中流动的气体被加热,而朝向配置于第一室的保持部件吹送。而且,朝向该保持部件吹送后的气体再次向第二室吹送。因此,向第二室供给的气体的一部分是被加热后的气体。因此,在该方法中,能够一边节约用于加热气体的能量,一边向保持部件供给高温的气体。
(附记17)
在附记17的清洗方法中,根据附记9或者从属于附记9的附记10至16中的任一项所记载的清洗方法,上述浸渍工序具有如下工序,将支承于载体的网格板的至少一个上述保持部件浸渍于保持在上述清洗槽中的上述柠檬酸水溶液,该载体具有在上下方向上排列的多个上述网格板。
在附记17的清洗方法中,能够使用能够保持多个保持部件的载体,将保持部件浸渍于柠檬酸水溶液。
(附记18)
在附记18的清洗方法中,根据附记17所记载的清洗方法,具有:第一旋转工序,使第一棒状部件旋转,该第一棒状部件位于贯通由上述多个网格板支承且呈环状的上述保持部件的内侧的位置;以及在上述第一旋转工序的期间,安装于上述第一棒状部件的喷嘴一边与上述第一棒状部件一体旋转,一边朝向上述电接点喷射上述柠檬酸水溶液、水或者气体的工序。
根据附记18的清洗方法,喷嘴能够一边与第一棒状部件一体旋转,一边朝向电接点喷射柠檬酸水溶液、水或者气体。因此,在将柠檬酸水溶液向电接点喷射的情况下,在该清洗方法中,能够通过柠檬酸水溶液来清洗电接点。另外,在将水向电接点喷射的情况下,在该清洗方法中,能够通过水来清洗电接点。而且,在将气体向电接点喷射的情况下,在该清洗方法中,能够将电接点干燥。
(附记19)
在附记19的清洗方法中,根据附记17或者附记18所记载的清洗装置,还具有:第二旋转工序,使第二棒状部件旋转,该第二棒状部件位于贯通由上述多个网格板支承且呈环状的上述保持部件的内侧的位置;以及在上述第二旋转工序的期间,安装于上述第二棒状部件的搅拌部件与上述第二棒状部件一体旋转,由此搅拌上述清洗槽的内部的液体的工序。
在附记19的清洗方法中,能够搅拌清洗槽的内部的液体。
(附记20)
附记20的清洗装置具备:旋转部件,其用于保持环状的保持部件,该保持部件为了镀敷而保持基板并且具有与上述基板接触的电接点;致动器,其用于通过使上述旋转部件旋转,来使上述保持部件在圆周方向上旋转;以及清洗模块,其用于使用柠檬酸水溶液来清洗通过上述旋转部件而正在旋转的上述保持部件。
根据附记20的清洗装置,能够通过柠檬酸水溶液来清洗在圆周方向上旋转的保持部件。另外,与附记1的清洗方法同样,该清洗装置不会对镀敷液、用于保持基板的部件即基板保持架带来不良影响,能够除去无法利用纯水除去的附着于电接点的污垢。
(附记21)
在附记21的清洗装置中,根据附记20所记载的清洗装置,上述保持部件是具有上述电接点的第二保持部件,基板保持架构成为包含第一保持部件和上述第二保持部件,该第一保持部件具有构成为与外部电源电连接的中继接点。
(附记22)
在附记22的清洗装置中,根据附记20或者附记21所记载的清洗装置,上述清洗模块具有用于朝向上述保持部件喷射上述柠檬酸水溶液的喷嘴。
根据附记22的清洗装置,能够通过柠檬酸水溶液的喷流来清洗在圆周方向上旋转的保持部件。
(附记23)
在附记23的清洗装置中,根据附记20至22中的任一项所记载的清洗装置,上述清洗模块具有保持上述柠檬酸水溶液的壳体,上述保持部件的一部分浸渍于保持在上述壳体中的上述柠檬酸水溶液。
在使用附记23的清洗装置来清洗具有电接点的保持部件的情况下,与保持部件一同旋转的电接点浸渍于柠檬酸水溶液而被清洗。因此,与电接点接触的柠檬酸水溶液对流,该清洗装置能够除去附着于电接点的较多的污垢。
(附记24)
根据附记20至23中的任一项所记载的清洗装置,附记24的清洗装置还具备:柠檬酸槽,其用于保持上述柠檬酸水溶液;恒温器,其用于将由上述柠檬酸槽保持的上述柠檬酸水溶液加热到35度以上且55度以下;以及泵,其用于将由上述柠檬酸槽保持的上述柠檬酸水溶液压送至上述清洗模块。
(附记25)
根据从属于附记23的附记24所记载的清洗装置,附记25的清洗装置还具备排液管,该排液管用于将由上述壳体保持的上述柠檬酸水溶液向上述柠檬酸槽排出。
附记25的清洗装置能够使清洗所使用的柠檬酸水溶液从壳体移动到柠檬酸槽。因此,清洗装置能够再次利用柠檬酸水溶液。
(附记26)
根据附记20至25中的任一项所记载的清洗装置,附记26的清洗装置还具备用于朝向上述保持部件喷射水的液体喷嘴。
附记26的清洗装置通过由液体喷嘴朝向保持部件喷射水,能够利用水清洗保持部件。
(附记27)
根据附记20至26中的任一项所记载的清洗装置,附记27的清洗装置还具备用于朝向上述保持部件喷射气体的空气喷嘴。
附记27的清洗装置通过由空气喷嘴朝向保持部件喷射气体,能够将保持部件干燥。
(附记28)
根据附记20至27中的任一项所记载的清洗装置,附记28的清洗装置还具备用于朝向上述保持部件吹送暖风的暖风装置。
附记28的清洗装置通过由暖风装置朝向保持部件吹送暖风,能够将保持部件干燥。
(附记29)
附记29的清洗装置是具有电接点、且作为基板保持架的至少一部分的部件的保持部件的清洗装置,该清洗装置具备清洗槽,该清洗槽用于保持柠檬酸水溶液并使上述保持部件浸渍于上述柠檬酸水溶液。
附记29的清洗装置能够利用由清洗槽保持的柠檬酸水溶液清洗电接点。另外,与附记1的清洗方法同样,该清洗装置不会对镀敷液、用于保持基板的部件即基板保持架带来不良影响,能够除去无法利用纯水除去的附着于电接点的污垢。
(附记30)
在附记30的清洗装置中,根据附记29所记载的清洗装置,上述基板保持架具有第一保持部件和第二保持部件,该第一保持部件具有构成为与外部电源电连接的中继接点,该第二保持部件具有上述电接点,上述保持部件是上述第二保持部件。
(附记31)
根据附记29或者附记30所记载的清洗装置,附记31的清洗装置还具备:供给口,其用于向上述清洗槽的内部供给液体;排出口,其用于从上述清洗槽的内部排出液体;以及泵,其构成为从上述排出口吸引上述清洗槽的内部的液体,将所吸引的该液体从上述供给口向上述清洗槽的内部供给。
附记31的清洗装置能够使柠檬酸水溶液在清洗槽的内部、排出口、泵以及供给口之间循环,能够使清洗槽的内部的柠檬酸水溶液对流。
(附记32)
根据附记29至31中的任一项所记载的清洗装置,附记32的清洗装置具备收纳于上述清洗槽的内部的载体,上述载体具有多个网格板,该多个网格板在上下方向上排列并且用于支承上述保持部件。
根据附记32的清洗装置,载体能够保持多个保持部件。因此,该清洗装置能够使用载体,将多个保持部件一次浸渍于柠檬酸水溶液。
(附记33)
根据附记32所记载的清洗装置,附记33的清洗装置还具备:第一棒状部件,其构成为能够旋转;以及喷嘴,其用于朝向上述电接点喷射上述柠檬酸水溶液、水或者气体,安装于上述第一棒状部件,能够与上述第一棒状部件一体旋转,在上述多个网格板分别形成有用于供上述第一棒状部件贯通的贯通孔。
根据附记33的清洗装置,喷嘴能够一边与第一棒状部件一体旋转,一边朝向电接点喷射柠檬酸水溶液、水或者气体。因此,在将柠檬酸水溶液向电接点喷射的情况下,该清洗装置能够通过柠檬酸水溶液来清洗电接点。另外,在将水向电接点喷射的情况下,该清洗装置能够通过水来清洗电接点。而且,在将气体向电接点喷射的情况下,该清洗装置能够将电接点干燥。
(附记34)
根据附记32或者附记33所记载的清洗装置,附记34的清洗装置还具备:第二棒状部件,其构成为能够旋转;以及搅拌部件,其安装于上述第二棒状部件,用于通过与上述第二棒状部件一体旋转而搅拌上述清洗槽的内部的液体,在上述多个网格板分别形成有用于供上述第二棒状部件贯通的贯通孔。
附记34的清洗装置能够搅拌清洗槽的内部的液体。
(附记35)
根据附记29至34中的任一项所记载的清洗装置,附记35的清洗装置还具备:风扇,其用于向上述保持部件吹送气体;以及加热器,其用于对向上述保持部件吹送的上述气体进行加热。
在附记35的清洗装置中,风扇能够向保持部件供给由加热器加热后的气体。
(附记36)
根据附记35所记载的清洗装置,附记36的清洗装置还具备:温度计,其用于测定上述清洗槽的内部的气体的温度;以及温度调节器,其用于基于由上述温度计测定出的温度来控制上述加热器。
在附记36的清洗装置中,能够使风扇向保持部件供给的气体的温度成为规定的温度。
(附记37)
根据从属于附记32的附记36所记载的清洗装置,附记37的清洗装置具备:吸气口,其用于向上述清洗槽的内部供给气体;排气口,其用于从上述清洗槽的内部排出气体;分隔板,其用于将上述清洗槽分割为用于配置上述载体的第一室以及第二室;以及形成于上述分隔板的第一开口和第二开口,上述第二室构成从第一开口到第二开口的流路,在该流路配置有上述加热器,上述第一室与上述吸气口和上述排气口连通而不经由第二室,上述第二开口与上述载体邻接,上述风扇构成为,通过向第一开口吹送上述第一室内部的气体和经由上述吸气口从上述清洗槽的外部吸引的气体,而从上述第二开口朝向上述保持部件吹送上述第一室内部的气体和经由上述吸气口从上述清洗槽的外部吸引的气体。
根据附记37的清洗方法,在第二室中流动的气体被加热,而朝向配置于第一室的保持部件吹送。而且,朝向该保持部件吹送后的气体再次向第二室吹送。因此,向第二室供给的气体的一部分是被加热后的气体。因此,在该方法中,能够一边节约用于加热气体的能量,一边将高温的气体向保持部件供给。
以上,仅对本发明的几个实施方式进行了说明,但在实质上不脱离本发明的新的教示、优点的情况下,本领域技术人员能够容易地理解对例示的实施方式添加多种变更或者改进。因此,意味着进行了这样的变更或者改进的方式也包含于本发明的技术范围。另外,也可以将上述实施方式任意地组合。
Claims (20)
1.一种清洗方法,是基板保持架的清洗方法,所述基板保持架具有用于为了对基板进行镀敷而与所述基板接触来向所述基板供电的电接点,其中,
所述清洗方法具有通过柠檬酸水溶液来清洗所述基板保持架的所述电接点的清洗工序。
2.根据权利要求1所述的清洗方法,其中,
所述基板保持架具有第一保持部件和第二保持部件,所述第一保持部件具有构成为与外部电源电连接的中继接点,所述第二保持部件具有所述电接点,
所述清洗方法具有在所述清洗工序之前,将所述第一保持部件和所述第二保持部件分离的分离工序,
在所述清洗工序中,不清洗所述第一保持部件,清洗所述第二保持部件。
3.根据权利要求1或2所述的清洗方法,其中,
所述柠檬酸水溶液中的柠檬酸的质量百分比浓度为2%至30%。
4.根据权利要求1或2所述的清洗方法,其中,
所述清洗方法还具有旋转工序,在所述旋转工序中,使具有所述电接点的环状的保持部件在圆周方向上旋转,
所述清洗工序具有在所述旋转工序的期间朝向所述电接点喷射所述柠檬酸水溶液的工序。
5.根据权利要求1或2所述的清洗方法,其中,
还具有在所述清洗工序之前,通过水来清洗所述基板保持架的第一水洗工序。
6.根据权利要求1或2所述的清洗方法,其中,
所述清洗工序具有浸渍工序,在所述浸渍工序中,使作为所述基板保持架的至少一部分的部件并且具有所述电接点的保持部件的整体浸渍于保持在清洗槽中的所述柠檬酸水溶液。
7.根据权利要求6所述的清洗方法,其中,
还具有在所述清洗工序之前,将所述保持部件的整体浸渍于保持在所述清洗槽中的水的第一水洗工序。
8.根据权利要求1或2所述的清洗方法,其中,
所述清洗方法还具有:
第二水洗工序,在所述清洗工序之后,通过水来清洗所述基板保持架;以及
干燥工序,在所述第二水洗工序之后,使所述基板保持架干燥。
9.根据权利要求8所述的清洗方法,其中,
所述干燥工序具有:
送风工序,风扇向所述基板保持架吹送气体;以及
加热工序,加热器对向所述基板保持架吹送的所述气体进行加热。
10.一种清洗装置,具备:
旋转部件,其用于保持环状的保持部件,所述保持部件为了镀敷而保持基板并且具有与所述基板接触的电接点;
致动器,其用于通过使所述旋转部件旋转,来使所述保持部件在圆周方向上旋转;以及
清洗模块,其用于使用柠檬酸水溶液来清洗通过所述旋转部件而正在旋转的所述保持部件。
11.根据权利要求10所述的清洗装置,其中,
所述保持部件是具有所述电接点的第二保持部件,
基板保持架构成为包含第一保持部件和所述第二保持部件,所述第一保持部件具有构成为与外部电源电连接的中继接点。
12.根据权利要求10或11所述的清洗装置,其中,
所述清洗模块具有用于朝向所述保持部件喷射所述柠檬酸水溶液的喷嘴。
13.根据权利要求10或11所述的清洗装置,其中,
所述清洗模块具有保持所述柠檬酸水溶液的壳体,
所述清洗装置构成为所述保持部件的一部分浸渍于所述壳体所保持的所述柠檬酸水溶液。
14.根据权利要求10或11所述的清洗装置,其中,
所述清洗装置还具备用于朝向所述保持部件吹送暖风的暖风装置。
15.一种清洗装置,是保持部件的清洗装置,所述保持部件具有电接点且是基板保持架的至少一部分的部件,其中,
所述清洗装置具备清洗槽,所述清洗槽用于保持柠檬酸水溶液并使所述保持部件浸渍于所述柠檬酸水溶液。
16.根据权利要求15所述的清洗装置,其中,
所述基板保持架具有第一保持部件和第二保持部件,所述第一保持部件具有构成为与外部电源电连接的中继接点,所述第二保持部件具有所述电接点,
所述保持部件是所述第二保持部件。
17.根据权利要求15或16所述的清洗装置,其中,
所述清洗装置具备收纳于所述清洗槽的内部的载体,
所述载体具有多个网格板,所述多个网格板在上下方向上排列并且用于支承所述保持部件。
18.根据权利要求17所述的清洗装置,其中,
所述清洗装置还具备:
第一棒状部件,其构成为能够旋转;以及
喷嘴,其用于朝向所述电接点喷射所述柠檬酸水溶液、水或者气体,安装于所述第一棒状部件,能够与所述第一棒状部件一体旋转,
在所述多个网格板分别形成有用于供所述第一棒状部件贯通的贯通孔。
19.根据权利要求17所述的清洗装置,其中,
所述清洗装置还具备:
第二棒状部件,其构成为能够旋转;以及
搅拌部件,其安装于所述第二棒状部件,用于通过与所述第二棒状部件一体旋转来搅拌所述清洗槽的内部的液体,
在所述多个网格板分别形成有用于供所述第二棒状部件贯通的贯通孔。
20.根据权利要求15或16所述的清洗装置,其中,
所述清洗装置还具备:
风扇,其用于向所述保持部件吹送气体;以及
加热器,其用于对向所述保持部件吹送的所述气体进行加热。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020029646A JP7455608B2 (ja) | 2020-02-25 | 2020-02-25 | 洗浄方法及び洗浄装置 |
JP2020-029646 | 2020-02-25 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN113369215A true CN113369215A (zh) | 2021-09-10 |
Family
ID=77365717
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202110212467.2A Pending CN113369215A (zh) | 2020-02-25 | 2021-02-25 | 清洗方法和清洗装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11612915B2 (zh) |
JP (1) | JP7455608B2 (zh) |
KR (1) | KR20210108303A (zh) |
CN (1) | CN113369215A (zh) |
TW (1) | TW202136590A (zh) |
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JP6695750B2 (ja) | 2016-07-04 | 2020-05-20 | 株式会社荏原製作所 | 基板ホルダの検査装置、これを備えためっき装置、及び外観検査装置 |
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-
2020
- 2020-02-25 JP JP2020029646A patent/JP7455608B2/ja active Active
-
2021
- 2021-01-11 KR KR1020210003056A patent/KR20210108303A/ko active Search and Examination
- 2021-02-03 US US17/166,399 patent/US11612915B2/en active Active
- 2021-02-24 TW TW110106539A patent/TW202136590A/zh unknown
- 2021-02-25 CN CN202110212467.2A patent/CN113369215A/zh active Pending
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Publication number | Publication date |
---|---|
TW202136590A (zh) | 2021-10-01 |
JP2021134375A (ja) | 2021-09-13 |
KR20210108303A (ko) | 2021-09-02 |
US20210260630A1 (en) | 2021-08-26 |
US11612915B2 (en) | 2023-03-28 |
JP7455608B2 (ja) | 2024-03-26 |
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---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination |